CN113066098B - 光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统 - Google Patents

光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统 Download PDF

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CN113066098B CN202110451624.5A CN202110451624A CN113066098B CN 113066098 B CN113066098 B CN 113066098B CN 202110451624 A CN202110451624 A CN 202110451624A CN 113066098 B CN113066098 B CN 113066098B
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Abstract

本发明提供了一种光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统，该确定方法包括：采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线；改变光学基板的位置状态，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和；将目标位置状态对应的光学基板中有效曝光场的数量最多和/或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。本发明解决了现有技术中由于非标基底面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象导致非标基底的曝光区域布局的准确度大幅度降低的问题。

Description

光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统
技术领域
本发明涉及光学基板制造技术领域，尤其涉及一种光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统。
背景技术
现有半导体制造的标准晶圆为面型平坦的圆形基底，曝光网格布局以已知大小的方形曝光场为单元网格，将基底分割出多个曝光单元，边缘的曝光场网格由于不完整使得曝光场所包含的可用器件数量受网格布局方案的变化而变化。
整个晶圆上最终能曝光出的有用器件数量是影响产率的重要因素。虽然现有技术中通过各种智能寻优算法主要解决了标准晶圆的曝光场网格最优布局的问题，但是由于非标基板面型不平坦等缺陷，由此使得标准晶圆曝光场网格布局方式无法适用于非标基底的曝光场网格布局中。即对于非标基板晶圆而言，其往往由于面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象而并不适合生产器件，从而导致对非标基板晶圆的曝光区域布局的准确度大幅度降低。
有鉴于此，有必要提出一种非标基板曝光区域的确定方法，以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于揭示一种光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统，用以解决现有技术中由于非标基底面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象导致非标基底的曝光区域布局的准确度大幅度降低的问题。
为实现上述目的之一，第一方面，本发明提供了一种光学基板曝光区域的确定方法，包括：
采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线；
改变光学基板的位置状态，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量或有效曝光场的面积之和；
将光学基板中有效曝光场的数量最多或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
作为本发明的进一步改进，改变光学基板的位置状态，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量，包括：
以不同旋转角度转动光学基板，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定光学基板中有效曝光场的数量；
其中，将光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域，包括：
确定光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度，以将光学基板的与所述目标旋转角度对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
作为本发明的进一步改进，根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定光学基板中有效曝光场的数量，包括：
获取与所述凹凸区域相交的每一相交曝光场的中心点，并基于每一相交曝光场的中心点以及光学基板的旋转角度确定对应相交曝光场是否有效；
统计不同旋转角度对应的有效相交曝光场、所述外轮廓曲线和凹凸区域边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场之间的有效曝光场总数，以确定有效曝光场总数最多时对应的目标旋转角度。
作为本发明的进一步改进，基于每一相交曝光场的中心点以及光学基板的旋转角度确定对应相交曝光场是否有效，包括：
确定每一相交曝光场的中心点在所述光学基板的坐标系中的位置坐标；
基于中心点的位置坐标和所述旋转角度确定所述中心点的极轴与光学基板的外轮廓曲线相交点的第一极坐标长度、所述中心点的极轴与所述凹凸区域的边界曲线相交点的第二极坐标长度；
基于中心点的极坐标长度分别与第一极坐标长度、第二极坐标长度之间的关系确定对应相交曝光场是否有效。
作为本发明的进一步改进，基于中心点的极坐标长度分别与第一极坐标长度、第二极坐标长度之间的关系确定对应相交曝光场是否有效，包括：
在所述中心点的极坐标长度小于所述第一极坐标长度的情况下，若所述第二极坐标长度小于所述中心点的极坐标长度的数量与所述中心点的极轴和所述凹凸区域的边界曲线相交点的数量之间的奇偶性相同，则所述中心点对应的相交曝光场有效；
其中，所述中心点的极轴与所述凹凸区域的边界曲线相交点的数量至少为一个，所述中心点的极轴与所述凹凸区域的边界曲线相交点的第二极坐标长度对应为至少一个。
