CN112922935B - 连接结构和等离子体处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种连接结构和等离子体处理装置。所述连接结构包含第一部件、和具有安装孔的第二部件；第一连接件位于安装孔内，与第二部件可拆卸连接；抗腐蚀粘结层位于第一连接件与第一部件之间，实现第一部件与第二部件的可靠连接。本发明使用上述连接结构，连接气体喷淋头、安装基板，使气体喷淋头和安装基板的界面紧密贴合，增加气体喷淋头可被消耗的厚度，延长其使用寿命。本发明的等离子体处理装置，使用上述的气体喷淋头，和/或使用上述连接结构来连接该等离子体处理装置中的各种相邻部件。

Description

连接结构和等离子体处理装置
技术领域
本发明涉及半导体制造领域，特别涉及一种连接结构和等离子体处理装置。
背景技术
等离子体处理装置用于对基片进行蚀刻、沉积等工艺处理。例如在一种电容耦合式的等离子体处理装置中，包含一反应腔，该反应腔内设置有用于承载基片的基座(对应下电极)、用于引入反应气体、辅助气体等至反应腔内的气体喷淋头(对应上电极)，上下电极之间作为制程区，且上下电极中的任意一个施加有高频射频功率，将制程区内的反应气体解离为等离子体，到达基片上表面的等离子体对基片实施相应的工艺处理；等离子体处理装置在反应腔下部的合适位置设有排气区域，排气区域与外部的排气泵相连接，将处理过程中用过的反应气体及副产品气体等抽出反应腔。气体喷淋头周围还设置有一上部接地环，可以对气体喷淋头进行支撑，或用于加大气体喷淋头横向面积以改善等离子体处理的均匀性。
如图1所示，气体喷淋头11’是具有一定厚度的圆盘形组件，其与圆盘型的安装基板12’层叠布置，气体经过两板上开设的相连通的通气孔13’输送到反应腔内。其中，安装基板12’典型地由铝合金制成，能够对其下方的气体喷淋头11’进行支撑；气体喷淋头11’典型地是由单晶硅制成，作为上电极。
目前，气体喷淋头11’、安装基板12’的连接方式，是在气体喷淋头11’的顶面分布地形成多个凹孔14’，在其中固定设置有第一连接件15’(如螺母)；安装基板12’的对应位置，开设有台阶孔16’，对设置在其中的第二连接件17’进行限位；第二连接件17’下端通过台阶孔16’后穿入到凹孔14’内与相适配的第一连接件15’进行连接，使安装基板12’得以与气体喷淋头11’固定连接，并使安装基板12’的底面与气体喷淋头11’的顶面紧密接触。
此外，气体喷淋头11’的厚度(或气体喷淋头11’与安装基板12’组合后的厚度)，需处在指定范围内，以配合诸如气体输送的速率、温控的效果等技术要求，从而保证处理效率及成品质量。然而，气体喷淋头11’底面暴露于制程区，容易受到用于蚀刻工艺的气体及等离子体的影响，而使该气体喷淋头11’产生材料损耗。凹孔14’的开设使得气体喷淋头11’可以消耗的厚度d很少，消耗稍多就可能导致气体喷淋头11’整体厚度不足以处在指定范围，或者导致凹孔14’底部穿透而使第一连接件15’被蚀刻进而影响到连接的可靠性，从而减少了气体喷淋头11’的使用寿命；更换新的气体喷淋头11’，将极大地浪费成本、人力，影响生产效率。
发明内容
本发明提供一种连接结构和等离子体处理装置，该连接结构可以实现相邻部件的紧固连接，不必为设置连接件而减少部件本身的厚度，有效延长了部件的使用寿命。
