CN113031303A - 一种显示基板及控制方法、显示装置 - Google Patents

一种显示基板及控制方法、显示装置 Download PDF

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CN113031303A CN202110382117.0A CN202110382117A CN113031303A CN 113031303 A CN113031303 A CN 113031303A CN 202110382117 A CN202110382117 A CN 202110382117A CN 113031303 A CN113031303 A CN 113031303A
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孟德天
刘文渠
张锋
董立文
吕志军
崔钊
宋晓欣
王利波
侯东飞
黄海涛
顾仁权
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    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B30/00Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images
    • G02B30/40Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images giving the observer of a single two-dimensional [2D] image a perception of depth

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Abstract

一种显示基板及控制方法、显示装置,包括:设置在基底上的显示结构层,以及,设置在所述显示结构层出光侧的出光结构层,所述显示结构层包括多个像素,所述像素包括多个子像素,所述出光结构层包括微透镜结构阵列,所述微透镜结构阵列包括多个微透镜结构,所述微透镜结构包括第一驱动电极、第二驱动电极以及设置在所述第一驱动电极和所述第二驱动电极之间的微透镜,所述微透镜设置为在所述第一驱动电极和第二驱动电极的控制下改变焦距。本实施例提供的方案,可以通过改变加载在微透镜上的电压,改变微透镜的焦距,不同焦距可以投射不同景深的图像,从而实现真实的三维光场显示,提高用户体验。

Description

一种显示基板及控制方法、显示装置
技术领域
本公开实施例涉及但不限于显示技术,尤指一种显示基板及控制方法、显示装置。
背景技术
在人类的五大感知途径中,视觉占据了70%~80%的信息来源,而大脑有大约50%的能力都用于处理视觉信息。传统的2D显示器只能提供仿射、遮挡、光照阴影、纹理、先验知识五方面心理视觉信息。光场显示除了能产生传统2D显示器的所有信息外,还能提供双目视差、移动视差、聚焦模糊三方面的生理视觉信息。重现一个真实的三维世界,实现类似于电影所展示的全息显示,正是人们一直努力的方向。
目前来讲,市场比较成熟的三维显示模式是佩戴眼镜,利用双目视差原理,使具有差异的图像分别进入左右眼,通过大脑形成立体效果。但种技术会造成辐辏调节冲突,容易引起视觉疲劳,无法长时间观看。新出现的裸眼3D技术,即不需要佩戴任何装置就可以观看3D图像,主要采用狭缝光栅和柱透镜光栅方式,使不同影像分别进入左右眼融合形成立体效果。该种技术为透镜焦距固定在同一焦平面上,即在固定焦平面上模拟深度,营造立体视觉感官,但并不是真实的三维显示。现有三维显示技术的缺陷导致人们在观看影片或者游戏体验过程中容易出现恶心、呕吐现象。
发明内容
以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。
本公开实施例提供了一种显示基板及控制方法、显示装置,实现三维显示。
一方面,本公开实施例提供了一种显示基板,包括:设置在基底上的显示结构层,以及,设置在所述显示结构层出光侧的出光结构层,所述显示结构层包括多个像素,所述像素包括多个子像素,所述出光结构层包括微透镜结构阵列,所述微透镜结构阵列包括多个微透镜结构,所述微透镜结构包括第一驱动电极、第二驱动电极以及设置在所述第一驱动电极和所述第二驱动电极之间的微透镜,所述微透镜设置为在所述第一驱动电极和第二驱动电极的控制下改变焦距。
在一示例性实施例中,所述微透镜结构与所述子像素一一对应。
在一示例性实施例中,所述出光结构层还包括至少一个伸缩结构,所述伸缩结构连接至所述微透镜,所述伸缩结构包括:光致变形层;
所述显示基板还包括与所述光致变形层对应的发光器件,所述发光器件被配置为发出第一波长范围的光并照射到所述光致变形层;
所述光致变形层被配置为:在所述第一波长范围的光照射下发生第一变形,以带动所述微透镜至第一预设位置。
在一示例性实施例中,所述发光器件与所述像素一一对应。
在一示例性实施例中,所述显示结构层包括驱动结构层、发光结构层和封装层,所述发光器件设置在所述发光结构层,所述像素包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素,所述发光器件与所述第一颜色子像素、第二颜色子像素同行设置,且位于所述第一颜色子像素、第二颜色子像素之间。
在一示例性实施例中,所述光致变形层还被配置为在发生所述第一变形后,无所述第一波长范围的光照射时发生第二变形,以带动所述微透镜至第二预设位置。
在一示例性实施例中,所述微透镜结构与所述子像素一一对应时,所述微透镜处于所述第一预设位置和所述第二预设位置其中之一位置时,所述微透镜的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之内,处于其中另一位置时,所述微透镜的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之外。
在一示例性实施例中,所述光致变形层设置在所述第二驱动电极靠近所述基底一侧;
所述第二驱动电极包括依次连接的第二附着电极段、第二牵引电极段,其中,所述第二附着电极段设置在所述微透镜远离所述基底一侧的表面,所述第二牵引电极段的延伸方向与所述光致变形层的延伸方向一致;在平行于所述基底的平面上,所述第二附着电极段的正投影位于所述微透镜的正投影内,所述第二牵引电极段的正投影与所述光致变形层的正投影存在交叠;
