CN112986693A - 电容基线更新方法、芯片以及电容检测装置 - Google Patents

电容基线更新方法、芯片以及电容检测装置 Download PDF

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CN112986693A CN202110169073.3A CN202110169073A CN112986693A CN 112986693 A CN112986693 A CN 112986693A CN 202110169073 A CN202110169073 A CN 202110169073A CN 112986693 A CN112986693 A CN 112986693A
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Abstract

本申请实施例提供了一种电容基线更新方法、芯片以及电容检测装置。该方法应用于电容检测装置中，该方法包括：根据电容检测装置输出的第n帧原始电容数据和第(n‑M)帧原始电容数据，确定第n帧原始电容数据对应的特征值；计算第n帧原始电容数据与电容检测装置输出的第(n‑1)帧原始电容数据对应的基线值之间的差值，得到电容变化量；当第n帧原始电容数据对应的特征值小于第一阈值Thr1，且电容变化量小于接近阈值Thron时，将第n帧原始电容数据或第(n‑1)帧原始电容数据，确定为第n帧原始电容数据对应的基线值。本申请实施例提供的方法和装置可以对电容基线值进行实时有效的更新。

Description

电容基线更新方法、芯片以及电容检测装置
技术领域
本申请实施例涉及电容检测技术领域，尤其涉及一种电容基线更新方法、芯片以及电容检测装置。
背景技术
电容检测装置能够根据电容值的变化量来识别是否有人体或其他导体靠近。图1所示为一种典型的电容检测装置的结构示意图，该电容检测装置包括：传感器(sensor)101，放大器(amplifier，AMP)102以及模数转换器(Analog Digital Converter，ADC)103。当有人体或其他导体靠近时，传感器101对系统地GND的电容Cx的电容值会发生改变，传感器101可以将检测到的电容信号输出至放大器102，放大后的电容信号输入至模数转换器103，可以得到原始电容信号RawData。通过计算原始电容信号RawData与基线信号Ref之间的差值，可以得到电容变化信号Diff；将电容变化信号Diff的信号值与预先设定的阈值进行比较，能够识别出是否有人体或其他导体靠近或远离该电容检测装置。其中，基线信号Ref为该电容检测装置在没有人体或其他导体外加输入的情况下输出的信号。
图2所示为上述典型的电容检测装置输出的原始电容信号RawData的波动示意图；可以看到，在t1时刻，原始电容信号RawData的信号值等于基线信号Ref的信号值，表示未有人体或其他导体正在靠近该电容检测装置；在t2时刻，原始电容信号RawData的信号值达到接近阈值ONth，表示有人体或其他导体已经靠近该电容检测装置；在t3时刻，原始电容信号RawData的信号值下降至远离阈值OFFth，表示人体或其他导体正在远离该电容检测装置。
但是，由于在实际应用中，环境温度或噪声干扰等因素会导致基线漂移，因此，若未对基线信号Ref的信号值进行实时更新，则容易导致电容变化信号Diff的信号值相对于实际操作所产生的电容变化量存在偏差，进而导致事件的误识别或漏识别；所述事件包括：人体或其他导体靠近该电容检测装置，人体或其他导体远离该电容检测装置。
现有技术中，一种常用的基线更新方法为一阶磁滞滤波法，该方法通过公式可以描述为：
Ref(n)＝Coefx*Ref(n-1)+(1-Coefx)*RawData(n)
其中，Ref(n)为基线信号Ref当前第n帧的基线值，Ref(n-1)为基线信号Ref第(n-1)帧的基线值，RawData(n)为原始电容信号RawData当前第n帧的原始电容数据，Coefx为滤波系数。滤波系数Coefx的大小能够影响Ref(n)的平稳度和延迟响应，并且通过调整滤波系数Coefx的大小使得平稳度越高时，则延迟响应越大；使得延迟响应越小时，则平稳度越低。
上述基线更新方法通过对本次采样值RawData(n)和上次输出值Ref(n-1)进行加权，将原始电容信号RawData的部分数据更新到基线信号Ref中。然而，这种方法会将原始电容信号RawData中的有效数据和噪声均部分更新至基线信号Ref中，导致计算得到的电容变化信号Diff存在噪声抖动，若想要减小基线信号Ref的抖动，则会造成更大的延迟响应，所以上述基线更新方法难以适应对噪声干扰和延迟响应较为敏感的应用场景。
发明内容
本申请实施例提供一种电容基线更新方法、芯片以及电容检测装置，用以对电容基线值进行实时有效的更新，降低噪声抖动和延迟响应对电容检测性能的影响。
第一方面，本申请实施例提供一种电容基线更新方法，应用于电容检测装置中，该方法包括：
根据所述电容检测装置输出的第n帧原始电容数据RawData(n)和第(n-M)帧原始电容数据RawData(n-M)，确定所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)；所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)用于指示导体在靠近或远离所述电容检测装置过程中的不同阶段；
计算所述第n帧原始电容数据RawData(n)与所述电容检测装置输出的第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)之间的差值，得到电容变化量Diff(n)；
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)小于接近阈值Thron时，将所述第n帧原始电容数据RawData(n)或所述第(n-1)帧原始电容数据RawData(n-1)，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；所述接近阈值Thron用于确定所述导体是否已经靠近所述电容检测装置；所述第一阈值Thr1用于确定所述电容检测装置上是否有所述导体的外加输入；
其中，n为大于2的正整数，M为大于或等于1的正整数，并且M<n。
根据第n帧原始电容数据RawData(n)和第(n-M)帧原始电容数据RawData(n-M)设置第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)，并将特征值Feature(n)的大小与第一阈值的大小进行比较，可以判断出电容检测装置上是否有人体或其他导体的外加输入。当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于第一阈值Thr1，且电容变化量Diff(n)小于接近阈值Thron时，表示该电容检测装置上没有人体或其他导体的外加输入，即该电容检测装置处于对空的状态，在这一阶段内设置第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)等于第n帧原始电容数据RawData(n)或第(n-1)帧原始电容数据RawData(n-1)，能够抵消电容变化信号Diff中的部分噪声，并使得电容变化信号Diff能够实时追踪原始电容信号RawData的波动变化，从而降低噪声抖动和延迟响应对电容检测性能的影响。