本发明的一个技术方案是提供一种连接结构，其包括：
第一部件；
第二部件，其具有安装孔；
第一连接件，位于所述安装孔内，与所述第二部件之间可拆卸连接；
抗腐蚀粘结层，用于使所述第一连接件与第一部件结合在一起。
可选地，所述第二部件包括相对的第一表面和第二表面，且所述第一表面朝向第一部件，所述第一连接件从第二部件的第一表面进入安装孔，在第二部件的第二表面穿出或不穿出。
可选地，所述安装孔贯穿第二部件的第一表面和第二表面。
可选地，所述第一连接件是第一螺栓或第一螺钉，其螺杆的外表面与安装孔的内表面相适配；所述螺杆在安装孔内与所述第二部件相连接。
可选地，还包含与第一连接件相适配的第二连接件；
所述第二连接件是第一螺母；所述第一连接件是第一螺栓或第一螺钉，其螺杆的外表面与所述第一螺母的螺孔的内表面相适配；
所述螺杆进入安装孔与设置在安装孔内的第一螺母连接；或者，所述螺杆穿过安装孔与位于第二部件的第二表面的第一螺母连接。
可选地，还包含与第一连接件相适配的第二连接件；
所述第一连接件是第二螺母，所述第一连接件包括相对的第一端面和第二端面，所述第一端面与抗腐蚀粘结层贴合，所述第二端面开设有向第一端面延伸的螺孔；
所述第二连接件是第二螺栓或第二螺钉，其螺杆的外表面与第二螺母的螺孔的内表面相适配；所述第二螺栓或第二螺钉的一端通过螺杆与第二螺母连接，另一端位于第二部件的第二表面或设置在安装孔内。
可选地，第一部件、第一连接件及抗腐蚀粘结层不转动，而第二连接件独立可转动，或者第二连接件与第二部件连接成可共同转动的整体；
或者，第一部件与第一连接件及抗腐蚀粘结层连接成可共同转动的一个整体，而第二连接件是一个独立转动的零件，或者第二连接件与第二部件连接成可共同转动的另一个整体。
可选地，所述抗腐蚀粘结层的材料包括Kalrez材料。
本发明还提供一种等离子体处理装置，包括：
反应腔；
气体喷淋头，位于所述反应腔内顶部；
安装基板，位于所述气体喷淋头上，其内具有安装孔；
第一连接件，位于所述安装孔内，与所述安装基板可拆卸连接；
抗腐蚀粘结层，使所述气体喷淋头与第一连接件连接在一起。
本发明另外提供一种等离子体处理装置，其包括：
反应腔；
气体喷淋头，位于所述反应腔内顶部；
上接地环，包围所述气体喷淋头上；
安装基板，位于所述上接地环上，其内具有安装孔；
第一连接件，位于所述安装孔内，与所述安装基板可拆卸连接；
抗腐蚀粘结层，使所述上接地环与第一连接件连接在一起。
与现有技术相比，本发明所述连接结构和等离子体处理装置，其优点在于：
本发明用抗腐蚀粘结层，将第一连接件与气体喷淋头粘接在一起，使气体喷淋头与第一连接件整合为一体；第一连接件和与之适配的第二连接件，采用螺栓(螺钉)与螺母的组合，结构简单，连接可靠。与在气体喷淋头上开设凹坑来设置连接件的现有技术相比，本发明中不再需要为凹坑预留位置，因而在设置连接件时气体喷淋头本身的厚度可以基本不变，有效地增加了该气体喷淋头可以被损耗的厚度，从而延长了其使用寿命。本发明可以将类似的连接结构应用在等离子体处理装置及其他各种设备上。
附图说明
图1是现有气体喷淋头与安装基板连接的示意图；
图2是等离子体处理装置的示意图；
图3是本发明的气体喷淋头与安装基板连接的第一实施例，示出了气体喷淋头与安装基板在其中一组连接件处连接时的侧剖视图；
图4是第一实施例的气体喷淋头与多个第一连接件连接的立体图；