所述光致变形层还被配置为:发生变形时带动所述第二牵引电极段和第二附着电极段。
在一示例性实施例中,所述光致变形层设置在所述第一驱动电极远离所述基底一侧;
所述第一驱动电极包括依次连接的第一附着电极段、第一牵引电极段;其中,所述第一牵引电极段的延伸方向与所述光致变形层的延伸方向一致;在平行于所述基底的平面上,所述第一附着电极段的正投影与所述微透镜的正投影存在交叠,所述第一牵引电极段的正投影与所述光致变形层的正投影存在交叠,所述光致变形层还被配置为:发生变形时带动所述第一牵引电极段和所述第一附着电极段。
在一示例性实施例中,所述出光结构层还包括至少一个固定结构,所述固定结构包括:设置在所述第一驱动电极远离所述基底一侧的绝缘层,所述光致变形层远离所述微透镜一端连接所述绝缘层,所述绝缘层的正投影与连接到所述绝缘层的光致变形层对应的发光器件的正投影存在交叠。
在一示例性实施例中,所述固定结构与多个微透镜结构对应,所述绝缘层设置有多个过孔,所述第二驱动电极还包括与所述第二牵引电极段电连接的第二固定电极段,所述固定结构对应的多个微透镜结构的第二驱动电极的第二固定电极段通过所述过孔引出。
在一示例性实施例中,所述第一驱动电极还包括与所述第一牵引电极段电连接的第一固定电极段,所述固定结构对应的多个微透镜结构的第一驱动电极的第一固定电极段彼此电连接构成环状电极,在平行于所述基底的平面上,所述过孔的正投影位于所述环状电极的内环的正投影内。
在一示例性实施例中,所述伸缩结构与所述子像素一一对应,所述固定结构与所述像素一一对应,所述伸缩结构的光致变形层连接到对应的子像素所对应的固定结构的所述绝缘层。
在一示例性实施例中,所述出光结构层还包括封框胶,所述微透镜结构阵列封装在所述封框胶围绕的区域中。
又一方面,本公开实施例提供一种显示装置,包括上述显示基板。
再一方面,本公开实施例提供一种上述显示基板的控制方法,包括:
控制加载在所述第一驱动电极和第二驱动电极之间的电压,使所述微透镜呈现与所述电压对应的焦距。
在一示例性实施例中,所述显示基板为权利要求3至14任一所述的显示基板时,所述控制方法还包括,控制所述发光器件发出第一波长范围的光,使所述光致变形层发生第一变形,带动所述微透镜至第一预设位置;以及,控制所述发光器件停止发光,使所述光致变形层发生第二变形,带动所述微透镜至第二预设位置,所述微透镜处于所述第一预设位置和所述第二预设位置其中之一位置时,所述微透镜的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之内,处于其中另一位置时,所述微透镜的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之外。
本公开实施例包括一种显示基板及控制方法、显示装置,包括:设置在基底上的显示结构层,以及,设置在所述显示结构层出光侧的出光结构层,所述显示结构层包括多个像素,所述像素包括多个子像素,所述出光结构层包括微透镜结构阵列,所述微透镜结构阵列包括多个微透镜结构,所述微透镜结构包括第一驱动电极、第二驱动电极以及设置在所述第一驱动电极和所述第二驱动电极之间的微透镜,所述微透镜设置为在所述第一驱动电极和第二驱动电极的控制下改变焦距。本实施例提供的方案,可以通过改变加载在微透镜上的电压,改变微透镜的焦距,不同焦距可以投射不同景深的图像,从而实现真实的三维光场显示,提高用户体验。
本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
在阅读并理解了附图和详细描述后,可以明白其他方面。
附图说明
附图用来提供对本公开技术方案的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本公开实施例一起用于解释本发明的技术方案,并不构成对技术方案的限制。
图1为一示例性实施例提供的显示基板示意图;
图2为一示例性实施例提供的显示基板示意图;
图3为一示例性实施例提供的微透镜位置示意图;
图4为一示例性实施例提供的微透镜阵列和像素阵列分布示意图;
图5为一示例性实施例提供的显示结构层示意图;
图6a为一示例性实施例提供的形成第一驱动电极后平面示意图;
图6b为图6a沿A-A方向的剖面图;
图7a为一示例性实施例提供的形成绝缘层图案后平面示意图;
图7b为图7a沿A-A方向的剖面图;
图8a为一示例性实施例提供的出光结构层形成光致变形层图案后平面示意图;
图8b为图8a沿A-A方向的剖面图;
图9a为一示例性实施例提供的形成微透镜图案后平面示意图;
图9b为图9a沿A-A方向的剖面图;
图10a为一示例性实施例提供的形成过孔后平面示意图;
图10b为图10a沿A-A方向的剖面图;
图11a为一示例性实施例提供的形成第二驱动电极图案后平面示意图;
图11b为图11a沿A-A方向的剖面图;
图12为形成盖板后的平面示意图;
图13为本公开实施例提供的显示基板的控制方法流程图。
具体实施方式
下文中将结合附图对本公开实施例进行详细说明。在不冲突的情况下,本公开实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行。并且,虽然在流程图中示出了逻辑顺序,但是在某些情况下,可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。
除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。
在附图中,有时为了明确起见,夸大表示了各构成要素的大小、层的厚度或区域。因此,本公开的实施方式并不一定限定于该尺寸,附图中各部件的形状和大小不反映真实比例。此外,附图示意性地示出了理想的例子,本公开的实施方式不局限于附图所示的形状或数值。
本公开中的“第一”、“第二”、“第三”等序数词是为了避免构成要素的混同而设置,并不表示任何顺序、数量或者重要性。
在本公开中,为了方便起见,使用“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的词句以参照附图说明构成要素的位置关系,仅是为了便于描述本说明书和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本公开的限制。构成要素的位置关系根据描述各构成要素的方向适当地改变。因此,不局限于在公开中说明的词句,根据情况可以适当地更换。
