CN112969590A - 用于训教并且/或者运行蒙覆方法和/或蒙覆装置的方法、用于蒙覆薄膜元件的方法、用于插装和改装用来蒙覆薄膜元件的蒙覆方法和/或蒙覆装置的方法、用于蒙覆薄膜元件的装置和训教站以及薄膜元件 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于训教并且/或者运行用来将薄膜元件蒙覆在基材件上的蒙覆方法和/或蒙覆装置的方法，借助于所述基材件和/或薄膜元件的CAD数据来查明并且教导所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线，后来沿着所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线来移动用于抓住薄膜元件的抓具，以用于蒙覆所述薄膜元件。

Description

用于训教并且/或者运行蒙覆方法和/或蒙覆装置的方法、用 于蒙覆薄膜元件的方法、用于插装和改装用来蒙覆薄膜元件 的蒙覆方法和/或蒙覆装置的方法、用于蒙覆薄膜元件的装置 和训教站以及薄膜元件

技术领域

本发明一方面涉及一种用于训教并且/或者运行用来将薄膜元件蒙覆在基材件上的蒙覆方法和/或蒙覆装置的方法。

本发明另一方面涉及一种用于蒙覆薄膜元件的方法，其中借助于抓具来抓住所述薄膜元件并且其中用马达将抓具相应地移到其工作位置中，以用于为了蒙覆过程而使所述薄膜元件相对于所述基材件来定位。

此外，本发明涉及一种用于插装或改装用于蒙覆薄膜元件的蒙覆方法和/或用于蒙覆薄膜元件的、具有用于抓住薄膜元件的抓具的蒙覆装置的方法。

此外，本发明涉及一种用于蒙覆薄膜元件的装置，该装置具有用于抓住薄膜元件的抓具并且具有用于对抓具的用马达进行的、沿着其各自的轨迹路线、尤其沿着轨迹曲线的移动进行控制的控制机构。

除此以外，本发明涉及一种训教站。

此外，本发明还涉及一种用于蒙在基材件上的薄膜元件。

背景技术

由现有技术已知尤其所述类型的用于蒙覆薄膜元件的方法和装置。

因此，比如由WO 2017/215684 A1已知用于将薄膜元件蒙覆在基材件上的一种方法和一种装置。那里的装置尤其具有许多用于抓住薄膜元件的抓具，其中所述抓具能够多轴地移动，以用于能够使薄膜件比较精确地与有待蒙上的构件的轮廓相匹配。

发明内容

本发明的任务是，进一步改进尤其所述类型的方法和装置。尤其本发明的任务是，节省薄膜材料。此外，本发明的另一项任务是，能够无翘曲地蒙覆薄膜元件。

根据第一方面，本发明的任务由一种用于对用来将薄膜元件蒙覆在基材件上的蒙覆方法和/或蒙覆装置进行训教的方法来解决，借助于所述基材件和/或薄膜元件的CAD数据来查明并且教导所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线，后来沿着所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线来移动用于抓住薄膜元件的抓具，以用于蒙覆所述薄膜元件。

通过在这里所提出的第一种解决方案，对抓具来说能够在将薄膜元件蒙覆到基材件上时极其精确地设定后来有待采用的轨迹路线或者轨迹曲线，从而也能够相应地极其精确地用所述薄膜元件将所述基材件蒙上。

借助于本方法，根据相应的CAD数据来查明并且教导对蒙覆过程来说必需的轨迹路线或轨迹曲线。

此外，在此能够模拟并且确定抓具的相对于基材件以及蒙覆模具的其他组件、像比如基材件接纳部、压差机构的密封机构、冲裁机构等等的特别精确的运动和/或定位。

作为累积方案或替代方案，也能够在蒙覆模具的数据、尤其是CAD数据的基础上产生并且训教合适的、用于产生并且教导所指定的轨迹路线或者轨迹曲线的数据。

不言而喻，能够极为不同地提供适合于本方法的数据、比如刚刚提到的CAD数据。为此而有利的是，蒙覆装置上、尤其是真空蒙覆装置上的相应的接口供所述方法所用，以用于能够在那里处理、尤其以电子方式读出或者读入必需的数据。

特别适宜的是，所述CAD数据具有至少一个关于所述基材件的形状、尤其是轮廓、像比如关于有待蒙上的表面的展开度的数据记录。所述基材件的这样的数据记录、尤其是关于与其处于关联之中的、有待蒙覆的自由形状表面的数据在此允许为所述抓具生成特别精确的轨迹路线或者轨迹曲线。

就此而言，一种非常有利的方法变型方案规定，根据有待蒙上的表面、自由形状表面等的形状、轮廓、展开度来查明所指定的轨迹路线或轨迹曲线。

作为累积方案或者替代方案，所述所指定的轨迹路线或轨迹曲线也能够以薄膜元件的CAD数据为依据、尤其是以相应的、关于薄膜元件的外部轮廓或边缘轮廓的数据为依据。

就此而言有利的是，根据所述薄膜元件的形状、尤其是外部轮廓或者边缘轮廓来查明并且教导所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线。

概念“CAD数据”在本发明的意义上是指每种能够以电子方式来处理的数据，所述数据能够包括并且提供能利用的、用于产生并且尤其是用于教导所指定的轨迹路线或轨迹曲线的信息。尤其所述数据包括计算机支持的几何模型等等的数据、尤其也包括3D-CAD数据。

概念“轨迹路线或轨迹曲线”在此基本上描绘了至少一条线条，用于抓住薄膜元件的抓具能够沿着所述线条在蒙覆装置上运动。就此而言，所存在的轨迹路线或者轨迹曲线是以下蒙覆轨迹路线或曲线，蒙覆薄膜-抓具能够沿着所述蒙覆轨迹路线或曲线运动，以用于进行后来的蒙覆。

在一种简单的情况下，一条唯一的线条或者轨迹线比如表示基本上单维的轨迹路线或者轨迹曲线，所述轨迹路线或轨迹曲线以纵向延伸度沿着线条走向来延伸。在这种情况下，这条简单的线条沿着纵向延伸度拥有基本上单维的伸展分量。