图5是图4中沿A-A1线的侧剖视图；
图6是本发明的气体喷淋头与安装基板连接的第二实施例，示出了气体喷淋头与安装基板在其中一组连接件处连接时的侧剖视图；
图7是第二实施例的气体喷淋头与多个第一连接件连接的立体图；
图8是图7中沿A-A1线的侧剖视图。
具体实施方式
以下结合附图，对本发明的多个实施例进行说明。
本发明提供一种连接结构，包含第一部件、第二部件，和对两部件进行连接的连接件；第一部件和第二部件具有相对的界面；所述连接件包含第一连接件，其通过抗腐蚀粘结层，粘接在第一部件的界面上。第二部件开设有安装孔，第一连接件在安装孔内与第二部件之间可拆卸连接，使第一部件与第二部件紧固连接。
本发明对用作抗腐蚀粘结层的材料不作限制。将上述连接结构用在等离子体处理装置时，除了粘接作用外，所述抗腐蚀粘结层还需要可以抵抗刻蚀气体腐蚀：常用气体有C4F6、C4F8、CH2F2、H2、O2、CHF3、CF4、CO2、CO；另外，长期使用温度需大于150度。
示例的抗腐蚀粘结层使用Kalrez材料制成，Kalrez材料为全氟醚橡胶(FFKM)。所述Kalrez材料是一种弹性材料，相比其他弹性体在苛刻工作环境中耐受更久、密封效率更高，同时具有良好的高温稳定性(327℃)，其目前在半导体制造工艺中经常作为密封件使用，具有微粒产生少，析出物低、严苛等离子环境中耐降解的特点。本发明以上述Kalrez材料用作抗腐蚀粘结层，将第一连接件可靠地粘接到第一部件，无需额外的粘接剂。
本发明还提供一种等离子体处理装置使用了上述连接结构。图2所示的等离子体处理装置，包含一反应腔60，该反应腔60内设置有用于承载基片40的基座50(对应下电极)，所述气体喷淋头11(对应上电极)与基座50之间形成制程区，上下电极中的任意一个施加有高频射频功率时，制程区内的反应气体解离为等离子体，到达基片40上表面对基片40实施蚀刻或薄膜沉积等工艺处理；等离子体处理装置在反应腔60下部的合适位置设有排气区域，排气区域与外部的排气泵相连接，将处理过程中用过的反应气体及副产品气体等抽出反应腔60。气体喷淋头11周围还设置有一上部接地环20，可以对气体喷淋头11进行支撑，或用于加大气体喷淋头11横向面积以改善等离子体处理的均匀性。
气体喷淋头11是具有一定厚度的圆盘形组件，其与圆盘型的安装基板12层叠布置。其中，安装基板12例如由铝合金制成，能够对其下方的气体喷淋头11进行支撑；气体喷淋头11例如由单晶硅制成，作为上电极。
参见图3或图6所示，气体喷淋头11和安装基板12各自分布设置有大量的通气孔，在本例中均为通孔：安装基板12的第二通气孔121从安装基板12的顶面贯穿到底面，连通气体喷淋头11的第一通气孔111，将气体输送到气体喷淋头11；气体喷淋头11的第一通气孔111从气体喷淋头11的顶面贯穿到底面，进一步将气体喷射到反应腔内。第一通气孔111、第二通气孔121各自的形状和孔径等可以根据应用情况自由设计。由于气体喷淋头11和安装基板12的制造方法及其结构，在现有技术中已有成熟的技术支持，为简明起见，在此不再赘述。
气体喷淋头11使用本发明上述的连接结构时，气体喷淋头11对应于第一部件，安装基板12对应于第二部件，气体喷淋头11顶面和安装基板12底面为相对的界面，气体喷淋头11顶面(避开第一通气孔111的位置)通过抗腐蚀粘结层2，分布地粘接有多个第一连接件，用于对层叠的气体喷淋头11和安装基板12进行连接。