在本公开中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如,可以是固定连接,或可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,或电连接;可以是直接相连,或通过中间件间接相连,或两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。
在本公开中,“电连接”包括构成要素通过具有某种电作用的元件连接在一起的情况。“具有某种电作用的元件”只要可以进行连接的构成要素间的电信号的授受,就对其没有特别的限制。“具有某种电作用的元件”的例子不仅包括电极和布线,而且还包括晶体管等开关元件、电阻器、电感器、电容器、其它具有各种功能的元件等。
在本公开中,“平行”是指两条直线形成的角度为-10°以上且10°以下的状态,因此,也包括该角度为-5°以上且5°以下的状态。另外,“垂直”是指两条直线形成的角度为80°以上且100°以下的状态,因此,也包括85°以上且95°以下的角度的状态。
在本公开中,“膜”和“层”可以相互调换。例如,有时可以将“导电层”换成为“导电膜”。与此同样,有时可以将“绝缘膜”换成为“绝缘层”。
对透镜焦距进行实时控制,不同焦距模拟出不同景深,是实现真光场三维显示的发展方向,本公开实施例中,提供一种包括可调整焦距的微透镜阵列的显示基板,实现三维显示。
图1为本公开实施例提供的一种显示基板示意图。如图1所示,所述显示基板包括基底10,设置在基底10上的显示结构层100,以及,设置在所述显示结构层100出光侧的发光结构层200,所述显示结构层100包括多个像素,所述像素包括多个子像素23,所述出光结构层200包括微透镜结构阵列,所述微透镜结构阵列包括多个微透镜结构,所述微透镜结构包括第一驱动电极31、第二驱动电极35以及设置在所述第一驱动电极31和所述第二驱动电极35之间的微透镜34,所述微透镜34设置为在所述第一驱动电极31和第二驱动电极35的控制下改变焦距。
本实施例提供的方案,可以通过改变加载在微透镜上的电压,改变微透镜的焦距,不同焦距可以投射不同景深的图像,从而实现真实的三维光场显示,提高用户体验。
在一示例性实施例中,所述微透镜结构对应一个显示区域,即所述微透镜将该显示区域的图像进行成像。所述显示区域可以包含一个或多个像素,或者,一个或多个子像素。
在一示例性实施例中,所述微透镜结构可以与子像素一一对应,从而可以对每个子像素的景深进行控制。
在一示例性实施例中,所述显示结构层100可以包括驱动结构层(未示出)、发光结构层90和封装层22,所述出光结构层200可以设置在所述封装层22远离所述基底10一侧的表面。
在一示例性实施例中,所述第一驱动电极31可以彼此电连接,所述第二驱动电极35彼此独立(绝缘)。但本公开实施例不限于此,第一驱动电极31可以彼此独立。
在一示例性实施例中,所述第一驱动电极31的正投影与微透镜34的正投影存在交叠,所述第二驱动电极35的正投影与微透镜34的正投影存在交叠,使得微透镜34处于第一驱动电极31和第二驱动电极35形成的电场中,便于控制微透镜的形变。
在一示例性实施例中,所述出光结构层200还可包括绝缘层32,所述绝缘层32设置有过孔,所述过孔的正投影位于所述第一驱动电极31的正投影外,所述第二驱动电极35通过所述过孔引出。
在一示例性实施例中,第一驱动电极31位于微透镜34靠近基底10一侧,第二驱动电极35位于微透镜34远离基底10一侧,第一驱动电极31可以包括第一附着电极段和第一引线电极段,所述第二驱动电极35可以包括第二附着电极段和第二引线电极段,第一附着电极段的正投影与微透镜34的正投影存在交叠(比如,微透镜34可以设置在第一附着电极段远离所述基底10一侧的表面),第二附着电极段的正投影与微透镜34的正投影存在交叠(比如,第二附着电极段可以设置在微透镜34远离所述基底10一侧的表面)。第一引线电极段和第二引线电极段之间可以设置绝缘层44。即第一驱动电极31和第二驱动电极35之间通过微透镜34、绝缘层32和绝缘层44进行绝缘。在平行于所述基底10的平面上,所述第一附着电极段的截面可以是六边形,但不限于此,可以是其他形状的块状电极,所述第二附着电极段的截面可以是圆形,但不限于此。图1中所示的第一驱动电极31和第二驱动电极35的设置方式仅为示例,本公开实施例不限于此。在一示例性实施例中,所述第一驱动电极31可以是整面电极(即微透镜阵列共用一个第一驱动电极)。
在一示例性实施例中,所述第二驱动电极35可以附着在微透镜34远离所述基底10一侧的表面,但不限于此,比如,所述第二驱动电极35可以形成在盖板38靠近所述基底10一侧的表面。
在一示例性实施例中,所述出光结构层200还可包括封框胶37和设置在所述封框胶37远离所述基底10一侧的盖板38,所述微透镜结构阵列封装在所述封框胶37围绕的区域中。
在一示例性实施例中,所述出光结构层200还可包括隔垫柱36,所述隔垫柱36可以设置在所述封框胶37靠近所述微透镜34一侧。所述隔垫柱36用于提供支撑作用,形成可供微透镜34变形的空间。
图2为另一实施例提供的显示基板示意图。如图2所示,所述显示基板可以包括:基底10,设置在基底10上的显示结构层100,以及,设置在所述显示结构层100出光侧的发光结构层200,所述显示结构层100包括多个像素,所述像素包括多个子像素23,所述出光结构层200包括微透镜结构阵列,所述微透镜阵列包括第一驱动电极、第二驱动电极和设置在所述第一驱动电极、第二驱动电极之间的微透镜34,所述出光结构层200还包括至少一个伸缩结构,所述伸缩结构连接至所述微透镜34,所述伸缩结构包括:光致变形层33;所述显示基板还包括与所述光致变形层33对应的发光器件50,所述发光器件50被配置为发出第一波长范围的光并照射到所述光致变形层33;
所述光致变形层33被配置为:在所述第一波长范围的光照射下发生第一变形,以带动所述微透镜34至第一预设位置。
本实施例提供的方案,可以改变微透镜的位置,从而提供不同的显示模式,另外,可以改变微透镜的焦距,实现三维光场显示。
在一示例性实施例中,所述光致变形层33还被配置为在发生所述第一变形后,无所述第一波长范围的光照射时发生第二变形,以带动所述微透镜34至第二预设位置。所述第一变形比如可以是所述光致变形层33伸展,所述第二变形可以是所述光致变形层33收缩,或者,所述第一变形比如可以是所述光致变形层33收缩,所述第二变形可以是所述光致变形层33伸展,本公开实施例对此不作限定。
