CN113105405B - 一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物及其制备方法、除草组合物和应用 - Google Patents

一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物及其制备方法、除草组合物和应用 Download PDF

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    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links

Abstract

本发明属于农药技术领域，具体涉及一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物及其制备方法、除草组合物和应用。所述化合物如通式I所示：
Figure DDA0002832019760000011
Q代表
Figure DDA0002832019760000012
Y代表卤素、卤代烷基或氰基；Z代表卤素；M代表CH或N；W代表OX5、SX5或N(X5)2；X代表‑CX1X2‑(烷基)n‑、‑烷基‑CX1X2‑(烷基)n‑或‑(CH2)r‑；X3、X4分别独立地代表O、S、NH或N‑烷基等。所述化合物即使在低施用率下对禾本科杂草、阔叶杂草及莎草科杂草等也具有优异的除草活性，并对作物具有高选择性。

Description

一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物及其制备方法、除 草组合物和应用
技术领域
本发明属于农药技术领域，具体涉及一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物及其制备方法、除草组合物和应用。
背景技术
杂草的防治是实现高效农业过程中一个至关重要的环节，尽管市场上的除草剂种类多样，比如专利WO00/50409等公开了通式化合物1-芳基-4-硫代三嗪作为除草剂的用途，WO95/06641公开了具有除草活性的取代1-氨基-3-苯基脲嘧啶化合物，WO95/25725公开了具有除草剂和杀虫剂活性的嘧啶基芳基酮肟化合物。然而，这些已知化合物对有害植物的除草性能和对作物的选择性并不完全令人满意。且由于市场的不断扩大、杂草的抗性、药物的使用寿命以及药物的经济性等问题以及人们对环境的日益重视，需要科学家们不断研究进而开发出新的高效、安全、经济以及具有不同作用方式的除草剂品种。
发明内容
本发明提供了一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物及其制备方法、除草组合物和应用，所述化合物即使在低施用率下对禾本科杂草、阔叶杂草及莎草科杂草等也具有优异的除草活性，并对作物具有高选择性。
本发明采用的技术方案如下：
一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，如通式I’所示：
Figure BDA0002832019750000011
其中，所述衍生物是指农业化学适合的衍生物，用来描述本发明羧酸官能团的变化，其是指任何酯、酰肼、酰亚胺酯、硫代酰亚胺酯、脒、酰胺、原酸酯、酰腈、酰卤、硫代酸酯、硫羰酯、二硫羟酯类、腈或者现有技术已知的其他羧酸衍生物。
具体地，所述羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，如通式I所示：
Figure BDA0002832019750000012
上述通式I’和I中，
Q代表
Figure BDA0002832019750000013
Y代表卤素、卤代烷基或氰基；
Z代表卤素；
M代表CH或N；
W代表OX5、SX5或N(X5)2；
X代表-CX1X2-(烷基)n-、-烷基-CX1X2-(烷基)n-或-(CH2)r-；
X1、X2分别独立地代表氢、卤素、氰基、氨基、硝基、甲酰基、氰基烷基、羟基烷基、烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、烷氧基、烷硫基、烷基氨基、卤代烷氧基、卤代烷硫基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷氧基烷基、卤代烷氧基烷基、烷基氨基烷基、芳基、杂环基、芳基烷基或杂环基烷基，其中，所述“烷基”、“烯基”或“炔基”分别独立地是未取代的或被卤素所取代的，所述“环烷基”、“环烷基烷基”、“芳基”、“杂环基”、“芳基烷基”或“杂环基烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、环烷基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、卤代环烷基、被烷基取代的环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-烷基-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；且X1、X2不同时为氢；
X3、X4分别独立地代表O、S、NH或N-烷基；
X5代表氢、烷基、烯基、炔基、环烷基、环烯基、杂环基、芳基、
Figure BDA0002832019750000021
Figure BDA0002832019750000022
其中，所述“烷基”、“烯基”或“炔基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、氰基、硝基、环烷基、环烯基、杂环基、芳基、
Figure BDA0002832019750000023
Figure BDA0002832019750000024
中的至少一个基团所取代的，所述“环烷基”、“环烯基”、“杂环基”或“芳基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、环烷基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、卤代环烷基、被烷基取代的环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-烷基-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
或者N(X5)2代表
Figure BDA0002832019750000025
或未取代或取代的1-位为氮原子的杂环基；
Q1、Q2、Q3、Q4、Q5分别独立地代表氧或硫；
R1、R2分别独立地代表氢、氰基、烷基、烯基、炔基、甲酰基烷基、氰基烷基、氨基、氨基烷基、氨基羰基、氨基羰基烷基、氨基磺酰基、环烷基、环烷基烷基、环烯基、环烯基烷基、杂环基、杂环基烷基、芳基、芳基烷基、R4R5N-(CO)-NR3-、
Figure BDA0002832019750000026
R3-S(O)m-(烷基)n-、R3-O-(烷基)n-、R3-(CO)-(烷基)n-、R3-O-(烷基)n-(CO)-、R3-(CO)-O-(烷基)n-、R3-S-(CO)-(烷基)n-、R3-O-(CO)-烷基-或R3-O-(CO)-O-烷基-，其中，
所述“烷基”、“烯基”或“炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，
所述“氨基”、“氨基烷基”、“氨基羰基”、“氨基羰基烷基”或“氨基磺酰基”分别独立地是未取代的或被选自-R11、-OR11、-(CO)R11、-(CO)OR11、-烷基-(CO)OR11、-(SO2)R11、-(SO2)OR11、-烷基-(SO2)R11、-(CO)N(R12)2或-(SO2)N(R12)2中的一个或两个基团所取代的，
所述“环烷基”、“环烷基烷基”、“环烯基”、“环烯基烷基”、“杂环基”、“杂环基烷基”、“芳基”或“芳基烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、环烷基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、卤代环烷基、被烷基取代的环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-烷基-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
R6代表烷基、烯基、炔基或氰基，其中，所述“烷基”、“烯基”或“炔基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、烷氧基或烷氧羰基中的至少一个基团所取代的；
R7、R7’、R8、R8’分别独立地代表氢、烷基、卤素、卤代烷基、氨基、羟基烷基或烷氧基；
X11分别独立地代表氢、烷基、烯基、炔基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、环烷基、环烷基烷基、环烯基、环烯基烷基、杂环基、杂环基烷基、芳基、芳基烷基或
Figure BDA0002832019750000031
其中，所述“环烷基”、“环烷基烷基”、“环烯基”、“环烯基烷基”、“杂环基”、“杂环基烷基”、“芳基”或“芳基烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、环烷基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、卤代环烷基、被烷基取代的环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-烷基-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
X12分别独立地代表烷基、烯基、炔基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、环烷基、环烷基烷基、环烯基、环烯基烷基、杂环基、杂环基烷基、芳基或芳基烷基，其中，所述“环烷基”、“环烷基烷基”、“环烯基”、“环烯基烷基”、“杂环基”、“杂环基烷基”、“芳基”或“芳基烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、环烷基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、卤代环烷基、被烷基取代的环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-烷基-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
X13、X14分别独立地代表氢、卤素、氰基、烷氧基、烷氧基烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基磺酰基、烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、环烯基、环烯基烷基、芳基、芳基烷基、杂环基或杂环基烷基，或者基团CX13X14一起形成未取代或取代的环状结构，或者基团NX13X14一起形成未取代或取代的1-位为氮原子的杂环基，其中，所述“烷基”、“烯基”或“炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，所述“环烷基”、“环烷基烷基”、“环烯基”、“环烯基烷基”、“芳基”、“芳基烷基”、“杂环基”或“杂环基烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、环烷基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、卤代环烷基、被烷基取代的环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-烷基-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
R3、R4、R5分别独立地代表氢、烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、环烯基、环烯基烷基、杂环基、杂环基烷基、芳基或芳基烷基，其中，所述“烷基”、“烯基”或“炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，所述“环烷基”、“环烷基烷基”、“环烯基”、“环烯基烷基”、“杂环基”、“杂环基烷基”、“芳基”或“芳基烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、环烷基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、卤代环烷基、被烷基取代的环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-烷基-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
R11分别独立地代表烷基、烯基、炔基、环烷基、环烷基烷基、环烯基、环烯基烷基、苯基、苄基，其中，所述“烷基”、“烯基”或“炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，所述“苯基”或“苄基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、氰基、硝基、烷基、卤代烷基、烷氧基羰基、烷硫基、烷基磺酰基、烷氧基或卤代烷氧基中的至少一个基团所取代的；
R12分别独立地代表氢、烷基、烯基、炔基、烷氧基、烷基磺酰基、环烷基、环烷基烷基、环烯基或环烯基烷基，或者-(CO)N(R12)2或-(SO2)N(R12)2中的基团N(R12)2分别独立地代表未取代或取代的1-位为氮原子的杂环基；
R13分别独立地代表氢，烷基，卤代烷基，苯基或被选自卤素、氰基、硝基、烷基、卤代烷基、烷氧基羰基、烷硫基、烷基磺酰基、烷氧基或卤代烷氧基中的至少一个基团所取代的苯基；
r代表2以上的整数；m代表0、1或2；n独立地代表0或1。
优选地，Y代表卤素、卤代C1-C8烷基或氰基；
X代表-CX1X2-(C1-C8烷基)n-、-(C1-C8烷基)-CX1X2-(C1-C8烷基)n-或-(CH2)r-；
X1、X2分别独立地代表氢、卤素、氰基、氨基、硝基、甲酰基、氰基C1-C8烷基、羟基C1-C8烷基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷硫基、C1-C8烷基氨基、卤代C1-C8烷氧基、卤代C1-C8烷硫基、C1-C8烷基羰基、C1-C8烷氧基羰基、C1-C8烷氧基C1-C8烷基、卤代C1-C8烷氧基C1-C8烷基、C1-C8烷基氨基C1-C8烷基、芳基、杂环基、芳基C1-C8烷基或杂环基C1-C8烷基，其中，所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被卤素所取代的，所述“C3-C8环烷基”、“C3-C8环烷基C1-C8烷基”、“芳基”、“杂环基”、“芳基C1-C8烷基”或“杂环基C1-C8烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、卤代C3-C8环烷基、被C1-C8烷基取代的C3-C8环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C8烷基)-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；且X1、X2不同时为氢；
X3、X4分别独立地代表O、S、NH或N-(C1-C8)烷基；
X5代表氢、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烯基、杂环基、芳基、
Figure BDA0002832019750000051
Figure BDA0002832019750000052
其中，所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、氰基、硝基、C3-C8环烷基、C3-C8环烯基、杂环基、芳基、
Figure BDA0002832019750000053
Figure BDA0002832019750000054
中的至少一个基团所取代的，所述“C3-C8环烷基”、“C3-C8环烯基”、“杂环基”或“芳基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、卤代C3-C8环烷基、被C1-C8烷基取代的C3-C8环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C8烷基)-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
或者N(X5)2代表
Figure BDA0002832019750000055
或未取代或被选自氧代或C1-C8烷基中的至少一个基团所取代的1-位为氮原子的杂环基
Figure BDA0002832019750000056
