CN113078202B - 一种彩膜结构、显示基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

一种彩膜结构、显示基板及显示装置，所述彩膜结构应用于显示基板，包括设置有多个开口区域的黑矩阵和覆盖所述多个开口区域的多个彩膜单元，所述彩膜单元与所述子像素一一对应，至少存在第一彩膜单元和第二彩膜单元，所述第一彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于所述第二彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积，所述黑矩阵靠近所述第一彩膜单元的端部至所述基底的距离大于所述黑矩阵靠近所述第二彩膜单元的端部至所述基底的距离。本公开实施例提供的方案，所述黑矩阵的端部位置与子像素的开口区域面积相关，可以平衡不同大小的子像素的出光角度，改善色偏。

Description

一种彩膜结构、显示基板及显示装置

技术领域

本申请实施例涉及但不限于显示技术，尤指一种彩膜结构、显示基板及显示装置。

背景技术

彩膜(Color Filter，CF)广泛用白色背光源下的色彩呈现(比如液晶显示(LCD)，白光有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)+CF显示等)，即将白色光源转化为红绿蓝(RGB)像素色彩。在RGB自发光领域(比如RGB自发光OLED，量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes，QLED)等)，彩膜的主要作用是替代偏光片，降低反射光，增强显示，方便于与其它功能层整合(比如屏内天线，屏下摄像头，触控层等)。彩膜层的主要结构层包括：黑矩阵(Black Matrix，BM)，红色滤光层(Red Color Filter)，绿色滤光层(Green Color Filter)和蓝色滤光层(Blue Color Filter)。RGB彩膜可以包括有机材料。与偏光片相比，彩膜在OLED领域的降反射率优势还在于显示功耗降低方面。

发明内容

以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

本公开实施例提供了一种彩膜结构、显示基板及显示装置。

一方面，本公开实施例提供了一种彩膜结构，应用于显示基板，所述显示基板包括基底，且所述基底远离所述显示基板的出光侧，所述显示基板包括多个子像素，所述彩膜结构包括：设置有多个开口区域的黑矩阵和覆盖所述多个开口区域的多个彩膜单元，所述彩膜单元与所述子像素一一对应，至少存在第一彩膜单元和第二彩膜单元，所述第一彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于所述第二彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积，所述黑矩阵靠近所述第一彩膜单元的端部至所述基底的距离大于所述黑矩阵靠近所述第二彩膜单元的端部至所述基底的距离。

在一示例性实施例中，所述黑矩阵靠近所述彩膜单元的端部至所述基底的距离与所述彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积正相关。

在一示例性实施例中，在垂直于所述基底的平面上，所述黑矩阵的截面包括位于相邻的彩膜单元之间依次连接的第一段、第二段和第三段，所述第一段和第三段平行于所述基底，所述第二段为斜线段。

在一示例性实施例中，在垂直于所述基底的平面上，所述黑矩阵的截面包括位于相邻的彩膜单元之间的凸起段，所述凸起段的凸起方向远离所述基底。

在一示例性实施例中，所述彩膜单元包括中间部和围绕所述中间部的外周部，所述外周部沿垂直于所述基底的方向的第一宽度大于所述中间部沿垂直于所述基底的方向的第二宽度。

在一示例性实施例中，所述第一宽度与所述第二宽度的比值为1.5至3。

在一示例性实施例中，在垂直于所述基底的平面上，所述彩膜单元的截面中，将所述外周部靠近所述基底一侧，且分别位于所述中间部的两侧的两条边称为第一边和第二边，所述第一边的长度小于等于所述彩膜单元所覆盖的开口区域的截面的长度的1/5，所述第二边的长度小于等于所述彩膜单元所覆盖的开口区域的截面的长度的1/5。

在一示例性实施例中，所述彩膜单元远离所述基底一侧的表面平行于所述基底，所述彩膜单元靠近所述基底一侧存在凹陷部，所述凹陷部沿垂直于所述基底的方向的宽度小于所述彩膜单元沿垂直于所述基底的方向的宽度。

在一示例性实施例中，在平行于所述基底的平面上，所述凹陷部的正投影位于所述彩膜单元覆盖的所述开口区域的正投影内。

在一示例性实施例中，所述彩膜结构还包括：设置在所述彩膜单元靠近所述基底一侧的插入层，所述插入层包括第一部分和第二部分，其中，所述黑矩阵覆盖所述第一部分，所述第一部分靠近所述第一彩膜单元的第一端沿垂直于所述基底方向的厚度，大于所述第一部分靠近所述第二彩膜单元的第二端沿垂直于所述基底方向的厚度；所述彩膜单元覆盖所述第二部分，且所述凹陷部被所述第二部分填充。