在一示例性实施例中,所述微透镜结构与所述子像素一一对应时,所述微透镜34处于所述第一预设位置和所述第二预设位置其中之一位置时,所述微透镜34的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之内,处于其中另一位置时,所述微透镜34的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之外。比如,所述微透镜处于第一预设位置时,所述微透镜34的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之内,所述微透镜34处于第二预设位置时,所述微透镜34的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之外;此时,发光器件50开启时,微透镜34处于子像素的开口区域内,可以实现三维显示,发光器件50关闭时,微透镜34处于子像素的开口区域外,可以实现常规显示;或者,所述微透镜34处于第一预设位置时,所述微透镜34的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之外,所述微透镜34处于第二预设位置时,所述微透镜34的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之内。此时,发光器件50开启时,微透镜34处于子像素的开口区域外,可以实现常规显示,发光器件50关闭时,微透镜34处于子像素的开口区域内,可以实现三维显示。当常用作三维显示时,可以使用发光器件50关闭时实现三维显示的显示基板,当常用作常规显示时,可以使用发光器件50关闭时实现常规显示的显示基板,从而节约功耗。
如图3所示,微透镜R’对应红色子像素R,微透镜G’对应绿色子像素G,微透镜B’对应蓝色子像素B,当发光器件L(即发光器件50)照射到光致变形层33时,光致变形层33收缩,微透镜阵列移动到子像素正上方,微透镜34与子像素一一对应,此时通过第一驱动电极和第二驱动电极上加载的电压调节微透镜34拱高改变焦距,投射不同景深的图像,实现三维光场显示,此时为三维光场显示模式。当发光器件L(即发光器件50)关闭时,光致变形层33伸展恢复到原来状态,此时微透镜34不在子像素的正上方,切换回常规显示状态。
在一示例性实施例中,可以为每个光致变形层33配置一个发光器件50,或者,可以多个光致变形层33共用一个发光器件50,即一个发光器件50对应多个光致变形层33,为该多个光致变形层33提供照射光。比如,发光器件50与像素一一对应,同一像素对应的微透镜34所连接的光致变形层33共用一个发光器件50。
在一示例性实施例中,所述显示结构层可以包括驱动结构层(未示出)、发光结构层90和封装层22,所述发光器件50可以设置在所述发光结构层90,所述像素可以包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素,所述发光器件50可以与所述第一颜色子像素、第二颜色子像素同行设置,且位于所述第一颜色子像素、第二颜色子像素之间。所述第三颜色子像素可以位于相邻行。如图3所示,每个像素包括红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B,还包括发光器件L,发光器件L可以与红色子像素R、绿色子像素G位于同一行,蓝色子像素B位于相邻行,本实施例提供的方案,发光器件L与同一像素对应的多个光致变形层的距离较为接近,便于控制同一像素对应的多个光致变形层。本实施例所述的像素不限于包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素,可以是其他颜色的子像素。另外,不限于三个子像素,可以是更多子像素。发光器件50的位置不限于此,可以是其他位置。
在一示例性实施例中,所述发光器件50可以为白光发光器件,但不限于此,可以是其他器件,比如,紫外光发光器件等。
在一示例性实施例中,所述光致变形层33设置在所述第二驱动电极靠近所述基底10一侧;所述第二驱动电极可以包括依次连接的第二附着电极段351、第二牵引电极段352,其中,所述第二附着电极段351可以设置在所述微透镜34远离所述基底10一侧的表面,所述第二牵引电极段352的延伸方向与所述光致变形层33的延伸方向一致;在平行于所述基底10的平面上,所述第二附着电极段351的正投影可以位于所述微透镜34的正投影内,所述第二牵引电极段352的正投影可以与所述光致变形层33的正投影存在交叠;
所述光致变形层33还被配置为:发生变形时带动所述第二牵引电极段352和第二附着电极段351。本实施例提供的方案,第二驱动电极一部分附着在微透镜上,与第一驱动电极共同作用为微透镜提供电场,一部分可以跟随光致变形层变形而迁移。
在一示例性实施例中,所述光致变形层33设置在所述第一驱动电极远离所述基底10一侧;
所述第一驱动电极可以包括依次连接的第一附着电极段311、第一牵引电极段312;其中,所述第一牵引电极段311的延伸方向与所述光致变形层33的延伸方向一致;在平行于所述基底10的平面上,所述第一附着电极段311的正投影与所述微透镜34的正投影存在交叠,所述第一牵引电极段312的正投影与所述光致变形层33的正投影存在交叠,所述光致变形层33还被配置为:发生变形时带动所述第一牵引电极段312和所述第一附着电极段311。本实施例提供的方案,第一驱动电极一部分位于微透镜所在位置,与第二驱动电极共同作用为微透镜提供电场,一部分可以跟随光致变形层变形而迁移。
在一示例性实施例中,所述出光结构层200还可以包括至少一个固定结构,所述固定结构包括:设置在所述第一驱动电极远离所述基底一侧的绝缘层32,所述光致变形层33远离所述微透镜34一端连接所述绝缘层32。本实施例提供的方案,通过固定结构使得光致变形层33的一端位置固定,光致变形层33变形时,改变另一端的位置,即改变微透镜34的位置。
在一示例性实施例中,可以多个光致变形层33连接到一个固定结构,比如,与同一像素的子像素对应的微透镜作为一组,连接到一个固定结构上,或者,可以每个光致变形层33设置一个固定结构。在另一实施例中,可以不设置固定结构,通过将光致变形层33的一端粘接的方式进行固定。在一示例性实施例中,所述绝缘层32的正投影与连接到所述绝缘层的光致变形层33对应的发光器件50的正投影存在交叠。比如,绝缘层32可以位于发光器件50的正上方,从而使得发光器件50发出的光可以照射到与绝缘层32相邻的光致变形层33。在一示例性实施例中,发光器件50位于相邻的子像素之间,绝缘层32可以位于相邻的微透镜之间。如图3所示,发光器件L(即发光器件50)位于红色子像素R和绿色子像素G之间,相应的绝缘层L’(即绝缘层32)可以位于微透镜R’和微透镜G’之间。