R1、R2分别独立地代表氢、氰基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、甲酰基C1-C8烷基、氰基C1-C8烷基、氨基、氨基C1-C8烷基、氨基羰基、氨基羰基C1-C8烷基、氨基磺酰基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C3-C8环烯基、C3-C8环烯基C1-C8烷基、杂环基、杂环基C1-C8烷基、芳基、芳基C1-C8烷基、R4R5N-(CO)-NR3-、
Figure BDA0002832019750000057
R3-S(O)m-(C1-C8烷基)n-、R3-O-(C1-C8烷基)n-、R3-(CO)-(C1-C8烷基)n-、R3-O-(C1-C8烷基)n-(CO)-、R3-(CO)-O-(C1-C8烷基)n-、R3-S-(CO)-(C1-C8烷基)n-、R3-O-(CO)-(C1-C8烷基)-或R3-O-(CO)-O-(C1-C8烷基)-，其中，
所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，
所述“氨基”、“氨基C1-C8烷基”、“氨基羰基”、“氨基羰基C1-C8烷基”或“氨基磺酰基”分别独立地是未取代的或被选自-R11、-OR11、-(CO)R11、-(CO)OR11、-(C1-C8烷基)-(CO)OR11、-(SO2)R11、-(SO2)OR11、-(C1-C8烷基)-(SO2)R11、-(CO)N(R12)2或-(SO2)N(R12)2中的一个或两个基团所取代的，
所述“C3-C8环烷基”、“C3-C8环烷基C1-C8烷基”、“C3-C8环烯基”、“C3-C8环烯基C1-C8烷基”、“杂环基”、“杂环基C1-C8烷基”、“芳基”或“芳基C1-C8烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、卤代C3-C8环烷基、被C1-C8烷基取代的C3-C8环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C8烷基)-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
R6代表C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基或氰基，其中，所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、C1-C8烷氧基或C1-C8烷氧羰基中的至少一个基团所取代的；
R7、R7’、R8、R8’分别独立地代表氢、C1-C8烷基、卤素、卤代C1-C8烷基、氨基、羟基C1-C8烷基或C1-C8烷氧基；
X11分别独立地代表氢、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C3-C8环烯基、C3-C8环烯基C1-C8烷基、杂环基、杂环基C1-C8烷基、芳基、芳基C1-C8烷基或
Figure BDA0002832019750000061
其中，所述“C3-C8环烷基”、“C3-C8环烷基C1-C8烷基”、“C3-C8环烯基”、“C3-C8环烯基C1-C8烷基”、“杂环基”、“杂环基C1-C8烷基”、“芳基”或“芳基C1-C8烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、卤代C3-C8环烷基、被C1-C8烷基取代的C3-C8环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C8烷基)-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
X12分别独立地代表C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C3-C8环烯基、C3-C8环烯基C1-C8烷基、杂环基、杂环基C1-C8烷基、芳基或芳基C1-C8烷基，其中，所述“C3-C8环烷基”、“C3-C8环烷基C1-C8烷基”、“C3-C8环烯基”、“C3-C8环烯基C1-C8烷基”、“杂环基”、“杂环基C1-C8烷基”、“芳基”或“芳基C1-C8烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、卤代C3-C8环烷基、被C1-C8烷基取代的C3-C8环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C8烷基)-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
X13、X14分别独立地代表氢、卤素、氰基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷氧基C1-C8烷基、C1-C8烷基羰基、C1-C8烷氧基羰基、C1-C8烷基磺酰基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基烷基、C3-C8环烯基、C3-C8环烯基C1-C8烷基、芳基、芳基C1-C8烷基、杂环基或杂环基C1-C8烷基，或者基团CX13X14一起形成5～8元碳环或含氧、硫或氮的杂环，或者基团NX13X14一起形成1-位为氮原子的杂环基，其中，所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，所述“C3-C8环烷基”、“C3-C8环烷基C1-C8烷基”、“C3-C8环烯基”、“C3-C8环烯基C1-C8烷基”、“芳基”、“芳基C1-C8烷基”、“杂环基”或“杂环基C1-C8烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、卤代C3-C8环烷基、被C1-C8烷基取代的C3-C8环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C8烷基)-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环，所述“5～8元碳环或含氧、硫或氮的杂环”是未取代的或被选自C1-C8烷基、C1-C8烷氧羰基或苄基中的1-4个基团所取代的，或者与芳基或杂环基形成稠环结构，所述“1-位为氮原子的杂环基”是未取代或被选自氧代或C1-C8烷基中的至少一个基团所取代的；
R3、R4、R5分别独立地代表氢、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C3-C8环烯基、C3-C8环烯基C1-C8烷基、杂环基、杂环基C1-C8烷基、芳基或芳基C1-C8烷基，其中，所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，所述“C3-C8环烷基”、“C3-C8环烷基C1-C8烷基”、“C3-C8环烯基”、“C3-C8环烯基C1-C8烷基”、“杂环基”、“杂环基C1-C8烷基”、“芳基”或“芳基C1-C8烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、卤代C3-C8环烷基、被C1-C8烷基取代的C3-C8环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C8烷基)-(CO)OR13中的至少一个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
R11分别独立地代表C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C3-C8环烯基、C3-C8环烯基C1-C8烷基、苯基、苄基，其中，所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，所述“苯基”或“苄基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、卤代C1-C8烷基、C1-C8烷氧基羰基、C1-C8烷硫基、C1-C8烷基磺酰基、C1-C8烷氧基或卤代C1-C8烷氧基中的至少一个基团所取代的；
R12分别独立地代表氢、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷基磺酰基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C3-C8环烯基或C3-C8环烯基C1-C8烷基，或者-(CO)N(R12)2或-(SO2)N(R12)2中的基团N(R12)2分别独立地代表未取代或被选自氧代或C1-C8烷基中的至少一个基团所取代的1-位为氮原子的杂环基
Figure BDA0002832019750000071
Figure BDA0002832019750000072
R13分别独立地代表氢，C1-C8烷基，卤代C1-C8烷基，苯基或被选自卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、卤代C1-C8烷基、C1-C8烷氧基羰基、C1-C8烷硫基、C1-C8烷基磺酰基、C1-C8烷氧基或卤代C1-C8烷氧基中的至少一个基团所取代的苯基；
r代表2、3、4、5或6。
更优选地，Y代表卤素、卤代C1-C6烷基或氰基；
X代表-CX1X2-(C1-C6烷基)n-、-(C1-C6烷基)-CX1X2-(C1-C6烷基)n-或-(CH2)r-；
X1、X2分别独立地代表氢、卤素、氰基、氨基、硝基、甲酰基、氰基C1-C6烷基、羟基C1-C6烷基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基氨基、卤代C1-C6烷氧基、卤代C1-C6烷硫基、C1-C6烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷氧基C1-C6烷基、卤代C1-C6烷氧基C1-C6烷基、C1-C6烷基氨基C1-C6烷基、芳基、杂环基、芳基C1-C6烷基或杂环基C1-C6烷基，其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被卤素所取代的，所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烷基C1-C6烷基”、“芳基”、“杂环基”、“芳基C1-C6烷基”或“杂环基C1-C6烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C6烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；且X1、X2不同时为氢；
X3、X4分别独立地代表O、S、NH或N-(C1-C6)烷基；
X5代表氢、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烯基、杂环基、芳基、
Figure BDA0002832019750000081
Figure BDA0002832019750000082
其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、氰基、硝基、C3-C6环烷基、C3-C6环烯基、杂环基、芳基、
Figure BDA0002832019750000083
Figure BDA0002832019750000084
中的至少一个基团所取代的，所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烯基”、“杂环基”或“芳基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C6烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
或者N(X5)2代表
Figure BDA0002832019750000085
或未取代或被选自氧代或C1-C6烷基中的1、2或3个基团所取代的1-位为氮原子的杂环基
Figure BDA0002832019750000091
R1、R2分别独立地代表氢、氰基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、甲酰基C1-C6烷基、氰基C1-C6烷基、氨基、氨基C1-C6烷基、氨基羰基、氨基羰基C1-C6烷基、氨基磺酰基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C6烷基、C3-C6环烯基、C3-C6环烯基C1-C6烷基、杂环基、杂环基C1-C6烷基、芳基、芳基C1-C6烷基、R4R5N-(CO)-NR3-、
Figure BDA0002832019750000092
R3-S(O)m-(C1-C6烷基)n-、R3-O-(C1-C6烷基)n-、R3-(CO)-(C1-C6烷基)n-、R3-O-(C1-C6烷基)n-(CO)-、R3-(CO)-O-(C1-C6烷基)n-、R3-S-(CO)-(C1-C6烷基)n-、R3-O-(CO)-(C1-C6烷基)-或R3-O-(CO)-O-(C1-C6烷基)-，其中，
所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，
所述“氨基”、“氨基C1-C6烷基”、“氨基羰基”、“氨基羰基C1-C6烷基”或“氨基磺酰基”分别独立地是未取代的或被选自-R11、-OR11、-(CO)R11、-(CO)OR11、-(C1-C6烷基)-(CO)OR11、-(SO2)R11、-(SO2)OR11、-(C1-C6烷基)-(SO2)R11、-(CO)N(R12)2或-(SO2)N(R12)2中的一个或两个基团所取代的，
所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烷基C1-C6烷基”、“C3-C6环烯基”、“C3-C6环烯基C1-C6烷基”、“杂环基”、“杂环基C1-C6烷基”、“芳基”或“芳基C1-C6烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C6烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
R6代表C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基或氰基，其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、C1-C6烷氧基或C1-C6烷氧羰基中的1、2或3个基团所取代的；
R7、R7’、R8、R8’分别独立地代表氢、C1-C6烷基、卤素、卤代C1-C6烷基、氨基、羟基C1-C6烷基或C1-C6烷氧基；
X11分别独立地代表氢、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C6烷基、C3-C6环烯基、C3-C6环烯基C1-C6烷基、杂环基、杂环基C1-C6烷基、芳基、芳基C1-C6烷基或
Figure BDA0002832019750000093
其中，所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烷基C1-C6烷基”、“C3-C6环烯基”、“C3-C6环烯基C1-C6烷基”、“杂环基”、“杂环基C1-C6烷基”、“芳基”或“芳基C1-C6烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C6烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
X12分别独立地代表C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C6烷基、C3-C6环烯基、C3-C6环烯基C1-C6烷基、杂环基、杂环基C1-C6烷基、芳基或芳基C1-C6烷基，其中，所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烷基C1-C6烷基”、“C3-C6环烯基”、“C3-C6环烯基C1-C6烷基”、“杂环基”、“杂环基C1-C6烷基”、“芳基”或“芳基C1-C6烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C6烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
X13、X14分别独立地代表氢、卤素、氰基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷氧基C1-C6烷基、C1-C6烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基烷基、C3-C6环烯基、C3-C6环烯基C1-C6烷基、芳基、芳基C1-C6烷基、杂环基或杂环基C1-C6烷基，或者基团CX13X14一起形成5～8元碳环或含氧、硫或氮的杂环，或者基团NX13X14一起形成1-位为氮原子的杂环基
Figure BDA0002832019750000101