如图3～图5所示的一个实施例中，所述第一连接件是第一螺栓3，气体喷淋头11与这些第一螺栓3整合为一体。每个第一螺栓3的头部端面通过相应的一个抗腐蚀粘结层2(可选Kalrez材料)粘接至气体喷淋头11顶面，第一螺栓3的螺杆垂直于气体喷淋头11顶面向上布置。
本实施例的气体喷淋头11与安装基板12连接时，气体喷淋头11顶面与安装基板12底面相对；安装基板12(避开第一通气孔111的位置)开设有从安装基板12顶面贯穿到安装基板12底面的若干安装孔，其与气体喷淋头11顶面的若干第一螺栓3一一对应。第一螺母4作为第二连接件，与穿过安装孔的第一螺栓3相适配，第一螺栓3的螺杆的外螺纹与第一螺母4的内螺纹相啮合；第一螺栓3与第一螺母4连接后，气体喷淋头11和安装基板12得以紧固地连接。
示例的每个安装孔包含上中下三段，大致呈工字型：中段123的口径小于上段122的口径、下段124的口径；各段具体的形状、口径、高度等参数可以根据应用情况设计，以满足与第一螺栓3连接时的情况：
其中，第一螺栓3的螺杆从安装孔的下段124穿入中段123，并使螺杆的端部进入上段122；中段123的内表面可以是光滑的。作为第二连接件的第一螺母4可以嵌入在安装孔的上段122，并可以在外部工具对第一螺母4的扳拧结构作用下，使第一螺母4能够在安装孔的上段122旋转，从而在第一螺栓3的螺杆端部穿过中段123到达上段122时对该螺杆拧紧，实现气体喷淋头11与安装基板12的紧固连接。安装孔下段124足以容纳第一螺栓3的头部及抗腐蚀粘结层2嵌入其中，从而在气体喷淋头11与安装基板12连接时，气体喷淋头11顶面和安装基板12底面可以紧密地贴合，使两板之间有更好的导热和/或导电效果。
如图6～图8所示的另一个实施例中，所述第一连接件是第二螺母5，气体喷淋头11与这些第二螺母5整合为一体。每个第二螺母5的主体第一端面通过相应的一个抗腐蚀粘结层2(可选Kalrez材料)粘接至气体喷淋头11顶面，第二螺母5主体垂直于气体喷淋头11顶面向上布置，从第二螺母5主体的第二端面向下延伸，开设有带内螺纹的螺孔；示例的螺孔没有贯穿到第一端面。
本实施例的气体喷淋头11与安装基板12连接时，气体喷淋头11顶面与安装基板12底面相对；安装基板12(优选避开第一通气孔111的位置)开设有从安装基板12顶面贯穿到安装基板12底面的若干安装孔，其与气体喷淋头11顶面的若干第二螺母5一一对应；与第二螺母5相适配的第二螺栓6作为第二连接件穿入安装孔，第二螺栓6的螺杆的外螺纹与第二螺母5的内螺纹相啮合；第二螺母5与第二螺栓6连接时，气体喷淋头11和安装基板12得以紧固地连接。
示例的每个安装孔包含上中下三段，大致呈工字型：中段123的口径小于上段122的口径、下段124的口径；各段具体的形状、口径、高度等参数可以根据应用情况设计，以满足与第二螺栓6连接时的情况：
其中，第二螺栓6的螺杆从安装孔的上段122穿入中段123，并使螺杆的端部进入下段124；中段123的内表面可以是光滑的。第二螺栓6的头部可以嵌入在安装孔的上段122，并可以在外部工具对头部的扳拧结构作用下，使第二螺栓6能够在安装孔内旋转，从而在该第二螺栓6的螺杆端部穿过中段123到达下段124时对该螺杆拧紧，使第二螺栓6与第二螺母5连接，实现气体喷淋头11与安装基板12的紧固连接。安装孔下段124足以容纳第二螺母5及抗腐蚀粘结层2嵌入其中，从而在气体喷淋头11与安装基板12连接时，气体喷淋头11顶面和安装基板12底面可以紧密地贴合，使两板之间有更好的导热和/或导电效果。