在一示例性实施例中，至少存在第三彩膜单元和第四彩膜单元，所述第三彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于所述第四彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积，所述第三彩膜单元远离所述基底一侧的表面至所述基底的距离大于所述第四彩膜单元远离所述基底一侧的表面至所述基底的距离。

在一示例性实施例中，不同所述彩膜单元远离所述基底一侧的表面至所述基底的距离相同。

在一示例性实施例中，在平行于所述基底的平面上，所述彩膜单元的截面形状包括以下至少之一：椭圆形、圆角四边形。

另一方面，本公开实施例提供一种显示基板，包括基底、设置在所述基底上的显示结构，设置在所述显示结构远离所述基底一侧的封装层，设置在所述封装层远离所述基底一侧的所述彩膜结构。

又一方面，本公开实施例提供一种显示装置，包括上述显示基板。

本公开实施例包括一种彩膜结构、显示基板及显示装置，所述显示基板包括基底，且所述基底远离所述显示基板的出光侧，所述显示基板包括多个子像素，所述彩膜结构包括：设置有多个开口区域的黑矩阵和覆盖所述多个开口区域的多个彩膜单元，所述彩膜单元与所述子像素一一对应，至少存在第一彩膜单元和第二彩膜单元，所述第一彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于所述第二彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积，所述黑矩阵靠近所述第一彩膜单元的端部至所述基底的距离大于所述黑矩阵靠近所述第二彩膜单元的端部至所述基底的距离。本公开实施例提供的方案，所述黑矩阵的端部位置与子像素的开口区域的面积相关，可以平衡不同大小的子像素的出光角度，改善色偏。

本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其他方面。

附图说明

附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。

图1为一技术方案提供的显示基板示意图；

图2为一示例性实施例提供的显示基板示意图(黑矩阵不等高)；

图3为一示例性实施例提供的显示基板示意图；

图4为一示例性实施例提供的显示基板示意图；

图5为一示例性实施例提供的显示基板示意图(黑矩阵中间为圆弧形)；

图6为一示例性实施例提供的显示基板示意图(黑矩阵中间凸起)；

图7为一示例性实施例提供的显示基板示意图(黑矩阵中间凹陷)；

图8为一示例性实施例提供的显示基板示意图(黑矩阵不等高，彩膜不等高)；

图9为一示例性实施例提供的形成插入层的示意图；

图10为一示例性实施例提供的形成插入层实际效果图；

图11为一示例性实施例提供的形成插入层的另一示意图；

图12为一示例性实施例提供的显示基板示意图(彩膜不等高，且不同彩膜单元上表面齐平)；

图13为一示例性实施例提供的显示基板示意图(彩膜不等高，黑矩阵等高)；

图14为一示例性实施例提供的黑矩阵和彩膜单元平面结构示意图；

图15为一示例性实施例提供的黑矩阵和彩膜单元平面结构示意图；

图16为一示例性实施例提供的显示基板制备方法流程图。

具体实施方式

下文中将结合附图对本发明的实施例进行详细说明。在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行。并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。

在附图中，有时为了明确起见，夸大表示了各构成要素的大小、层的厚度或区域。因此，本公开的实施方式并不一定限定于该尺寸，附图中各部件的形状和大小不反映真实比例。此外，附图示意性地示出了理想的例子，本公开的实施方式不局限于附图所示的形状或数值。

本公开中的“第一”、“第二”、“第三”等序数词是为了避免构成要素的混同而设置，并不表示任何顺序、数量或者重要性。

在本公开中，为了方便起见，使用“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的词句以参照附图说明构成要素的位置关系，仅是为了便于描述本说明书和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。构成要素的位置关系根据描述各构成要素的方向适当地改变。因此，不局限于在公开中说明的词句，根据情况可以适当地更换。

在本公开中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如，可以是固定连接，或可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或通过中间件间接相连，或两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。

在本公开中，“平行”是指两条直线形成的角度为-10°以上且10°以下的状态，因此，也包括该角度为-5°以上且5°以下的状态。另外，“垂直”是指两条直线形成的角度为80°以上且100°以下的状态，因此，也包括85°以上且95°以下的角度的状态。