Figure BDA0002832019750000102
其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烷基C1-C6烷基”、“C3-C6环烯基”、“C3-C6环烯基C1-C6烷基”、“芳基”、“芳基C1-C6烷基”、“杂环基”或“杂环基C1-C6烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C6烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环，所述“5～8元碳环或含氧、硫或氮的杂环”是未取代的或被选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧羰基或苄基中的1、2或3个基团所取代的，或者与芳基或杂环基形成稠环结构，所述
Figure BDA0002832019750000103
是未取代的或被选自氧代或C1-C6烷基中的1、2或3个基团所取代的；
R3、R4、R5分别独立地代表氢、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C6烷基、C3-C6环烯基、C3-C6环烯基C1-C6烷基、杂环基、杂环基C1-C6烷基、芳基或芳基C1-C6烷基，其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烷基C1-C6烷基”、“C3-C6环烯基”、“C3-C6环烯基C1-C6烷基”、“杂环基”、“杂环基C1-C6烷基”、“芳基”或“芳基C1-C6烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C6烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
R11分别独立地代表C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C6烷基、C3-C6环烯基、C3-C6环烯基C1-C6烷基、苯基、苄基，其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，所述“苯基”或“苄基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、卤代C1-C6烷基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷氧基或卤代C1-C6烷氧基中的1、2或3个基团所取代的；
R12分别独立地代表氢、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基磺酰基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C6烷基、C3-C6环烯基或C3-C6环烯基C1-C6烷基，或者-(CO)N(R12)2或-(SO2)N(R12)2中的基团N(R12)2分别独立地代表未取代或被选自氧代或C1-C6烷基中的1、2或3个基团所取代的1-位为氮原子的杂环基
Figure BDA0002832019750000111
Figure BDA0002832019750000112
R13分别独立地代表氢，C1-C6烷基，卤代C1-C6烷基，苯基或被选自卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、卤代C1-C6烷基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷氧基或卤代C1-C6烷氧基中的1、2或3个基团所取代的苯基。
进一步优选地，X代表-CX1X2-(C1-C3烷基)n-、-(C1-C3烷基)-CX1X2-(C1-C3烷基)n-或-(CH2)r-；
X1、X2分别独立地代表氢、卤素、氰基、氨基、硝基、甲酰基、氰基C1-C3烷基、羟基C1-C3烷基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C3烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基氨基、卤代C1-C6烷氧基、卤代C1-C6烷硫基、C1-C6烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷氧基C1-C3烷基、卤代C1-C6烷氧基C1-C3烷基、C1-C6烷基氨基C1-C3烷基、芳基、杂环基、芳基C1-C3烷基或杂环基C1-C3烷基，其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被卤素所取代的，所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烷基C1-C3烷基”、“芳基”、“杂环基”、“芳基C1-C3烷基”或“杂环基C1-C3烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C3烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；且X1、X2不同时为氢；
X5代表氢、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烯基、杂环基、芳基、
Figure BDA0002832019750000121
Figure BDA0002832019750000122
其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、氰基、硝基、C3-C6环烷基、C3-C6环烯基、杂环基、芳基、
Figure BDA0002832019750000123
Figure BDA0002832019750000124
中的1、2或3个基团所取代的，所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烯基”、“杂环基”或“芳基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C3烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
或者N(X5)2代表
Figure BDA0002832019750000125
或未取代或被选自氧代或C1-C6烷基中的1、2或3个基团所取代的1-位为氮原子的杂环基
Figure BDA0002832019750000126
X11分别独立地代表氢、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C3烷基、C3-C6环烯基、C3-C6环烯基C1-C3烷基、杂环基、杂环基C1-C3烷基、芳基、芳基C1-C3烷基或
Figure BDA0002832019750000127
其中，所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烷基C1-C3烷基”、“C3-C6环烯基”、“C3-C6环烯基C1-C3烷基”、“杂环基”、“杂环基C1-C3烷基”、“芳基”或“芳基C1-C3烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C3烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
X12分别独立地代表C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C3烷基、C3-C6环烯基、C3-C6环烯基C1-C3烷基、杂环基、杂环基C1-C3烷基、芳基或芳基C1-C3烷基，其中，所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烷基C1-C3烷基”、“C3-C6环烯基”、“C3-C6环烯基C1-C3烷基”、“杂环基”、“杂环基C1-C3烷基”、“芳基”或“芳基C1-C3烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C3烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环；
X13、X14分别独立地代表氢、卤素、氰基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷氧基C1-C3烷基、C1-C6烷基羰基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基烷基、C3-C6环烯基、C3-C6环烯基C1-C3烷基、芳基、芳基C1-C3烷基、杂环基或杂环基C1-C3烷基，或者基团CX13X14一起形成5～8元饱和碳环、
Figure BDA0002832019750000131
或者基团NX13X14一起形成1-位为氮原子的杂环基
Figure BDA0002832019750000132
Figure BDA0002832019750000133
其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，所述“C3-C6环烷基”、“C3-C6环烷基C1-C3烷基”、“C3-C6环烯基”、“C3-C6环烯基C1-C3烷基”、“芳基”、“芳基C1-C3烷基”、“杂环基”或“杂环基C1-C3烷基”分别独立地是未取代的或被选自氧代、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基、卤代C2-C6炔基、卤代C3-C6环烷基、被C1-C6烷基取代的C3-C6环烷基、-OR13、-SR13、-(CO)OR13、-(SO2)R13、-N(R13)2或-O-(C1-C3烷基)-(CO)OR13中的1、2或3个基团所取代的，或者环上相邻两个碳原子与未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-形成稠环，所述“5～8元饱和碳环、
Figure BDA0002832019750000134
是未取代的或被选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧羰基或苄基中的1、2或3个基团所取代的，或者与苯基或噻吩基形成稠环结构，所述
Figure BDA0002832019750000135
是未取代的或被选自氧代或C1-C6烷基中的1、2或3个基团所取代的。
更进一步优选地，Q代表
Figure BDA0002832019750000136
Figure BDA0002832019750000137
Figure BDA0002832019750000141
在上述通式所示化合物的定义和以下所有结构式中，所用专业术语不论单独使用或者使用在复合词中，代表如下取代基：具有多于两个碳原子的烷基基团可为直链或支链的。如复合词“-烷基-(CO)OR11”中烷基可为-CH2-、-CH2CH2-、-CH(CH3)-、-CH2CH2CH2-、-C(CH3)2-等；“-(CH2)r-”例如可为-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-等。烷基基团为，例如，C1烷基-甲基；C2烷基-乙基；C3烷基-丙基如正丙基或异丙基；C4烷基-丁基如正丁基、异丁基、叔丁基或2-丁基；C5烷基-戊基如正戊基；C6烷基-己基如正己基、异己基和1,3-二甲基丁基。类似地，烯基是例如乙烯基、烯丙基、1-甲基丙-2-烯-1-基、2-甲基丙-2-烯-1-基、丁-2-烯-1-基、丁-3-烯-1-基、1-甲基丁-3-烯-1-基和1-甲基丁-2-烯-1-基。炔基是例如乙炔基、炔丙基、丁-2-炔-1-基、丁-3-炔-1-基、1-甲基丁-3-炔-1-基。多重键可以在每个不饱和基团的任何位置。环烷基是具有例如三至六个碳原子的碳环饱和环体系，例如环丙基、环丁基、环戊基或环己基。类似地，环烯基是具有例如三至六个碳环成员的单环烯基，例如环丙烯基、环丁烯基、环戊烯基和环己烯基，其中双键可以在任何位置。卤素为氟、氯、溴或碘。
除非有特别说明的，本发明所述“芳基”包括但不限于苯基、萘基、
Figure BDA0002832019750000142
Figure BDA0002832019750000143
所述“杂环基”不仅包括但不限于饱和或不饱和的非芳族环状基团
Figure BDA0002832019750000144
Figure BDA0002832019750000145
Figure BDA0002832019750000146
等，还包括但不限于杂芳基，即含有例如3至6个环原子且还任选地有苯并环稠合的芳族环状基团，所述环原子中的1至4个(例如1、2、3或4个)杂原子选自氧、氮和硫，例如
Figure BDA0002832019750000147
Figure BDA0002832019750000148
Figure BDA0002832019750000151
如果一个基团被基团所取代，则这应理解为意指该基团被一个或多个相同或不同的选自所提及的那些基团的基团取代。另外，相同或不同取代基中含有的相同或不同的取代字符均独立地选择，可相同也可不同。这同样适用于由不同原子和单元形成的环体系。同时，权利要求的范围将排除那些为本领域技术人员知晓的在标准条件下化学不稳定的化合物。
另外，除非特别限定地，本发明中多个并列取代基(以“、”或者“或”隔开)前述的限定词对其后每一个取代基都有限定作用，如“未取代的或被卤素所取代的-OCH2CH2-或-OCH2O-”中“未取代的或被卤素所取代的”对其后每一个基团“-OCH2CH2-”“-OCH2O-”都有限定作用；“烷基氨基”是指被烷基单取代或双取代的氨基，其他取代氨基基团定义类似；未标注具体连接位置的基团(包括杂环基、芳基等)，可在任意位置连接，包括与C或N相连接的位置；如果其是被取代的，取代基同样可在任何位置取代，只要符合化合键连接规则。如被1个甲基所取代的杂芳基
Figure BDA0002832019750000152
可代表
Figure BDA0002832019750000153
等。
需要指出的，当通式中与X1和X2相连的碳原子(C*)为手性中心(即X1和X2不相同时)时，其为R构型或S构型，优选R构型，基于在该位置上具有R和S构型的立体异构体含量而言，其具有60-100％(R)的立体化学纯度，优选70-100％(R)，更优选80-100％(R)，进一步优选90-100％(R)，更进一步优选95-100％(R)。其中，“立体化学纯度”是指所述的立体异构体的量占具有产生手性中心的立体异构体的总量的百分比。
本发明中，式I中标记为*的位置处的立体化学构型是根据Cahn-Ingold-Prelog系统来确定为主要的(R)，然而本发明的主题也涉及式I所包括的其它位置的所有立体异构体，及其混合物。这类式I化合物包含，例如一种或多种附加的不对称碳原子或其它未在式I中具体说明的双键。应理解的是，本发明包括纯异构体及其程度不同的富集纯异构体的混合物，其中在标记为*的位置处的不对称碳原子是R-构型，或在混合物中，化合物或同样化学构造的化合物在标记为*的位置上具有R-构型，或以主要存在具有R-构型的化合物(至少60％R-构型)的比例存在，同时其它的不对称碳原子可以以外消旋形式存在，或也可以进行程度不同的拆分。只要符合在标记为*的位置上的立体化学构型条件，则由特定的空间形式定义的可能的立体异构体，如对映异构体、非对映异构体、Z-和E-异构体均包括在式I中，并且可以采用常规方法从立体异构体的混合物中获得，或也可以通过与利用立体化学纯初始物质相结合的立体选择反应加以制备。
若存在各种官能团，本发明还包括任何酮和烯醇互变异构体形式及其混合物和盐。
立体异构体可通过光学拆分从在制备中获得的混合物中获得。同样可通过使用立体选择性反应且使用光学活性的起始原料和/或助剂来选择性地制备立体异构体。对于光学拆分而言，通常可以利用常规方法(参见Textbooks ofStereochemistry)，例如用于将混合物拆分成非对映异构体的下述方法，例如物理方法，如结晶、层析法，尤其是柱层析和高压液相色谱法，视需要在减压下进行的蒸馏方法，萃取法和其它方法，通常采用在手性固相上的色谱分离，可以分离对映结构体的残余混合物。适用于制备量或用于工业规模的是这样的方法，例如结晶非对映盐，这可以利用光学活性酸从化合物中获得，并且若存在酸性基团，可以视需要利用光学活性碱。
所述羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物的制备方法，包括以下步骤：
将通式Ⅱ所示的化合物与通式Ⅲ’所示的化合物进行消除反应，制得如通式Ⅰ’所示的化合物，其化学反应方程式如下：
Figure BDA0002832019750000161
或者，将通式Ⅱ所示的化合物与通式Ⅲ所示的化合物进行消除反应，制得如通式Ⅰ所示的化合物，其化学反应方程式如下：
Figure BDA0002832019750000162
其中，Hal代表卤素，其他取代基Q、M、W、Y、Z、X、X3和X4的定义如前所述。
优选地，所述反应在碱和溶剂的存在下进行。
所述碱选自无机碱(如K2CO3、Na2CO3、Cs2CO3、NaHCO3、KF、CsF、KOAc、AcONa、K3PO4、t-BuONa、EtONa、NaOH、KOH、NaOMe等)或有机碱(如吡唑、三乙胺、DIEA等)中的至少一种。