比如所述线条或者轨迹路线或者轨迹曲线涉及抓具的重心。

不过，在本发明的意义上所产生的或者所教导的轨迹路线或轨迹曲线关于线条似的纵向延伸度也能够比较精确地具有额外的横向伸展度并且就此而言能够拥有二维的伸展分量。

在本发明的意义上，线条优选通过横向于其纵向延伸度的横向伸展度来实现，由此构成一个平面，抓具能够沿着该平面在空间中运动。

但是，作为替代方案，轨迹路线或者轨迹曲线也能够通过许多线条来表示，所述许多线条关于其纵向延伸度并排布置，以用于实现与本发明有关的合适的轨迹平面。

在此，就此而言要指出，所述概念“轨迹路线”或者“轨迹曲线”除了表示轨迹线条之外也表示相应的轨迹平面。

轨迹路线或轨迹曲线在此能够特别有利地借助于矩阵数据来查明并且教导，所述矩阵数据提供关于三维的空间定向的信息。

用概念“所指定”在本发明的意义上描绘了每种将来的抓具轨迹运动，借助于或者沿着所述抓具轨迹运动抓具能够为了后来的蒙覆过程而移动。这尤其能够是所指定的轨迹路线、轨迹曲线、轨迹线条、轨迹平面等等。

概念“训教”在本发明的意义上描绘了一种尤其关于蒙覆方法或者蒙覆装置的过程，在该过程中一个个的或者优选所有的参与蒙覆过程的抓具在自动化的蒙覆过程之外事先沿着所指定的轨迹路线或者轨迹曲线被导引。

换句话说，这意味着，所述抓具在此能够通过人的相互作用来导引。

通过本发明，能够以能设想的简单的方式将所指定的轨迹路线或轨迹曲线登记、优选存储在控制机构或这类机构中并且除此以外持久地或者至少任意长时间地保存在所述控制机构中。

根据第二方面，本发明的任务也由一种用于对用来将薄膜元件蒙覆在基材件上的方法和/或装置进行训教的方法来解决，其中借助于各个空间坐标来教导所指定的轨迹路线或轨迹曲线，后来使用于抓住薄膜元件的抓具沿着所述所指定的轨迹路线或轨迹曲线移动，以用于蒙覆薄膜元件。

作为第一种解决方案的累积方案或替代方案，在所提出的第二种解决方案中能够提供一个个的空间坐标，所述所指定的轨迹路线或轨迹曲线部分地或者完全地以所述空间坐标为依据。

通过这样的所输入的空间坐标，能够比如作为CAD数据的替代方案或者作为所存在的CAD数据的累积方案来额外地个性化地对所指定的轨迹路线或轨迹曲线进行调整。

在此，比如还能够额外地通过与此无关的、优选人工输入的空间坐标来处理一个或者多个在CAD数据的基础上产生的所指定的轨迹路线或轨迹曲线。

概念“空间坐标”在此描绘了蒙覆装置上、尤其是真空蒙覆装置上的位置，所述位置尤其直接被定位在蒙覆模具的旁边或者蒙覆模具的蒙覆室中。

这些空间坐标能够位置固定地被定位，但是也能够根据时间来局部地移动。由此，除了静态地提供的所指定的轨迹路线或轨迹曲线之外，也能够产生能动态地改变的所指定的轨迹路线或轨迹曲线。

有利的是，所指定的轨迹路线或轨迹曲线借助于至少两个或者更多个空间坐标、优选借助于一个始点和一个终点以及许多布置在其之间的路标来产生。

为了产生并且教导所指定的轨迹路线或者轨迹曲线，能够优选使用多个空间坐标。越多地输入这样的坐标，就能够提供越精确的所指定的轨迹路线或者轨迹曲线。

为了也能够借助于这样的空间坐标来产生或者教导在空间中二维地延伸的所指定的轨迹路线或者轨迹曲线，此外适宜的是，不仅成串地先后安放空间坐标，而且也额外地在一串空间坐标的旁边安放另外的空间坐标。

抓具的运动在此还能够更加多样地映射在空间中，如果为所指定的轨迹路线或者轨迹曲线使用一群空间坐标，借助于所述一群空间坐标也能够立即生成合适的所指定的轨迹曲线。

如果借助于一个个的空间坐标来内插所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线，则在人工输入足够数目的空间坐标之后也还能够在计算机支持下重新调准精确的轨迹路线或者轨迹曲线。

某些空间坐标能够在蒙覆装置或者其外围设备上以不同的方式来输入。比如，作为数字输入来进行空间坐标的这样的输入。或者直接在蒙覆装置、尤其是其蒙覆室的相应地所准备的图形显示上选择或者在输入设备上选中位置。

也已经证实特别有利的是，所述空间坐标借助于输入设备、尤其是借助于用手操控的输入设备、像比如借助于输入设备的图形表面来人工输入。

作为累积方案或者作为替代方案，有利的是，所述所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线借助于在输入设备的图形表面之处和/或之前的手动的滑动运动或者擦拭运动来教导。由此也可以容易地教导所期望的所指定的轨迹路线或轨迹曲线。

根据第三方面，本发明的任务也还由一种用于对用来将薄膜元件蒙覆在基材件上的方法和/或装置进行训教的方法来解决，其中通过对于抓具的人工操纵来教导所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线，后来使用于抓住薄膜元件的抓具、尤其是其至少一个夹爪元件沿着所述所指定的轨迹路线或所指定的轨迹曲线运动，以用于蒙覆薄膜元件。

作为第一种或者第二种解决方案的累积方案或者替代方案，在这里所提出的第三种解决方案中也能够人工地、也就是仅仅用手来移动抓具，以用于由此来教导合适的所指定的轨迹路线或轨迹曲线。

就此而言，另一种有利的方法变型方案规定，用手将所述抓具朝预先确定的空间坐标来导引，由此能够个性化地将所指定的轨迹路线或轨迹曲线导引到那里并且就此而言加以确定。

通过当前的训教，与以往在蒙覆过程中通过纯粹的编程进行处理的情况相比，能够显著更快地并且也更精确地生成所指定的轨迹路线或轨迹曲线。如果在试运行中发现建立在以前所创建的编程的基础上的抓具运动没有最佳地进行，那么尤其在此也省去适配编程。

根据第四方面，本发明的任务同样由一种用于将薄膜元件蒙覆在基材件上的方法来解决，其中所述薄膜元件借助于抓具来抓住并且其中相应地用马达沿着抓具的轨迹路线、尤其是沿着其轨迹曲线来移动所述抓具，以用于为了蒙覆过程而使薄膜元件相对于基材件进行定位，其中所述方法的突出之处在于，至少部分地一个个地或者组合地沿着各自所指定的轨迹路线、尤其是沿着所指定的轨迹曲线导引抓具，以用于教导所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线。

尤其蒙覆装置的抓具在不取决于蒙覆过程的情况下经历训教阶段，由此能够非常容易地训教相应的抓具以适应于所指定的工作位置。

借助于在这里根据第四方面所提出的方法、尤其也在与其余的所提出的方法之一的组合中提供一种有利的蒙覆方法变型方案，借助于该蒙覆方法变型方案使有待蒙覆在基材件上的薄膜元件如此改进地与所述基材件进行有效接触并且随后能够蒙上所述薄膜元件，从而由此能够实现薄膜材料的显著的节省。