RGB子像素，由于各自尺寸差异，三种子像素的发光亮度随着视角的变化而呈现不一样的趋势，导致在不同视角观察到明显的颜色差异。一种解决方案是利用平截面BM构型堆叠，通过BM不同的外扩距离改善色偏。图1为一技术方案提供的显示基板示意图。如图1所示，显示基板包括：基底1，依次设置在基底1上的驱动结构层、发光结构层和彩膜层。所述驱动结构层包括：依次设置的有源层10、第一绝缘层11、栅电极12、第二绝缘层13、第三绝缘层14、源电极15、漏电极16和第四绝缘层17。所述发光结构层包括：第一电极18、像素定义层19、有机发光层20和第五绝缘层21，所述彩膜层包括第六绝缘层22、黑矩阵23和彩膜单元24。彩膜单元24可以包括红色彩膜单元R、蓝色彩膜单元B和绿色彩膜单元G。本方案中，通过改变黑矩阵23的开口大小改善色偏。如图1(b)所示，相比图1(a)中，图1(b)红色彩膜单元R对应的黑矩阵23的开口扩大，改善色偏。

本公开实施例中，通过设置不等高的黑矩阵来平衡彩膜在不同角度衰减，解决色偏问题，而且该方案还有利于减少反射率。图2为一示例性实施例提供的显示基板示意图。本实施例中，显示基板包括多个子像素。如图2所示，所述显示基板可以包括：基底1，依次设置在基底1上的显示结构、封装层和彩膜层，所述显示结构可以包括驱动结构层和发光结构层。所述驱动结构层可以包括：依次设置的有源层10、第一绝缘层11、栅电极12、第二绝缘层13、第三绝缘层14、源电极15、漏电极16和第四绝缘层17。所述发光结构层可以包括：第一电极18、有机发光层20、第五绝缘层21，所述封装层可以包括第六绝缘层22，所述彩膜层可以包括：依次设置的插入层25、黑矩阵23和彩膜单元24。所述彩膜单元24可以包括红色彩膜单元R、蓝色彩膜单元B和绿色彩膜单元G。所述黑矩阵23限定开口区域，所述彩膜单元24覆盖所述开口区域。至少存在第一彩膜单元和第二彩膜单元，所述第一彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于所述第二彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积，所述黑矩阵靠近所述第一彩膜单元的端部至所述基底的距离大于所述黑矩阵靠近所述第二彩膜单元的端部至所述基底的距离。

在一示例性实施例中，所述黑矩阵23靠近彩膜单元24的端部至所述基底1的距离与所述彩膜单元24对应的子像素的开口区域的面积正相关。黑矩阵23覆盖在插入层25的表面，黑矩阵23的端部与基底1的距离可以通过插入层25的厚度来控制，插入层25靠近所述第一彩膜单元的第一端沿垂直于所述基底1方向的厚度，大于所述插入层25靠近所述第二彩膜单元的第二端沿垂直于所述基底1方向的厚度。比如，蓝色彩膜单元B对应的子像素的开口区域的面积大于红色彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积，插入层25靠近蓝色彩膜B单元一端在垂直于基底1方向的厚度，大于插入层25靠近红色彩膜单元R一端在垂直于基底1方向的厚度，从而使得覆盖在插入层25上的黑矩阵23的端部的高度不同。

本实施例提供的方案，开口区域面积较小的子像素，黑矩阵23靠近该子像素的端部与基底1的距离较近，而开口区域面积较大的子像素，黑矩阵23靠近该子像素的端部远离所述基底1，从而使得不同子像素的最大出光视角可以尽量接近，改善色偏。另外，本实施例提供的方案，与图1(b)中的黑矩阵结构相比，本方案发光像素处黑矩阵的开口无需外扩更大的尺寸，也即减少了第二电极和第一电极金属外漏的面积，减少了反射光线；以及，倾斜式的黑矩阵会使反射光线进入彩膜单元，减少垂直于基底方向的光线，因此，本实施例提供的方案可以降低反射率。

在一示例性实施例中，可以调整黑矩阵23端部至基底1的距离，使得不同开口区域面积的子像素的最大出光视角平衡，保持在相近水平，实现不同子像素亮度衰减的平衡，改善色偏问题。比如，可以通过测试的方式确定黑矩阵23靠近不同彩膜单元的端部至基底1的距离。

第一电极18和有机发光层20之间可以包括像素定义层(图2中未示出)，像素定义层设置有像素开口区域，有机发光层20设置在像素开口区域内，有机发光层20和所述第五绝缘层21之间设置第二电极(图2中未示出)，第一电极18和第二电极施加电压至所述有机发光层20，使得所述有机发光层20发光。