所述溶剂选自DMF、甲醇、乙醇、乙腈、二氯乙烷、DMSO、Dioxane、二氯甲烷或乙酸乙酯中的至少一种。
另外，当Q代表
Figure BDA0002832019750000163
时，也可先通过上述方法制得中间产物
Figure BDA0002832019750000164
再与R6-Hal(Hal代表卤素，R6代表烷基、烯基、炔基、卤代烷基)经常规的取代反应制得目标产物。
一种除草剂组合物，其包括(i)除草有效量的所述的羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物中的至少一种(组分A)；优选地，还包括(ii)一种或多种除草有效量的另外的除草剂(组分B)和/或安全剂；更优选地，还包括(iii)农业化学上可接受的制剂助剂。
在一种具体实施方式中，所述另外的除草剂选自以下化合物及其酸/盐/酯中的一种或多种：
(1)HPPD抑制剂：苯唑草酮(CAS号：210631-68-8)、异噁唑草酮(CAS号：141112-29-0)、环磺酮(CAS号：335104-84-2)、呋喃磺草酮(CAS号：473278-76-1)、双唑草酮(CAS号：1622908-18-2)、环吡氟草酮(CAS号：1855929-45-1)、三唑磺草酮(CAS号：1911613-97-2)、苯唑氟草酮(CAS号：1992017-55-6)、
Figure BDA0002832019750000171
(2)PDS抑制剂：呋草酮(CAS号：96525-23-4)、吡氟酰草胺(CAS号：83164-33-4)、氟吡酰草胺(CAS号：137641-05-5)；
(3)DOXP抑制剂：异噁草松(CAS号:81777-89-1)、bixlozone(CAS号:81777-95-9)；
(4)ALS抑制剂：苯磺隆(CAS号:101200-48-0)、噻吩磺隆(CAS号:79277-27-3)、吡嘧磺隆(CAS号:93697-74-6)、噻酮磺隆(CAS号:317815-83-1)、氯吡嘧磺隆(CAS号:100784-20-1)、砜嘧磺隆(CAS号:122931-48-0)、烟嘧磺隆(CAS号:111991-09-4)、甲氧咪草烟(CAS号:114311-32-9)；
(5)ACCase抑制剂：烯草酮(CAS号:99129-21-2)、烯禾啶(CAS号:74051-80-2)、精喹禾灵(CAS号:100646-51-3)；
(6)PPO抑制剂：乙氧氟草醚(CAS号:42874-03-3)、噁草酮(CAS号:19666-30-9)、丙炔噁草酮(CAS号:39807-15-3)、甲磺草胺(CAS号:122836-35-5)、双唑草腈(CAS号:158353-15-2)、丙炔氟草胺(CAS号:103361-09-7)、苯嘧磺草胺(CAS号:372137-35-4)、唑草酮(CAS号:128639-02-1)、trifludimoxazin(CAS号:1258836-72-4)；
(7)PSII抑制剂：嗪草酮(CAS号:21087-64-9)、特丁津(CAS号:5915-41-3)、氨唑草酮(CAS号:129909-90-6)、绿麦隆(CAS号:15545-48-9)、异丙隆(CAS号:34123-59-6)、除草定(CAS号:314-40-9)、敌稗(CAS号:709-98-8)、甜菜安(CAS号:13684-56-5)、甜菜宁(CAS号:13684-63-4)、灭草松(CAS号:25057-89-0)、溴苯腈(CAS号:1689-84-5)；
(8)微管组装抑制剂：仲丁灵(CAS号:33629-47-9)、二甲戊灵(CAS号:40487-42-1)；
(9)VLCFA抑制剂：丁草胺(CAS号:23184-66-9)、丙草胺(CAS号:51218-49-6)、苯噻酰草胺(CAS号:73250-68-7)、精异丙甲草胺(CAS号:87392-12-9)、氟噻草胺(CAS号:142459-58-3)、砜吡草唑(CAS号:447399-55-5)、莎稗磷(CAS号:764249-01-0)；
(10)脂类合成(非乙酰辅酶A羧化酶)抑制剂：苄草丹(CAS号:52888-80-9)；
(11)合成激素类：
Figure BDA0002832019750000172
氯氟吡氧乙酸(CAS号：69377-81-7)、氯氟吡啶酯(CAS号：1390661-72-9)、氟氯吡啶酯(CAS号：943831-98-9)、三氯吡氧乙酸(CAS号：55335-06-3)、二氯吡啶酸(CAS号：1702-17-6)、氨氯吡啶酸(CAS号：1918-02-1)、氯氨吡啶酸(CAS号:150114-71-9)、麦草畏(CAS号：1918-00-9)、2-甲基-4-氯苯氧乙酸(CAS号：94-74-6)、2,4-二氯苯氧基乙酸(CAS号：94-75-7)；
(12)EPSPS抑制剂：草甘膦(CAS号:1071-83-6)；
(13)GS抑制剂：草铵膦(CAS号:77182-82-2)、精草铵膦(CAS号:35597-44-5)；
(14)PSI抑制剂:百草枯(CAS号:1910-42-5)、敌草快(CAS号:2764-72-9)；
(15)纤维素合成抑制剂：三嗪氟草胺(CAS号:131475-57-5)、茚嗪氟草胺(CAS号:950782-86-2)；
(16)其他除草剂：环庚草醚(CAS号:87818-31-3)。
在本说明书的上下文中，如果使用活性化合物的通用名称的缩写形式，则在每种情况下包括所有的常规衍生物，例如酯和盐，以及异构体，特别是光学异构体，特别是一种或多种市售形式。如果通用名称表示酯或盐，则在每种情况下还包括所有其他的常规衍生物，例如其他的酯和盐、游离酸和中性化合物，以及异构体，特别是光学异构体，特别是一种或多种市售形式。给出的化合物的化学名称表示至少一种被通用名称涵盖的化合物，通常是优选的化合物。在磺酰胺如磺酰脲的情况下，盐还包括通过阳离子与磺酰胺基团中的氢原子交换而形成的盐。
其中，所述除草组合物中A、B的重量比为1:1000～1000:1、1:800～800:1或1:600～600:1；优选为1:500～500:1、1:400～400:1或1:300～300:1；更优选为1:200～200:1、1:100～100:1或1:80～80:1；进一步优选为1:50～50:1、1:30～30:1、1:20～20:1、1:10～10:1、1:5～1:1或1:1～5:1。所述除草组合物中A和B的质量百分含量占总量的1-95％，优选10-80％。
所述安全剂选自双苯噁唑酸(CAS：163520-33-0)、cyprosulfamide(CAS：221667-31-8)、吡唑解草酯(CAS：135590-91-9)、解毒喹(CAS：99607-70-2)、赤霉酸(CAS：7-06-5)、furilazole(CAS：121776-33-8)、metcamifen(CAS：129531-12-0)中的一种或多种。
所述制剂助剂包括载体、表面活性剂。
本文中的术语“载体”表示一种有机或无机、天然或合成的物质。它们有助于活性成分的施用，该载体一般是惰性的且必须是农业上可接受的，特别是被处理的植物所接受。载体可以是固体的，如陶土、天然或合成的硅酸盐、二氧化硅、树脂、蜡、固体肥料等；或者液体的，如水、醇类、酮类、石油馏分、芳烃或蜡烃、氯代烃、液化气等。
表面活性剂可包括乳化剂、分散剂或润湿剂，它可以是离子型或非离子型的。可提及的实例是聚丙烯酸的盐、木质素磺酸盐、苯酚磺酸或萘磺酸的盐、环氧乙烷与脂肪族醇或与脂族酸或与脂肪族胺与取代苯酚(特别是烷基苯酚或芳基苯酚)的聚合物、磺基琥珀酸盐、牛磺酸衍生物(特别是牛磺酸烷脂)及醇的磷酸酯或多羟乙基化的苯酚的磷酸酯、烷基磺酸盐、烷基芳基磺酸盐、烷基硫酸盐、月桂基醚硫酸盐、脂肪醇硫酸盐，以及硫酸化十六-、十七-和十八烷醇以及硫酸化脂肪醇乙二醇醚，此外还有萘或萘磺酸与苯酚和甲醛的缩合物、聚氧乙烯辛基苯基醚、乙氧基化异辛基酚、辛基酚或壬基酚、烷基苯基聚乙二醇醚、三丁基苯基聚乙二醇醚、三硬脂基苯基聚乙二醇醚、烷基芳基聚醚醇、醇和脂肪醇/氧化乙烯缩合物、乙氧基化蓖麻油、聚氧乙烯烷基醚、乙氧基化聚氧丙烯、月桂醇聚乙二醇醚缩醛、山梨醇酯、木素亚硫酸盐废液，以及蛋白质、变性蛋白、多糖(例如甲基纤维素)、疏水改性淀粉、聚乙烯醇、聚羧酸盐、聚烷氧基化物、聚乙烯胺、聚乙烯吡咯烷酮及其共聚物。至少需要一种表面活性剂存在，以有利于活性成分在水中的分散并有利于使它们能正确地施用于植物。
上述组合物也可含有各种其他的组分，如保护胶体、粘合剂、增稠剂、触变剂、渗透剂、稳定剂、螯合剂、染料、着色剂和聚合物。
本发明的组合物可以由使用者在使用前经稀释或直接使用。其配制可由通常的加工方法制备，即将活性物质与液体溶剂或固体载体混合后，再加入表面活性剂如分散剂、稳定剂、湿润剂、粘合剂、消泡剂等中的一种或几种。
所述除草组合物的具体制剂为可分散油悬浮剂、水悬浮剂、悬乳剂、可湿性粉剂、乳油、水分散粒剂(干悬浮剂)、水乳剂、微乳剂。
简而言之，本发明的组合物可以和现有技术的配方中常规使用的固体和液体添加剂混合。随着外部条件的变化，有效成分的使用量也不同，外部条件为，例如温度、湿度、使用的除草剂的性质等等。它可以有大的变化幅度，例如在0.001到1.0kg/ha之间，或更多的活性物质，但优选在0.005到750g/ha之间，特别是在0.005到500g/ha之间。
一种防治不希望的植物的方法，其包括将除草有效量的所述的羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物中的至少一种或所述的除草剂组合物施用至植物或者其场所或施用至土壤或水体以防治不希望的植物出苗或生长。
所述的羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物中的至少一种或所述的除草剂组合物在控制不希望的植物上的用途，优选地，将所述的羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物用于防除有用作物中的杂草，所述有用作物为转基因作物或者基因组编辑技术处理过的作物。
对于许多经济上重要的单子叶和双子叶有害植物(不希望的植物)，本发明的式I化合物具有突出的除莠活性。本发明的活性物质也对于多年生杂草有效，这些杂草从根茎、根状茎、或其它的多年生的器官上生长出来，很难控制。关于这点，是否在播种前、萌发前或萌发后使用该物质一般不重要。特别提及本发明化合物可以控制的单子叶和双子叶杂草群的代表例子，没有限制到的确定的物种。活性物质有效作用的杂草物种的例子包括单子叶植物：一年生燕麦属、黑麦、草属、看麦娘属、法拉里斯、稗、马唐属、狗尾草属和莎草属，和多年生的冰草属、狗牙根属、白茅属和高粱属、以及多年生的莎草属。
关于双子叶杂草物种，其作用可以扩展到的物种例如一年生的猪殃殃属、堇菜属、婆婆纳属、野芝麻属、繁缕属、苋属、白芥属、番薯属、黄花稔属、母菊属和苘麻属，和多年生杂草旋花属、蓟属、酸模属和艾属。本发明活性物质在水稻播种这种待定条件下有效控制有害植物，例如稗、慈姑属、泽泻属、荸荠属、蔗草和莎草属。如果将本发明化合物在萌芽前施用于土壤表面，可以在杂草长出前完全预防杂草的秧苗，或在杂草长出子叶时就停止生长，最后在三到四星期之后完全死亡。本发明化合物特别抗下述植物的活性优良，阿皮拉草、小野芝麻、卷茎蓼、繁缕、长春藤叶婆婆纳、阿拉伯婆婆纳、三色堇和苋、猪殃殃属和地肤。
所述不希望的植物还包括除草剂抗性或耐受性杂草物种。
虽然本发明化合物对于单子叶和双子叶的杂草具有优良的除莠活性，但对于重要的经济类作物植物，例如小麦、大麦、黑麦、稻子、玉米、甜菜、棉花和大豆却根本没有损害，或者是损害是微不足道的。特别是和谷类作物相容得很好，例如小麦、大麦和玉米，特别是小麦。因此，本发明化合物非常适于有选择地控制在农用作物或观赏植物中的无用植物。
由于它们的除莠性质，在已知或将要出现的遗传工程的植物耕种中，这些活性物质可以用于控制有害植物。转基因植物通常具有优越的性状，例如对特定杀虫剂特别是特定除草剂的抵抗力，对植物病害或植物病害的致病微生物的抵抗力，例如特定的昆虫或真菌、细菌或病毒的微生物。其它的特别性状与产品的下述条件有关，例如，数量、质量、贮存稳定性、组分和特殊的成分。如此，已经知道获得的转基因植物产品具有增加的淀粉含量或改进的淀粉质量或不同的脂肪酸成份。
本发明的式I化合物或其盐优选用于，经济上重要的转基因的作物和观赏植物，例如谷类，例如小麦、大麦、黑麦、燕麦、粟、稻子、木薯和玉米、或用于甜菜、棉花、大豆、油菜籽、马铃薯、番茄、豌豆及其他蔬菜类植物的耕种。式I化合物优选用于有用植物耕种的除草剂，这些植物具有抗药性或通过遗传工程对除草剂的毒害作用具有抗药性。
传统的繁育具有比已知植物具有改进形状植物的方法包括，例如传统的交配方法和突变株繁育。换句话说，可以借助于遗传工程的方法(参见，例如EP-0221044 A，EP-0131624 A)来得到具有改进性状的新植物。例如，已经描述了几个方法：
-为了改进植物中的淀粉合成，利用遗传工程改变作物植物(例如WO 92/11376，WO92/14827，WO 91/19806)；
-对特定的除草剂具有抗性的转基因作物植物，对草丁膦除草剂(例如EP-0242236A，EP-0242246 A)或对草甘膦类除草剂(WO 92/00377)，或对磺酰脲类除草剂(EP-0257993A，US-5013659 A)；
-例如棉花的转基因作物植物，它能够产生苏芸金杆菌毒素(Bt毒素)，这种毒素可以防御特定害虫对植物的侵害(EP-0142924 A，EP-0193259 A)；
-具有改进的脂肪酸成份的转基因作物植物(WO91/13972)。
已经知道许多能够制备具有改进性状转基因植物分子生物技术(参见，例如Sambrook等，1989，分子扩增，实验手册第二版，美国冷泉港实验室出版，冷泉港，纽约；或Winnacker“Gene und Klone”[基因和克隆]，VCH Weinheim，第二版1996或Christou，“植物科学的趋势”1(1996)423-431))。为了实现遗传工程的操作，可能将核酸分子引入质粒，通过DNA序列的重组，发生突变或序列改变。利用上述的标准方法，例如可以交换底物、除去部分序列或增加自然的或合成的序列。为了将DNA片段互相连接，有可能在片段上附带有结合体或连接体。
可以用下述方法制备降低活性的基因产品的植物细胞，例如通过表达至少一种适当的反义-RNA、正义-RNA来达到共抑制的效果，或通过表达至少一种适当构造的核糖酶，它特定裂解上述基因产品的转录产物。
为此目的，有可能使用包含基因产物全部编码序列的DNA分子，包括有可能存在的任何旁侧序列，和使用包含仅仅一部分编码序列的DNA分子，这些部分必须足够长以达到在细胞中反义的效果。也可以使用与基因产物编码序列具有高度同源性但不完全相同的序列。
当在植物中表达核酸分子时，合成的蛋白质可以在任何期望的植物细胞室中定位。然而为了在特定的室定位，有可能例如将编码区和DNA序列连接，以确保在特定位置定位。这些序列为本领域所属技术人员已知的(参见，例如Braun等，EMBO J.11(1992)3219-3227；Wolter等，Proc.Natl.Acad.Sci.USA 85(1988)，846-850；Sonnewald等Plant J.1(1991)，95-106)。
利用已知的技术可以将转基因植物细胞重组到整个植物上。转基因植物可以为任何期望的植物品种，即单子叶和双子叶植物。用这样的方式，通过超表达、禁止或抑制同源(＝自然的)基因或基因序列，或通过异种的(＝外部的)基因或者基因序列的表达，有可能获得改进性状的转基因植物。
当在转基因的作物上使用本发明的活性物质时，除了具有在其它作物上可观察到的抑制有害植物的效果外，经常在相应的转基因作物上会有特殊的效果，例如可以改进或扩大控制杂草的范围，改进应用时的施用量，优选转基因作物的抗药性和除草剂的性能很好的结合，并且转基因的作物植物的生长和产率的影响。因此本发明也提供了所述化合物的用途，作为除草剂控制转基因作物植物中的有害植物。
另外本发明化合物可以明显调节作物植物的生长。通过调节参与植物代谢，使用这些化合物定向控制植物的组分和促进收获，例如使植物干化和矮化生长。而且它们也适于调节和抑制不希望的植物生长，而不破坏作物的生长。抑制植物的生长在许多单子叶植物和双子叶植物作物中起着非常重要的作用，因为这样可以减少或完全预防倒伏。
可以使用一般的制剂来应用本发明的化合物，可使用可湿性粉剂、浓缩乳剂、可喷洒的溶液、粉末或颗粒。这样本发明也提供了包括式I化合物的除草剂组合物。根据通常的生物学和/或化学的物理参数，可以用多种方式配制式I化合物。适合的制剂选择实例为：可湿性粉剂(WP)、水溶性的粉末(SP)、水溶性的浓缩物、浓缩乳剂(EC)、例如油在水中分散和水在油中分散的乳剂(EW)、可喷洒溶液、悬浮剂浓缩物(SC)、可分散油悬浮剂(OD)、以油或水为稀释剂的悬浮液、可混溶油的溶液、粉末(DP)、胶囊悬浮液(CS)、包核(seeddressing)组合物、用于撒播和土壤施药的颗粒、喷射颗粒、涂覆颗粒和吸收颗粒，水中可分散的颗粒(WG)、水溶性的颗粒(SG)、ULV(超低容量)配方、微囊和蜡制品。这些单个的制剂类型为已知的，在下述文献中有描述，例如Winnacker-Küchler，“Chemische Techonologie”[化学工艺]，第7卷，C.Hauser Verlag Munich，第4版1986；Wade van Valkenburg，“PesticideFormulations”，Marcel Dekker，N.Y.，1973；K.Martens，“Spray Drying”手册，第3版1979，G.Goodwin Ltd.London。