可选地，当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)小于所述接近阈值Thron时，根据所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。
可选地，当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于第二阈值Thr2，并小于或等于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，根据所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)、所述第(n-1)帧原始电容数据对应的特征值Feature(n-1)、所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)以及所述电容检测装置输出的第(n-2)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-2)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；所述第二阈值Thr2用于确定所述导体是否逐渐脱离与所述电容检测装置的接触；
其中，所述第二阈值Thr2小于所述第一阈值Thr1。
可选地，当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于所述第二阈值Thr2或大于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，根据所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。
可选地，所述根据所述电容检测装置输出的第n帧原始电容数据RawData(n)和第(n-M)帧原始电容数据RawData(n-M)，确定所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)，进一步包括：
将所述第n帧原始电容数据RawData(n)与所述第(n-M)帧原始电容数据RawData(n-M)之间的差值，确定为所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)。
可选地，所述当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)小于接近阈值Thron时，将所述第n帧原始电容数据RawData(n)或所述第(n-1)帧原始电容数据RawData(n-1)，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：
将所述第n帧原始电容数据RawData(n)和所述第(n-1)帧原始电容数据RawData(n-1)中的最小值，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。
可选地，所述当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)小于所述接近阈值Thron时，根据所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于所述第一阈值Thr1，并小于第三阈值Thr3，且所述电容变化量Diff(n)小于所述接近阈值Thron时，将所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与第一修正值Corr1之和，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于所述第三阈值Thr3，且所述电容变化量Diff(n)小于所述接近阈值Thron时，将所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与第二修正值Corr2之和，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；所述第三阈值Thr3用于确定所述导体正在向所述电容检测装置靠近的程度；
所述第一修正值Corr1和所述第二修正值Corr2分别用于表征相应阶段内由环境因素导致的基线值的偏移量；
其中，所述第三阈值Thr3大于所述第一阈值Thr1。
可选地，所述当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于第二阈值Thr2，并小于或等于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，根据所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)、所述第(n-1)帧原始电容数据对应的特征值Feature(n-1)、所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)以及所述电容检测装置输出的第(n-2)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-2)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：
计算所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)与所述第(n-1)帧原始电容数据对应的特征值Feature(n-1)之间的差值，得到第一变化量Diff_Feature(n)；
计算所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与所述第(n-2)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-2)之间的差值，得到第二变化量Diff_Ref(n-1)；
使得所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)满足如下公式：
Figure BDA0002938480670000051
其中，所述第二变化量Diff_Ref(n-1)的值不为零。