在一示例性实施例中,所述固定结构可以与多个微透镜结构对应,所述绝缘层32设置有多个过孔,所述第二驱动电极还包括与所述第二牵引电极段352电连接的第二固定电极段353,所述固定结构对应的多个微透镜结构的第二驱动电极的第二固定电极段353通过所述过孔引出。
在一示例性实施例中,所述第一驱动电极还可以包括与所述第一牵引电极段312电连接的第一固定电极段313,所述固定结构对应的多个微透镜结构的第一驱动电极的第一固定电极段313彼此电连接构成环状电极,在平行于所述基底的平面上,所述过孔的正投影位于所述环状电极的内环的正投影内。多个第一固定电极段313进行电连接可以减少将第一驱动电极引出的连接引线,但本公开实施例不限于此,可以独立引出每个第一驱动电极。多个第一固定电极段313可以不电连接,构成有多个缺口的环状电极。所述多个第一固定电极段313可以是与同一像素对应的多个微透镜结构的第一固定电极段,但不限于此。
在另一实施例中,第一驱动电极可以是整面电极,所述第二驱动电极可以设置在盖板38的表面,此时固定结构上无需设置过孔引出第二驱动电极。
在另一实施例中,所述第二驱动电极可以是整面电极(比如,可以设置在盖板38的表面),所述第一驱动电极彼此独立(绝缘),此时,绝缘层32无需设置过孔,第一驱动电极可以包括第一附着电极段、第一牵引电极段和第一固定电极段,第一固定电极段连接到绝缘层32。
在一示例性实施例中,所述伸缩结构可以与所述子像素一一对应,所述固定结构可以与所述像素一一对应,所述伸缩结构的光致变形层33连接到对应的子像素所对应的固定结构的所述绝缘层32。
图4为一示例性实施例提供的微透镜阵列与像素的排布示意图。如图4所示,显示结构层100包括多个像素,每个像素包括3个子像素:红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B,每个像素设置有一个发光器件50,出光结构层200包括微透镜阵列,微透镜阵列包括微透镜34,微透镜34与子像素一一对应,发光器件50为与同一像素对应的微透镜34(即该像素包含的3个子像素对应的3个微透镜34)连接的光致变形层33提供照射光。同一像素对应的微透镜34连接的光致变形层33连接到同一绝缘层32。图4所示排布方式仅为示例,可以使用其他排布方式,比如,红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B设置在同一行,发光器件50位于红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B的相邻行,相应的,与同一像素对应的多个微透镜位于同一行,绝缘层32可以位于微透镜34的相邻行,等等。
在一示例性实施例中,将上述可实现显示模式切换的显示基板中去除发光器件50,将光致变形层33替换为不发生形变的材料(比如绝缘层材料),微透镜位置与子像素位置一一对应,即可作为一个只实现三维显示的显示基板。
下面通过本实施例显示基板的制备过程进一步说明本实施例的技术方案。本实施例中所说的“构图工艺”包括沉积膜层、涂覆光刻胶、掩模曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等处理,是相关技术中成熟的制备工艺。本实施例中所说的“光刻工艺”包括涂覆膜层、掩模曝光和显影,是相关技术中成熟的制备工艺。沉积可采用溅射、蒸镀、化学气相沉积等已知工艺,涂覆可采用已知的涂覆工艺,刻蚀可采用已知的方法,在此不做具体的限定。在本实施例的描述中,需要理解的是,“薄膜”是指将某一种材料在基底上利用沉积或涂覆工艺制作出的一层薄膜。若在整个制作过程当中该“薄膜”无需构图工艺或光刻工艺,则该“薄膜”还可以称为“层”。若在整个制作过程当中该“薄膜”还需构图工艺或光刻工艺,则在构图工艺前称为“薄膜”,构图工艺后称为“层”。经过构图工艺或光刻工艺后的“层”中包含至少一个“图案”。本实施例中,显示结构层可以为OLED显示结构。
本实施例提供的显示基板的制备过程包括:
1)形成显示结构层100;所述显示结构层100可以包括基底、驱动结构层、发光结构层和封装层;
所述形成显示结构层100可以包括:
形成基底10,所述基底10可以是柔性基底;
在所述基底10上形成驱动结构层,所述驱动结构层可以包括:有源层11、覆盖有源层11的第一绝缘层12(也可以称为栅绝缘层(GI)),设置在所述第一绝缘层12远离所述基底一侧的栅电极13,覆盖所述栅电极13的第二绝缘层14(也可以称为层间介质层(ILD)),设置在所述第二绝缘层14远离所述基底10一侧的源漏电极层15(包括源电极和漏电极),设置在所述源漏电极层15远离所述基底10一侧的第三绝缘层16(也可以称为钝化层(PVX)),设置在所述第三绝缘层16远离所述基底10一侧的第四绝缘层17(也可以称为平坦层(PLN));
形成发光结构层,所述发光结构层可以包括:设置在所述第四绝缘层17远离所述基底10一侧的阳极18,设置在所述阳极18远离所述基底10一侧的像素定义层19,依次设置在所述像素定义层19远离所述基底一侧的有机发光层20和阴极21;所述有机发光层20可以包括子像素的有机发光层,比如第一颜色子像素有机发光层,第二颜色子像素有机发光层,第三颜色子像素有机发光层,还可以包括用于控制光致变形层33的发光器件的有机发光层。即用于控制光致变形层33的发光器件与子像素的发光器件同层设置,通过同一制备工艺形成。但本公开实施例不限于此,可以将用于控制光致变形层33的发光器件设置在显示结构层外;或者,可以使用与子像素的发光器件不同类型的发光器件作为控制光致变形层33的发光器件。用于控制光致变形层33的发光器件与子像素的发光器件同层设置时,工艺比较简单,成本低。在一示例性实施例中,用于控制光致变形层33的发光器件与像素一一对应。所述用于控制光致变形层33的发光器件的有机发光层可以位于对应的像素的两个子像素的有机发光层之间。
在所述阴极21远离所述基底一侧形成封装层22;所述封装层22可以包括依次设置的第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层。如图5所示。
2)形成出光结构层200;可以直接在显示结构层的封装层22上制备出光结构层200,或者,可以在封装层22上沉积柔性薄膜,比如聚酰亚胺(PI)后再制备出光结构层200。本实施例中以一个像素对应的微透镜结构和固定结构为例进行说明。