必要的制剂助剂，例如惰性物质、表面活性剂、溶剂及其它添加剂同样为已知的，并在下述文件中描述，例如Watkins的“粉末稀释剂杀虫剂和载体手册”，第二版，Darland书Caldwell N.J.；H.v.01phen“粘土胶体化学的入门”，第二版，J.Wiley和Sons，N.Y.；C.Marsden的“溶剂指南”第二版，Interscience，N.Y.1963；McCutcheon的“洗涤剂和乳化剂年报”，MC发行公司，Ridgewood N.J.；Sisley和Wood，“表面活性剂百科全书”，化学出版公司，N.Y.1964；
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的
Figure BDA0002832019750000212
[环氧乙烷加成物表面活性剂]，Wiss.Verlagagesell.Stuttgart 1976；Winnacker-Küchler的“ChemischeTechnologie”[化学工艺]，第7卷，C.Hauser Verlag Munich，第4版1986。
可湿性粉剂能均匀地可分散在水中，除了活性物质，还包括稀释剂或惰性物质、离子和非离子型表面活性剂(润湿剂、分散剂)，例如聚乙氧基烷基酚、聚乙氧基脂肪醇、聚氧乙基脂肪族胺、脂肪醇聚二醇醚硫酸盐、烷基磺酸盐、烷基苯基磺酸盐、木质磺酸钠、2,2’-二萘甲烷-6,6’-二磺酸钠、二丁基萘磺酸钠或油酰甲基牛磺酸钠。为了制备可湿性粉剂，将除草剂的活性物质细磨，例如使用常用的仪器，如用锤磨机、风扇磨碎机和喷气式磨碎机，同时或顺序混入助剂。
将活性物质溶解在有机溶剂中制备浓缩乳剂，溶剂例如丁醇、环己酮、二甲基甲酰胺、二甲苯或较高沸点的芳族化合物或碳氢化合物或溶剂的混合物，并再加入一种或多种离子的和/或非离子型表面活性剂(乳化剂)。可以使用的乳化剂的例子为例如十二烷基苯磺酸钙的烷基芳基磺酸钙，或非离子乳化剂，例如脂肪酸聚二醇酯、烷基芳香基聚二醇醚、脂肪醇聚二醇醚、氧化丙烯-环氧乙烷缩合产物、烷基聚醚、例如山梨糖醇酐脂肪酸酯的山梨聚糖酯，或例如聚氧化乙烯山梨糖醇酐脂肪酯的聚氧化乙烯山梨聚糖酯。
将活性物质和细碎的固态物质研磨得到粉末，固态物质例如滑石、如高岭土、皂土和叶蜡石的天然粘土、或硅藻土。以水或油为基底的悬浮液可以通过下述方法制备，例如利用商业上通用的玻珠研磨机进行湿磨，加入或不加入上述另一个制剂类型的表面活性剂。
制备例如水包油乳化剂(EW)的乳剂，可以使用含水的有机溶剂，使用搅拌器、胶体研磨器和/或静态混合器，如果需要，加入如上所述另一个制剂类型的表面活性剂。
用下述方法制备颗粒剂，将活性物质喷到吸附物上，使用惰性物料颗粒化，或将活性物质浓缩到例如沙、高岭石载体的表面，通过粘合剂将惰性物料粒化，粘合剂例如聚乙烯醇、聚丙烯酸钠或矿物油。可以用制备肥料颗粒剂的方法将合适的活性物质粒化，如果需要可以混有肥料。使用通常的方法制备水悬浮颗粒剂，例如喷洒-干燥，流化床造粒、磨盘造粒、使用高速混合机混合，并在无固体惰性物料的情况下挤压。
关于使用磨盘、流化床、挤压机和喷涂颗粒剂的制备方法，参见下述工艺，例如“Spray Drying手册”第三版1979，G.Goodwin有限公司，伦敦；J.E.Browning，“Agglomeration”，化学和工程1967，147ff页；“Perry’s化学的工程师手册”，第五版，McGraw-Hill，纽约1973，8-57页。如果要知道关于作物保护产品的制剂，参见例如，G.C.Klingman,“Weed Control as a Science”，John Wiley和Sons公司，纽约，1961 81-96页和J.D.Freyer，S.A.Evans“杂草防除手册”，第五版，Blackwell ScientificRublications，牛津大学1968，101-103页。
农用化学品制剂通常包含按重量计0.1到99％，特别是0.1到95％的活性物质式I。可湿性粉剂中活性物质的浓度为，按重量计例如从大约10到99％，通常的制剂组分构成按重量计剩余量到100％。活性物质在浓缩乳剂中的浓度按重量计可以为大约1到90％，优选5到80％。粉末制剂包含按重量计1到30％的活性物质，通常优选按重量计5到20％的活性物质，然而可喷洒的溶液包含按重量计大约0.05到80％，优选2到50％的活性物质。关于水悬浮颗粒剂中活性物质的含量，主要根据活性物质为液体还是固态，和造粒时使用的助剂、填料等等。水悬浮颗粒剂中活性物质的含量例如按重量计在1到95％之间，优选按重量计在10到80％之间。
另外所述的活性物质的制剂可以包括增粘剂、润湿剂、分散剂、乳化剂、渗透剂、防腐剂、防冻剂、溶剂、填料、载体、着色剂、消泡剂、蒸发抑制剂和通常在所有情况下都常用的pH和粘度调节剂。
以这些制剂为基础，也可能和其他杀虫剂活性物质例如杀虫剂、杀螨剂、除草剂和杀菌剂混合，也可以和安全剂、肥料和/或植物生长调节剂混合，混合方式可以为预先混合好的或灌装混合。
在混配制剂或桶混制剂中，可以和本发明的活性物质混合的合适的活性物质为，例如《世界农药新品种技术大全》，中国农业科学技术出版社，2010.9和这里引用的文献中的已知物质。例如以下提到的除草剂活性物质可以和式I混合物混合，(备注：化合物的名称，或者为根据国际标准化组织(ISO)的普通名称，或者为化学名称，适当的时候有代号)：乙草胺、丁草胺、甲草胺、异丙草胺、异丙甲草胺、精异丙甲草胺、丙草胺、毒草胺、克草胺、萘丙酰草胺、R-左旋萘丙酰草胺、敌稗、苯噻酰草胺、双苯酰草胺、吡氟酰草胺、杀草胺、氟丁酰草胺、溴丁酰草胺、二甲噻草胺、高效二甲噻草胺、乙氧苯草胺、氟噻草胺、甲氧噻草胺、吡草胺、异恶草胺、高效麦草伏甲酯、高效麦草伏丙酯、二丙烯草胺、烯草胺、丁酰草胺、环丙草胺、氟磺酰草胺、庚酰草胺、异丁草胺、丙炔草胺、特丁草胺、二甲苯草胺、二甲草胺、落草胺、三甲环草胺、氯甲酰草胺、炔苯酰草胺、戊酰苯草胺、卡草胺、新燕灵、三环赛草胺、丁烯草胺、牧草胺、苄草胺、醌萍胺、苯氟磺胺、萘丙胺、乙酰甲草胺、萘草胺、噻草胺、吡氰草胺、苯草多克死、草克乐、氯酞亚胺、丁脒胺、氟吡草胺、莠去津、西玛津、扑草净、氰草净、西草净、莠灭净、扑灭津、异丙净、氟草净、特丁净、特丁津、三嗪氟草胺、环丙津、甘扑津、草达津、扑灭通、西玛通、叠氮净、敌草净、异戊乙净、环丙青津、灭莠津、另丁津、仲丁通、特丁通、甲氧丙净、氰草净、抑草津、可乐津、莠去通、灭草通、甘草津、三聚氰酸、Indaziflam、绿磺隆、甲磺隆、苄嘧磺隆、氯嘧黄隆、苯磺隆、噻磺隆、吡嘧黄隆、甲基二磺隆、甲基碘磺隆钠盐、甲酰氨基嘧磺隆、醚磺隆、醚苯磺隆、甲嘧磺隆、烟嘧磺隆、胺苯磺隆、酰嘧磺隆、乙氧嘧磺隆、环丙嘧磺隆、砜嘧磺隆、四唑嘧磺隆、啶嘧黄隆、单嘧磺隆、单嘧磺酯、氟唑磺隆、氟啶嘧磺隆、氟吡嘧磺隆、环氧嘧磺隆、唑吡嘧磺隆、氟嘧磺隆、丙苯磺隆、三氟丙磺隆、磺酰磺隆、三氟啶磺隆、氟胺磺隆、三氟甲磺隆、甲磺隆钠盐、氟吡磺隆、甲硫嘧磺隆、嘧苯胺磺隆、Propyrisulfuron(丙嗪嘧磺隆)、嗪吡嘧磺隆、三氟羧草醚、氟磺胺草醚、乳氟禾草灵、乙羧氟草醚、乙氧氟草醚、草枯醚、苯草醚、氯氟草醚乙酯、甲羧除草醚、三氟甲草醚、甲氧除草醚、三氟硝草醚、氟化除草醚、氟呋草醚、除草醚、甲草醚、二甲草醚、氟酯肟草醚、氟草醚酯、Halosafen、绿麦隆、异丙隆、利谷隆、敌草隆、莎扑隆、氟草隆、苯噻隆、甲基苯噻隆、苄草隆、磺噻隆、异恶隆、特丁噻草隆、炔草隆、氯溴隆、甲基杀草隆、酰草隆、甲氧杀草隆、溴谷隆、甲氧隆、绿谷隆、灭草隆、环草隆、非草隆、氟硫隆、草不隆、枯草隆、草完隆、异草完隆、环莠隆、噻氟隆、丁噻隆、枯莠隆、对氟隆、甲胺噻唑隆、隆草特、三甲异脲、恶唑隆、Monisouron、Anisuron、Methiuron、Chloreturon、四氟隆、甜菜宁、甜菜宁-乙酯、甜菜安、磺草灵、特草灵、燕麦灵、苯胺灵、氯苯胺灵、二氯苄草酯、灭草灵、氯炔灵、Carboxazole、Chlorprocarb、Fenasulam、BCPC、CPPC、Carbasulam、丁草特、禾草丹、灭草猛、禾草特、野麦畏、哌草丹、禾草畏、稗草丹、环草敌、燕麦敌、菌达灭、乙硫草特、坪草丹、克草猛、苄草丹、仲草丹、硫烯草丹、草灭散、Isopolinate、Methiobencarb、2,4-滴丁酯、2甲4氯钠、2,4-滴异辛酯、2甲4氯异辛酯、2,4-滴钠盐、2,4-滴二甲胺盐、2甲4氯乙硫酯、2甲4氯、2,4-滴丙酸、高2,4-滴丙酸盐、2,4-滴丁酸、2甲4氯丙酸、2甲4氯丙酸盐、2甲4氯丁酸、2,4,5-涕、2,4,5-涕丙酸、2,4,5-涕丁酸、2甲4氯胺盐、麦草畏、抑草蓬、伐草克、赛松、三氯苯酸、氨二氯苯酸、甲氧三氯苯酸、禾草灵、吡氟禾草灵、精吡氟禾草灵、氟吡甲禾灵、高效吡氟氯禾灵、喹禾灵、精喹禾灵、恶唑禾草灵、精恶唑禾草灵、喔草酯、氰氟草酯、恶唑酰草胺、炔草酯、噻唑禾草灵、炔禾灵、羟戊禾灵、三氟禾草肟、异恶草醚、百草枯、敌草快、安磺灵、乙丁烯氟灵、异丙乐灵、甲磺乐灵、环丙氟灵、氨基丙氟灵、乙丁氟灵、氯乙氟灵、氨基乙氟灵、地乐灵、氯乙地乐灵、Methalpropalin、丙硝酚、草甘膦、莎稗膦、草铵膦、甲基胺草磷、草硫膦、哌草膦、双丙氨膦、地散磷、抑草磷、蔓草磷、伐垅磷、双甲胺草磷、草特磷、咪唑烟酸、咪唑乙烟酸、咪唑喹啉酸、甲氧咪草烟、甲氧咪草烟铵盐、甲咪唑烟酸、咪草酯、氯氟吡氧乙酸、氯氟吡氧乙酸异辛酯、二氯吡啶酸、氨氯吡啶酸、三氯吡氧乙酸、氟硫草定、卤草定、三氯吡啶酚、噻草啶、氟啶草酮、氯氨吡啶酸、氟吡草腙、三氯吡氧乙酸丁氧基乙酯、Cliodinate、稀禾啶、烯草酮、噻草酮、禾草灭、环苯草酮、丁苯草酮、肟草酮、吡喃草酮、Buthidazole、嗪草酮、环嗪酮、苯嗪草酮、乙嗪草酮、Ametridione、Amibuzin、溴苯腈、辛酰溴苯腈、辛酰碘苯腈、碘苯腈、敌草腈、二苯乙腈、双唑草腈、羟敌草腈、Iodobonil、唑嘧磺草胺、双氟磺草胺、五氟磺草胺、磺草唑胺、氯酯磺草胺、双氯磺草胺、啶磺草胺、氟草黄、双草醚、嘧啶肟草醚、环酯草醚、嘧草醚、嘧硫草醚、双环磺草酮、硝磺草酮、磺草酮、Tembotrione、Tefuryltrione、Bicyclopyrone、Ketodpiradox、异恶唑草酮、异恶氯草酮、Fenoxasulfone、Methiozolin、异丙吡草酯、吡草醚、吡唑特、野燕枯、苄草唑、吡草酮、吡氯草胺、Pyrasulfotole、苯唑草酮、Pyroxasulfone、唑草胺、氟胺草唑、杀草强、胺唑草酮、唑啶草酮、氟唑草酮、甲磺草胺、Bencarbazone、双苯嘧草酮、氟丙嘧草酯、除草定、异草定、环草啶、特草定、Flupropacil、吲哚酮草酯、氟烯草酸、丙炔氟草胺、炔草胺、酞苄醚、Flumezin、五氯酚(钠)、地乐酚、特乐酚、特乐酯、戊硝酚、二硝酚、氯硝酚、地乐施、地乐特、丙炔恶草酮、恶草酮、环戊恶草酮、氟唑草胺、嗪草酸甲酯、四唑酰草胺、氟哒嗪草酯、杀草敏、溴莠敏、二甲达草伏、哒草醚、草哒酮、草哒松、哒草伏、Pyridafol、二氯喹啉酸、氯甲喹啉酸、苯达松、哒草特、恶嗪草酮、草除灵、异恶草酮、环庚草醚、异丙酯草醚、丙酯草醚、茚草酮、氯酸钠、茅草枯、三氯醋酸、一氯醋酸、六氯丙酮、四氟丙酸、牧草快、溴酚肟、三唑磺、灭杀唑、呋草酮、呋草磺、乙呋草磺、嘧草胺、氯酞酸、氟咯草酮、稗草稀、丙烯醛、苯草灭、灭草环、燕麦酯、噻二唑草胺、棉胺宁、羟草酮、甲氧苯酮、苯嘧磺草胺、氯酰草膦、三氯丙酸、Alorac、Diethamquat、Etnipromid、Iprymidam、Ipfencarbazone、Thiencarbazone-methyl、Pyrimisulfan、Chlorflurazole、Tripropindan、Sulglycapin、甲硫磺乐灵、Cambendichlor、环丙嘧啶酸、硫氰苯胺、解草酮、解草啶、解草安、解草唑、解草喹、解草腈、解草烷、解草胺腈、解草烯、吡唑解草酯、呋喃解草唑、肟草安、双苯噁唑酸、二氯丙烯胺、氟氯吡啶酯、DOW氯氟吡啶酯、UBH-509、D489，LS 82-556、KPP-300、NC-324、NC-330、KH-218、DPX-N8189、SC-0744、DOWCO535、DK-8910、V-53482、PP-600、MBH-001、KIH-9201、ET-751、KIH-6127和KIH-2023。
当使用时，如果需要，将市售的制剂以常见的方式稀释，例如在可湿性粉剂、浓缩乳剂、悬浮液和在水中悬浮的颗粒时，使用水稀释。粉末、土壤施药所用的颗粒剂或撒播和喷洒的溶液，一般在使用前不需要进一步用惰性物质稀释。随着外部条件的变化，要求的式I化合物的使用量也不同，外部条件为，例如温度、湿度、使用的除草剂的性质等等。它可以有大的变化幅度，例如在0.001到1.0kg/ha之间，或更多的活性物质，但优选在0.005到750g/ha之间，特别是在0.005到250g/ha之间。
具体实施方式
以下实施例用于举例说明本发明，不应当视其为以任何方式限制本发明。本发明要求保护的权利范围通过权利要求书进行说明。
鉴于化合物的经济性与多样性，我们优选合成了一些化合物，在合成的诸多化合物中，选取部分列于下表1和表A中。具体的化合物结构及相应的化合物信息如表1和表A所示。表1和表A中的化合物只是为了更好的说明本发明，但并不限定本发明，对于本领域的技术人员而言，不应将此理解为本发明上述主题的范围仅限于以下化合物。
表1化合物结构及其1HNMR
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Figure BDA0002832019750000331
Figure BDA0002832019750000341
Figure BDA0002832019750000351
Figure BDA0002832019750000361
Figure BDA0002832019750000371
Figure BDA0002832019750000381
Figure BDA0002832019750000391
Figure BDA0002832019750000401
Figure BDA0002832019750000411
Figure BDA0002832019750000421
Figure BDA0002832019750000431
Figure BDA0002832019750000441
Figure BDA0002832019750000451
Figure BDA0002832019750000461
Figure BDA0002832019750000471
Figure BDA0002832019750000481
Figure BDA0002832019750000491
Figure BDA0002832019750000501
Figure BDA0002832019750000511
Figure BDA0002832019750000521
Figure BDA0002832019750000531
Figure BDA0002832019750000541
Figure BDA0002832019750000551
Figure BDA0002832019750000561
Figure BDA0002832019750000571
Figure BDA0002832019750000581
Figure BDA0002832019750000591
Figure BDA0002832019750000601
Figure BDA0002832019750000611
Figure BDA0002832019750000621
Figure BDA0002832019750000631
Figure BDA0002832019750000641
Figure BDA0002832019750000651
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Figure BDA0002832019750000691
Figure BDA0002832019750000701
Figure BDA0002832019750000711
Figure BDA0002832019750000721
Figure BDA0002832019750000731
Figure BDA0002832019750000741
Figure BDA0002832019750000751
Figure BDA0002832019750000761
Figure BDA0002832019750000771
Figure BDA0002832019750000781
Figure BDA0002832019750000791
Figure BDA0002832019750000801
Figure BDA0002832019750000811
Figure BDA0002832019750000821
Figure BDA0002832019750000831
Figure BDA0002832019750000841
Figure BDA0002832019750000851
Figure BDA0002832019750000861
Figure BDA0002832019750000871
Figure BDA0002832019750000881