可选地，所述当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于所述第二阈值Thr2或大于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，根据所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，将所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与所述第二修正值Corr2之和，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于所述第二阈值Thr2，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，将所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与第三修正值Corr3之和，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；
所述第三修正值Corr3用于表征相应阶段内由环境因素导致的基线值的偏移量。
第二方面，本申请实施例提供一种芯片，包括：处理器和存储器，所述存储器与所述处理器耦合；
所述存储器，用于存储计算机程序指令；
所述处理器，用于调用所述存储器存储的计算机程序指令，使得所述芯片执行如第一方面或第一方面的任一可选方式所述的电容基线更新方法。
第三方面，本申请实施例提供一种电容检测装置，包括如第二方面所述的芯片。
第四方面，本申请实施例提供一种计算机可读存储介质，用于存储计算机程序，所述计算机程序使得计算机执行如第一方面或第一方面的任一可选方式所述的电容基线更新方法。
可以理解的是，上述提供的第二方面所述的芯片、第三方面所述的电容检测装置以及第四方面所述的计算机可读存储介质均用于执行上文所提供的对应的方法，因此，其所能达到的有益效果可参考上文所提供的对应的方法中的有益效果，此处不再赘述。
附图说明
一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定。另外，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。
图1为一种典型的电容检测装置的结构示意图；
图2为图1所示的电容检测装置输出的原始电容信号RawData的波动示意图；
图3为本申请实施例提供的一种电容基线更新方法的示意性框图；
图4为本申请实施例提供的一种导体靠近和远离过程中原始电容信号和特征信号的波动示意图；
图5为本申请实施例提供的一种导体靠近和远离过程中基线信号的更新示意图；
图6为本申请实施例提供的一种导体靠近和远离过程中电容变化信号的波动示意图；
图7为本申请实施例提供的一种芯片结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。
本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。在本申请和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。
还应当理解，除非在本申请的上下文中清楚地说明了指定的顺序，否则可与指定的顺序不同地执行在此描述的处理步骤。也就是说，可以以指定的顺序执行每个步骤、基本上同时执行每个步骤、以相反的顺序执行每个步骤或者以不同的顺序执行每个步骤。
另外，“第一”、“第二”等术语仅用于区别类似的对象，而不能理解为指示或暗示相对重要性，或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
如图3所示，为本申请实施例提供的一种电容基线更新方法的示意性框图。该方法可应用于电容检测装置中，具体包括以下步骤：
步骤S101：根据电容检测装置输出的第n帧原始电容数据RawData(n)和第(n-M)帧原始电容数据RawData(n-M)，确定第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)。
该第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)可以指示导体(人体或其他导体)在靠近或远离该电容检测装置过程中的不同阶段。
步骤S102：计算第n帧原始电容数据RawData(n)与电容检测装置输出的第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)之间的差值，得到电容变化量Diff(n)。
通过设置电容变化量Diff(n)＝RawData(n)–Ref(n-1)，则可以实现利用电容变化量Diff(n)对第n帧原始电容数据对应的电容变化量进行预判，从而确定导体的移动状态；具体的，移动状态可以包括：已靠近该电容检测装置(已靠近状态)和未靠近该电容检测装置(未靠近状态)。其中，第n帧原始电容数据对应的电容变化量为第n帧原始电容数据RawData(n)与其对应的基线值Ref(n)之间的差值，即可以为RawData(n)-Ref(n)，可用于表示当前由人体或其他导体引起的电容变化量。
步骤S103a：当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于第一阈值Thr1，且电容变化量Diff(n)小于接近阈值Thron时，将第n帧原始电容数据RawData(n)或第(n-1)帧原始电容数据RawData(n-1)，确定为第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。其中，接近阈值Thron可用于确定该导体是否已经靠近该电容检测装置；第一阈值Thr1可用于确定该电容检测装置上是否有该导体的外加输入。
通过将电容变化量Diff(n)与接近阈值Thron进行比较，则可以判定该导体是否已经靠近该电容检测装置，即判定该导体的移动状态；具体的，若电容变化量Diff(n)达到接近阈值Thron，即大于或等于接近阈值Thron，则可以确定该导体处于已靠近状态；若电容变化量Diff(n)未达到接近阈值Thron，即小于接近阈值Thron，则可以确定该导体处于未靠近状态。另外，接近阈值Thron的大小可以通过基于训练数据的机器学习方法生成，训练数据可以包括但不限于：不同种类的导体以不同程度与该电容检测装置接触时对应的电容变化量Diff(n)，以及不同种类的导体与该电容检测装置之间存在不同距离时对应的电容变化量Diff(n)；另外，接近阈值Thron的大小还可以根据后续用户的实际应用进行相应的调整，从而更加准确地分辨是否有人体或其他导体已经靠近该电容检测装置，更好地适应不同的应用场景。
步骤S103b：当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于第一阈值Thr1，且电容变化量Diff(n)小于接近阈值Thron时，根据第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。