2.1)在所述显示结构层100远离所述基底10一侧沉积第一柔性透明导电薄膜,构图形成第一驱动电极31图案;如图6a和6b所示,其中,图6a为出光结构层平面示意图,图6b为显示基板截面图,图6b为图6a沿A-A方向剖切得到。
在一示例性实施例中,不同微透镜结构的第一驱动电极31可以电连接在一起,但不限于此。
在一示例性实施例中,所述第一驱动电极31可以包括第一附着电极段311、第一牵引电极段312和第一固定电极段313,第一牵引电极段312的第一端电连接第一附着电极段311,第二端电连接第一固定电极段313;所述第一附着电极段311可以在受牵引(被光致变形层33牵引)后在所附着的表面移动,所述第一牵引电极段312可以在受牵引后在所附着的表面移动。
在一示例性实施例中,所述第一附着电极段311在平行于所述基底10的平面上的截面可以是六边形,但不限于此,可以是其他形状。
在一示例性实施例中,所述第一牵引电极段312在平行于基底10的平面上的延伸方向可以是曲线延伸或者直线延伸或其他方式延伸,比如可以是S形曲线延伸等。
在一示例性实施例中,属于同一像素的多个所述第一固定电极段313可以电连接构成第一固定电极;所述第一固定电极在平行于所述基底10的平面上的截面可以是环形,比如圆环形,但不限于此,可以方环,不规则环等等。所述环形可以是封闭环,或者,可以是带有缺口的环。所述第一固定电极围绕的区域内可以设置有连接电极40,以连接第二驱动电极。第一固定电极段313的位置可以固定,从而可以使得光致变形层33变形时,第一牵引电极段312的第二端的位置固定,另一端跟随光致变形层33的变形发生位移,带动微透镜34位移。
在另一实施例中,所述第一附着电极段311、第一牵引电极段312和所述第一固定电极段313可以用设置有开口的整面电极替代,所述开口用于第二驱动电极的引出。
在一示例性实施例中,所述第一柔性透明导电薄膜可以为氧化铟锡(Indium TinOxide,ITO)或者聚3,4-乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸盐(PEDOT:PSS)等。
2.2)沉积绝缘层薄膜,通过构图工艺进行构图,形成绝缘层32图案,绝缘层32可以对第一固定电极段313和第二固定电极段353进行绝缘。如图7a和图7b所示。其中,图7a为出光结构层平面示意图,图7b为显示基板截面图,图7b为图7a沿A-A方向剖切得到。
在一示例性实施例中,所述绝缘层32与像素一一对应。
在一示例性实施例中,所述绝缘层32的正投影与发光器件50的正投影存在交叠,即与发光器件50的有机发光层的正投影存在交叠。
在一示例性实施例中,在平行于所述基底10的平面上,所述绝缘层32的正投影可以与所述第一固定电极的正投影存在交叠,或者无交叠,比如,所述绝缘层32的正投影可以位于所述第一固定电极的内环的正投影内,或者,所述第一固定电极的正投影可以位于所述绝缘层32的正投影内;或者,所述第一固定电极的正投影可以部分位于所述绝缘层32的正投影内,部分位于所述绝缘层32的正投影外。
在一示例性实施例中,所述绝缘层32可以使用采用硅氧化物SiOx、硅氮化物SiNx、氮氧化硅SiON等制备,可以是单层结构,也可以是多层复合结构。
2.3)涂覆一层光致形变材料薄膜,通过构图工艺构图,形成光致变形层33图案,所述光致变形层33的一端可以连接所述绝缘层32,从而使得光致变形层33变形时,一端的位置不变,另一端牵引微透镜34改变位置。所述光致变形层33的延伸方向可以与所述第一牵引电极段312一致。如图8a和图8b所示。其中,图8a为出光结构层平面示意图,图8b为显示基板截面图,图8b为图8a沿A-A方向剖切得到。
在一示例性实施例中,在平行于所述基底10的平面上,所述光致变形层33的正投影与所述第一牵引电极段312的正投影存在交叠,可以是光致变形层33的正投影位于第一牵引电极段312的正投影之内,或者,第一牵引电极段312的正投影位于光致变形层33的正投影之内,或者,光致变形层33的正投影与所述第一牵引电极段312的正投影重合或大致重合。光致变形层33变形时,带动第一牵引电极段312产生位移,带动第一附着电极段311位移,可以带动设置在第一附着电极段311上的微透镜位移,从而改变微透镜34的位置。
在一示例性实施例中,所述光致形变材料可以是含偶氮苯的聚合物(比如含偶氮苯的聚酰亚胺)、三苯基甲烷衍生物、含肉桂酸基团的共聚物、苯并螺吡喃或聚乙烯等,或这些材料的组合。比如,一些含苯并螺吡喃的光致变形材料在例如紫外光波长的照射下会产生伸展,从而材料产生变形,在撤去紫外光波长的照射后,该伸展会恢复,从而材料恢复原状。
在一示例性实施例中,可以通过分子结构设计控制光致变形层33的形变方向为所需的形变方向。
2.4)涂覆电致形变材料薄膜,通过构图工艺构图形成微透镜34图案;如图9a和图9b所示。其中,图9a为出光结构层平面示意图,图9b为显示基板截面图,图9b为图9a沿A-A方向剖切得到。
在一示例性实施例中,制备时,所述微透镜34的正投影可以位于对应的子像素的开口区域外,即光致变形层33未被照射时,微透镜34位于对应的子像素的开口区域外。但不限于,制备时,所述微透镜34的正投影可以位于对应的子像素的开口区域内。
所述电致形变材料可在电场或磁场方向发生形变,从而改变焦距。
在一示例性实施例中,所述微透镜34可以连接光致变形层33远离所述绝缘层32的一端,从而使得光致变形层33变形时,可以直接带动微透镜34位移到预设位置。但不限于此,光致变形层33可以变形时,带动第一驱动电极、第二驱动电极至少之一,从而带动微透镜34位移到预设位置。
在一示例性实施例中,在平行于所述基底10的平面上,所述微透镜34的正投影与所述第一附着电极段311的正投影存在交叠。比如,所述微透镜34的正投影可以位于所述第一附着电极段311的正投影内,或者,所述第一附着电极段311的正投影可以位于所述微透镜34的正投影内,或者,所述第一附着电极段311的正投影可以部分位于所述微透镜34的正投影内,部分位于所述微透镜34的正投影外。微透镜34可以设置在第一附着电极段311远离所述基底10一侧的表面。本实施例中,第一驱动电极和第二驱动电极之间只有微透镜,相比第一驱动电极和第二驱动电极距离较远(比如第二驱动电极设置在盖板表面)的方案,对微透镜控制更为精确。
在一示例性实施例中,所述电致形变材料可以但不限于下述至少之一或其组合:聚偏氟乙烯(PVDF)、聚氨酯。
2.5)对所述绝缘层32进行刻蚀,形成多个过孔41,所述过孔41暴露出连接电极40,如图10a和图10b所示。其中,图10a为出光结构层平面示意图,图10b为显示基板截面图,图6b为图6a沿A-A方向剖切得到。