作为本发明的进一步改进，根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定光学基板中有效曝光场的数量，包括：
将光学基板的外轮廓曲线的最大外切圆的圆内区域作为光学基板的搜索区域，以在所述搜索区域内基于光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定有效曝光场的数量。
作为本发明的进一步改进，改变光学基板的位置状态，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的面积之和，包括：
选取分别与所述外轮廓曲线、所述凹凸区域的边界曲线相交的目标曝光场，并控制光学基板沿预设路径以预设步距移动多次；
确定每次移动预设步距后所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和；
将光学基板中有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域，包括：
确定所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的目标移动位置，以将所述目标移动位置对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
作为本发明的进一步改进，在控制光学基板沿预设路径以预设步距移动多次之后，且在确定每次移动预设步距后所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和之前，包括：
记录每次移动预设步距后对应的光学基板的移动位置；
判断每次移动预设步距后所述目标曝光场中每一曝光场是否有效，以计算所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和。
作为本发明的进一步改进，确定所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的目标移动位置，以将所述目标移动位置对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域，包括：
确定所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的光学基板的目标移动位置；
将所述目标曝光场中所述目标移动位置对应的有效曝光场、以及所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场确定为光学基板的曝光区域。
作为本发明的进一步改进，所述光学基板在沿预设路径以预设步距移动多次的过程中，相邻移动次数的移动方向垂直。
作为本发明的进一步改进，控制光学基板沿预设路径以预设步距移动多次，包括：
控制光学基板沿第一方向移动第一预设步距后再沿第二方向方向移动第二预设步距。
作为本发明的进一步改进，所述第一预设步距和所述第二预设步距所形成的面积尺寸小于或等于单位曝光场的尺寸。
作为本发明的进一步改进，选取分别与所述外轮廓曲线、所述凹凸区域的边界曲线相交的目标曝光场，并控制光学基板沿预设路径以预设步距移动多次的操作步骤在将光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域之后执行。
作为本发明的进一步改进，所述光学基板的图像数据包括对光学基板的平面图像进行采集的平面图像数据、对光学基板进行垂向面型扫描的垂向面型图像数据，其中，基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线，包括：
基于所述垂向面型图像数据识别出光学基板的凹凸区域，并基于所述光学基板的平面图像数据识别出光学基板的外轮廓曲线。
第二方面，本发明提供一种光学基板曝光区域的布局方法，包括：
采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线；
改变光学基板的位置状态，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量或有效曝光场的面积之和；
将光学基板中有效曝光场的数量最多或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域，以对所述光学基板的曝光区域进行布局。
第三方面，本发明还提供一种光学基板曝光区域的确定系统，包括：
图像采集单元，用于采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线；
控制单元，用于改变光学基板的位置状态；
曝光区域确定单元，用于根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量或有效曝光场的面积之和，以将光学基板中有效曝光场的数量最多或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
作为本发明的进一步改进，所述控制单元用于以不同旋转角度转动光学基板；
所述曝光区域确定单元根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定光学基板中有效曝光场的数量，并确定光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度，以将光学基板的与所述目标旋转角度对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
作为本发明的进一步改进，所述曝光区域确定单元还用于将光学基板的外轮廓曲线的最大外切圆的圆内区域作为光学基板的搜索区域，以在所述搜索区域内基于光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定有效曝光场的数量。
作为本发明的进一步改进，还包括：
获取单元，用于获取每一曝光场的中心点；
所述曝光区域确定单元还用于基于每一曝光场的中心点以及光学基板的旋转角度确定对应曝光场是否有效，并统计不同旋转角度对应的有效曝光场的数量，以确定有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度。
作为本发明的进一步改进，所述曝光区域确定单元还用于：
确定每一曝光场的中心点在所述光学基板的坐标系中的位置坐标，并基于中心点的位置坐标确定所述中心点的极轴与光学基板的外轮廓曲线相交点的第一极坐标长度、所述中心点的极轴与所述凹凸区域的边界曲线相交点的第二极坐标长度，以基于中心点的极坐标长度分别与第一极坐标长度、第二极坐标长度之间的关系确定对应曝光场是否有效。
作为本发明的进一步改进，所述曝光区域确定单元还用于：
在所述中心点的极坐标长度小于所述第一极坐标长度的情况下，若所述第二极坐标长度小于所述中心点的极坐标长度的数量与所述中心点的极轴和所述凹凸区域的边界曲线相交点的数量之间的奇偶性相同，则所述中心点对应的曝光场有效。