与在气体喷淋头上开设凹坑来设置连接件的现有技术相比，本发明上述两个实施例中，不再需要为凹坑预留位置，因而在设置连接件时气体喷淋头11与安装基板12本身的厚度可以基本不变，这相当于气体喷淋头11在工艺制程中可以被损耗的厚度得以增加(扩大为该气体喷淋头11的整体厚度)，有效地延长了其使用寿命。
为了控制气体喷淋头的使用寿命，初始时，所述气体喷淋头11具有第一厚度，安装基板12具有第二厚度，连接后气体喷淋头11的顶面与安装基板12的底面紧密贴合；每实施若干次工艺处理后，获取气体喷淋头11(或其与安装基板12的组合)当前的实际厚度，将其与对气体喷淋头11(或对所述组合)规定的厚度范围进行比较；若气体喷淋头11(或所述组合)当前的实际厚度不处在厚度范围内的，则更换新的气体喷淋头11；若气体喷淋头11(或所述组合)当前的实际厚度处在规定的厚度范围内的，则气体喷淋头11可以继续使用。
本发明基于抗腐蚀粘结层实现的连接结构，不限于气体喷淋头11与安装基板12的连接，还可以适用于等离子体处理装置内的其他部件：
例如，图2中气体喷淋头11外围环绕设置的上部接地环20，与位于该上部接地环20上方的安装基板21层叠布置；上部接地环20例如由硅或者碳化硅制成，作为上部接地电极，其可以是整片的，也可以是由若干个环段组成的一个圆环；安装基板21例如由铝合金制成，用于对上部接地环20进行支撑及提供接地路径等。则，基于本发明的连接结构，将上部接地环20对应第一部件，安装基板21对应第二部件，安装基板21的底面和上部接地环20的顶面是相对的界面，上部接地环20的界面通过抗腐蚀粘结层竖立有若干第一连接件(如第一螺栓或第二螺母)，通过与相适配的第二连接件(位于第二部件安装孔第二端的第一螺母，或从第二部件安装孔第二端穿入到第一端的第二螺栓)连接，实现上部接地环20与安装基板21的紧固连接。
本发明上述的连接结构，还可以适用于等离子体处理装置的基座、基座外围的下部接地结构、等离子约束系统的绝缘结构等设备中各种层叠的部件。并且，也不限于上下层叠的部件，通过调整第一部件、第二部件相对界面的方向，及第一连接件的布置方向等，可以将本发明上述的连接结构，适用于连接各种左右邻接的部件。
以下提供本发明所述连接结构的一些实施例及其变形示例，适用于各种第一部件与第二部件的连接：
一个实施例中，第一连接件是第一螺栓，其头部所在一端的端面，通过抗腐蚀粘结层粘接在第一部件的界面，使第一螺栓与第一部件整合为一体。第一螺栓的螺杆垂直于该第一部件的界面，该螺杆上至少有一段圆周面带有外螺纹。第二部件形成有安装孔，可供第一螺栓的另一端进入。
一些示例中，第一螺栓已与第一部件整合为一体，在较难对该螺栓单独进行旋转及拧紧的情况下，配置与第一螺栓相适配的第一螺母作为第二连接件，可以较简单地实现第一部件与第二部件的连接。
所述安装孔是通孔时，第一螺母可以在通孔第二端的第二部件表面与贯穿第二部件到达该表面的第一螺栓的螺杆进行连接；或者，第一螺母可以从通孔的第一端或第二端嵌入到第二部件的安装孔内，则第一螺栓可以不必贯穿整个第二部件而是在安装孔内与第一螺母连接。又或者，安装孔不是通孔时，第一螺母从安装孔的第一端整个嵌入到安装孔内，则第一螺栓也可以在安装孔内与第一螺母连接。