Figure BDA0002832019750000891
Figure BDA0002832019750000901
Figure BDA0002832019750000911
Figure BDA0002832019750000921
Figure BDA0002832019750000931
Figure BDA0002832019750000941
Figure BDA0002832019750000951
Figure BDA0002832019750000961
Figure BDA0002832019750000971
Figure BDA0002832019750000981
Figure BDA0002832019750000991
Figure BDA0002832019750001001
Figure BDA0002832019750001011
Figure BDA0002832019750001021
Figure BDA0002832019750001031
Figure BDA0002832019750001041
Figure BDA0002832019750001051
Figure BDA0002832019750001061
Figure BDA0002832019750001071
Figure BDA0002832019750001081
Figure BDA0002832019750001091
Figure BDA0002832019750001101
Figure BDA0002832019750001111
Figure BDA0002832019750001121
Figure BDA0002832019750001131
Figure BDA0002832019750001141
Figure BDA0002832019750001151
Figure BDA0002832019750001161
Figure BDA0002832019750001171
Figure BDA0002832019750001181
Figure BDA0002832019750001191
Figure BDA0002832019750001201
Figure BDA0002832019750001211
Figure BDA0002832019750001221
Figure BDA0002832019750001231
表A如以上表1相同构造，除了将有手性中心
Figure BDA0002832019750001232
其中，X代表-C*X1X2-(烷基)n-、-烷基-C*X1X2-(烷基)n-，即X1、X2不相同，*处碳原子为手性中心)的消旋体化合物(即化合物1-188、193-432、438-439、441-469、471-478、481-484、486-493、495-545、547-641、644-669、672、674-681、683-727、729-829、832-857、860、862-869、871-916、918-1018、1021-1046、1049、1051-1058和1060-1069)替换为相应R构型并删除相应位置无手性中心的化合物，且在表A中，“序号”列标题下面的条目依次叙述为“1(R)-188(R)、193(R)-432(R)、438(R)-439(R)、441(R)-469(R)、471(R)-478(R)、481(R)-484(R)、486(R)-493(R)、495(R)-545(R)、547(R)-641(R)、644(R)-669(R)、672(R)、674(R)-681(R)、683(R)-727(R)、729(R)-829(R)、832(R)-857(R)、860(R)、862(R)-869(R)、871(R)-916(R)、918(R)-1018(R)、1021(R)-1046(R)、1049(R)、1051(R)-1058(R)和1060(R)-1069(R)”。例如，“1(R)”对应于表1中化合物“1”的R构型，“194(R)”对应于表1中化合物“194”的R构型。
制备本发明化合物的数种方法详解说明于以下方案和实施例中。原料可以经市场购买到或者可以通过文献中已知的方法或者如详解所示进行制备。本领域技术人员应当理解，也可以利用其它合成路线合成本发明的化合物。尽管在下文中已经对合成路线中的具体原料和条件进行了说明，但是，可以很容易地将其替换为其它类似的原料及条件，这些对本发明制备方法的变型或者变体而产生的诸如化合物的各种异构等都包括在本发明范围内。另外，如下所述制备方法可以按照本发明公开内容、使用本领域技术人员熟知的常规化学方法进行进一步修饰。例如，在反应过程中对适当的基团进行保护等等。
以下提供的方法实施例用于促进对本发明的制备方法的进一步了解，使用的具体物质、种类和条件确定为是对本发明的进一步说明，并不是对其合理范围的限制。在下表中表明的合成化合物中使用的试剂或者可以市场购买到，或者可以由本领域普通技术人员轻易制备得到。
代表性化合物的实施例如下，其他化合物的合成方法类似，此处不再详细说明。
1、化合物1的合成
1)在500毫升的EtOH溶液中依次加入1-1(10g,49.1mmol,1.0eq)，Fe粉(8.23g,147.4mmol,3.0eq)，NH4Cl(5.26g,98.3mmol,2.0eq)和水(50ml)。然后反应液在80℃条件下反应1小时，LCMS检测到原料消失。过滤之后浓缩除去乙醇然后用乙酸乙酯萃取，有机相用饱和食盐水洗涤(100ml*1)，浓缩有机相得到1-2(12g，粗品)(黑色固体)。
Figure BDA0002832019750001241
2)在100毫升的甲苯溶液中加入1-2(12g,69.1mmol,1.0eq,粗品)。然后反应液在100℃条件下加入1-3(10.8g,69.1mmol,1.0eq)，加入完毕后在100℃下反应1小时。LCMS检测到原料消失，有产品生成。浓缩甲苯之后得到粗品。粗品经过柱层析后得到1-4(5g)(黄色固体)。
Figure BDA0002832019750001242
3)在50毫升的DMF溶液中加入1-5(3.8g,17.0mmol,1.0eq)和AcONa(0.7g,8.5mmol,0.5eq)。然后反应液在60℃条件下加入1-4(5g,17.0mmol,1.0eq)，加入完毕后在60℃下反应1小时。LCMS检测到原料消失，有新峰生成。向反应液中加入水(50ml)后用乙酸乙酯萃取，有机相用饱和食盐水洗涤(100ml*1)，浓缩有机相后粗品经柱层析分离后后得到1-6(4.0g，71.3％产率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001243
4)在40毫升的EtOH中加入1-6(4g,12.1mmol,1.0eq)，然后反应液在0℃条件下逐滴加入NH2OHHCl(0.93g,13.3mmol,1.1eq)水溶液(6ml)。滴加完毕后反应液在0℃条件下搅拌2小时.LCMS检测显示原料几乎消耗完毕，有一个主要的新峰生成。将反应液浓缩除去一部分乙醇后倒入10毫升水中，有固体析出，过滤，滤饼用水洗涤后干燥后得到1-7(7g,71.7％收率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001244
5)在5毫升的DMF溶液中依次加入1-7(0.2g,0.58mmol,1.0eq)，a(0.14g,1.1mmol,2eq)，K2CO3(0.24g,1.74mmol,3eq)。然后反应液在室温条件下反应4小时，LCMS检测到原料消失全部为产品峰。向反应液中加入水(10ml)后用乙酸乙酯萃取，有机相用饱和食盐水洗涤(10ml*1)，浓缩有机相后粗品经柱层析分离后得到1(0.15g，60％产率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001251
2、化合物1(R)构型的合成
在5毫升的DMF溶液中依次加入1-7(0.2g,0.58mmol,1.0eq)，b(0.14g,1.1mmol,2eq)，K2CO3(0.24g,1.74mmol,3eq)。然后反应液在室温条件下反应4小时，LCMS检测到原料消失全部为产品峰。向反应液中加入水(10ml)后用乙酸乙酯萃取，有机相用饱和食盐水洗涤(10ml*1)，浓缩有机相后粗品经柱层析分离后得到1(R)(0.15g，60％产率，R/S＝98/2)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001252
3、化合物194(R)的合成
1)在200毫升的EtOH中加入1-1(20g,98.3mmol,1.0eq)，然后反应液在0℃条件下逐滴加入NH2OHHCl(7.5g,108.1mmol,1.1eq)水溶液(30ml)。滴加完毕后反应液在0℃条件下搅拌3小时，LCMS检测显示原料几乎消耗完毕，有一个主要的新峰生成。将反应液浓缩除去一部分乙醇后倒入100毫升水中，有固体析出，过滤，滤饼用水洗涤后干燥后得到194-1(20g,93％收率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001253
2)在50毫升的EtOH中依次加入194-1(5g,22.9mmol,1.0eq)，Fe粉(3.8g,68.6mmol,3eq)，NH4Cl(2.5g,45.8mmol,2eq)和水(10ml)。然后反应液在80℃条件下反应1小时后LCMS检测到产品峰。反应液用硅藻土过滤后浓缩除去乙醇后加入水(20ml)，乙酸乙酯萃取后经浓缩得到黑色粗品。粗品经柱层析分离纯化之后得到194-2(2g,46.4％收率)(灰色固体)。
Figure BDA0002832019750001261
3)在20ml醋酸中加入194-2(1g,5.3mmol,1.0eq)和c(1.1g,5.3mmol,1.0eq)，反应液在110℃条件下反应1小时。LCMS检测到原料基本反应完毕，主峰为产品。浓缩溶剂后粗品经柱层析分离后得到194-3(1.5g，80.5％产率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001262
4)在8ml DMF中依次加入194-3(0.4g,1.1mmol,1.5eq)，b(0.18g,1.5mmol,1.3eq)和K2CO3(0.2g,1.5mmol,1.3eq)，然后反应液在25℃条件下反应4小时，LCMS检测到产品。向反应液中加入水(10ml)后用乙酸乙酯萃取，有机相用饱和食盐水洗涤(10ml*1)，浓缩有机相后粗品经柱层析分离后得到194-4(0.3g，60.2％产率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001263
5)在6ml DMF中依次加入194-4(0.3g,0.69mmol,1.0eq)，MeI(0.13g,0.9mmol,1.3eq)和K2CO3(0.12g,0.9mmol,1.3eq)，然后反应液在25℃条件下反应2小时。LCMS检测到产品。向反应液中加入水(10ml)后用乙酸乙酯萃取，有机相用饱和食盐水洗涤(10ml*1)，浓缩有机相后粗品经柱层析分离后得到194(R)(0.2g，64.6％产率，R/S＝99/1)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001264
4、化合物504的合成
(1)在50ml DCM溶液中加入504-1(2g,1.0eq)，DessMartin(4.8g,2eq)，然后反应液在室温条件下反应2小时。LCMS检测反应完全。向反应液中加入NaHCO3水溶液(100ml)后用DCM萃取，有机相用饱和食盐水洗涤(100ml*2)，浓缩有机相后粗品经柱层析分离得到504-2(1.6g,82％产率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001271
(2)在30ml乙醇溶液中加入504-2(1.6g,1.0eq)，水(10ml)，盐酸羟胺(0.63g,2eq)，然后反应液在室温条件下反应2小时。LCMS检测反应完全。将反应液浓缩，粗品经柱层析分离得到504-3(1.1g,69％产率)(白色油状物)。
Figure BDA0002832019750001272
(3)在10ml DMF中加入504-3(0.3g,1.0eq)和K2CO3(170mg,1.5eq)，然后反应液在25℃条件下加入a(150mg,1.5eq)，之后在25℃条件下反应8小时，LCMS检测到产品。向反应液中加入水(10ml)后用乙酸乙酯萃取，有机相用饱和食盐水洗涤(20ml*1)，浓缩有机相后粗品经柱层析分离后得到504(0.2g,54％产率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001273
5、化合物919的合成
(1)在10毫升的THF中加入919-1(0.3g,1.0eq)和NH2NH2H2O(0.5g,85％水溶液,10eq)，然后反应液在60℃条件下搅拌3小时，LCMS检测到产品生成。浓缩反应液之后粗品经柱层析分离后得到919-2(0.15g,48％产率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001274
(2)在6ml DMF中加入919-2(0.15g,1.0eq)和K2CO3(74mg,1.3eq)，然后反应液在25℃条件下加入a(55mg,1.1eq)，之后在25℃条件下反应8小时，LCMS检测到产品。向反应液中加入水(10ml)后用乙酸乙酯萃取，有机相用饱和食盐水洗涤(20ml*1)，浓缩有机相后粗品经柱层析分离后得到919(50mg,27％产率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001281
生物活性评价：
植物破坏(即生长控制率)的活性级别标准如下：
5级：生长控制率在85％以上；
4级：生长控制率大于等于60％且小于85％；
3级：生长控制率大于等于40％且小于60％；
2级：生长控制率大于等于20％且小于40％；
1级：生长控制率大于等于5％且小于20％；
0级：生长控制率小于5％。
以上生长控制率为鲜重控制率。
苗后测试实验：
将单子叶和双子叶杂草种子(播娘蒿、荠菜、苘麻、猪殃殃、繁缕、麦家公、蔊菜、看麦娘、日本看麦娘、牛筋草、菵草、硬草、小飞蓬、蜡烛草、婆婆纳、雀麦、节节麦、虉草、反枝苋、藜、鸭跖草、苣荬菜、田旋花、刺儿菜、狼把草、龙葵、铁苋菜、马唐、稗草、绿狗尾草、金狗尾草、千金子、鸭舌草、野慈姑、萤蔺、香附子、碎米莎草、异型莎草、飘拂草、马齿苋、苍耳、牵牛等)以及主要作物种子(小麦、玉米、水稻、大豆、棉花、油菜、花生、谷子、高粱、马铃薯、芝麻、蓖麻等)放置在装有土壤的塑料盆中，然后覆盖0.5-2厘米土壤，使其在良好的温室环境中生长，播种2周后在2-3叶期处理测试植物，分别将供试的本发明化合物用丙酮溶解，然后加入吐温80，以1.5升/公顷油酸甲酯的乳油作为增效剂，用一定的水稀释成一定浓度的溶液，用喷雾塔喷施到植物上。施药后在温室中培养3周后统计杂草的实验效果，所用化合物计量为500,250,125,60,30,15,7.5克/公顷，重复三次，取平均值。代表性数据列于表2。
表2苗后杂草试验
Figure BDA0002832019750001282
Figure BDA0002832019750001291
Figure BDA0002832019750001301
Figure BDA0002832019750001311
Figure BDA0002832019750001321
Figure BDA0002832019750001331
Figure BDA0002832019750001341
Figure BDA0002832019750001351
Figure BDA0002832019750001361
Figure BDA0002832019750001371
Figure BDA0002832019750001381
Figure BDA0002832019750001391
Figure BDA0002832019750001401
注：N代表未测试；
对照化合物A：
Figure BDA0002832019750001402
对照化合物B：
Figure BDA0002832019750001403
对照化合物C：
Figure BDA0002832019750001404
对照化合物D：
Figure BDA0002832019750001405
对照化合物E：
Figure BDA0002832019750001406
对照化合物F：
Figure BDA0002832019750001407
表3R构型、S构型和消旋体苗后杂草试验
化合物序号 反枝苋 稗草 牛筋草 剂量
1(R) 5 4 5 7.5克/公顷
1 3 3 3 7.5克/公顷
1(S) 1 1 1 7.5克/公顷
194(R) 5 5 5 7.5克/公顷
194 5 4 4 7.5克/公顷
194(S) 2 1 1 7.5克/公顷
对照化合物D 2 1 2 7.5克/公顷
苗前测试实验：