作为本发明的进一步改进，还包括：选择单元，用于选取分别与所述外轮廓曲线、所述凹凸区域的边界曲线相交的目标曝光场；
所述控制单元用于控制光学基板沿预设路径以预设步距移动多次；
所述曝光区域确定单元用于确定每次移动预设步距后所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和，并确定所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的目标移动位置，以将所述目标移动位置对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
作为本发明的进一步改进，还包括：
记录单元，用于记录每次移动预设步距后对应的光学基板的移动位置；
所述曝光区域确定单元判断每次移动预设步距后所述目标曝光场中每一曝光场是否有效，以计算所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和。
作为本发明的进一步改进，所述曝光区域确定单元用于确定所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的光学基板的目标移动位置，并将所述目标曝光场中所述目标移动位置对应的所有有效曝光场、以及所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场确定为光学基板的曝光区域。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明的光学基板曝光区域的确定方法根据所采集的光学基板的图像数据识别出光学基板的凹凸区域和轮廓数据，并改变光学基板的位置状态，根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和，以将光学基板中有效曝光场的数量最多和/或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。如此，本发明根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线所确定的不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和，确定光学基板中有效曝光场，能够有效排除光学基板中由于不平整而不适合布局并生产器件的区域，由此极大提高了光学基板曝光区域布局的准确性。
附图说明
图1为本发明一个实施例的光学基板曝光区域的确定方法的示意性流程图；
图2为本发明一个实施例的光学基板的外轮廓曲线的示意性原理图；
图3为本发明一个实施例的对光学基板进行垂向面型扫描形成的垂向面型图像数据的示意图；
图4为本发明另一个实施例的光学基板曝光区域的确定方法的示意性流程图；
图5为本发明一个实施例的改变光学基板的位置状态的示意性原理图；
图6为本发明再一个实施例的光学基板曝光区域的确定方法的示意性流程图；
图7为本发明再一个实施例的光学基板曝光区域的确定方法的示意性流程图；
图8为本发明一个实施例的判断曝光场是否有效的示意性原理图；
图9为本发明另一个实施例的判断曝光场是否有效的示意性原理图；
图10为本发明再一个实施例的光学基板曝光区域的确定方法的示意性流程图；
图11为本发明一个实施例的与光学基板外轮廓曲线、凹凸区域的边界曲线相交的目标曝光场的示意性结构图；
图12为外轮廓曲线或凹凸区域的边界曲线与单一曝光场的网格相交构成面积的示意性计算原理图；
图13为本发明再一个实施例的光学基板曝光区域的确定方法的示意性流程图；
图14为本发明一个实施例的光学基板曝光区域的布局方法的示意性流程图；
图15为本发明一个实施例的光学基板曝光区域的确定系统的示意性结构框图。
具体实施方式
下面结合附图所示的各实施方式对本发明进行详细说明，但应当说明的是，这些实施方式并非对本发明的限制，本领域普通技术人员根据这些实施方式所作的功能、方法、或者结构上的等效变换或替代，均属于本发明的保护范围之内。
申请人通过下文示出若干实施例，以对本发明所含具体技术方案予以详细阐述。
实施例一：
如图1所示，本实施例提供一种光学基板曝光区域的确定方法，包括：
步骤102.采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线。
其中，光学基板的图像数据包括对光学基板的平面图像进行采集的平面图像数据、对光学基板进行垂向面型扫描的垂向面型图像数据。基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线，具体为：基于垂向面型图像数据识别出光学基板的凹凸区域，并基于光学基板的平面图像数据识别出光学基板的外轮廓曲线。
具体地，可通过高分辨率相机拍照获取光学基板的完整平面图像数据，采用高斯滤波的方式进行图像降噪，使图像数据更平滑，再对图像做增强处理，即通过计算梯度(选择Robert梯度算子)，确定图像点周围变化的强度，识别显著变化的部分图像点，并进行阈值比对，以挑选出边缘点，最后采用最小二乘法曲线拟合，以形成光学基板的边缘轮廓即光学基板的外轮廓曲线，如图2所示。
通过对光学基板进行垂向面型扫描，获取光学基底各位置的垂向面型图像数据Height＝Z(x,y)在(图像坐标系中)，分别以z<zmin和z>zmax为判断条件进行聚类分析，以单一曝光场的网格尺寸为聚类集合的尺寸约束，识别出垂向异常凸出或凹陷的区域，从而根据聚类结果获取凹凸区域的轮廓，如图3所示。
步骤104.改变光学基板的位置状态，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和。
步骤106.将光学基板中有效曝光场的数量最多和/或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
本实施例的光学基板曝光区域的确定方法根据所采集的光学基板的图像数据识别出光学基板的凹凸区域和轮廓数据，并改变光学基板的位置状态，根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和，以将光学基板中有效曝光场的数量最多和/或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。如此，本实施例根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线所确定的不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和，确定光学基板中有效曝光场，能够有效排除光学基板中由于不平整而不适合布局并生产器件的区域，由此极大提高了光学基板曝光区域布局的准确性。解决了现有技术中由于非标基底面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象导致非标基底的曝光区域布局的准确度大幅度降低的问题。