一些示例中，第一螺母是可以独立转动的零件，其不与第二部件固定连接。此时，该第一螺母需要具有扳拧结构，以便通过工具对其进行旋转拧紧。第一螺母能够转动的情况下，第一螺栓的头部可以设置也可以不设置扳拧结构。
扳拧结构可以是形成在连接件表面的，如设置为适合工具对其施力的外形结构，如使用外表面为六角、十二角、方形等结构或具有滚花的螺母；或者，扳拧结构是装配到连接件表面，并在拧紧连接件后可以取下的。
另一些示例中，第二部件是方便与第一螺母一同旋转的，则可以预先将第一螺母与第二部件固定连接，再通过旋转第二部件带动第一螺母旋转，进而将第一螺母拧紧到第一部件处的第一螺栓上实施连接。此时，第一螺母上可以设置也可以不设置扳拧结构。第一螺母与第二部件的连接可以通过任何方式，可以类似地使用另一抗腐蚀粘结层粘接，但不限于此。
配置有第一螺母时，第二部件的安装孔可以没有内螺纹，第一螺栓穿入或穿过安装孔与第一螺母连接。某些示例中，配置第一螺母，与第二部件的安装孔设置为带内螺纹的螺孔也可以一同实施。
或者，在其他示例中，假设第一部件是方便与第一螺栓一同旋转的，则可以不另外配置第一螺母，而将第二部件的安装孔制成为带有内螺纹的螺孔(通孔或非通孔均可)，使得第一螺栓的外螺纹与之相啮合，在第一螺栓旋入第二部件的安装孔时实现连接。
上述任意一项示例中，都可以使用第一螺钉替换第一螺栓作为第一连接件，旋入相适配的安装孔与第二部件连接，或者旋入(或穿入或穿过)安装孔与相适配的第一螺母连接。此外，某些示例中第二部件可以不预先开设安装孔，而第二部件自身的材料允许第一螺钉拧入时在第二部件内形成安装孔并同时完成连接(安装孔的内螺纹与第一螺钉的外螺纹相啮合)。
本发明所述连接结构的另一个实施例中，第一连接件是第二螺母，第二螺母主体的第一端面通过抗腐蚀粘结层粘接在第一部件的界面，使第二螺母与第一部件整合为一体；从第二螺母主体的第二端面开设有带内螺纹的螺孔；该螺孔从第二端面向第一端面延伸，示例的螺孔没有贯穿到第一端面。
设置与第二螺母相适配的第二螺栓作为第二连接件，第二部件形成有供第二螺栓穿入(或旋入或穿过)的安装孔，使第二螺栓的外螺纹与第二螺母的内螺纹相啮合，从而对第一部件和第二部件进行紧固连接。
一些示例中，第二部件的安装孔可以是通孔(有内螺纹或没有内螺纹均可)，第二螺栓的螺杆穿过通孔，在安装孔的第一端与第二螺母连接；第二螺栓头部所在的一端，可以嵌在安装孔内或留在第二部件的第二表面。
安装孔也可以不是通孔，第二螺栓头部所在的一端嵌入在第二部件的安装孔内，使其螺杆端部暴露在安装孔的第一端，进而与第二螺母连接；或者，连接第一、第二部件时，第二螺母本身还嵌入到第二部件的安装孔第一端内，则第二螺栓的螺杆端部无需从安装孔第一端穿出也可以与第二螺母进行连接。
第二螺栓需要单独旋转时，其头部或其他部位，可以设置便于工具对其旋转拧紧的扳拧结构；或者，第二螺栓嵌入安装孔内或第二螺栓与第二部件可以一同旋转的情况下，也可以不对第二螺栓设置扳拧结构。第二螺母的外表面可以设置也可以不设置扳拧结构；第一部件可以是能被外力转动并带动第二螺母旋转的结构；或者，第一部件和第二螺母都不转动，而依靠第二螺栓的转动(或随第二部件转动的第二螺栓)来实施连接。