连接电极40可以连接到其他膜层中的连接引线,以实现加载电压至第二驱动电极。比如,可以连接到设置在显示结构层和出光结构层之间的连接引线层(图中未示出),但不限于此。
所述绝缘层32可以设置有多个过孔,比如,三个过孔,所述过孔可以暴露连接电极40,便于将第二驱动电极引出,以加载电压至第二驱动电极。所述过孔的正投影可以位于所述第一固定电极313的内环的正投影内。
在一示例性实施例中,可以在步骤2.2中形成所述过孔。
2.6)沉积第二柔性透明导电薄膜,构图形成形成第二驱动电极35图案;如图11a和图11b所示。其中,图11a为出光结构层平面示意图,图11b为显示基板截面图,图11b为图11a沿A-A方向剖切得到。
在一示例性实施例中,所述第二驱动电极35可以包括第二附着电极段351、第二牵引电极段352和第二固定电极段353,第二牵引电极段352的第一端电连接第二附着电极段351,第二端电连接第二固定电极段353;所述第二附着电极段351可以覆盖在所述微透镜34远离所述基底10一侧的表面,在平行于所述基底10的平面上,所述第二附着电极段351的正投影可以位于所述微透镜34的正投影之内,第二附着电极段351和第一附着电极段311可以被微透镜34隔绝,彼此绝缘。所述第二牵引电极段352的延伸方向可以与所述光致变形层33的延伸方向一致;所述第二牵引电极段352的正投影与所述光致变形层33的正投影存在交叠。第一牵引电极段312和第二牵引段352可以被光致变形层33隔绝,彼此绝缘。在一示例性实施例中,所述第二牵引电极段352的正投影可以位于所述光致变形层33的正投影内,从而实现第一牵引电极段312和第二牵引段352彼此绝缘。在另一实施例中,所述第一牵引电极段312的正投影可以位于所述光致变形层33的正投影内,实现第一牵引电极段312和第二牵引电极段352彼此绝缘,在另一实施例中,光致变形层33的正投影与所述第二牵引电极段352的正投影可以重合或大致重合。所述第二牵引电极段352可以附着在光致变形层33远离所述基底10一侧的表面,在光致变形层33变形时被牵引,同步牵引第二附着电极段351。
在一示例性实施例中,所述第二附着电极段351在平行于所述基底10的平面上的截面可以是圆形,但不限于此,可以是其他形状。
在一示例性实施例中,所述第二柔性透明导电薄膜可以为ITO或者PEDOT:PSS等。
在一示例性实施例中,所述第一驱动电极和所述第二驱动电极可以通过金属纳米线生长成型。
2.7)涂覆隔垫柱薄膜,构图形成隔垫柱36图案,涂覆封框胶37,使用盖板38进行对盒封装。如图12所示。所述微透镜结构阵列封装在所述封框胶37围绕的区域中。隔垫柱36位于封框胶37靠近所述微透镜阵列一侧。在另一实施例中,可以在盖板38上涂覆封框胶后再进行对盒封装。所述盖板38可以是玻璃盖板。所述隔垫柱薄膜可以采用聚酰亚胺、亚克力或聚对苯二甲酸乙二醇酯等,所述封框胶可以是紫外固化胶等。
本实施例提供的显示基板,可以通过微透镜的位置切换实现不同显示模式,另外,可以通过改变微透镜的焦距实现三维光场显示。
本公开实施例提供一种显示基板的制备方法,包括:
在基底上形成显示结构层;所述显示结构层包括多个像素,所述像素包括多个子像素;
在所述显示结构层远离所述基底一侧形成出光结构层,所述出光结构层包括微透镜结构阵列,所述微透镜结构阵列包括多个微透镜结构,所述微透镜结构包括第一驱动电极、第二驱动电极以及设置在所述第一驱动电极和所述第二驱动电极之间的微透镜,所述微透镜设置为在所述第一驱动电极和第二驱动电极的控制下改变焦距。
在一示例性实施例中,所述形成出光结构层包括:
形成第一驱动电极;
在所述第一驱动电极远离所述基底一侧形成绝缘层;
在所述绝缘层远离所述基底一侧形成微透镜和光致变形层;
在所述微透镜和光致变形层远离所述基底一侧形成第二驱动电极。
本公开还提供了一种显示装置,包括前述实施例的显示基板。显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪、头戴式成像装置等任何具有显示功能的产品或部件。
图13为本公开实施例提供的显示基板的控制方法流程图。如图13所示,本公开实施例提供一种上述显示基板的控制方法,包括:
步骤1301,控制加载在所述第一驱动电极和第二驱动电极之间的电压,使所述微透镜呈现与所述电压对应的焦距。
比如,可以根据待显示的图像的景深需求控制第一驱动电极和第二驱动电极之间的电压。
本实施例提供的方案,可以改变微透镜的焦距,控制景深,实现三维显示。
在一示例性实施例中,所述显示基板包括所述光致变形层时,所述控制方法还可以包括,控制所述发光器件发出第一波长范围的光,使所述光致变形层发生第一变形,带动所述微透镜至第一预设位置;以及,控制所述发光器件停止发光,使所述光致变形层发生第二变形,带动所述微透镜至第二预设位置,所述微透镜处于所述第一预设位置和所述第二预设位置其中之一位置时,所述微透镜的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之内,处于其中另一位置时,所述微透镜的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之外。该步骤可以在步骤1301之前执行。
本实施例提供的方案,可以通过微透镜的移动,实现三维光场显示和常规显示的切换。当微透镜位于子像素的开口区域内时,可以实现三维光场显示,当微透镜位于子像素的开口区域外时,可以实现常规显示,可以在两种显示模式中进行切换,既可以通过调控焦距产生不同景深实现真实场景还原,又可以根据需求进行显示模式切换保证观看效果。
虽然本发明所揭露的实施方式如上,但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式,并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员,在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下,可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化,但本发明的专利保护范围,仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (17)