在上述一个具体的实施例中，结合图4和图5进行说明，步骤104的具体包括：
步骤104a.以不同旋转角度Δθ转动光学基板，以根据光学基板的凹凸区域Q2和外轮廓曲线Q1确定光学基板中有效曝光场的数量。其中，可将光学基板的外轮廓曲线Q1的最大外切圆C的圆内区域作为光学基板的搜索区域，以在搜索区域内基于光学基板的凹凸区域Q2和外轮廓曲线Q1确定有效曝光场的数量。
如图6所示，在步骤104a中根据光学基板的凹凸区域Q2和外轮廓曲线Q1确定光学基板中有效曝光场的数量包括：
步骤602.获取光学基板中与凹凸区域相交的每一相交曝光场的中心点c，并基于每一相交曝光场的中心点c以及光学基板的旋转角度Δθ确定对应相交曝光场是否有效。
结合图7和图8进行说明，步骤602具体可包括：
步骤702.确定每一相交曝光场的中心点c在光学基板的坐标系中的位置坐标c(x,y)。
步骤704.基于中心点c的位置坐标c(x,y)和旋转角度Δθ确定中心点的极轴oc与光学基板的外轮廓曲线Q1相交点的第一极坐标长度R、中心点的极轴oc与凹凸区域的边界曲线Q2相交点的第二极坐标长度r1。
其中，在确定中心点c的位置坐标c(x,y)之后，可根据其位置坐标c(x,y)计算该中心点的极轴oc与x轴的正半轴之间的夹角θ，该夹角θ等于中心点c旋转之前对应的极轴与x轴的正半轴之间的夹角(图中未示出)、与旋转角度Δθ之和)，以根据夹角θ计算出极轴oc与光学基板的外轮廓曲线Q1相交点的第一极坐标长度R、极轴oc与凹凸区域的边界曲线Q2相交点的第二极坐标长度r1、以及中心点c的极坐标长度r。
步骤706.基于中心点的极坐标长度r分别与第一极坐标长度R、第二极坐标长度r1之间的关系确定对应相交曝光场是否有效。
其中，中心点的极轴oc与凹凸区域的边界曲线Q2相交点的数量至少为一个，中心点的极轴oc与凹凸区域的边界曲线Q2相交点的第二极坐标长度r1对应为至少一个。由此，步骤706具体可以为：在中心点的极坐标长度r小于第一极坐标长度R的情况下，若第二极坐标长度r1小于中心点的极坐标长度r的数量与中心点的极轴oc和凹凸区域的边界曲线Q2相交点的数量之间的奇偶性相同，则中心点对应的相交曝光场有效。
参图8所示，极轴oc与凹凸区域的边界曲线Q2相交点的数量为两个，且极轴oc与凹凸区域的边界曲线Q2的两个相交点形成的第二极坐标长度r1分别包括第二极坐标长度r11和第二极坐标长度r12。判断相交曝光场T是否有效的具体过程为：中心点的极坐标长度r<第一极坐标长度R，且第二极坐标长度r1中小于中心点的极坐标长度r的数量为一个(即只有第二极坐标长度r11<中心点的极坐标长度r)，其与中心点的极轴oc和凹凸区域的边界曲线Q2相交点的数量(数量为两个)之间的奇偶性不同，由此，在图8的实施例中，确定相交曝光场T为无效曝光场。
参图9所示，极轴oc与凹凸区域的边界曲线Q2相交点的数量为四个，且极轴oc与凹凸区域的边界曲线Q2的两个相交点形成的第二极坐标长度r1分别包括第二极坐标长度r11、第二极坐标长度r12、第二极坐标长度r13以及第二极坐标长度r14。判断相交曝光场T是否有效的具体过程为：中心点的极坐标长度r<第一极坐标长度R，且第二极坐标长度r1中小于中心点的极坐标长度r的数量为两个(即只有第二极坐标长度r11和r12分别小于中心点的极坐标长度r)，其与中心点的极轴oc和凹凸区域的边界曲线Q2相交点的数量(数量为四个)之间的奇偶性相同，由此，在图9的实施例中，确定相交曝光场T为有效曝光场。
需要说明的是，极轴oc与凹凸区域的边界曲线Q2相交点的数量也可以为一个、三个、五个、六个、七个、八个、十个、二十个等等，具体不一一详细举例说明，且在极轴oc与凹凸区域的边界曲线Q2相交点的数量不同的实施例中，判断对应相交曝光场是否有效的具体过程参图8或图9所示的判断原理，对此不再赘述。
步骤604.统计不同旋转角度Δθ对应的有效相交曝光场、外轮廓曲线和凹凸区域边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场之间的有效曝光场总数，以确定有效曝光场总数最多时对应的目标旋转角度。
步骤106中“将光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域”的具体操作包括：
步骤106a.确定光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度，以将光学基板的与目标旋转角度对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
应理解，在本发明实施例中，以不同旋转角度Δθ转动光学基板时根据光学基板的凹凸区域和轮廓数据确定光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度，以将目标旋转角度所对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。由此，本实施例根据光学基板的凹凸区域和轮廓数据确定光学基板中有效曝光场的数量，能够有效排除光学基板中由于不平整而不适合布局并生产器件的区域，由此极大提高了光学基板曝光区域布局的准确性。解决了现有技术中由于非标基底面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象导致非标基底的曝光区域布局的准确度大幅度降低的问题。
需要说明的是，在图5的实施例中，通过以光学基板外轮廓曲线Q1的最大外切圆C的圆内区域作为搜索区域，对不同旋转角度Δθ下搜索区域内的曝光场的有效性进行检测，以将目标旋转角度对应的有效曝光场数量最大时所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。但是，目标旋转角度时对应的有效曝光场数量最大并非确保所有有效曝光场的面积之和最大。为了进一步确保光学基板曝光区域的有效面积更大，以进一步提升的光学基板曝光区域布局的准确度，通过改变光学基板的位置状态对光学基板外轮廓曲线Q1以及凹凸区域边界曲线Q2边缘处的曝光场的位置进行微调，以通过计算进行不同微调之后的光学基板外轮廓曲线Q1以及凹凸区域边界曲线Q2边缘处的曝光场的有效面积之和，进一步优化光学基板的布局方式。
具体参图10所示，步骤104具体可包括：
步骤1041b.选取分别与外轮廓曲线Q1、凹凸区域的边界曲线Q2相交的目标曝光场(如图11所示)，并控制光学基板沿预设路径以预设步距移动多次。
步骤1042b.记录每次移动预设步距后对应的光学基板的移动位置。
光学基板在沿预设路径以预设步距移动多次的过程中，相邻移动次数的移动方向垂直。结合图5进行说明，控制光学基板第一方向(如水平方向或x轴方向)移动第一预设步距Δx之后再沿第二方向(如垂直方向或y轴方向)移动第二预设步距Δy。第一预设步距Δx和第二预设步距Δy所形成的面积尺寸小于或等于单一曝光场的尺寸。