步骤S103c：当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于第二阈值Thr2，并小于或等于第一阈值Thr1，且电容变化量Diff(n)大于或等于接近阈值Thron时，根据第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)、第(n-1)帧原始电容数据对应的特征值Feature(n-1)、第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)以及电容检测装置输出的第(n-2)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-2)，确定第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。
其中，第二阈值Thr2小于第一阈值Thr1，并且第二阈值Thr2可用于确定该导体是否逐渐脱离与该电容检测装置的接触，具体的，可用于进一步确定该导体在已靠近状态下的移动趋势是保持与该电容检测装置的稳定接触，还是开始从该电容检测装置移开。
步骤S103d：当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于第二阈值Thr2或大于第一阈值Thr1，且电容变化量Diff(n)大于或等于接近阈值Thron时，根据第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。
以上，n为大于2的正整数，M为大于或等于1的正整数，并且M<n。当n等于1或2时，可以设置Ref(1)或Ref(2)的值等于该电容检测装置在没有人体或其他导体外加输入的情况下输出的原始电容信号的信号值。
具体的，第一阈值Thr1的设定也可以通过基于训练数据的机器学习方法生成，训练数据可以包括但不限于：该电容检测装置上未有人体或其他导体的外加输入时的电容变化量，有人体或其他导体开始靠近该电容检测装置时的电容变化量，人体或其他导体开始远离该电容检测装置时的电容变化量。另外，第二阈值Thr2可以设定为一个负数值，其绝对值的大小可以为第一阈值Thr1的2～3倍。
根据第n帧原始电容数据RawData(n)和第(n-M)帧原始电容数据RawData(n-M)设置特征值Feature(n)，以及将特征值Feature(n)的大小与预设阈值的大小进行比较，可以将人体或其他导体靠近或远离该电容检测装置的过程划分为不同的阶段，根据各个阶段内导体不同的移动状态(已靠近/未靠近)和移动趋势(靠近、保持接触、离开)，设置相应的电容基线更新方式，能够实现对基线值进行实时、有效的更新。
具体的，当Feature(n)<Thr1且Diff(n)<Thron时，可以表示该电容检测装置上未有导体引起的外加输入，包括：未有导体开始靠近该电容检测装置，导体已经远离该电容检测装置；这一阶段内原始电容数据RawData(n)仅指示由环境噪声所引起的电容变化量，所以这一阶段可称为噪声阶段。
当Feature(n)≥Thr1且Diff(n)<Thron时，可以表示有导体正在缓慢/快速地向该电容检测装置靠近，但该导体仍处于未靠近状态，所以这一阶段可称为预靠近阶段。
当Thr2≤Feature(n)≤Thr1且Diff(n)≥Thron时，可以表示有导体保持与该电容检测装置的稳定接触，并且已经达到最靠近的状态；当Feature(n)>Thr1或Feature(n)<Thr2，且Diff(n)≥Thron时，表示该导体处于已靠近状态，并且正在进一步向该电容检测装置靠近，或者逐渐脱离与该电容检测装置的接触，即开始从该电容检测装置离开，这两个阶段可称为靠近阶段。
作为一种可能的实施方式，上述根据电容检测装置输出的第n帧原始电容数据RawData(n)和第(n-M)帧原始电容数据RawData(n-M)，确定第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)，进一步包括：将第n帧原始电容数据RawData(n)与第(n-M)帧原始电容数据RawData(n-M)之间的差值，确定为第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)。
因此，可以设置Feature(n)＝RawData(n)-RawData(n-M)。其中，M的值可以根据实际的应用场景和所需达到的应用目标进行设定，最小可以为1，并且M的值越小，电容基线更新的实时性越好，但同时也会导致计算量越大。
作为一种可能的实施方式，当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于第一阈值Thr1，且电容变化量Diff(n)小于接近阈值Thron时，将第n帧原始电容数据RawData(n)或第(n-1)帧原始电容数据RawData(n-1)，确定为第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：将第n帧原始电容数据RawData(n)和第(n-1)帧原始电容数据RawData(n-1)中的最小值，确定为第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。
因此，在噪声阶段，可以设置Ref(n)＝min{RawData(n)，RawData(n-1)}。基于这种基线更新方式，可以使得在这一阶段内电容变化信号Diff中的噪声只有单向变化量，从而有效减少电容变化信号Diff中反向变化的噪声，相比于现有技术中常用的一阶磁滞滤波法，这一阶段内电容变化信号Diff中的噪声方差能够减小一半，并且不会损耗电容变化信号Diff中有效的信号分量，此外也可以使基线信号Ref能够实时追踪原始电容信号RawData的波动变化，从而降低噪声抖动和延迟响应对电容检测性能的影响。
作为一种可能的实施方式，当第n帧原始电容数据对应的特征值(n)大于或等于第一阈值Thr1，且电容变化量Diff(n)小于接近阈值Thron时，根据第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：
当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于第一阈值Thr1，并小于第三阈值Thr3，且电容变化量Diff(n)小于接近阈值Thron时，将第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与第一修正值Corr1之和，确定为第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于第三阈值Thr3，且电容变化量Diff(n)小于接近阈值Thron时，将第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与第二修正值Corr2之和，确定为第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。其中，第三阈值Thr3可用于确定导体正在向该电容检测装置靠近的程度，并且第三阈值Thr3大于第一阈值Thr1；第一修正值Corr1和第二修正值Corr2可分别用于表征相应阶段内由环境因素导致的基线值的偏移量。