尤其这样做的原因在于，所述抓具在后来的或者真正的接下来的蒙覆过程能够更加挨紧地在薄膜元件的蒙覆区域上抓住所述薄膜元件，由此能够显著减少所述薄膜元件的边缘区域处的边角料。

有利的是，在此能够显著地简化或者优选完全省去由经常所估计的关于由抓具在蒙覆过程中有待采用的轨迹路线或者轨迹曲线的单个数据进行的昂贵的编程过程，由此尤其能够在产品更换时显著地简化蒙覆方法或者蒙覆装置的插装或者改装。

根据第五方面，本发明的任务也由一种用于插装或改装用来蒙覆薄膜元件的蒙覆方法和/或用来蒙覆薄膜元件的蒙覆装置的方法来解决，其中所述蒙覆装置具有用于抓住薄膜元件的抓具，其中为了进行插装或者改装而将在所述蒙覆方法和/或所述蒙覆装置中所使用的抓具至少部分地一个个地或者组合地分别沿着所指定的轨迹路线、尤其是沿着所指定的轨迹曲线进行导引，以用于教导轨迹、尤其是所指定的轨迹曲线。

有利的是，由此尤其能够在蒙覆薄膜元件的蒙覆之前特别容易地并且有效地尤其在插装或者改装的集成方面教导所指定的轨迹路线或者轨迹曲线。

借助于在这里根据本发明的第五方面所提出的另一种方法，至少一种另外的方法变型方案可用，该方法变型方案能够借助于所存在的对于尤其轨迹路线的教导来有利地构成。

借助于本发明，能够尤其在启动蒙覆方法和/或蒙覆装置之前在抓具的所指定的轨迹路线的方面来最佳地训教所述抓具。

就此而言，首先在抓具位置的方面仅仅对蒙覆过程进行模拟。

术语“导引”在本发明的意义上意味着一个个地或者成组地比如为了模拟目的而进行一个或者多个抓具的优选以偏移模式来引发的运动。

因此，一种方法变型方案规定，用手至少部分地一个个地或者组合地分别沿着所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线导引抓具。比如，为了教导抓具的各自的所指定的工作位置而用手抓住抓具并且为了所述训教而人工地将其导引到与此相关的所指定的工作位置中。

工作位置在此尤其能够通过所指定的轨迹路线的终点等来实现。

一种还更加有效的并且由此优选的方法变型方案规定，借助于人工操纵的控制设备用马达至少部分地一个个地或者组合地沿着所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线导引抓具。在此，不仅能够借助于肌肉力来导引所述抓具，而且能够作为累积方案或者替代方案在马达支持下人工地导引所述抓具。

这样的控制设备能够极为不同地来实现。比如，这样的控制设备包括用于对抓具进行人工控制的输入设备。

这样的人工控制比如能够用操纵杆元件、用按键元件、用接触敏感的表面来输入轨迹线条等等并且/或者用于输入空间坐标或类似数据。

特别有利的是，在本发明的意义上在蒙覆方法和/或蒙覆装置上所设置的训教根据增强现实设备来进行，借助于所述增强现实设备来使蒙覆室可视化并且示出用于将薄膜元件在蒙覆室中蒙覆在基材件上的所指定的轨迹路线或者轨迹曲线。

如果至少部分地一个个地或者组合地沿着所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线导引抓具并且将其导入到各自所指定的工作位置中，则能够特别精确地训练抓具。

如果在无薄膜的情况下或者优选在抓住薄膜元件的情况下至少部分地一个个地或者组合地沿着各自所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线导引抓具，则本方法能够特别容易地得到实施。尤其如果所述抓具以测试方式抓住薄膜元件，则尤其能够良好地识别所述抓具的运动轨迹的共同作用。

适宜的是，至少部分地一个个地或者组合地沿着各自所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线导引抓具，以用于在抓住有待蒙覆的薄膜元件之前教导所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线。尤其能够在将薄膜元件蒙覆在基材件上之前查明并且为后来的蒙覆过程而教导、存储并且准备好所指定的轨迹路线。

因此有利的是，至少部分地一个个地或者组合地沿着各自所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线导引抓具，以用于在启动所述蒙覆方法和/或蒙覆装置之前教导所述抓具的各自所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线。

所述方法尤其能够全面地来实施，如果至少部分地一个个地或者组合地沿着各自所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线导引抓具，以用于在所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线的方面训教控制机构，所述控制机构用于控制蒙覆方法和/或蒙覆装置、尤其是用于控制抓具。

尤其借助于与此相关的控制机构，尤其能够几乎任意频繁地在蒙覆室之处或者之中再现所教导的所指定的轨迹路线或轨迹曲线。

尤其通过本发明能够在有待由抓具采用的轨迹路线或者轨迹曲线的方面事先对配属于所述蒙覆装置的控制机构进行训教，以用于在蒙覆过程中自动化地移动所述抓具。

能够在蒙覆过程中特别平稳地蒙覆所述薄膜元件，如果根据抓具运动沿着所指定的轨迹路线、尤其是在所指定的轨迹曲线上来导引第一抓具并且同样沿着所指定的轨迹路线、尤其在所指定的轨迹曲线上导引其他抓具。由此，此外可以防止各个抓具在蒙覆室的内部碰撞。

抓具的在蒙覆室的内部的运动轨迹能够进一步得到优化，如果分别迭代地沿着许多轨迹路线、尤其在所指定的轨迹曲线上导引抓具，以用于最终教导所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线。

所述方法能够再次得到改进，如果根据其他抓具的沿着所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线的抓具运动来迭代地沿着许多轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线来导引第一抓具，以用于最终教导所指定的轨迹路线或者轨迹曲线。

尤其蒙覆室内部的基材件运动与蒙覆室内部的抓具运动的相互作用能够进一步得到改进，如果至少部分地一个个地或者组合地根据基材件接纳部、尤其是基材件的运动分别沿着所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线来导引抓具。

如果至少部分地一个个地或者组合地根据基材件接纳部、尤其是基材件的多轴的空间运动分别沿着所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线来导引抓具，则能够更加有效地避免不受欢迎的薄膜伸长。

如果至少部分地一个个地或者组合地根据基材件的轮廓分别沿着所指定的轨迹路线来导引抓具，则还能够更加精确地训教所指定的轨迹路线。由此，也还能够更加精确地切割薄膜元件或者在更加精确地切割的情况下提供薄膜元件，由此还能够更加有效地节省薄膜材料。