在本实施例中，以微调范围限制的区域为搜索域(即第一预设步距Δx和第二预设步距Δy所形成的区域)，按x轴、y轴方向逐步偏移的方式规划，每一步对目标曝光场的有效面积进行计算(即对目标曝光场中有效曝光场的面积进行计算)。通过控制每步偏移的步距大小即可调整每一步对目标曝光场有效面积计算的精度。
步骤1043b.判断每次移动预设步距后目标曝光场中每一曝光场是否有效。对每一曝光场是否有效的具体判断过程可参见图8或图9所示的判断原理，对此不再赘述。
步骤1044b.确定每次移动预设步距后外轮廓曲线Q1和凹凸区域的边界曲线Q2围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和。
为计算方便，参图12所示，将外轮廓曲线Q1或凹凸区域的边界曲线Q2的坐标系xoy转换为单一曝光场的网格坐标系x’o’y’，再求外轮廓曲线Q1’或凹凸区域的边界曲线Q2’在有效曝光场的网格区域内所围成的区域面积S，最后累加得到所有有效曝光场的网格的面积之和，最大面积之和为优化目标。其中，外轮廓曲线Q1’与单一曝光场的网格相交构成的面积计算过程如公式(1)所示：
其中，需要说明的是，d表示圆心O’到外轮廓曲线Q1’上任一点之间的长度，α为O’到外轮廓曲线Q1’上任一点形成的射线与x轴正半轴构成的夹角，θ1<＝α<＝θ2。凹凸区域的边界曲线Q2’与单一曝光场的网格相交构成的面积计算公式参公式(1)所示，对此不再赘述。
步骤106中“将光学基板中有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域”的具体操作包括：
步骤106b.确定外轮廓曲线和凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的目标移动位置，以将目标移动位置对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。如图13所示，具体可包括：
步骤1302.确定目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的光学基板的目标移动位置。
步骤1304.将目标曝光场中目标移动位置对应的有效曝光场、以及外轮廓曲线和凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场确定为光学基板的曝光区域。
应理解，在实施例中，控制光学基板沿预设路径移动时确定每次移动预设步距后外轮廓曲线Q1和凹凸区域的边界曲线Q2围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。由此，本实施例根据目标曝光场中有效曝光场、外轮廓曲线Q1和凹凸区域的边界曲线Q2围合形成的区域所包含的曝光场的面积之和最大值确定光学基板中有效曝光场的最大面积，不仅能够有效排除光学基板中由于不平整而不适合布局并生产器件的区域，而且在光学基板轮廓存在差异的情况下减少光学基板中不能曝光的面积，即极大提高了光学基板曝光区域的面积，从而提高了光学基板的利用率。
需要说明的是，为进一步提高光学基板曝光区域布局的准确度，在本实施例中，令步骤1041b在步骤106a之后执行。如此，在根据步骤104a确定光学基板中有效曝光场的数量，并根据步骤106a确定光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度，以将目标旋转角度对应的所有有效曝光场确定为光学基板曝光区域的情况下，通过图10所示的方法通过控制光学基板沿预设路径移动以对光学基板的位置进行微调，以将微调后外轮廓曲线Q1和凹凸区域的边界曲线Q2围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。由此，先通过图4所示的方法确定光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度，然后在目标旋转角度下微调光学基板的位置，以将得到的外轮廓曲线Q1和凹凸区域的边界曲线Q2围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场作为光学基板的曝光区域，能够有效提高光学基板的利用率，并提高光学基板曝光区域布局的准确度，同时能够极大降低数据处理量，以提高数据处理效率。
本实施例的光学基板即为晶圆，本实施例的光学基板一般为非标基板，即非标基板的面型不平坦，和/或非标基板的边缘轮廓形状不规则。值得注意的是，本实施例的光学基板曝光区域的确定方法也可适用于标准晶圆的曝光场网格布局的方法中。
实施例二：
参图14所示，本发明实施例还提供一种光学基板曝光区域的布局方法，其包括：
步骤1402.采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线。
步骤1404.改变光学基板的位置状态，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和。
步骤1406.将光学基板中有效曝光场的数量最多和/或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域，以对光学基板的曝光区域进行布局。
本实施例的光学基板曝光区域的布局方法根据所采集的光学基板的图像数据识别出光学基板的凹凸区域和轮廓数据，并改变光学基板的位置状态，根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量或有效曝光场的面积之和，以将光学基板中有效曝光场的数量最多或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场作为光学基板的曝光区域，从而通过所确定的曝光区域对曝光场网格进行布局。如此，本实施例根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线所确定的不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量或有效曝光场的面积之和，确定光学基板中有效曝光场，能够有效排除光学基板中由于不平整而不适合布局并生产器件的区域，由此极大提高了光学基板曝光区域布局的准确性。解决了现有技术中由于非标基底面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象导致非标基底的曝光区域布局的准确度大幅度降低的问题。
本实施例与实施例一中相同部分的技术方案，请参实施例一所述，在此不再赘述。
实施例三：