由此，在预靠近阶段内，基于这一基线更新方式，可以减少由温度等环境因素导致的基线漂移噪声，提高电容变化信号Diff的信噪比，并且能够实现对基线信号Ref进行实时更新，从而降低噪声抖动和延迟响应对电容检测性能的影响。
因而，可以将预靠近阶段进一步划分为两个子阶段，并且在这两个子阶段内，人体或其他导体靠近该电容检测装置的程度不同；具体的，当Thr1≤Feature(n)<Thr3，Diff(n)<Thron时，设置Ref(n)＝Ref(n-1)+Corr1，这一阶段可称为第一预靠近子阶段；当Feature(n)≥Thr3，Diff(n)<Thron时，设置Ref(n)＝Ref(n-1)+Corr2，这一阶段可称为第二预靠近子阶段。第二预靠近子阶段比第一预靠近子阶段的靠近程度更高。具体的，第一修正值Corr1的大小可以设定在接近阈值Thron的20％左右，第二修正值Corr2可以设定为与第一修正值Corr1相等，或者略小于第一修正值Corr1。第三阈值Thr3可以设置为第二阈值Thr2的相反数，即为第一阈值Thr1的2～3倍。
作为一种可能的实施方式，当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于第二阈值Thr2，并小于或等于第一阈值Thr1，且电容变化量Diff(n)大于或等于接近阈值Thron时，根据第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)、第(n-1)帧原始电容数据对应的特征值Feature(n-1)、第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)以及电容检测装置输出的第(n-2)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-2)，确定第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：
计算第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)与第(n-1)帧原始电容数据对应的特征值Feature(n-1)之间的差值，得到第一变化量Diff_Feature(n)；计算第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与电容检测装置输出的第(n-2)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-2)之间的差值，得到第二变化量Diff_Ref(n-1)；使得第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)满足公式：
Figure BDA0002938480670000111
其中，第二变化量Diff_Ref(n-1)≠0。若在这一阶段内，存在Ref(n-1)与Ref(n-2)相等，则可以设置第二变化量Diff_Ref(n-1)为一个非零常数值，例如，可以设置为与前面某一帧非零的第二变化量Diff_Ref(n-1)的数值相等。
在这一阶段内，导体稳定地保持与该电容检测装置的接触，并且处于最靠近的状态。由于导体一般存在一定程度的晃动或者与该电容检测装置中的传感器存在温度差，所以容易导致原始电容信号RawData发生异常的抖动变化，进而使得电容变化信号Diff中存在明显的噪声分量，影响电容检测结果的准确度，而采用上述方式对电容基线值进行实时更新，能够在导体持续稳定地接触该电容检测装置的过程中将原始电容信号RawData中的抖动变化量提取出来，并叠加至基线信号Ref中，从而减少电容变化信号Diff中的低频噪声，有效降低事件误识别或漏识别的概率。
作为一种可能的实施方式，当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于第二阈值Thr2或大于第一阈值Thr1，且电容变化量Diff(n)大于或等于接近阈值Thron时，根据第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：
当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于第一阈值Thr1，且电容变化量Diff(n)大于或等于接近阈值Thron时，将第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与第二修正值Corr2之和，确定为第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；当第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于第二阈值Thr2，且电容变化量Diff(n)大于或等于接近阈值Thron时，将第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与第三修正值Corr3之和，确定为第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。
其中，第三修正值Corr3可以表征相应阶段内由环境因素导致的基线值的偏移量；具体的，第三修正值Corr3的大小可以根据实际的应用场景进行设定，可以与第一修正值Corr1和第二修正值Corr2相等，或者略小于第一修正值Corr1。
因此，这一阶段可以被进一步分为两个子阶段，当Feature(n)>Thr1，Diff(n)≥Thron时，表征导体处于已靠近状态，并且正在进一步向该电容检测装置靠近，设置Ref(n)＝Ref(n-1)+Corr2，能够保证基线信号Ref在本阶段的信号值与上一阶段(第二预靠近子阶段)的信号值连续。当Feature(n)<Thr2，Diff(n)≥Thron时，表征导体处于已靠近状态，但是逐渐脱离与该电容检测装置的接触，即开始从该电容检测装置离开，设置Ref(n)＝Ref(n-1)+Corr3，能够使得基线信号Ref跟随原始电容信号RawData进行实时迅速的更新。
在这一阶段内，基于上述基线更新方式，可以减少由温度等环境因素导致的基线漂移噪声，提高电容变化信号Diff的信噪比，并且使基线信号Ref能够实时迅速地跟踪原始电容信号RawData的变化，降低噪声抖动和延迟响应对电容检测性能的影响。