此外，还能够实现所提出的方法的进一步的改进，如果为了教导所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线而将工件的数据、尤其3D数据读入到用于对蒙覆装置进行控制、尤其用于对用来抓住薄膜元件的抓具进行控制的控制机构中。

如果比如存在薄膜元件、基材件或者被蒙覆的构件的数据或者3D数据，则在借助于这些信息的情况下还能更加精确地实施所述方法。

用于薄膜元件的薄膜下料尤其能够特别小地、节省薄膜材料地并且由此目标指向地来制造并且被提供用于蒙覆过程，如果至少部分地一个个地或者组合地直到朝向真空室的密封机构和/或蒙覆模具的其他构件来导引抓具，以用于教导所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线。

作为替代方案，适宜的是，至少部分地一个个地或者组合地直到真空室的密封机构来导引抓具、尤其以20mm以下或者15mm以下、优选5mm以下或者更小的间距导引到真空室和/或蒙覆模具的其他构件的密封机构处，以用于教导所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线。

通过相应较小的间距，能够在蒙覆过程中降低比如蒙覆装置的密封机构的密封活动元件与蒙覆装置的抓具之间的危急的接触危险，并且尽管如此还能够将布置在蒙覆室中的抓具十分挨紧地安放在真空室处，从而能够有利地将薄膜元件切割得较小

另一种有利的方法变型方案规定，至少部分地一个个地或者组合地将抓具从预定义的原始位置导入到蒙覆装置的各自所指定的工作位置中。按理说，能够将抓具从每个任意的开始位置导入到蒙覆装置的所指定的工作位置中。

但是，如果将抓具从预定义的原始位置导入到各自所指定的工作位置中，则还能够更加运行可靠地或者更加精确地实施后来开始的蒙覆过程。

在此，还要明确地指出，有利地偏移地操控所指定的轨迹路线、尤其是指定的轨迹曲线，由此能够在真正的机械的和自动化的蒙覆过程的准备阶段中进行本发明的意义上的训教。

根据第六方面，本发明的任务也还在设计上由一种用于蒙覆薄膜元件的装置来解决，该装置具有用于抓住薄膜元件的抓具并且具有用于对抓具的、用马达进行的、沿着其各自的轨迹路线、尤其是沿着轨迹曲线的移动进行控制的控制机构，其中所述装置的突出之处在于用于实施在这里所描述的方法的控制机构。

借助于所述蒙覆装置，一方面能够毫无问题地在真正的蒙覆过程之前实施相应的用于教导抓具的所指定的轨迹路线或轨迹曲线的方法并且另一方面紧随此后进行实际的蒙覆过程。因此，借助于相应地设立的蒙覆装置在抓具位置方面首先仅仅对蒙覆过程进行模拟。

概念“蒙覆装置”在本发明的意义上描绘了每种以下装置，借助于所述装置能够将薄膜元件在基材件上蒙覆成被蒙覆的构件。这样的蒙覆装置尤其涉及一种真空蒙覆装置、但是也能够涉及其他的蒙覆机。

根据本发明的第七方面，所述任务同样由一种用于为用来抓住薄膜元件的抓具教导所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线的训教站来解决，所述训教站具有抓具并且/或者具有抓具捕夹器并且具有用于对该训教站、尤其是抓具和/或抓具捕夹器进行控制的控制机构，其中所述训教站的突出之处在于用于实施本方法的控制机构。

借助于本训教站，能够在不取决于蒙覆装置的情况下实施相应的用于教导抓具的所指定的轨迹路线的方法并且将所查明的所指定的工作位置保存在尤其蒙覆装置的相应的控制机构中，以备以后调用。由此，蒙覆装置尤其在产品更换之后能够显著更快地重又随时可用。

因此，借助于所述训教站在蒙覆室内部的抓具位置的方面优选仅仅对蒙覆过程进行模拟，但是随后优选不实施实际的蒙覆过程。

此外，对于本训教站来说，由于本训教站的复杂性优选被保持得比较简单而可以比较容易地接近，由此能够再次比较容易地实施人工地沿着所指定的轨迹路线或轨迹曲线来导引抓具这个过程。

优选所述训教站具有模拟室，在所述模拟室中能够导引所述抓具。

优选所述模拟室相当于蒙覆装置的蒙覆室。

为了将抓具保持活动自如的状态以便将其沿着所指定的轨迹路线来导引，有利的是，所述控制机构包括用于释放抓具的器件。

不仅所述用于蒙覆的装置而且所述训教站都代表着一种有利的用于教导所属的蒙覆过程的所指定的轨迹路线或轨迹曲线的训教装置，所述用于蒙覆的装置而且所述训教站也都能够不仅在设计上而且也在方法技术上容易地被集成在用于制造被蒙覆的构件的设备的加工线中。

如果所述控制机构包括冗余的控制设备，那么所述装置或者训教站就能够有利地用于教导所指定的轨迹路线或者轨迹曲线。借助于所述冗余的控制设备，比如能够在不取决于在蒙覆机中所安装的控制机构或这类机构的情况下沿着所指定轨迹路线或者轨迹曲线来导引抓具。

比如相应所设立的冗余的控制设备具有所述蒙覆装置或者相应的训教站的固定的输出机构的反射的显示器。

对所述装置或者训教站的操作或者本方法的实施来说，特别有帮助的是，这样的冗余的控制设备能够可移动地使用。

就此而言，一种有利的实施变型方案规定，所述控制机构包括可移动的输入机构、尤其是手持式设备。合适的手持式设备尤其能够是笔记本电脑、平板电脑等等，但是也能够是智能手机或类似设备。

如果所述控制机构包括键盘-控制机构、触摸屏-控制机构、操纵杆-控制机构或这类控制机构，则能够借助于人的相互作用在马达支持下特别容易地沿着所指定的轨迹路线或者轨迹曲线来导引抓具。

无论如何，在本发明的意义上，通过实施相应的蒙覆方法的操作者的相互作用来将抓具在蒙覆室内部导入到工作位置中并且/或者沿着所指定的轨迹路线或轨迹曲线来导引。

此外，一种优选的实施变型方案规定，所述控制机构包括用于记录并且处理有待蒙覆的基材件和/或薄膜元件的数据的接口，由此所指定的轨迹路线或轨迹曲线能够有利地由所述控制机构根据由其获知的数据、尤其是CAD数据来查明并且教导。