所述黑矩阵23靠近彩膜单元24的端部至所述基底1的距离与所述彩膜单元24对应的子像素的开口区域的面积正相关包括：子像素的开口区域的面积越大，黑矩阵23靠近该子像素的端部与基底1的距离越大，子像素的开口区域的面积越小，黑矩阵23靠近该子像素的端部与基底1的距离越小，即黑矩阵23靠近较大的子像素的端部与基底1的距离大于黑矩阵23靠近较小的子像素的端部与基底1的距离。本实施例提供的方案，当相邻的子像素的开口区域的面积不同时，BM不等高。如图2所示，蓝色彩膜单元B对应的子像素的开口区域的面积大于红色彩膜单元R对应的子像素的开口区域的面积，绿色彩膜单元G对应的子像素的开口区域面积等于红色彩膜单元R对应的子像素的开口区域面积，相应的，黑矩阵23靠近红色彩膜单元R的端部R1与基底1的距离小于黑矩阵23靠近蓝色彩膜单元B的端部B1与基底1的距离，黑矩阵23靠近红色彩膜单元R的端部R1与基底1的距离可以等于黑矩阵23靠近绿色彩膜单元G的端部G1与基底1的距离。其中，端部R1可以是围绕红色彩膜单元R周围的黑矩阵区域，端部R1可以是黑矩阵23与红色彩膜单元R的交互处，端部R1在基底1的正投影可以位于红色彩膜单元R的正投影内，端部R1至基底1的距离可以是端部R1远离所述基底1一侧的表面至基底1的距离，类似的，端部B1可以是围绕蓝色彩膜单元B周围的黑矩阵区域，端部B1在基底1的正投影可以位于蓝色彩膜单元B的正投影内，端部B1至基底1的距离可以是端部B1远离所述基底1一侧的表面至基底1的距离。

图3为另一实施例提供的显示基板示意图。如图3所示，本实施例中，蓝色彩膜单元B对应的子像素的开口区域面积和绿色彩膜单元G的子像素的开口区域面积一样，且均大于红色彩膜单元R对应的子像素的开口区域面积，则，黑矩阵23靠近红色彩膜单元R的端部R1与基底1的距离小于黑矩阵23靠近蓝色彩膜单元B的端部B1与基底1的距离，黑矩阵23靠近蓝色彩膜单元B的端部B1与所述基底1的距离等于黑矩阵23靠近绿色彩膜单元G的端部G1与所述基底1的距离，即端部B1与第六绝缘层22的距离T2等于端部G1与第六绝缘层22的距离T3。

图4为另一实施例提供的显示基板示意图。如图4所示，本实施例中，蓝色彩膜单元B对应的蓝色子像素的开口区域面积大于绿色彩膜单元G对应的绿色子像素的开口区域面积，绿色彩膜单元G对应的绿色子像素的开口区域面积大于红色彩膜单元R对应的红色子像素的开口区域面积，则黑矩阵23靠近红色彩膜单元R的端部R1与基底1的距离小于黑矩阵23靠近绿色彩膜单元G的端部G1与基底1的距离，黑矩阵23靠近绿色彩膜单元G的端部G1与所述基底1的距离小于黑矩阵23靠近蓝色彩膜单元B的端部B1与所述基底1的距离。黑矩阵23靠近红色彩膜单元R的端部R1与基底1的距离可以根据需要设置，比如，端部R1可以直接设置在第六绝缘层22的表面，或者，端部R1可以与第六绝缘层22间隔一距离。

所述黑矩阵23的端部和端部之间的连接方式可以是多种，本公开实施例对此不作限定。在一示例性实施例中，在垂直于所述基底1的平面上，黑矩阵23位于相邻的彩膜单元24之间的截面可以包括依次连接的第一段、第二段和第三段，第一段和第三段可以平行于基底1，第一段即为一个端部的截面，第三段为另一端部的截面，第二段可以是斜线段，即黑矩阵23的端部和端部之间形成一个斜面。如图2所示。在另一实施例中，所述第二段可以是圆弧段，如图5所示，即黑矩阵23的端部和端部之间形成一个圆弧面。

在另一实施例中，在垂直于所述基底1的平面上，黑矩阵23位于相邻的彩膜单元24之间的截面可以包括凸起段231，所述凸起段231的凸起方向远离所述基底1，如图6所示。本实施例中，黑矩阵23的端部和端部之间包括一个凸起面，该凸起面可以与任一彩膜单元24远离基底1一侧齐平，或者，该凸起面与基底1的距离大于任一彩膜单元24远离基底1一侧与基底1的距离，或者，该凸起面与基底1的距离小于任一彩膜单元24远离基底1一侧与基底1的距离。所述凸起面可以防止光线串扰，还可以用作防偷窥的设计结构。