如图4所示，为本申请实施例提供的一种导体靠近和远离过程中原始电容信号和特征信号的波动示意图。可以看到，通过比较Feature(n)与第一阈值Thr1、第二阈值Thr2、第三阈值Thr3的大小，可以将导体靠近和远离电容检测装置的过程划分为不同的阶段，包括噪声阶段(T1和T4)、预靠近阶段(T2)和靠近阶段(T3)，其中，噪声阶段的T1时段内，该电容检测装置上未有导体的外加输入，噪声阶段的T4时段内，导体已经远离该电容检测装置；并且，可以根据不同的靠近程度将预靠近阶段进一步划分为两个子阶段，以及根据不同的移动趋势将靠近阶段进一步划分为三个子阶段。另外，可以看到，M＝10对应的特征信号Feature相比于M＝20对应的特征信号Feature具有更小的延迟响应。
如图5所示，为本申请实施例提供的一种导体靠近和远离过程中基线信号的更新示意图；其中，在导体靠近和远离电容检测装置的各个阶段内，分别采用了上述实施例提供的电容基线更新方法。可以看到，在T1时段(噪声阶段)，该电容检测装置上未有人体或其他导体的外加输入，基线信号Ref能够实时更新以跟踪原始电容信号RawData的变化；在T2时段(预靠近阶段)，有人体或其他导体正在靠近该电容检测装置，但仍然处于未靠近状态，基线信号Ref能够及时跟踪原始电容信号RawData的上升变化并实时更新；在T3时段(靠近阶段)，当有人体或其他导体处于已靠近状态，并且保持与该电容检测装置之间的稳定接触时，基线信号Ref也能够实时跟踪原始电容信号RawData的抖动变化，有效减少电容变化信号Diff中的低频噪声分量，提高电容变化信号Diff的信噪比，从而提升电容检测结果的准确度，当有人体或其他导体处于已靠近状态，并且进一步靠近该电容检测装置或者逐渐脱离与该电容检测装置的接触时，基线信号Ref能够根据原始电容信号RawData的变化进行实时更新；在T4时段(噪声阶段)，人体或其他导体已经远离该电容检测装置，基线信号Ref能够迅速更新并迅速恢复至常规的基线水平，从而减小延迟响应对后续电容检测的灵敏度和准确度的影响。
如图6所示，为本申请实施例提供的一种导体靠近和远离过程中电容变化信号的波动示意图，其中，在导体快速/缓慢靠近和远离电容检测装置的各个阶段内，分别采用了上述实施例提供的电容基线更新方法。可以看到，在人体或其他导体快速靠近远离和缓慢靠近远离电容检测装置的过程中，电容变化信号均能够迅速达到目标水平，并且实时准确地反映出人体或其他导体是否靠近该电容检测装置，提高了电容检测的灵敏度和准确度。
在实际应用中，往往需要实时、准确地识别人体或其他导体缓慢靠近并快速远离的过程，因此，本申请实施例提供的电容基线更新方法可以很好地适应在这一应用场景。
需要说明的是，为了适应不同阈值的大小，可以对第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)进行相应的比例系数缩放，例如，可以设置：Feature(n)＝[RawData(n)–RawData(n-M)]*a，其中a可以为大于0的常数，进而使得Feature(n)的值与预设阈值的大小相互对应，以有效区分导体在靠近或远离电容检测装置过程中的不同阶段，并通过针对不同阶段设置不同的基线更新方法，实时、有效地更新基线值，以减少噪声抖动和延迟响应对电容检测性能的影响，提高电容检测结果的准确度，降低事件误识别或漏识别的概率。
本申请实施例提供的电容基线更新方法可以适应各种需要精确检测电容的场景，包括佩戴检测，触控检测和SAR(Specific Absorption Rate，特定吸收率)应用等，例如，在蓝牙耳机(如TWS耳机)的入耳检测应用中，准确识别用户是否已佩戴该蓝牙耳机。
如图7所示，为本申请实施例提供的一种芯片结构示意图。芯片20包括存储器201和处理器202；其中，存储器201可以存储计算机程序指令，处理器202可以调用存储器201存储的计算机程序指令，使得芯片20可以执行如上述第一方面或第一方面的任意一种可能的实施方式所提供的电容基线更新方法。
具体的，存储器201可以是易失性存储器(Volatile Memory，VM)，如随机存取存储器(Random Access Memory，RAM)等，或者非易失性存储器(Non-Volatile Memory，NVM)，如硬盘(Hard Disk Drive，HDD)、固态硬盘(Solid State Drive，SSD)等，又或者是电路或者其他任意能够实现存储功能的装置。存储器201是可以存储或携带具有指令或数据结构形式的期望的程序代码并能够由计算机存取的任何其他介质，并且不限于此。
处理器202可以是通用处理器(如微处理器)、数字信号处理器、专用集成电路、晶体管逻辑器件、现场可编程门阵列或者其他可编程逻辑器件，并且不限于此，可以实现或执行本申请实施例提供的各方法、步骤以及逻辑框图。结合本申请实施例所提供的各方法、步骤可以直接体现为硬件处理器执行完成，或者用处理器中的硬件及软件模块组合执行完成。
芯片20还可以称为系统芯片，系统级芯片，芯片系统或片上系统芯片等。
第三方面，本申请实施例提供一种电容检测装置，包括如上述第二方面所提供的芯片。
该电容检测装置可以执行如上述第一方面或第一方面的任意一种可能的实施方式所提供的电容基线更新方法。
第四方面，本申请实施例提供一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质可以存储计算机程序，该计算机程序可以使得计算机执行如上述第一方面或第一方面的任意一种可能的实施方式所提供的电容基线更新方法。
该计算机可读存储介质可以是计算机可以存取的任何可用介质，或者是一个或多个可用介质集成的服务器、数据中心等数据存储设备。该可用介质可以是磁性介质(如硬盘、软盘、磁带等)、半导体介质(如固态硬盘等)，或者光介质(如数字视频光盘(DigitalVideo Disk，DVD)等)，并且不限于此。
本申请各实施例提供的方法可以全部或部分地通过软件、硬件、固件或者其任意组合来实现。当通过软件实现时，可以全部或部分地以计算机程序产品的形式实现，该计算机程序产品包括一个或多个计算机指令。在计算机上加载和执行该计算机指令时，可以全部或部分地产生按照本申请实施例所述的流程或功能，该计算机可以是通用计算机、专用计算机、计算机网络、网络设备、用户设备或者其他可编程装置，该计算机指令可以存储在计算机可读存储介质中，或者从一个计算机可读存储介质向另一个计算机可读存储介质传输，例如，该计算机指令可以从一个计算机、服务器、网站站点或数据中心通过有线(如光线、同轴电缆、数字用户线(Digital Subscriber Line，DSL)等)或者无线(如微波、毫米波、红外等)的方式向另一个计算机、服务器、网站站点或数据中心进行传输。
应理解，本申请实施例中的具体实施方式仅是为了帮助本领域技术人员更好地理解本申请实施例，而非限制本申请实施例的范围，本领域技术人员可以在上述实施例的基础上进行各种改进和变形，而这些改进或者变形均落入本申请的保护范围。

Claims (12)

1.一种电容基线更新方法，其特征在于，所述方法应用于电容检测装置中，所述方法包括：