结合图15进行说明，本实施例还提供一种光学基板曝光区域的确定系统150，其包括：图像采集单元1501，用于采集光学基板1500的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板1500的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线；控制单元1502，用于改变光学基板的位置状态；曝光区域确定单元1503，用于根据光学基板1500的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和，以将光学基板中有效曝光场的数量最多和/或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板1500的曝光区域。
本实施例的光学基板曝光区域的确定系统150通过图像采集单元1501采集光学基板的图像数据并识别出光学基板1500的凹凸区域和轮廓数据，并通过控制单元1502改变光学基板的位置状态，以通过曝光区域确定单元1503根据光学基板1500的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和，以将光学基板中有效曝光场的数量最多和/或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。如此，本实施例根据光学基板1500的凹凸区域和外轮廓曲线所确定的不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和，确定光学基板中有效曝光场，能够有效排除光学基板中由于不平整而不适合布局并生产器件的区域，由此极大提高了光学基板曝光区域布局的准确性。解决了现有技术中由于非标基底面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象导致非标基底的曝光区域布局的准确度大幅度降低的问题。
在上述一些实施例中，控制单元1502用于以不同旋转角度转动光学基板。其中，曝光区域确定单元1503将光学基板的外轮廓曲线的最大外切圆的圆内区域作为光学基板的搜索区域，以在搜索区域内基于光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定有效曝光场的数量。曝光区域确定单元1503还用于根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定光学基板中有效曝光场的数量，并确定光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度，以将光学基板的与目标旋转角度对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
具体地，光学基板曝光区域的确定系统150还包括：获取单元1504，用于获取光学基板中与凹凸区域相交的每一相交曝光场的中心点；曝光区域确定单元1503用于基于每一相交曝光场的中心点以及光学基板1500的旋转角度确定对应相交曝光场是否有效，并统计不同旋转角度对应的有效相交曝光场、外轮廓曲线和凹凸区域边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场之间的有效曝光场总数，以确定有效曝光场总数最多时对应的目标旋转角度。曝光区域确定单元1503还用于：确定每一相交曝光场的中心点在光学基板的坐标系中的位置坐标，并基于中心点的位置坐标和旋转角度确定中心点的极轴与光学基板的外轮廓曲线相交点的第一极坐标长度、中心点的极轴与凹凸区域的边界曲线相交点的第二极坐标长度，以基于中心点的极坐标长度分别与第一极坐标长度、第二极坐标长度之间的关系确定对应相交曝光场是否有效。具体而言，在中心点的极坐标长度小于第一极坐标长度的情况下，若第二极坐标长度小于中心点的极坐标长度的数量与中心点的极轴和凹凸区域的边界曲线相交点的数量之间的奇偶性相同，则中心点对应的相交曝光场有效。
在本发明实施例中，通过控制单元1502以不同旋转角度Δθ转动光学基板时通过曝光区域确定单元1503根据光学基板的凹凸区域和轮廓数据确定光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度，以将目标旋转角度所对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。由此，本实施例根据光学基板的凹凸区域和轮廓数据确定光学基板中有效曝光场的数量，能够有效排除光学基板中由于不平整而不适合布局并生产器件的区域，由此极大提高了光学基板曝光区域布局的准确性。因此解决了现有技术中由于非标基底面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象导致非标基底的曝光区域布局的准确度大幅度降低的问题。
在另一些实施例中，光学基板曝光区域的确定系统150还包括：选择单元1505，用于选取分别与外轮廓曲线、凹凸区域的边界曲线相交的目标曝光场；记录单元1506，用于记录每次移动预设步距后对应的光学基板的移动位置；控制单元1502用于控制光学基板1500沿预设路径以预设步距移动多次。曝光区域确定单元1503判断每次移动预设步距后目标曝光场中每一曝光场是否有效，以计算外轮廓曲线和凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和，并确定外轮廓曲线和凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的目标移动位置，以将目标移动位置对应的所有有效曝光场确定为光学基板1500的曝光区域。具体地，曝光区域确定单元1503用于将目标曝光场中目标移动位置对应的所有有效曝光场、以及外轮廓曲线和凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场确定为光学基板的曝光区域。
应理解，通过控制单元1502控制光学基板1500沿预设路径移动，并通过曝光区域确定单元1503确定每次移动预设步距后外轮廓曲线Q1和凹凸区域的边界曲线Q2围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。由此，本实施例根据目标曝光场中有效曝光场、外轮廓曲线Q1和凹凸区域的边界曲线Q2围合形成的区域所包含的曝光场的面积之和最大值确定光学基板中有效曝光场的最大面积，不仅能够有效排除光学基板中由于不平整而不适合布局并生产器件的区域，而且在光学基板轮廓存在差异的情况下减少光学基板中不能曝光的面积，即极大提高了光学基板曝光区域的面积，从而提高了光学基板的利用率。
需要说明的是，本实施例与实施例一中相同部分的技术方案，请参实施例一所述，在此不再赘述。