适宜的是，所述接口能够记录并且处理有待蒙覆的薄膜元件、有待蒙上的基材件和/或基材件接纳部的结构数据、尤其是CAD数据、展开度数据、自由形状表面数据等等。由此，还能够更加精确地查明并且教导所指定的轨迹路线或轨迹曲线。

除此以外，同样有利的是，所述接口被设立用于记录并且处理蒙覆室、尤其是蒙覆室的真空室、蒙覆室的密封机构、蒙覆室的切割机构等等的结构数据、尤其是CAD数据。由此也能够更加精确地查明并且教导所指定的轨迹路线或轨迹曲线。

另一种非常有利的实施变型方案规定，所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线能够根据真空室、尤其根据真空室的外部轮廓来查明和教导。由此，轨迹路线或轨迹曲线能够在考虑到蒙覆装置的蒙覆室处的空间上的事实的情况下尤其相对于蒙覆装置的蒙覆室进一步得到优化。

适宜的是，所述真空室以及所述真空室的尤其外部轮廓、优选能改变的外部轮廓能够在蒙覆室的内部移动、尤其是高度移动。

作为累积方案或者替代方案，有利的是，所指定的轨迹路线、尤其是所指定的轨迹曲线根据密封机构的密封元件和/或切割机构的切割元件的所指定的所在位置、尤其是能够改变的所在位置来查明并且教导。由此，也能够在考虑到蒙覆装置的密封机构和/或切割机构处的空间上的事实的情况下来进一步对轨迹路线或轨迹曲线进行优化。尤其在蒙覆装置上这一点极其有利，因为这样的机构或者其构件或者构件组彼此极其挨紧地布置在蒙覆室之中或者真空室之处，使得与其相协调的轨迹路线或轨迹曲线能够进一步改进蒙覆过程。

一种再次进一步得到改进的实施变型方案规定，所指定的轨迹路线、尤其所指定的轨迹曲线能够根据基材件接纳部和/或基材件的所指定的动态的蒙覆运动来查明并且教导。由此，还能够更加个性化地、更加动态地并且由此还更好地彼此协调地使有待蒙覆的薄膜元件和有待用其蒙上的基材件在蒙覆室的内部相对于彼此运动，使得蒙覆过程能够进一步地个性化。由此，也有利的是，所指定的轨迹路线、尤其所指定的轨迹曲线能够根据基材件接纳部或者基材件的优选能够多维地操纵的移动行程来查明或教导。

如果作为累积方案或者替代方案所指定的轨迹路线、尤其所指定的轨迹曲线能够根据薄膜元件的边缘轮廓与真空室的外部轮廓之间的和/或密封机构的密封元件的和/或切割机构的切割元件的间距、尤其是能个性化调节的间距来查明并且教导，则同样能够实现有利的薄膜节省和/或得到改进的蒙覆结果。

无论如何，有利的是，所指定的轨迹路线、尤其所指定的轨迹曲线能够根据蒙覆模具的尤其闭合运动、优选根据蒙覆模具的下模具和/或蒙覆模具的上模具的闭合运动来查明并且教导，由此尤其能够改进本蒙覆方法。

根据第八方面，本发明的任务也还由一种用于蒙覆到基材件上的薄膜元件来解决，其中所述薄膜元件具有外部轮廓，并且其中所述薄膜元件的外部轮廓根据基材件的基材件轮廓的数据来产生。

如果所述薄膜元件的外部轮廓根据基材件轮廓来产生，那就能够极其节省薄膜材料地并且由此更加精确地并且也更加刚好够用地批量生产所述薄膜元件，由此能够显著地减少薄膜材料的边角料或者理想地使其最小化。由此，能够以显著地降低的材料开销并且就此而言更加节省成本地并且更加经济地制造被蒙覆的构件。

所述薄膜元件还能够更加精确地与有待蒙上的基材件相协调，如果所述薄膜元件具有环绕的边缘轮廓，其中所述环绕的边缘轮廓根据基材件的基材件轮廓的数据来产生。

如果所述基材件轮廓的数据包括基材件的结构数据、尤其是CAD数据、展开度数据、自由形状表面数据或这类数据，则不仅所述薄膜元件能够在基材件方面更加刚好够用地来批量生产，而且根据这样的结构数据也能够在本发明的意义上更好地查明并且教导所指定的轨迹路线或轨迹曲线。

不言而喻，前面或者在权利要求中所说明的解决方案的特征必要时也能够组合起来，以用于尤其能够相应累积地实现在此能获得的优点和效用。

在此还要提到，在这里的专利申请的范围内术语“尤其”应该总是如此来理解，从而用这个术语来引入一种可选的优选的特征。该术语不应该被理解为“并且更确切地说”并且不应该被理解为“也就是说”。

此外要指出，在这里的专利申请的范围内不定冠词和不确定的数字说明、比如“一个”、“两个”等等在通常情况下应该理解为至少-说明，也就是说理解为“至少一个”、“至少两个”等等，只要比如从特定的位置处的上下文或者具体的文字说明中没有得出这个结论，即：比如在那里应该仅仅是指“刚好一个”、“刚好两个”等等。

此外，还要求权利的是，所描述的方法也还能够通过另外的在这里所描述的技术特征、尤其是通过所述装置的特征来得到补充，以用于有利地进一步改进所述方法或者能够还更加精确地描述或者表达方法技术要求，或者反之亦然。

此外，还应该明确坚持的是，本发明涉及一种真实的或者所模拟的蒙覆室，在该蒙覆室之处或者之中优选生成在此的所指定的轨迹路线或轨迹曲线。

附图说明

额外地借助于附图和以下描述对本发明的另外的特征、效用和优点进行解释，在附图和以下描述中示范性地示出并且描述了一种用于将薄膜元件蒙覆到基材件上的装置。在附图中：

图1示意性地示出了一种用于将薄膜元件蒙覆在基材件上的具有许多抓具的装置的视图；

图2示意性地示出了具有一个蒙覆室并且具有许多抓具的训教站的俯视图；

图3示意性地示出了在图1和2中示出的装置或者训教站的抓具的俯视图；

图4示意性地示出了在图3中示出的抓具的侧视图；并且

图5示意性地示出了用于教导蒙覆装置上的所指定的轨迹路线的能考虑的第一方法流程。

具体实施方式

按照图1的图示示出了一种用于蒙覆薄膜元件2的装置1的可能的第一种实施例。

所述装置1包括框架件3，该框架件具有许多用马达来驱动的抓具4。作为替代方案，所述用马达来驱动的抓具4也能够在不取决于共同的框架件3的情况下被夹持在装置1上。

此外，所述装置1的突出之处在于具有下模具6并且具有上模具7的蒙覆模具5。

所述蒙覆模具5拥有蒙覆室8，在该蒙覆室中进行蒙覆过程或者蒙覆进程。

所述框架件3以及由此所述抓具4也借助于移动机构10以高度可调的方式被支承在所述装置1的台架11中，使得整个框架件3沿着装置1的垂直的移动轴线12以高度可调的方式被支承在所述台架11上。