将前述单子叶和双子叶杂草种子以及主要作物种子放置在装有土壤的塑料盆中，然后覆盖0.5-2厘米土壤，分别将供试的本发明化合物用丙酮溶解，然后加入吐温80，用一定的水稀释成一定浓度的溶液，播种后立即喷施。施药后在温室中培养4周后观察实验结果，发现本发明的药剂多数在500,250,125,60,30,15,7.5克/公顷计量下效果出众，尤其对稗草、马唐、苘麻等杂草，且很多化合物对玉米、棉花、小麦、水稻、大豆、花生有良好的选择性。另外，以上述活性标准级别评价效果，很多化合物表现出了优异的活性和选择性，参见表4。
表4苗前杂草试验
Figure BDA0002832019750001408
Figure BDA0002832019750001411
同时，我们经过小麦田和水稻田主要杂草测试发现，本发明所述化合物普遍具有较好的杂草防效，尤其是我们注意到对于ALS抑制剂有抗性的野慈姑、萤蔺、异型莎草、播娘蒿、荠菜、麦家公、猪殃殃、香附子等阔叶杂草和莎草有极高的活性，具有非常好的商业价值。
移栽水稻安全性评价与水田杂草防效评价：
在1/1,000,000公顷罐中装入水田土壤后，播种稗草、萤蔺、狼把草、鸭舌草、千金子等的种子，在其上轻轻地覆盖土。其后以蓄水深0.5-1厘米的状态静置于温室内，第二天或者2天后植入野慈姑的块茎。其后保持蓄水深3-4厘米，在稗草、萤蔺、狼把草、鸭舌草、千金子达到0.5叶，野慈姑达到初生叶期的时间点，将按照通常的制剂方法调制本发明化合物而成的可湿性粉剂或者悬浮剂的水稀释液，用吸液管进行均匀的滴下处理以达到规定的有效成分量。
另外，在1/1,000,000公顷罐中装入水田土壤后，进行平整，使蓄水深3-4厘米，第二天以移栽深度3厘米来移植5叶期的水稻(粳稻)。移植后第5天与上述同样地处理本发明化合物。
分别用肉眼观察药剂处理后第14天稗草、萤蔺、狼把草、鸭舌草、千金子及野慈姑的生育状态，药剂处理后第21天水稻的生育状态，以上述活性标准级别评价效果，很多化合物表现出了优异的活性和选择性。
表5部分化合物评价效果
化合物序号 千金子 萤蔺 鸭舌草 水稻 剂量
194(R) 5 5 5 0 30克/公顷
196(R) 5 5 5 0 30克/公顷
212(R) 5 5 5 0 30克/公顷
218(R) 5 5 5 0 30克/公顷
421(R) 5 5 5 0 30克/公顷
434 5 5 5 0 30克/公顷
吡嘧磺隆 2 1 2 1 30克/公顷
注：稗草、萤蔺、鸭舌草、狼把草种子及野慈姑均采集自中国黑龙江，经过检测对常规剂量的吡嘧磺隆有抗药性。
组合物活性测试：
所需活性成分B中双唑草酮、环吡氟草酮、苯唑氟草酮、三唑磺草酮为本公司生产，
Figure BDA0002832019750001421
的制备方法如下，其他由试剂公司购买。原药均采用丙酮作溶剂，用含量0.1％乳化剂吐温-80水溶液稀释，现用现稀释。
(1)化合物
Figure BDA0002832019750001422
(Cpd B1)的合成
(1.1)在30毫升的DMF中依次加入Cpd 1(3g,16mmol,1.0eq)，NaOH(0.72g,18mmol,1.1eq)然后在0℃条件下逐滴加入Cpd 2(1.28g,16.8mmol,1.05eq)，然后反应液在0℃条件下搅拌1小时。LCMS检测显示原料基本反应完毕，有一个主要的新峰。将反应液倒入30毫升水中，分液，水相用50毫升乙酸乙酯萃取一次，有机相用饱和食盐水(50ml)洗三次，干燥，旋干，柱层析分离得到Cpd 3(3.6g,91％收率)(无色的油)。
Figure BDA0002832019750001423
(1.2)在30毫升的THF中加入Cpd 3(3.1g,13mmol,1.0eq)，然后在-78℃条件下缓慢加入n-BuLi(6.42ml,2.5M,16mmol,1.2eq)，然后反应液在-78℃条件下搅拌0.5小时后缓慢通入CO2，通入10min后反应液缓慢升到室温。LCMS检测到产品。往反应液中倒入20毫升水，分液，水相用30毫升乙酸乙酯萃取一次，水相用浓盐酸逐渐调到pH＝4-5，过滤，干燥得到Cpd 4(3.2g,87％收率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001424
(1.3)在30毫升的吡啶中依次加入Cpd 4(3.1g,11mmol,1.0eq)，Cpd 5(1.66g,16.8mmol,1.5eq),DMAP(0.13g,1.1mmol,0.1eq)。然后在0℃条件下缓慢加入SOCl2(2.0g,16.8mmol,1.5eq)，然后反应液在室温条件下搅拌3小时。LCMS检测到产品。浓缩除掉吡啶后往反应液倒入30毫升水，分液，水相用30毫升乙酸乙酯萃取三次，有机相用饱和食盐水(50ml)洗三次，干燥，旋干，柱层析分离得到化合物Cpd 6(2.5g,63％收率)(白色固体)。
Figure BDA0002832019750001431
(1.4)在10毫升的二氯甲烷中依次加入Cpd 6(1g,2.8mmol,1.0eq)，m-CPBA(0.54g,3.1mmol,1.1eq)。然后反应液在室温条件下搅拌1小时。LCMS检测到产品，原料基本反应完毕。将反应液倒入10毫升水中，用亚硫酸氢钠淬灭，分液，水相用30毫升二氯甲烷萃取三次，有机相用饱和食盐水(30ml)洗一次，干燥，旋干，柱层析分离得到化合物Cpd 7(0.85g,82％收率)(灰白色的固体)。
1H NMR(500MHz,DMSO-d6)12.57(s,1H),8.07(dd,J＝8.0,7.0Hz,1H),7.82(d,J＝8.0Hz,1H),3.57-3.47(m,2H),2.48(s,3H),1.70-1.52(m,2H),1.08-0.93(m,3H).
Figure BDA0002832019750001432
(1.5)化合物Cpd 7(0.5g,98％purity)通过手性HPLC(Column：CHIRALPAK IG；Column Size：3cm x 25cm,5um；Injection：3.0ml；Mobile phase：Hex(0.2％FA)：IPA＝50：50；Flow rate：28ml/min；Wavelength:UV 254nm；Temperature:25℃；Sample solution：70mg/ml in EtOH/DCM；Run time＝60mins)拆分之后浓缩，经单晶衍射确定得到白色固体Cpd B1(R构型)(0.16g,Rt＝10.51min,100％ee,纯度为98％)。
Figure BDA0002832019750001433
(2)化合物
Figure BDA0002832019750001434
(Cpd B2)的合成
(2.1)将Cpd a(0.5g，2.13mmol)，Cpd b(313mg，2.55mmol)，催化量的TBAB(10mg)，DMF(10mL)置于圆底烧瓶中，室温15℃下搅拌24小时。液质检测少量原料剩余，即可处理。将反应液倒入到50mL水中，用甲基叔丁基醚萃取2次(50mL x 2)，有机相干燥，浓缩，经柱层析分离纯化，得到Cpd c(300mg，收率50％)。Cpd c为白色固体。
Figure BDA0002832019750001441
(2.2)将Cpd c(0.3g，1.06mmol)、甲醇(20mL)置于100mL单口瓶中，氢氧化锂(44.5mg，1.06mmol)溶解在2mL水中，室温下缓慢滴加到单口瓶中，室温搅拌12小时。液质检测原料反应完，用0.5M稀盐酸调pH至5-6，浓缩，用水和乙酸乙酯萃取。有机相干燥、浓缩得到Cpd d(200mg，收率70％)，Cpd d为白色固体。
Figure BDA0002832019750001442
(2.3)将Cpd d(200mg，0.74mmol)，Cpd e(75mg，0.74mmol)，DCC(152mg，0.74mmol)，无水DCM(20mL)置于100mL圆底烧瓶中，室温反应12小时。液质检测原料反应完，将反应液浓缩，经柱层析分离得到Cpd B2(200mg，收率77％)，Cpd B2为白色固体。
Figure BDA0002832019750001443
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ5.28(q,J＝7.0Hz,1H),5.15(s,2H),4.27–4.07(m,3H),3.91–3.73(m,2H),2.04–1.82(m,3H),1.66(d,J＝7.0Hz,3H),1.59-1.54(m,1H).
(A)苗后茎叶喷雾处理：
杂草采用盆栽法培养，用180х140mm塑料营养钵，摆放于搪瓷盘中，内装从农田采回经风干过筛的表层土壤(4/5处)，土壤湿度初期均控制在20％，挑选籽粒饱满均一的杂草种子，用25℃温水浸泡6小时，在28℃生化培养箱(黑暗)中催芽，将刚刚露白的杂草种子均匀摆放在土壤表面，根据种子粒径大小然后覆土0.5-1cm。
在可控日光温室内进行培养，温度20～30℃，自然光照，相对湿度57％～72％。土壤类型为壤土，有机质含量为1.63％，pH＝7.1，碱解氮84.3mg/kg，速效磷38.5mg/kg，速效钾82.1mg/kg。
每处理重复4次，每次处理3盆，每盆播种杂草种子20粒。
试验共用药1次。待杂草1.5-2叶期，间苗，保持每盆内杂草10株，每处理保留30株，然后继续培养至小飞蓬株高10厘米，其他杂草3-4叶进行处理。
将培养好的试材均匀摆放在面积0.5m2的平台上，用3WP-2000型行走式喷雾塔茎叶喷雾，喷液量按450公斤/公顷计，喷雾压力0.3MPa。待全部药液喷完后，关闭气阀，30秒后，打开喷雾塔门，取出营养钵。然后打开气阀，喷清水50mL，清洗喷液管。试材处理后移入温室常规培养。
(B)土壤封闭处理:
杂草在可控日光温室内进行培养，温度20～30℃，自然光照，相对湿度57％～72％。土壤类型为壤土，有机质含量为1.63％，pH＝7.1，碱解氮84.3mg/kg，速效磷38.5mg/kg，速效钾82.1mg/kg。试验土壤定量装至盆钵的3/4处，然后从盆钵底部浇灌，使土壤完全湿润至饱和状态。供试杂草种子催芽处理至露白，然后均匀定量撒播表面，根据种子大小覆土0.5-1cm，播种后72小时备用。
每处理重复4次，每次每处理3盆，每盆播种杂草种子30粒。
将播种好的试材均匀摆放在面积0.5m2的平台上，用3WP-2000型行走式喷雾塔进行土壤喷雾，喷液量按450公斤/公顷计，喷雾压力0.3MPa。待全部药液喷完后，关闭气阀，30秒后，打开喷雾塔门，取出营养钵。然后打开气阀，喷清水50mL，清洗喷液管。
(C)数据调查与统计分析
采用绝对数调查法，用刀片沿土壤表面切断存活杂草整株幼苗，用分析天平称量杂草鲜重。对于已经死亡的杂草，按鲜重为零计。
处理后21天调查，共调查1次。
用Gowing法计算各处理混合组合的理论鲜重抑制率(E0＝X+Y-X*Y/100)，然后与实测抑制率(E)相比较，评价二者混用对杂草的联合作用类型，当E-E0值大于10％为增效作用、小于-10％为拮抗作用、在-10％～10％之间为加成作用。并根据实际防效和除草剂特点、配方的平衡性等因素确定最佳配比。式中X为活性成分A用量为P时的鲜重抑制率；Y为活性成分B用量为Q时的鲜重抑制率。统计结果见表6。
表6 A混配对杂草的实际防效与联合作用评价
Figure BDA0002832019750001451
Figure BDA0002832019750001461
Figure BDA0002832019750001471
注：A代表的化合物序号为194(R)。
另外，本发明还提供了其他组分A和组分B的特定组合，进一步说明了本发明的组合物。“组分A(化合物序号)”列中的化合物标识在表1中。表B1的第二列列出了特定组分B化合物(例如第一行中的“苯唑草酮”)。表B1的其余行将被类似地构造。
表B1组合物各成分列表
Figure BDA0002832019750001481
Figure BDA0002832019750001491
表B2如以上表B1相同构造，除了“组分A(化合物序号)”列标题下面的条目被下文所示的相应“组分A(化合物序号)”列条目替代。因此，例如，在表B2中，“组分A(化合物序号)”列标题下面的条目全都叙述“2”(即，表1中所标识的化合物2)，并且表B2中的标题下面的第一行具体披露了化合物2与“苯唑草酮”的混合物。表B3至B547类似地构造。
Figure BDA0002832019750001492
Figure BDA0002832019750001501
Figure BDA0002832019750001511
Figure BDA0002832019750001521
Figure BDA0002832019750001531
表C1如以上表B1相同构造，除了“组分A(化合物序号)”列标题下面的条目被下文所示的相应“组分A(化合物序号)”列条目替代。因此，例如，在表C1中，“组分A(化合物序号)”列标题下面的条目全都叙述“1(R)”(即，表A中所标识的化合物1的R构型)，并且表C1中的标题下面的第一行具体披露了化合物1(R)与“苯唑草酮”的混合物。表C2至C532类似地构造。
Figure BDA0002832019750001532
Figure BDA0002832019750001541
Figure BDA0002832019750001551
Figure BDA0002832019750001561
Figure BDA0002832019750001571
同时经过很多测试发现，本发明所述化合物及其组合物很多对结缕草、狗牙根、高羊茅、早熟禾、黑麦草、海滨雀稗等禾本科草坪有很好的选择性，能防除很多关键禾本科杂草以及阔叶杂草、莎草科杂草。对不同施药方式下的甘蔗、油葵、马铃薯、果树、蔬菜等测试也显示出极好的选择性和商业价值。

Claims (24)

1.一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，如通式I所示：
Figure FDA0003775276700000011
Q代表
Figure FDA0003775276700000012
Y代表卤素、卤代C1-C8烷基或氰基；
Z代表卤素；
M代表CH或N；
X代表-CX1X2-(C1-C8烷基)n-、-(C1-C8烷基)-CX1X2-(C1-C8烷基)n-或-(CH2)r-；
X1、X2分别独立地代表氢、卤素、羟基C1-C8烷基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基、C1-C8烷氧基、C1-C8烷硫基、C1-C8烷基氨基、卤代C1-C8烷氧基、卤代C1-C8烷硫基、C1-C8烷氧基C1-C8烷基、卤代C1-C8烷氧基C1-C8烷基、C1-C8烷基氨基C1-C8烷基、芳基、杂环基、芳基C1-C8烷基或杂环基C1-C8烷基，其中，所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被卤素所取代的，所述“C3-C8环烷基”、“C3-C8环烷基C1-C8烷基”、“芳基”、“杂环基”、“芳基C1-C8烷基”或“杂环基C1-C8烷基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基或卤代C2-C8炔基中的至少一个基团所取代的；且X1、X2不同时为氢；
X3、X4分别独立地代表O、S、NH或N-(C1-C8)烷基；
Q1、Q2、Q3、Q4、Q5分别独立地代表氧或硫；
W代表OX5、SX5或N(X5)2；
R1、R2分别独立地代表氢、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基或C3-C8环烷基C1-C8烷基，其中，所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的；
R6代表C1-C8烷基、C2-C8烯基或C2-C8炔基，其中，所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、C1-C8烷氧基或C1-C8烷氧羰基中的至少一个基团所取代的；
R7、R7’、R8、R8’分别独立地代表氢、C1-C8烷基、卤素、卤代C1-C8烷基、氨基、羟基C1-C8烷基或C1-C8烷氧基；
r代表2、3、4、5或6；n独立地代表0或1；
X5代表氢、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、杂环基、芳基、
Figure FDA0003775276700000013
Figure FDA0003775276700000014
Figure FDA0003775276700000021
其中，所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、氰基、C3-C8环烷基、杂环基、芳基、
Figure FDA0003775276700000022
Figure FDA0003775276700000023
中的至少一个基团所取代的，所述“C3-C8环烷基”、“杂环基”或“芳基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、氰基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、卤代C3-C8环烷基或被C1-C8烷基取代的C3-C8环烷基中的至少一个基团所取代的；
或者N(X5)2代表
Figure FDA0003775276700000024
或未取代或被选自氧代或C1-C8烷基中的至少一个基团所取代的1-位为氮原子的