优选地，本发明实施例还提供一种终端设备，其可包括处理器，存储器，存储在存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序，该计算机程序被处理器执行时实现上述图1、4、6-7、10、13-14所示的方法实施例的各个过程，且能达到相同的技术效果，为避免重复，这里不再赘述。上述处理器可为ASIC、FPGA、CPU、MCU或者其他具有指令处理功能的物理硬件或者虚拟设备；上述存储器选自RAM、DRAM、FeRAM、NVDIMM、SSD、RAID0～7或者数据中心。
本发明实施例还提供一种计算机可读存储介质，计算机可读存储介质上存储有计算机程序，该计算机程序被处理器执行时实现上述图1、4、6-7、10、13-14所示的方法的各个过程，且能达到相同的技术效果，为避免重复，这里不再赘述。其中，所述的计算机可读存储介质，如只读存储器(Read-Only Memory，ROM)、随机存取存储器(Random Access Memory，RAM)、磁碟或者光盘等。
上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本发明的可行性实施方式的具体说明，它们并非用以限制本发明的保护范围，凡未脱离本发明技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本发明的保护范围之内。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (24)

1.一种光学基板曝光区域的确定方法，其特征在于，包括：
采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线；
以不同旋转角度转动光学基板，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和；
将光学基板中有效曝光场的数量最多和/或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
2.根据权利要求1所述的确定方法，其特征在于，以不同旋转角度转动光学基板，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量，包括：
以不同旋转角度转动光学基板，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定光学基板中有效曝光场的数量；
其中，将光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域，包括：
确定光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度，以将光学基板的与所述目标旋转角度对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
3.根据权利要求2所述的确定方法，其特征在于，根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定光学基板中有效曝光场的数量，包括：
获取与所述凹凸区域相交的每一相交曝光场的中心点，并基于每一相交曝光场的中心点以及光学基板的旋转角度确定对应相交曝光场是否有效；
统计不同旋转角度对应的有效相交曝光场、所述外轮廓曲线和凹凸区域边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场之间的有效曝光场总数，以确定有效曝光场总数最多时对应的目标旋转角度。
4.根据权利要求3所述的确定方法，其特征在于，基于每一相交曝光场的中心点以及光学基板的旋转角度确定对应相交曝光场是否有效，包括：
确定每一相交曝光场的中心点在所述光学基板的坐标系中的位置坐标；
基于中心点的位置坐标和所述旋转角度确定所述中心点的极轴与光学基板的外轮廓曲线相交点的第一极坐标长度、所述中心点的极轴与所述凹凸区域的边界曲线相交点的第二极坐标长度；
基于中心点的极坐标长度分别与第一极坐标长度、第二极坐标长度之间的关系确定对应相交曝光场是否有效。
5.根据权利要求4所述的确定方法，其特征在于，基于中心点的极坐标长度分别与第一极坐标长度、第二极坐标长度之间的关系确定对应相交曝光场是否有效，包括：
在所述中心点的极坐标长度小于所述第一极坐标长度的情况下，若所述第二极坐标长度小于所述中心点的极坐标长度的数量与所述中心点的极轴和所述凹凸区域的边界曲线相交点的数量之间的奇偶性相同，则所述中心点对应的相交曝光场有效；
其中，所述中心点的极轴与所述凹凸区域的边界曲线相交点的数量至少为一个，所述中心点的极轴与所述凹凸区域的边界曲线相交点的第二极坐标长度对应为至少一个。
6.根据权利要求2所述的确定方法，其特征在于，根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定光学基板中有效曝光场的数量，包括：
将光学基板的外轮廓曲线的最大外切圆的圆内区域作为光学基板的搜索区域，以在所述搜索区域内基于光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定有效曝光场的数量。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的确定方法，其特征在于，以不同旋转角度转动光学基板，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的面积之和，包括：
选取分别与所述外轮廓曲线、所述凹凸区域的边界曲线相交的目标曝光场，并控制光学基板沿预设路径以预设步距移动多次；
确定每次移动预设步距后所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和；
将光学基板中有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域，包括：
确定所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的目标移动位置，以将所述目标移动位置对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
8.根据权利要求7所述的确定方法，其特征在于，在控制光学基板沿预设路径以预设步距移动多次之后，且在确定每次移动预设步距后所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和之前，包括：
记录每次移动预设步距后对应的光学基板的移动位置；
判断每次移动预设步距后所述目标曝光场中每一曝光场是否有效，以计算所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和。
9.根据权利要求7所述的确定方法，其特征在于，确定所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的目标移动位置，以将所述目标移动位置对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域，包括：