在所述框架件3的下方在台架11的底部件13上安放了所述下模具6，其中所述下模具6包括一个或者多个成形壳件14，所述成形壳件又布置在所述底部件13的支座15上。

所述上模具7包括基材件接纳部16，借助于该基材件接纳部能够将一个或者多个有待蒙上的基材件17夹持在上模具7上。此外，所述上模具7具有机器人机构20，该机器人机构则具有能多轴地运动的机械手21，所述基材件接纳部16被固定在所述机械手21上。借助于所述能多轴地运动的机械手21，能够将所述基材件接纳部16一直送到蒙覆室8中。尤其所述基材件接纳部16能够多维地在蒙覆室8的内部运动、尤其也高度可调。

除此以外，所述装置1还拥有输送和/或放入机构23，借助于该输送和/或放入机构能够将一个或者多个薄膜元件2一直放入到所述框架件3中，并且更确切地说如此放入到所述框架件3中，从而能够将所述薄膜元件2立即放入到打开的抓具4中。

所述输送和/或放入机构23拥有输送和/或放入路线24，沿着该输送和/或放入路线能够将相应的薄膜元件2以装料位置25为出发点一直递送到抓具4中。

所述输送和/或放入机构23的突出之处还在于至少一个能移动的加热单元26，该加热单元用于在框架件3的外部对相应的薄膜元件2进行加热。所述能移动的加热单元26具有两个加热机构27和28，这两个加热机构能够在与有待放入的薄膜元件2一同移动的情况下朝蒙覆室8的方向运动。

此外，所述装置1具有一个包括数据接口的控制机构30，该控制机构用于用马达将抓具4沿着轨迹路线43或者轨迹曲线44移动并且移到其各自的工作位置31中(这里仅仅示范性地标明，也参见图2到4)。这里所绘示的工作位置31纯示范性地表明抓具4的、在用于对真空室33(参看图3和4)进行密封的密封机构32(参看图3和4)的旁边或者在蒙覆模具5的其他在这里未明确示出的并且标明的构件的旁边的最终位置(没有再次标明)。所示出的轨迹路线43或者轨迹曲线44仅仅示范性地示出。

图2示出了一种作为替代方案的训教装置，其中在那里示出了用于为用来抓住薄膜元件2的抓具4教导所指定的工作位置31和轨迹路线43或者轨迹曲线44的训教站35(参见图3和4)。不言而喻，对于这样的训教站35来说也能够使用抓具捕夹器，因为在所述训教站35上不进行实际的蒙覆过程。

所述训教站35具有台架36，借助于该台架所述抓具4以能多轴地运动的方式被支承在框架件39的纵梁37及横梁38上。

所述框架件39或者所述台架36围住一个可以从上面和下面来接近的模拟室40，在该模拟室中所述抓具36能够得到导引，其中所述模拟室40相当于装置1的蒙覆室5。

所述训教站35具有用于对抓具4进行控制的控制机构30，其中这个控制机构也具有本发明的意义上的数据接口(在这里同样未示出)。

借助于所述训教站35，能够训教所述抓具4以及尤其是所述控制机构30以适应于所指定的轨迹曲线43和工作位置31，其中为此能够将所述抓具沿着运动轨迹45(仅仅示范性地标明，也参看图3和4)一直导入到各自所指定的工作位置31中。随后，所指定的工作位置31、但是所述作为轨迹路线43或者轨迹曲线44的运动轨迹45也由所述控制机构30来存储并且准备用作数据记录，该数据记录用于一种用来将薄膜元件2蒙覆在基材件17上的装置1。

不言而喻，不仅借助于所述装置1而且借助于所述训教站35都能够实施不同的训教方法。

在此，能够手动地将所述抓具4至少部分地一个个地或者组合地沿着所指定的轨迹路线43或者轨迹曲线44来导引并且导入到各自所指定的工作位置31中。

作为累积方案或者替代方案，能够借助于人工操纵的控制设备46用马达将所述抓具4至少部分地一个个地或者组合地沿着所指定的轨迹路线43或者轨迹曲线44来导引并且导入到各自所指定的工作位置31中。

为此，不仅所述装置1而且所述训教站35都分别拥有一个相应的冗余的控制设备46，该控制设备在这些实施例中被构造为可移动的输入机构47。由此，操作者48(仅仅在图1中示出)能够在其人工地导引抓具4的时候自由地在装置1或者训教站35处活动。

更准确地讲，所述输入机构47是具有操纵杆-控制机构50的手持式设备(未再次标明)，使得抓具4能够通过操作者48人工地借助于所述抓具4的驱动马达(未标明)来非常精确地沿着所指定的轨迹路线43或者轨迹曲线44被导引并且被导入到各自所指定的工作位置31中。

作为累积方案或替代方案，所述抓具4能够借助于各个空间坐标至少部分地一个个地或者组合地沿着所指定的轨迹路线43或者轨迹曲线44被导引并且被导引到所指定的工作位置31中。

作为累积方案或替代方案，所述抓具4能够借助于基材件17和/或薄膜元件2的CAD数据用马达来至少部分地一个个地或者组合地沿着所指定的轨迹路线43或者轨迹曲线44被导引并且被导引到所指定的工作位置31中。相应的CAD数据能够借助于本发明的意义上的控制机构的数据接口来处理。

按照图3和4的图示，示范性地示出了抓具4处于其原始位置54中的情况，该抓具在本发明的意义上沿着运动轨迹45被导入到所指定的工作位置31中。

图3在此示出了所述抓具4的不仅沿着运动轨迹45而且朝所指定的工作位置31中的、水平的向前运动55(x轴)和水平的侧向运动56(y轴)，所述所指定的工作位置31在后来的实际的蒙覆方法中代表着抓具4的最终位置。

图4作为这方面的补充又示出了所述抓具4的不仅沿着运动轨迹45而且朝所指定的工作位置31中的水平的向前运动55(x轴)和垂直的向下运动57(z轴)。

按照图5的图示，还示范性地示出了流程图60，该流程图具有为装置1的抓具4教导所指定的运动轨迹45和工作位置31的可能的方法流程。

在第一方法步骤61中，所述抓具4处于其各自的原始位置54中，该原始位置能够被预先给定或者是随机的。

在第二方法步骤62中，释放所述抓具4的驱动马达或这类部件，使得所述抓具4活动自如并且能够在本发明的意义上得到导引。

在第三方法步骤63中，人工地将抓具4优选一个个地沿着所指定的轨迹路线43或者轨迹曲线44来导引并且导引到其所指定的工作位置31中。在此，对所指定的轨迹路线43或轨迹曲线44进行跟踪或探测。