在另一实施例中，在垂直于所述基底1的平面上，黑矩阵23位于相邻的彩膜单元之间的截面可以包括凹陷段232，所述凹陷段232的凹陷方向靠近所述基底1，如图7所示。

上述实施例中的黑矩阵结构仅为示例，本公开实施例不限于此，黑矩阵可以为其他结构。

在一示例性实施例中，所述插入层25可以使用有机材料制备，比如光刻胶；或者，使用无机材料制备，比如硅的氧化物、硅的氮化物等。

在一示例性实施例中，所述黑矩阵23可以采用有机材料制备。

在一示例性实施例中，所述基底1可以是柔性基底或刚性基底。

彩膜具有一个明显的劣势，也即暗态下的色分离现象。黑矩阵的图形化所形成的像素小孔，极容易形成小孔衍射，不同像素(RGB)孔衍射光的堆叠，表现出明显的色分离现象。解决色分离，也就需要极大程度的规避小孔衍射光。可以有效解决该问题的途径有两个：增加吸收和增强散射。一方面，通过增加对衍射光的吸收来达到减弱色分离的目的；另一方面，让光线更加发散，破坏光线的规律性，也可以达到减小色分离的作用。值得注意的是，以上两种方案，在实现减小色分离的同时，都会一定程度的影响光线透过率，影响光学效果。特别是散射层的引入，表面雾度会导致外观状态不甚理想。本公开实施例中，以吸收方式作为主要解决手段，采用彩膜“边缘厚，中间薄”的策略，解决彩膜的色分离现象。

图8为一示例性实施例提供的显示基板示意图。如图8所示，本实施例提供的显示基板可以包括：基底1、驱动结构层、发光结构层和彩膜层。所述驱动结构层可以包括：依次设置的有源层10、第一绝缘层11、栅电极12、第二绝缘层13、第三绝缘层14、源电极15、漏电极16和第四绝缘层17。所述发光结构层可以包括：第一电极18、有机发光层20、第五绝缘层21和第六绝缘层22，所述彩膜层可以包括：依次设置的插入层26、黑矩阵23和彩膜单元24。所述彩膜单元24可以包括红色彩膜单元R、蓝色彩膜单元B和绿色彩膜单元G。所述黑矩阵23限定开口区域，所述彩膜单元24覆盖所述开口区域。所述黑矩阵23靠近彩膜单元24的端部至所述基底1的距离与所述彩膜单元24对应的子像素的开口区域面积正相关。所述彩膜单元24包括中间部241和围绕所述中间部的外周部242，所述外周部242沿垂直于所述基底1的方向的第一宽度T4大于所述中间部241沿垂直于所述基底1的方向的第二宽度T5。本实施例提供的方案，通过设置不等高的BM改善色偏现象，另外，通过将彩膜单元设置成外周厚，中间薄的结构，BM小孔衍射发生后，边缘区(外周部)的彩膜厚度大，吸收强度大，会极大减弱经过BM小孔边缘产生的衍射光，从而可以改善色分离，相比一般方案中，边缘薄，中间厚的彩膜结构，本实施例提供的方案可以大大改善色分离。另外，本实施例中，中间部的厚度小于外周部，因此中间部的发光损失较小。本实施例提供的方案在利用彩膜吸收BM开孔边缘衍射光时，不影响有机发光层出光部分的透过率，提高了出光效率。

在一示例性实施例中，所述中间部241的正投影可以位于所述中间部241所在的彩膜单元24覆盖的开口区域的正投影内。

在一示例性实施例中，所述第一宽度T4与所述第二宽度T5的比值可以为1.5至3，从而外周部可以有效吸收衍射光，中间部可以提供足够的透过率。但本申请实施例不限于此，可以是其他比值。

在一示例性实施例中，在垂直于所述基底1的平面上，所述彩膜单元24的截面中，将所述外周部242靠近所述基底1一侧，且分别位于所述中间部241的两侧的两条边称为第一边P1和第二边P2，所述第一边P1的长度小于等于所述彩膜单元24所覆盖的开口区域的截面的长度T6的1/5，所述第二边P2的长度小于等于所述彩膜单元24所覆盖的开口区域的截面的长度T6的1/5。本实施例提供的方案，可以有效吸收衍射光。