确定所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的光学基板的目标移动位置；
将所述目标曝光场中所述目标移动位置对应的有效曝光场、以及所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场确定为光学基板的曝光区域。
10.根据权利要求7所述的确定方法，其特征在于，
所述光学基板在沿预设路径以预设步距移动多次的过程中，相邻移动次数的移动方向垂直。
11.根据权利要求10所述的确定方法，其特征在于，控制光学基板沿预设路径以预设步距移动多次，包括：
控制光学基板沿第一方向移动第一预设步距后再沿第二方向方向移动第二预设步距。
12.根据权利要求11所述的确定方法，其特征在于，
所述第一预设步距和所述第二预设步距所形成的面积尺寸小于或等于单位曝光场的尺寸。
13.根据权利要求7所述的确定方法，其特征在于，
选取分别与所述外轮廓曲线、所述凹凸区域的边界曲线相交的目标曝光场，并控制光学基板沿预设路径以预设步距移动多次的操作步骤在将光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域之后执行。
14.根据权利要求1-6中任一项所述的确定方法，所述光学基板的图像数据包括对光学基板的平面图像进行采集的平面图像数据、对光学基板进行垂向面型扫描的垂向面型图像数据，其中，基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线，包括：
基于所述垂向面型图像数据识别出光学基板的凹凸区域，并基于所述光学基板的平面图像数据识别出光学基板的外轮廓曲线。
15.一种光学基板曝光区域的布局方法，其特征在于，包括：
采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线；
以不同旋转角度转动光学基板，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和；
将光学基板中有效曝光场的数量最多和/或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域，以对所述光学基板的曝光区域进行布局。
16.一种光学基板曝光区域的确定系统，其特征在于，包括：
图像采集单元，用于采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线；
控制单元，用于以不同旋转角度转动光学基板以改变光学基板的位置状态；
曝光区域确定单元，用于根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量或有效曝光场的面积之和，以将光学基板中有效曝光场的数量最多或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
17.根据权利要求16所述的确定系统，其特征在于，所述曝光区域确定单元根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定光学基板中有效曝光场的数量，并确定光学基板中有效曝光场的数量最多时对应的目标旋转角度，以将光学基板的与所述目标旋转角度对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
18.根据权利要求17所述的确定系统，其特征在于，
所述曝光区域确定单元还用于将光学基板的外轮廓曲线的最大外切圆的圆内区域作为光学基板的搜索区域，以在所述搜索区域内基于光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定有效曝光场的数量。
19.根据权利要求17所述的确定系统，其特征在于，还包括：
获取单元，用于获取与所述凹凸区域相交的每一相交曝光场的中心点；
所述曝光区域确定单元还用于基于每一相交曝光场的中心点以及光学基板的旋转角度确定对应相交曝光场是否有效，并统计不同旋转角度对应的有效相交曝光场、所述外轮廓曲线和凹凸区域边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场之间的有效曝光场总数，以确定有效曝光场总数最多时对应的目标旋转角度。
20.根据权利要求19所述的确定系统，其特征在于，所述曝光区域确定单元还用于：
确定每一相交曝光场的中心点在所述光学基板的坐标系中的位置坐标，并基于中心点的位置坐标和所述旋转角度确定所述中心点的极轴与光学基板的外轮廓曲线相交点的第一极坐标长度、所述中心点的极轴与所述凹凸区域的边界曲线相交点的第二极坐标长度，以基于中心点的极坐标长度分别与第一极坐标长度、第二极坐标长度之间的关系确定对应相交曝光场是否有效。
21.根据权利要求20所述的确定系统，其特征在于，所述曝光区域确定单元还用于：
在所述中心点的极坐标长度小于所述第一极坐标长度的情况下，若所述第二极坐标长度小于所述中心点的极坐标长度的数量与所述中心点的极轴和所述凹凸区域的边界曲线相交点的数量之间的奇偶性相同，则所述中心点对应的相交曝光场有效。
22.根据权利要求16所述的确定系统，其特征在于，还包括：
选择单元，用于选取分别与所述外轮廓曲线、所述凹凸区域的边界曲线相交的目标曝光场；
所述控制单元用于控制光学基板沿预设路径以预设步距移动多次；
所述曝光区域确定单元用于确定每次移动预设步距后所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和，并确定所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的目标移动位置，以将所述目标移动位置对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。
23.根据权利要求22所述的确定系统，其特征在于，还包括：
记录单元，用于记录每次移动预设步距后对应的光学基板的移动位置；
所述曝光区域确定单元判断每次移动预设步距后所述目标曝光场中每一曝光场是否有效，以计算所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场与所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和。
24.根据权利要求22所述的确定系统，其特征在于，
所述曝光区域确定单元用于确定所述目标曝光场中有效曝光场的面积之和最大时对应的光学基板的目标移动位置，并将所述目标曝光场中所述目标移动位置对应的所有有效曝光场、以及所述外轮廓曲线和所述凹凸区域的边界曲线围合形成的区域所包含的曝光场确定为光学基板的曝光区域。
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