根据所述电容检测装置输出的第n帧原始电容数据RawData(n)和第(n-M)帧原始电容数据RawData(n-M)，确定所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)；所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)用于指示导体在靠近或远离所述电容检测装置过程中的不同阶段；
计算所述第n帧原始电容数据RawData(n)与所述电容检测装置输出的第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)之间的差值，得到电容变化量Diff(n)；
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)小于接近阈值Thron时，将所述第n帧原始电容数据RawData(n)或所述第(n-1)帧原始电容数据RawData(n-1)，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；所述接近阈值Thron用于确定所述导体是否已经靠近所述电容检测装置；所述第一阈值Thr1用于确定所述电容检测装置上是否有所述导体的外加输入；
其中，n为大于2的正整数，M为大于或等于1的正整数，并且M<n。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括：
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)小于所述接近阈值Thron时，根据所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，进一步包括：
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于第二阈值Thr2，并小于或等于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，根据所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)、所述第(n-1)帧原始电容数据对应的特征值Feature(n-1)、所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)以及所述电容检测装置输出的第(n-2)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-2)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；所述第二阈值Thr2用于确定所述导体是否逐渐脱离与所述电容检测装置的接触；
其中，所述第二阈值Thr2小于所述第一阈值Thr1。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，进一步包括：
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于所述第二阈值Thr2或大于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，根据所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。
5.根据权利要求1至4任一项所述的方法，其特征在于，所述根据所述电容检测装置输出的第n帧原始电容数据RawData(n)和第(n-M)帧原始电容数据RawData(n-M)，确定所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)，进一步包括：
将所述第n帧原始电容数据RawData(n)与所述第(n-M)帧原始电容数据RawData(n-M)之间的差值，确定为所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)小于接近阈值Thron时，将所述第n帧原始电容数据RawData(n)或所述第(n-1)帧原始电容数据RawData(n-1)，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：
将所述第n帧原始电容数据RawData(n)和所述第(n-1)帧原始电容数据RawData(n-1)中的最小值，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)小于所述接近阈值Thron时，根据所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于所述第一阈值Thr1，并小于第三阈值Thr3，且所述电容变化量Diff(n)小于所述接近阈值Thron时，将所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与第一修正值Corr1之和，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于所述第三阈值Thr3，且所述电容变化量Diff(n)小于所述接近阈值Thron时，将所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与第二修正值Corr2之和，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；所述第三阈值Thr3用于确定所述导体正在向所述电容检测装置靠近的程度；
所述第一修正值Corr1和所述第二修正值Corr2分别用于表征相应阶段内由环境因素导致的基线值的偏移量；
其中，所述第三阈值Thr3大于所述第一阈值Thr1。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于或等于第二阈值Thr2，并小于或等于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，根据所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)、所述第(n-1)帧原始电容数据对应的特征值Feature(n-1)、所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)以及所述电容检测装置输出的第(n-2)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-2)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：
计算所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)与所述第(n-1)帧原始电容数据对应的特征值Feature(n-1)之间的差值，得到第一变化量Diff_Feature(n)；