在第四方法步骤64中，这些所指定的轨迹路线43或者轨迹曲线44以及所指定的工作位置31由所述控制机构30来探测并且存储。在此，现在尤其对所述控制机构30进行了训教。

在第五方法步骤65中将如此经过训教的抓具4又从其所教导的所指定的工作位置31中比如移回到其各自的原始位置54中。

在第六方法步骤66A中，在没有以前的试运行的情况下直接在实际上开始真正的蒙覆方法。

或者在作为替代方案的第六方法步骤66B中，经过训教的抓具4首先通过所述装置1中的在实际上的蒙覆过程方面的试运行。

在第七方法步骤67中，能够在成功的试运行之后在实际上开始真正的蒙覆方法。

在此示范性地示出的蒙覆装置1或者训教站35以及示范性的流程图60能够在进行适当调整的情况下实现所有在这里所描述的设计上的实施变型方案和方法变型方案，其中放弃了与此相关地详细描述的附图说明，以避免重复。

不言而喻，前面所解释的实施例仅仅是本发明的第一种设计方案。就此而言，这些实施例没有限制本发明。

在此要再次明确地指出，前面或者在权利要求和/或附图中所描述的解决方案的特征必要时也能够组合起来，以用于能够相应地累积地实现或者获得所解释的或者另外的特征、效用和优点。

所有在申请资料中所公开的特征都作为对本发明来说重要的特征被要求权利，只要其单个地或者在彼此的组合中相对于现有技术是新颖的特征。

所使用的附图标记的列表

1 装置

2 薄膜元件

3 框架件

4 抓具

5 蒙覆模具

6 下模具

7 上模具

8 蒙覆室

10 移动机构

11 台架

12 移动轴线

13 底部件

14 成形壳件

15 支座

16 基材件接纳部

17 基材件

20 机器人机构

21 机械手

23 输送和/或放入机构

24 输送和/或放入路线

25 装料位置

26 加热单元

27 第一加热机构

28 第二加热机构

30 控制机构

31 工作位置

32 密封机构

33 真空室

35 训教站

36 台架

37 纵梁

38 横梁

39 另一个框架件

40 模拟室

43 轨迹路线

44 轨迹曲线

45 运动轨迹

46 控制设备

47 可移动的输入机构或者手持式设备

48 操作者

50 操纵杆-控制机构

54 原始位置

55 水平的向前运动或者x轴

56 水平的侧向运动或者y轴

57 垂直的向下运动或者z轴

60 流程图

61 第一方法步骤

62 第二方法步骤

63 第三方法步骤

64 第四方法步骤

65 第五方法步骤

66 第六方法步骤

67 第七方法步骤

Claims (44)

1.方法，用于训教并且/或者运行用来将薄膜元件(2)蒙覆在基材件(17)上的蒙覆方法和/或蒙覆装置，其中借助于所述基材件(17)和/或薄膜元件(2)的CAD数据来查明并且教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)，用于抓住所述薄膜元件(2)的抓具(4)后来为了蒙覆所述薄膜元件(2)而沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)来移动。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述CAD数据包括至少一个关于所述基材件(17)的形状、尤其是轮廓、像比如有待蒙覆的表面的展开度的数据记录。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，根据所述薄膜元件(2)的形状、尤其是外部轮廓或者边缘轮廓来查明并且教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)。

4.方法，用于训教并且/或者运行用来将薄膜元件(2)蒙覆在基材件(17)上的蒙覆方法和/或蒙覆装置，其中借助于各个空间坐标来查明并且教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)，用于抓住所述薄膜元件(2)的抓具(4)、尤其是至少一个夹爪元件后来为了蒙覆所述薄膜元件(2)而沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)来移动。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，借助于至少两个或更多个空间坐标、优选借助于始点和终点和大量布置在其之间的路标来教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)。

6.根据权利要求4或5所述的方法，其特征在于，借助于一个个的空间坐标来内插所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)。

7.根据权利要求4到6中任一项所述的方法，其特征在于，借助于输入设备、尤其是借助于手动操纵的输入设备、像比如借助于输入设备的图形表面来人工输入所述空间坐标。

8.根据权利要求4到7中任一项所述的方法，其特征在于，所述所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)借助于在输入设备的图形表面之处和/或之前的手动的滑动运动或者擦拭运动来教导。

9.方法，用于对用来将薄膜元件(2)蒙覆在基材件(17)上的方法和/或装置进行训教，其中通过对于抓具(4)的人工操纵来教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)，后来使用于抓住薄膜元件(2)的抓具(4)、尤其是其至少一个夹爪元件沿着所述所指定的轨迹路线(43)或所指定的轨迹曲线(44)运动，以用于蒙覆薄膜元件(2)。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，用手将抓具朝预先确定的空间坐标进行导引。

11.尤其根据前述权利要求中任一项所述的用于将薄膜元件(2)蒙覆在基材件(17)上的方法，其中借助于抓具(4)来抓住所述薄膜元件(2)，并且其中用马达将抓具(4)分别沿着其轨迹路线(43)、尤其沿着其轨迹曲线(44)进行移动，以用于为了蒙覆过程而使所述薄膜元件(2)相对于所述基材件(17)定位，其特征在于，将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地分别沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其沿着所指定的轨迹曲线(44)进行导引，以用于教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)。

12.尤其根据权利要求1到10中任一项所述的方法，该方法用于插装或者改装用来蒙覆薄膜元件(2)的蒙覆方法和/或用来蒙覆薄膜元件(2)的具有用于抓住所述薄膜元件(2)的抓具(4)的蒙覆装置(1)，其中为了进行插装或者改装而将在所述蒙覆方法中并且/或者在所述蒙覆装置(1)中所使用的抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其沿着所指定的轨迹曲线(44)进行导引，以用于教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)。

13.根据权利要求1到12中任一项所述的方法，其特征在于，用手将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地分别沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)进行导引。

14.根据权利要求1到13中任一项所述的方法，其特征在于，借助于人工操纵的控制设备(46)用马达将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地分别沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)进行导引。

15.根据权利要求1到14中任一项所述的方法，其特征在于，将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)进行导引并且导入到各自所指定的工作位置(31)中。