在一示例性实施例中，所述中间部241可以是彩膜单元24远离所述基底1一侧存在凹陷部形成，或者，可以是所述彩膜单元24靠近所述基底1一侧存在凹陷部形成，或者，可以是彩膜单元24远离所述基底1一侧存在凹陷部，且所述彩膜单元24靠近所述基底1一侧存在凹陷部形成。如图8所示，所述彩膜单元24在靠近所述基底1一侧存在凹陷部，所述彩膜单元24远离所述基底1一侧的表面平行于所述基底1，所述凹陷部沿垂直于所述基底1的方向的宽度小于所述彩膜单元24沿垂直于所述基底1的方向的宽度。中间部241的正投影与凹陷部远离基底1一侧的正投影重合。凹陷部的形成可参考图9和图10，如图9和图10所示，在第六绝缘层22上形成插入层26，再形成彩膜单元24，即可制备存在凹陷部的彩膜单元24。在一示例性实施例中，如图11所示，可以先形成第一插入子层261，在第一插入子层261远离基底1一侧形成黑矩阵23，再形成第二插入子层262，在第二插入子层262远离基底1一侧形成彩膜单元24，此时，插入层26包括第一插入子层261和第二插入子层262。

在一示例性实施例中，在平行于所述基底1的平面上，所述凹陷部的正投影位于所述彩膜单元24覆盖的所述开口区域的正投影内。

在一示例性实施例中，所述凹陷部在垂直于所述基底1的方向上的宽度T7可以大于所述黑矩阵23在垂直于所述基底1的方向上的厚度T8，但不限于此。

在一示例性实施例中，插入层26可以包括两部分，第一部分和第二部分，黑矩阵23覆盖所述第一部分，彩膜单元24覆盖所述第二部分，且所述凹陷部被所述第二部分填充。第一彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于第二彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积时，所述第一部分靠近所述第一彩膜单元的第一端沿垂直于所述基底1方向的厚度，大于所述第一部分靠近所述第二彩膜单元的第二端沿垂直于所述基底1方向的厚度，从而使得覆盖在第一部分上的黑矩阵23的端部的高度不同。在垂直于基底1的平面上，所述第一部分的正投影可以位于黑矩阵23正投影内，所述第二部分的正投影可以位于彩膜单元24正投影内。

在一示例性实施例中，所述插入层26可以使用透明材料，比如光刻胶制备；或者，所述第一部分可以使用透明材料或不透明材料，所述第二部分可以使用透明材料。

在一示例性实施例中，至少存在第三彩膜单元和第四彩膜单元，所述第三彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于所述第四彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积，所述第三彩膜单元远离所述基底1一侧的表面至所述基底1的距离大于所述第四彩膜单元远离所述基底1一侧的表面至所述基底1的距离。

在一示例性实施例中，所述彩膜单元24远离所述基底1一侧的表面至所述基底1的距离与所述彩膜单元24对应的子像素的开口区域面积正相关。如图8所示，蓝色彩膜单元B对应的子像素的开口区域面积大于红色彩膜单元R对应的子像素的开口区域面积，以及，大于绿色彩膜单元G对应的子像素的开口区域面积，因此，蓝色彩膜单元B远离所述基底1一侧至所述基底1的距离(即蓝色彩膜单元B远离所述基底1一侧的表面至所述基底1的距离)大于红色彩膜单元R远离所述基底1一侧至所述基底1的距离，还大于绿色彩膜单元G远离所述基底1一侧至所述基底1的距离。本实施例中，彩膜单元24位于黑矩阵23远离所述基底1一侧，由于黑矩阵23靠近彩膜单元24的端部与基底1的距离与子像素的开口区域面积有关，开口区域面积大时，黑矩阵23的端部与基底1的距离大，相应的，位于黑矩阵23远离基底一侧的彩膜单元24与基底1的距离大。

在一示例性实施例中，不同所述彩膜单元24远离所述基底1一侧的表面至所述基底1的距离可以相同。如图12所示，红色彩膜单元R、蓝色彩膜单元B和绿色彩膜单元G远离所述基底1一侧与所述基底1的距离相同，即不同彩膜单元的上表面(远离基底1一侧的表面)齐平，即可以根据需要使得不同彩膜单元的高度相同，本实施例中，插入层26可以设置凹槽，彩膜单元24填充到凹槽中，如图12中的蓝色彩膜单元B所示，实现蓝色彩膜单元B与其他彩膜单元高度相同，且边缘较厚。但本公开实施例不限于此，彩膜单元可以是其他高度，不同彩膜单元的高度可以相同或不同。