计算所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与所述第(n-2)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-2)之间的差值，得到第二变化量Diff_Ref(n-1)；
使得所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)满足如下公式：
Figure FDA0002938480660000031
其中，所述第二变化量Diff_Ref(n-1)的值不为零。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于所述第二阈值Thr2或大于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，根据所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)，确定所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)，进一步包括：
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)大于所述第一阈值Thr1，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，将所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与所述第二修正值Corr2之和，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；
当所述第n帧原始电容数据对应的特征值Feature(n)小于所述第二阈值Thr2，且所述电容变化量Diff(n)大于或等于所述接近阈值Thron时，将所述第(n-1)帧原始电容数据对应的基线值Ref(n-1)与第三修正值Corr3之和，确定为所述第n帧原始电容数据对应的基线值Ref(n)；
所述第三修正值Corr3用于表征相应阶段内由环境因素导致的基线值的偏移量。
10.一种芯片，其特征在于，包括：处理器和存储器，所述存储器与所述处理器耦合；
所述存储器，用于存储计算机程序指令；
所述处理器，用于调用所述存储器存储的计算机程序指令，使得所述芯片执行如权利要求1至9任一项所述的电容基线更新方法。
11.一种电容检测装置，其特征在于，包括如权利要求10所述的芯片。
12.一种计算机可读存储介质，其特征在于，用于存储计算机程序，所述计算机程序使得计算机执行如权利要求1至9任一项所述的电容基线更新方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113566852A (zh) * 2021-07-13 2021-10-29 上海艾为电子技术股份有限公司 基线更新、相对状态检测方法和系统、电子设备
CN114002525A (zh) * 2021-10-28 2022-02-01 上海艾为电子技术股份有限公司 基线确定电路和方法、状态检测芯片、电子设备

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101963873A (zh) * 2010-10-08 2011-02-02 展触光电科技股份有限公司 电容式触控面板电容基线值设定及校准方法
CN102855032A (zh) * 2011-06-27 2013-01-02 比亚迪股份有限公司 基线更新方法及触控装置
US20170102800A1 (en) * 2015-10-09 2017-04-13 Synaptics Incorporated Compensating force baseline artifacts in a capacitive sensor
CN107636582A (zh) * 2017-08-01 2018-01-26 深圳市汇顶科技股份有限公司 确定触摸位置的方法和触摸控制芯片
CN109238314A (zh) * 2018-07-17 2019-01-18 上海阿柚信息科技有限公司 用于接近感应的检测方法及装置
CN109601015A (zh) * 2017-07-31 2019-04-09 深圳市汇顶科技股份有限公司 触摸屏基准确定方法、装置、触摸屏及电子终端
US20200133412A1 (en) * 2018-10-30 2020-04-30 Synaptics Incorporated Baseline update for input object detection
CN111190507A (zh) * 2018-11-14 2020-05-22 阿尔派株式会社 具备触摸面板的电子装置及基线值的更新方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101963873A (zh) * 2010-10-08 2011-02-02 展触光电科技股份有限公司 电容式触控面板电容基线值设定及校准方法
CN102855032A (zh) * 2011-06-27 2013-01-02 比亚迪股份有限公司 基线更新方法及触控装置
US20170102800A1 (en) * 2015-10-09 2017-04-13 Synaptics Incorporated Compensating force baseline artifacts in a capacitive sensor
CN109601015A (zh) * 2017-07-31 2019-04-09 深圳市汇顶科技股份有限公司 触摸屏基准确定方法、装置、触摸屏及电子终端
CN107636582A (zh) * 2017-08-01 2018-01-26 深圳市汇顶科技股份有限公司 确定触摸位置的方法和触摸控制芯片
CN109238314A (zh) * 2018-07-17 2019-01-18 上海阿柚信息科技有限公司 用于接近感应的检测方法及装置
US20200133412A1 (en) * 2018-10-30 2020-04-30 Synaptics Incorporated Baseline update for input object detection
CN111190507A (zh) * 2018-11-14 2020-05-22 阿尔派株式会社 具备触摸面板的电子装置及基线值的更新方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113566852A (zh) * 2021-07-13 2021-10-29 上海艾为电子技术股份有限公司 基线更新、相对状态检测方法和系统、电子设备
CN114002525A (zh) * 2021-10-28 2022-02-01 上海艾为电子技术股份有限公司 基线确定电路和方法、状态检测芯片、电子设备

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