1.一种显示基板,包括:设置在基底上的显示结构层,以及,设置在所述显示结构层出光侧的出光结构层,所述显示结构层包括多个像素,所述像素包括多个子像素,所述出光结构层包括微透镜结构阵列,所述微透镜结构阵列包括多个微透镜结构,所述微透镜结构包括第一驱动电极、第二驱动电极以及设置在所述第一驱动电极和所述第二驱动电极之间的微透镜,所述微透镜设置为在所述第一驱动电极和第二驱动电极的控制下改变焦距。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述微透镜结构与所述子像素一一对应。
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述出光结构层还包括至少一个伸缩结构,所述伸缩结构连接至所述微透镜,所述伸缩结构包括:光致变形层;
所述显示基板还包括与所述光致变形层对应的发光器件,所述发光器件被配置为发出第一波长范围的光并照射到所述光致变形层;
所述光致变形层被配置为:在所述第一波长范围的光照射下发生第一变形,以带动所述微透镜至第一预设位置。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述发光器件与所述像素一一对应。
5.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述显示结构层包括驱动结构层、发光结构层和封装层,所述发光器件设置在所述发光结构层,所述像素包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素,所述发光器件与所述第一颜色子像素、第二颜色子像素同行设置,且位于所述第一颜色子像素、第二颜色子像素之间。
6.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述光致变形层还被配置为在发生所述第一变形后,无所述第一波长范围的光照射时发生第二变形,以带动所述微透镜至第二预设位置。
7.根据权利要求6所述的显示基板,其特征在于,所述微透镜结构与所述子像素一一对应时,所述微透镜处于所述第一预设位置和所述第二预设位置其中之一位置时,所述微透镜的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之内,处于其中另一位置时,所述微透镜的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之外。
8.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述光致变形层设置在所述第二驱动电极靠近所述基底一侧;
所述第二驱动电极包括依次连接的第二附着电极段、第二牵引电极段,其中,所述第二附着电极段设置在所述微透镜远离所述基底一侧的表面,所述第二牵引电极段的延伸方向与所述光致变形层的延伸方向一致;在平行于所述基底的平面上,所述第二附着电极段的正投影位于所述微透镜的正投影内,所述第二牵引电极段的正投影与所述光致变形层的正投影存在交叠;
所述光致变形层还被配置为:发生变形时带动所述第二牵引电极段和第二附着电极段。
9.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,所述光致变形层设置在所述第一驱动电极远离所述基底一侧;
所述第一驱动电极包括依次连接的第一附着电极段、第一牵引电极段;其中,所述第一牵引电极段的延伸方向与所述光致变形层的延伸方向一致;在平行于所述基底的平面上,所述第一附着电极段的正投影与所述微透镜的正投影存在交叠,所述第一牵引电极段的正投影与所述光致变形层的正投影存在交叠,所述光致变形层还被配置为:发生变形时带动所述第一牵引电极段和所述第一附着电极段。
10.根据权利要求9所述的显示基板,其特征在于,所述出光结构层还包括至少一个固定结构,所述固定结构包括:设置在所述第一驱动电极远离所述基底一侧的绝缘层,所述光致变形层远离所述微透镜一端连接所述绝缘层,所述绝缘层的正投影与连接到所述绝缘层的光致变形层对应的发光器件的正投影存在交叠。
11.根据权利要求10所述的显示基板,其特征在于,所述固定结构与多个微透镜结构对应,所述绝缘层设置有多个过孔,所述第二驱动电极还包括与所述第二牵引电极段电连接的第二固定电极段,所述固定结构对应的多个微透镜结构的第二驱动电极的第二固定电极段通过所述过孔引出。
12.根据权利要求11所述的显示基板,其特征在于,所述第一驱动电极还包括与所述第一牵引电极段电连接的第一固定电极段,所述固定结构对应的多个微透镜结构的第一驱动电极的第一固定电极段彼此电连接构成环状电极,在平行于所述基底的平面上,所述过孔的正投影位于所述环状电极的内环的正投影内。
13.根据权利要求10所述的显示基板,其特征在于,所述伸缩结构与所述子像素一一对应,所述固定结构与所述像素一一对应,所述伸缩结构的光致变形层连接到对应的子像素所对应的固定结构的所述绝缘层。
14.根据权利要求3至13任一所述的显示基板,其特征在于,所述出光结构层还包括封框胶,所述微透镜结构阵列封装在所述封框胶围绕的区域中。
15.一种显示装置,包括如权利要求1至14任一所述的显示基板。
16.一种如权利要求1至14任一所述的显示基板的控制方法,包括:
控制加载在所述第一驱动电极和第二驱动电极之间的电压,使所述微透镜呈现与所述电压对应的焦距。
17.根据权利要求16所述的显示基板的控制方法,其特征在于,所述显示基板为权利要求3至14任一所述的显示基板时,所述控制方法还包括,控制所述发光器件发出第一波长范围的光,使所述光致变形层发生第一变形,带动所述微透镜至第一预设位置;以及,控制所述发光器件停止发光,使所述光致变形层发生第二变形,带动所述微透镜至第二预设位置,所述微透镜处于所述第一预设位置和所述第二预设位置其中之一位置时,所述微透镜的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之内,处于其中另一位置时,所述微透镜的正投影位于所述子像素的开口区域的正投影之外。
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CN113703187A (zh) * 2021-08-30 2021-11-26 北京京东方技术开发有限公司 一种显示装置及显示方法
WO2023142287A1 (en) * 2022-01-29 2023-08-03 Boe Technology Group Co., Ltd. Display substrate and display apparatus

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