16.根据权利要求1到15中任一项所述的方法，其特征在于，在无薄膜或者优选抓住薄膜元件(2)的情况下将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地分别沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)进行导引。

17.根据权利要求1到16中任一项所述的方法，其特征在于，将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地分别沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)进行导引，以用于在启动所述蒙覆方法和/或蒙覆装置(1)之前教导所述抓具(4)的各自所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)。

18.根据权利要求1到17中任一项所述的方法，其特征在于，将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地分别沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)进行导引，以用于在所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)的方面训教用于控制蒙覆方法和/或蒙覆装置(1)、尤其用于控制抓具(4)的控制机构(30)。

19.根据权利要求1到18中任一项所述的方法，其特征在于，根据其他抓具(4)的沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)的抓具运动将第一抓具(4)同样沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)进行导引。

20.根据权利要求1到19中任一项所述的方法，其特征在于，将抓具(4)分别迭代地沿着许多所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)进行导引，以用于最终教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)。

21.根据权利要求1到20中任一项所述的方法，其特征在于，根据其他抓具(4)的沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)的抓具运动将第一抓具(4)迭代地沿着许多轨迹路线(43)、尤其是在所指定的轨迹曲线(44)上进行导引，以用于最终教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)。

22.根据权利要求1到21中任一项所述的方法，其特征在于，根据基材件接纳部(16)、尤其是基材件(17)的运动将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地分别沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)进行导引。

23.根据权利要求1到22中任一项所述的方法，其特征在于，根据基材件接纳部(16)、尤其是基材件(17)的运动将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地分别沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)进行导引。

24.根据权利要求1到23中任一项所述的方法，其特征在于，根据基材件(17)的轮廓将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地分别沿着所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)进行导引。

25.根据权利要求1到24中任一项所述的方法，其特征在于，为了教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)而将工件的数据、尤其是3D数据读入到控制机构(30)中，该控制机构用于控制蒙覆装置(1)、尤其用于控制用来抓住薄膜元件(2)的抓具(4)。

26.根据权利要求1到25中任一项所述的方法，其特征在于，将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地一直朝蒙覆模具(5)的真空室(33)和/或其他构件的密封机构(32)进行导引，以用于教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)。

27.根据权利要求1到26中任一项所述的方法，其特征在于，将抓具(4)至少部分地一个个地或者组合地直到靠近真空室(3)的密封机构(32)来导引、尤其以20mm以下或者15mm以下、优选5mm以下或者更小的间距导引到真空室(33)和/或蒙覆模具(5)的其他构件的密封机构(32)处，以用于教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)。

28.根据权利要求1到27中任一项所述的方法，其特征在于，偏移地操空所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)。

29.用于蒙覆薄膜元件(2)的装置(1)，具有用于抓住薄膜元件(2)的抓具(4)并且具有用于对抓具(4)的、用马达进行的、沿着其各自的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)的移动进行控制的控制机构(30)，其特征在于，所述装置(1)具有用于实施根据权利要求1到28中任一项所述的方法的控制机构(30)。

30.训教站(35)，用于为用来抓住薄膜元件(2)的抓具(4)教导所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)，所述训教站(35)具有抓具(4)并且/或者具有抓具捕夹器并且具有用于对该训教站(35)、尤其是所述抓具(4)和/或抓具捕夹器进行控制的控制机构，其中所述训教站(35)具有用于实施根据权利要求1到28中任一项所述的方法的控制机构(30)。

31.根据权利要求29或30所述的装置(1)或训教站(35)，其特征在于，所述控制机构(30)包括用于释放抓具(4)的器件。

32.根据权利要求29到31中任一项所述的装置(1)或训教站(35)，其特征在于，所述控制机构(30)包括冗余的控制设备(46)。

33.根据权利要求29到32中任一项所述的装置(1)或训教站(35)，其特征在于，所述控制机构(30)包括可移动的输入机构(47)、尤其是手持式设备。

34.根据权利要求29到33中任一项所述的装置(1)或训教站(35)，其特征在于，所述控制机构(30)包括键盘-控制机构、触摸屏-控制机构、操纵杆-控制机构(50)或这类控制机构。

35.根据权利要求29到34中任一项所述的装置(1)或训教站(35)，其特征在于，所述控制机构(30)包括用于记录并且处理有待蒙覆的基材件(17)和/或薄膜元件(2)的数据的接口。

36.根据权利要求35所述的装置(1)或训教站(35)，其特征在于，所述接口被设立用于记录并且处理有待蒙覆的薄膜元件(2)、有待蒙上的基材件(17)和/或基材件接纳部(16)的结构数据、尤其是CAD数据、展开度数据、自由形状表面数据等等。

37.根据权利要求35或36所述的装置(1)或训教站(35)，其特征在于，所述接口能够记录并且处理蒙覆室、尤其蒙覆室(8)的真空室(33)、蒙覆室(8)的密封机构(32)、蒙覆室(8)的切割机构等等的结构数据、尤其是CAD数据。

38.根据权利要求29到37中任一项所述的装置(1)或训教站(35)，其特征在于，所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)能够根据真空室(33)、尤其根据真空室(33)的外部轮廓来查明和教导。

39.根据权利要求29到38中任一项所述的装置(1)或训教站(35)，其特征在于，所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)能够根据密封机构(32)的密封元件和/或切割机构的切割元件的所指定的所在位置、尤其是能够改变的所在位置来查明和教导。

40.根据权利要求29到39中任一项所述的装置(1)或训教站(35)，其特征在于，所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)能够根据基材件接纳部(16)和/或基材件(17)的所指定的动态的蒙覆运动来查明和教导。

41.根据权利要求29到40中任一项所述的装置(1)或训教站(35)，其特征在于，所指定的轨迹路线(43)、尤其是所指定的轨迹曲线(44)能够根据薄膜元件(2)的边缘轮廓与真空室(33)的外部轮廓之间的和/或密封机构的密封元件的和/或切割机构的切割元件的间距、尤其是能个性化调节的间距来查明和教导。

42.用于蒙到基材件(17)上的薄膜元件(2)，其中所述薄膜元件(2)具有外部轮廓，并且其中所述薄膜元件(2)的外部轮廓根据基材件(17)的基材件轮廓的数据来产生。

43.根据权利要求42所述的薄膜元件(2)，其特征在于，所述薄膜元件(2)具有环绕的边缘轮廓，其中所述环绕的边缘轮廓根据基材件(17)的基材件轮廓的数据来产生。

44.根据权利要求42或43所述的薄膜元件(2)，其特征在于，所述基材件轮廓的数据包括所述基材件(17)的结构数据、尤其是CAD数据、展开度数据、自由形状表面数据等等。

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