图13为一示例性实施例提供的显示基板示意图。所述显示基板包括基底1、依次设置在基底1上的驱动结构层、发光结构层和彩膜层。所述驱动结构层和发光结构层参考前述实施例，不再赘述。所述彩膜层包括依次设置在第六绝缘层22上的黑矩阵23、插入层26和彩膜单元24。本实施例中，所述黑矩阵23靠近不同彩膜单元24的端部至所述基底的距离相同。即黑矩阵23等高。所述彩膜单元24包括中间部241和围绕所述中间部的外周部242，所述外周部242沿垂直于所述基底1的方向的第一宽度T4大于所述中间部241沿垂直于所述基底1的方向的第二宽度T5。本实施例提供的方案，BM小孔衍射发生后，边缘区(外周部)的彩膜厚度值大，吸收强度大，会极大减弱经过BM小孔边缘产生的衍射光，从而可以改善色偏离。另外，中间部的厚度小于外周部，因此中间部的发光损失较小。本实施例提供的方案在利用彩膜吸收BM开孔边缘衍射光时，不影响有机发光层出光部分的透过率。

在一示例性实施例中，在平行于所述基底1的平面上，所述彩膜单元24的截面形状和所述黑矩阵23的开口区域的截面形状可以相同，或者，不同。如图14和15所示，黑矩阵23的开口区域的截面形状可以但不限于以下至少之一：圆形、椭圆形、六边形、五边形，彩膜单元24的开口区域的截面形状可以但不限于以下至少之一：六边形、圆角四边形、椭圆形。图14和图15中所示形状仅为示例，可以根据需要使用其他形状。在一示例性实施例中，所述彩膜单元24的截面形状包括但不限于椭圆形和圆角四边形，此时，可以产生尽量少的棱边衍射，提高显示效果。一个子像素可能包括多个开口区域，比如，一个绿色子像素包括两个开口区域，一个绿色彩膜单元G覆盖这两个开口区域，此时，绿色彩膜单元G对应的子像素的开口区域的面积即为两个开口区域的面积之和。

在一示例性实施例中，提供一种彩膜结构，包括上述任一实施例中设置有开口区域的黑矩阵23和覆盖所述开口区域的彩膜单元24。在一示例性实施例中，所述彩膜结构还包括插入层25或插入层26。彩膜结构的细节参考前述实施例，不再赘述。

本实施例提供的彩膜结构可以应用到有机发光二极管显示基板，或者，可以应用到液晶显示装置。

当彩膜结构应用到液晶显示装置时，显示基板可以包括阵列基板和彩膜基板，彩膜基板中包括所述彩膜结构，此时显示基板包括阵列基板的第一基底和彩膜基板的第二基底，阵列基板的第一基底远离出光侧，彩膜基板的第二基底靠近出光侧。所述彩膜结构中，所述黑矩阵靠近所述彩膜单元的端部至所述第二基底的距离与所述彩膜单元对应的子像素的开口区域面积负相关，从而黑矩阵靠近所述彩膜单元的端部至所述阵列基板的基底的距离与所述彩膜单元对应的子像素的开口区域面积正相关。本实施例中，所述开口区域面积可以是黑矩阵限定的开口区域的面积。在一示例性实施例中，可以通过设置凹陷部实现彩膜基板中间薄，边缘厚的结构，不同于有机发光二极管显示面板中，凹陷部设置在靠近所述第一基底一侧，此时，所述彩膜单元的凹陷部可以设置在远离所述阵列基板的第一基底一侧，即设置在靠近所述彩膜基板的第二基底一侧，该方案实现工艺简单，但本公开实施例不限于此，凹陷部可以设置在其他位置。

本公开实施例提供一种包括上述彩膜结构的显示基板。所述显示基板可以包括：基底、设置在所述基底上的显示结构，设置在所述显示结构远离所述基底一侧的封装层，设置在所述封装层远离所述基底一侧的如上述任一实施例所述的彩膜结构。

本公开实施例还提供了一种显示装置，包括前述实施例的显示基板。显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

图16为本公开实施例提供的显示基板的制备方法流程图。如图16所示，本公开实施例提供一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括多个子像素，所述显示基板包括基底，且所述基底远离所述显示基板的出光侧，所述制备方法包括：

步骤1601，制备黑矩阵，所述黑矩阵设置有开口区域；

步骤1602，在所述开口区域制备彩膜单元，所述彩膜单元与所述显示基板的子像素一一对应，至少存在第一彩膜单元和第二彩膜单元，所述第一彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于所述第二彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积，所述黑矩阵靠近所述第一彩膜单元的端部至所述基底的距离大于所述黑矩阵靠近所述第二彩膜单元的端部至所述基底的距离。