Figure FDA0003775276700000025
X11分别独立地代表氢、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基C1-C8烷基或
Figure FDA0003775276700000026
其中，所述“C3-C8环烷基”或“C3-C8环烷基C1-C8烷基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基或卤代C2-C8炔基中的至少一个基团所取代的；
X12分别独立地代表C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基、卤代C2-C8炔基、C3-C8环烷基或C3-C8环烷基C1-C8烷基，其中，所述“C3-C8环烷基”或“C3-C8环烷基C1-C8烷基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基或卤代C2-C8炔基中的至少一个基团所取代的；
X13、X14分别独立地代表氢、C1-C8烷氧基、C1-C8烷氧基C1-C8烷基、C1-C8烷氧基羰基、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷基烷基、芳基或芳基C1-C8烷基，或者基团CX13X14一起形成5～8元碳环或含氧、硫或氮的杂环，或者基团NX13X14一起形成1-位为氮原子的杂环基，其中，所述“C1-C8烷基”、“C2-C8烯基”或“C2-C8炔基”分别独立地是未取代的或被卤素取代的，所述“C3-C8环烷基”、“C3-C8环烷基C1-C8烷基”、“芳基”或“芳基C1-C8烷基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、C1-C8烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、卤代C1-C8烷基、卤代C2-C8烯基或卤代C2-C8炔基中的至少一个基团所取代的，所述“5～8元碳环或含氧、硫或氮的杂环”是未取代的或被选自C1-C8烷基中的1-4个基团所取代的，所述“1-位为氮原子的杂环基”是未取代或被选自氧代或C1-C8烷基中的至少一个基团所取代的；
所述芳基为苯基或萘基，所述杂环基为
Figure FDA0003775276700000031
Figure FDA0003775276700000032
2.根据权利要求1所述的一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，其特征在于，
Y代表卤素、卤代C1-C6烷基或氰基；
X代表-CX1X2-(C1-C6烷基)n-或-(CH2)r-；
X1、X2分别独立地代表氢、卤素、羟基C1-C6烷基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷氧基C1-C6烷基、芳基或芳基C1-C6烷基，其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被卤素所取代的；且X1、X2不同时为氢；
R1、R2分别独立地代表氢、C1-C6烷基、C2-C6烯基或C2-C6炔基；
R6代表C1-C6烷基、C2-C6烯基或C2-C6炔基，其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被选自C1-C6烷氧基或C1-C6烷氧羰基中的1、2或3个基团所取代的；
R7、R7’、R8、R8’分别独立地代表氢、C1-C6烷基、卤素、卤代C1-C6烷基、氨基、羟基C1-C6烷基或C1-C6烷氧基；
X3代表O、S、NH或N-(C1-C6)烷基；
X4分代表O或S；
X5代表氢、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、芳基、
Figure FDA0003775276700000033
Figure FDA0003775276700000034
其中，所述“C1-C6烷基”、“C2-C6烯基”或“C2-C6炔基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、氰基、C3-C6环烷基、杂环基、芳基、
Figure FDA0003775276700000035
Figure FDA0003775276700000036
中的至少一个基团所取代的，所述“C3-C6环烷基”或“芳基”分别独立地是未取代的或被选自卤素或氰基中的1、2或3个基团所取代的；
或者N(X5)2代表
Figure FDA0003775276700000037
或未取代或被选自C1-C6烷基中的1、2或3个基团所取代的1-位为氮原子的
Figure FDA0003775276700000038
X11分别独立地代表氢、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基或
Figure FDA0003775276700000039
X12分别独立地代表C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、卤代C1-C6烷基、卤代C2-C6烯基或卤代C2-C6炔基；
X13、X14分别独立地代表氢、C1-C6烷氧基、C1-C6烷氧基C1-C6烷基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基烷基、芳基或芳基C1-C6烷基，或者基团CX13X14一起形成5～8元碳环，或者基团NX13X14一起形成1-位为氮原子的
Figure FDA0003775276700000041
其中，所述
Figure FDA0003775276700000042
是未取代的或被选自氧代中的1、2或3个基团所取代的。
3.根据权利要求1所述的一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，其特征在于，
X代表-CX1X2-(C1-C3烷基)n-或-(CH2)r-；
X1、X2分别独立地代表氢、卤素、羟基C1-C3烷基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基C1-C3烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷氧基C1-C3烷基、芳基或芳基C1-C3烷基，其中，所述“C1-C6烷基”是未取代的或被卤素所取代的，所述芳基为苯基；且X1、X2不同时为氢。
4.根据权利要求1所述的一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，其特征在于，
当W代表OX5或SX5时，X5代表氢、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、芳基、
Figure FDA0003775276700000043
其中，所述“C1-C6烷基”或“C2-C6烯基”分别独立地是未取代的或被选自卤素、氰基、C3-C6环烷基、杂环基、芳基、
Figure FDA0003775276700000044
Figure FDA0003775276700000045
中的1、2或3个基团所取代的，所述“C3-C6环烷基”或“芳基”分别独立地是未取代的或被选自卤素或氰基中的1、2或3个基团所取代的；
X11分别独立地代表氢、C1-C6烷基或
Figure FDA0003775276700000046
X13、X14分别独立地代表氢、C1-C6烷氧基、C1-C6烷氧基C1-C3烷基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C6烷基、C3-C6环烷基或芳基，或者基团CX13X14一起形成5～8元饱和碳环，或者基团NX13X14一起形成1-位为氮原子的
Figure FDA0003775276700000047
其中，所述
Figure FDA0003775276700000048
是被选自氧代中的1、2或3个基团所取代的；
当W代表N(X5)2，X5代表氢、C1-C6烷基、
Figure FDA0003775276700000049
其中，所述“C1-C6烷基”是未取代的或被选自
Figure FDA0003775276700000051
中的1、2或3个基团所取代的；
或者N(X5)2代表
Figure FDA0003775276700000052
或被选自C1-C6烷基中的1、2或3个基团所取代的1-位为氮原子的
Figure FDA0003775276700000053
X11分别独立地代表氢或C1-C6烷基；
X12分别独立地代表卤代C1-C6烷基；
X13、X14分别独立地代表氢、C1-C6烷基或芳基；
所述芳基为苯基，所述杂环基为
Figure FDA0003775276700000054
5.根据权利要求1所述的一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，其特征在于，
Q代表
Figure FDA0003775276700000055
Figure FDA0003775276700000056
6.根据权利要求1-5任意一项所述的一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，其特征在于，当通式中与X1和X2相连的碳原子为手性中心时，其为R构型，基于在该位置上具有R和S构型的立体异构体含量而言，其具有60-100％(R)的立体化学纯度。
7.根据权利要求6所述的一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，其特征在于，其具有70-100％(R)的立体化学纯度。
8.根据权利要求7所述的一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，其特征在于，其具有80-100％(R)的立体化学纯度。
9.根据权利要求8所述的一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，其特征在于，其具有90-100％(R)的立体化学纯度。
10.根据权利要求9所述的一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，其特征在于，其具有95-100％(R)的立体化学纯度。
11.根据权利要求1所述的一种羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物，其特征在于，其选自以下化合物中的任意一个：
Figure FDA0003775276700000061
Figure FDA0003775276700000062
Figure FDA0003775276700000071
Figure FDA0003775276700000081
Figure FDA0003775276700000091
Figure FDA0003775276700000101
Figure FDA0003775276700000111
Figure FDA0003775276700000121
Figure FDA0003775276700000131
Figure FDA0003775276700000141
Figure FDA0003775276700000151
Figure FDA0003775276700000161
Figure FDA0003775276700000171
Figure FDA0003775276700000181
Figure FDA0003775276700000191
Figure FDA0003775276700000201
以及化合物1-6、9-12、14、17、20、24、26、42、59-60、72、74、76、80、83-88、124、161、164、168、183、193-194、196、198-209、212、214、216-218、220-221、225-228、230-234、236、238-241、243、245-246、248-255、258-259、262-264、266、268、283-286、301-303、313、315-316、318-319、321-322、331、333、337、342、344、347、349、351、388、390-396、398-400、406、409、416、419、421、424、426、431-432、438-439、442-456、462-463、469、471、473、475-478、481、486-491、493-504、511、692、730、881、885、919中与X1和X2相连的碳原子为手性中心时对应的R构型。
12.一种如权利要求1-11任意一项所述的羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
将通式Ⅱ所示的化合物与通式Ⅲ所示的化合物进行消除反应，制得如通式Ⅰ所示的化合物，其化学反应方程式如下：
Figure FDA0003775276700000202
其中，Hal代表卤素，其他取代基Q、M、W、Y、Z、X、X3和X4的定义如权利要求1-11任意一项所示。
13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，所述反应在碱和溶剂的存在下进行。
14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述碱选自无机碱或有机碱中的至少一种。
15.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂选自DMF、甲醇、乙醇、乙腈、二氯乙烷、DMSO、Dioxane、二氯甲烷或乙酸乙酯中的至少一种。
16.一种除草剂组合物，其特征在于，其包括(i)除草有效量的权利要求1-11任意一项所述的羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物中的至少一种。
17.根据权利要求16所述的除草剂组合物，其特征在于，还包括(ii)一种或多种除草有效量的另外的除草剂和/或安全剂。
18.根据权利要求17所述的除草剂组合物，其特征在于，还包括(iii)农业化学上可接受的制剂助剂。
19.根据权利要求16-18任意一项所述的除草剂组合物，其特征在于，组分(i)为化合物
Figure FDA0003775276700000211
20.根据权利要求19所述的除草剂组合物，其特征在于，所述组分(ii)中另外的除草剂选自以下化合物及其酸/盐/酯中的一种或多种：
(1)HPPD抑制剂：苯唑草酮、异噁唑草酮、环磺酮、呋喃磺草酮、双唑草酮、环吡氟草酮、三唑磺草酮、苯唑氟草酮、
Figure FDA0003775276700000212
(2)PDS抑制剂：呋草酮、吡氟酰草胺、氟吡酰草胺；
(3)DOXP抑制剂：异噁草松、bixlozone；
(4)ALS抑制剂：苯磺隆、噻吩磺隆、吡嘧磺隆、噻酮磺隆、氯吡嘧磺隆、砜嘧磺隆、烟嘧磺隆、甲氧咪草烟；
(5)ACCase抑制剂：烯草酮、烯禾啶、精喹禾灵；
(6)PPO抑制剂：乙氧氟草醚、噁草酮、丙炔噁草酮、甲磺草胺、双唑草腈、丙炔氟草胺、苯嘧磺草胺、唑草酮、trifludimoxazin；
(7)PSII抑制剂：嗪草酮、特丁津、氨唑草酮、绿麦隆、异丙隆、除草定、敌稗、甜菜安、甜菜宁、灭草松、溴苯腈；
(8)微管组装抑制剂：仲丁灵、二甲戊灵；
(9)VLCFA抑制剂：丁草胺、丙草胺、苯噻酰草胺、精异丙甲草胺、氟噻草胺、砜吡草唑、莎稗磷；
(10)非乙酰辅酶A羧化酶脂类合成抑制剂：苄草丹；
(11)合成激素类：
Figure FDA0003775276700000213
氯氟吡氧乙酸、氯氟吡啶酯、氟氯吡啶酯、三氯吡氧乙酸、二氯吡啶酸、氨氯吡啶酸、氯氨吡啶酸、麦草畏、2-甲基-4-氯苯氧乙酸、2,4-二氯苯氧基乙酸；
(12)EPSPS抑制剂：草甘膦；
(13)GS抑制剂：草铵膦、精草铵膦；
(14)PSI抑制剂:百草枯、敌草快；
(15)纤维素合成抑制剂：三嗪氟草胺、茚嗪氟草胺；
(16)其他除草剂：环庚草醚。
21.一种防治不希望的植物的方法，其特征在于，包括将除草有效量的权利要求1-11任意一项所述的羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物中的至少一种或权利要求16-20任意一项所述的除草剂组合物施用至植物或者其场所或施用至土壤或水体以防治不希望的植物出苗或生长。
22.根据权利要求21所述的方法，其特征在于，所述不希望的植物包括除草剂抗性或耐受性杂草物种。
23.如权利要求1-11任意一项所述的羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物中的至少一种或权利要求16-20任意一项所述的除草剂组合物在控制不希望的植物上的用途。
24.根据权利要求23所述的用途，其特征在于，将所述的羧酸衍生物取代的亚氨基芳基化合物用于防除有用作物中的杂草，所述有用作物包括转基因作物或者基因组编辑技术处理过的作物，所述杂草包括除草剂抗性或耐受性杂草物种。
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