本实施例提供的制备方法制备的显示基板，在子像素的开口区域面积不同时，提供端部不等高的黑矩阵，平衡不同开口区域面积的子像素的出光角度，改善出光衰减，从而改善色偏。

在一示例性实施例中，所述制备黑矩阵包括：

在基底上制备驱动结构层和发光结构层；

在所述发光结构层远离所述基底一侧制备所述黑矩阵。

在一示例性实施例中，所述基底为第一基底，所述显示基板还包括靠近出光侧的第二基底，所述制备黑矩阵包括：

在第二基底上制备所述黑矩阵；

所述制备方法还包括，

形成阵列基板；

将所述阵列基板和形成有黑矩阵和彩膜单元的彩膜基板进行对盒。

虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (14)

1.一种彩膜结构，应用于显示基板，所述显示基板包括基底，且所述基底远离所述显示基板的出光侧，所述显示基板包括多个子像素，其特征在于，所述彩膜结构包括：设置有多个开口区域的黑矩阵和覆盖所述多个开口区域的多个彩膜单元，所述彩膜单元与所述子像素一一对应，至少存在第一彩膜单元和第二彩膜单元，所述第一彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于所述第二彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积，所述黑矩阵靠近所述第一彩膜单元的端部至所述基底的距离大于所述黑矩阵靠近所述第二彩膜单元的端部至所述基底的距离。

2.根据权利要求1所述的彩膜结构，其特征在于，所述黑矩阵靠近所述彩膜单元的端部至所述基底的距离与所述彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积正相关。

3.根据权利要求1所述的彩膜结构，其特征在于，在垂直于所述基底的平面上，所述黑矩阵的截面包括位于相邻的彩膜单元之间依次连接的第一段、第二段和第三段，所述第一段和第三段平行于所述基底，所述第二段为斜线段。

4.根据权利要求1所述的彩膜结构，其特征在于，在垂直于所述基底的平面上，所述黑矩阵的截面包括位于相邻的彩膜单元之间的凸起段，所述凸起段的凸起方向远离所述基底。

5.根据权利要求1所述的彩膜结构，其特征在于，所述彩膜单元包括中间部和围绕所述中间部的外周部，所述外周部沿垂直于所述基底的方向的第一宽度大于所述中间部沿垂直于所述基底的方向的第二宽度。

6.根据权利要求5所述的彩膜结构，其特征在于，所述第一宽度与所述第二宽度的比值为1.5至3。

7.根据权利要求5所述的彩膜结构，其特征在于，在垂直于所述基底的平面上，所述彩膜单元的截面中，将所述外周部靠近所述基底一侧，且分别位于所述中间部的两侧的两条边称为第一边和第二边，所述第一边的长度小于等于所述彩膜单元所覆盖的开口区域的截面的长度的1/5，所述第二边的长度小于等于所述彩膜单元所覆盖的开口区域的截面的长度的1/5。

8.根据权利要求1所述的彩膜结构，其特征在于，所述彩膜单元远离所述基底一侧的表面平行于所述基底，所述彩膜单元靠近所述基底一侧存在凹陷部，所述凹陷部沿垂直于所述基底的方向的宽度小于所述彩膜单元沿垂直于所述基底的方向的宽度。

9.根据权利要求8所述的彩膜结构，其特征在于，在平行于所述基底的平面上，所述凹陷部的正投影位于所述彩膜单元覆盖的所述开口区域的正投影内。

10.根据权利要求9所述的彩膜结构，其特征在于，所述彩膜结构还包括：设置在所述彩膜单元靠近所述基底一侧的插入层，所述插入层包括第一部分和第二部分，其中，所述黑矩阵覆盖所述第一部分，所述第一部分靠近所述第一彩膜单元的第一端沿垂直于所述基底方向的厚度，大于所述第一部分靠近所述第二彩膜单元的第二端沿垂直于所述基底方向的厚度；所述彩膜单元覆盖所述第二部分，且所述凹陷部被所述第二部分填充。

11.根据权利要求8所述的彩膜结构，其特征在于，至少存在第三彩膜单元和第四彩膜单元，所述第三彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积大于所述第四彩膜单元对应的子像素的开口区域的面积，所述第三彩膜单元远离所述基底一侧的表面至所述基底的距离大于所述第四彩膜单元远离所述基底一侧的表面至所述基底的距离。

12.根据权利要求8所述的彩膜结构，其特征在于，不同所述彩膜单元远离所述基底一侧的表面至所述基底的距离相同。

13.一种显示基板，其特征在于，包括：基底、设置在所述基底上的显示结构，设置在所述显示结构远离所述基底一侧的封装层，设置在所述封装层远离所述基底一侧的如权利要求1至12任一所述的彩膜结构。

14.一种显示装置，包括如权利要求13所述的显示基板。

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