上述的诸多示例，都可以用第二螺钉替换第二螺栓作为第二连接件，与相适配的第二螺母实施连接。某些示例中第二部件可以不预先开设安装孔，而第二部件自身的材料允许第二螺钉拧入时在第二部件内形成安装孔，并同时完成与第二部件的连接(安装孔的内螺纹与第二螺钉的外螺纹相啮合)。
第二部件的安装孔第一端位于第二部件的界面，第二部件的界面与第一部件的界面相对；若第二部件的安装孔第一端，足以容纳第一连接件及抗腐蚀粘结层一同嵌入的，则通过连接件连接第一、第二部件后，可以使第一部件的界面与第二部件的界面紧密地贴合。某些示例中，也可以通过限定第一连接件插入第二部件的深度，适当地在第一部件和第二部件的相对界面之间形成间隔及调整间隔距离。此外，某些示例中，可以不通过螺纹啮合，而依靠两连接件之间的紧配合，或在两连接件的接触面之间使用其他方式实现可靠连接。
尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。

Claims (9)

1.一种用于等离子体处理装置中的连接结构，其特征在于，包括：
第一部件，所述第一部件的材料包括单晶硅，其具有贯穿其厚度的第一通气孔；
第二部件，其具有贯穿其厚度的若干个第二通气孔和安装孔，所述安装孔的周围设置若干个所述第二通气孔，所述第二通气孔与第一通气孔相互连通，所述第一通气孔和第二通气孔用于输送具有腐蚀性的刻蚀气体，所述第二部件的材料包括铝合金；
第一连接件，位于所述安装孔内，与所述第二部件之间可拆卸连接；
抗腐蚀粘结层，用于粘结所述第一连接件与第一部件，所述抗腐蚀粘结层具有弹性且能够耐等离子体腐蚀，所述抗腐蚀粘结层的材料包括Kalrez材料，所述Kalrez材料为全氟醚橡胶，用于使第二部件的底面与第一部件的顶面贴合。
2.如权利要求1所述的连接结构，其特征在于，
所述第二部件包括相对的第一表面和第二表面，且所述第一表面朝向第一部件，所述第一连接件从第二部件的第一表面进入安装孔，在第二部件的第二表面穿出或不穿出。
3.如权利要求2所述的连接结构，其特征在于，
所述安装孔贯穿第二部件的第一表面和第二表面。
4.如权利要求1～3中任意一项所述的连接结构，其特征在于，
所述第一连接件是第一螺栓或第一螺钉，其螺杆的外表面与安装孔的内表面相适配；所述螺杆在安装孔内与所述第二部件相连接。
5.如权利要求2所述的连接结构，其特征在于，
还包含与第一连接件相适配的第二连接件；
所述第二连接件是第一螺母；所述第一连接件是第一螺栓或第一螺钉，其螺杆的外表面与所述第一螺母的螺孔的内表面相适配；
所述螺杆进入安装孔与设置在安装孔内的第一螺母连接；或者，所述螺杆穿过安装孔与位于第二部件的第二表面的第一螺母连接。
6.如权利要求2所述的连接结构，其特征在于，
还包含与第一连接件相适配的第二连接件；
所述第一连接件是第二螺母，所述第一连接件包括相对的第一端面和第二端面，所述第一端面与抗腐蚀粘结层贴合，所述第二端面开设有向第一端面延伸的螺孔；
所述第二连接件是第二螺栓或第二螺钉，其螺杆的外表面与第二螺母的螺孔的内表面相适配；所述第二螺栓或第二螺钉的一端通过螺杆与第二螺母连接，另一端位于第二部件的第二表面或设置在安装孔内。
7.如权利要求5或6所述的连接结构，其特征在于，
第一部件、第一连接件及抗腐蚀粘结层不转动，而第二连接件独立可转动，或者第二连接件与第二部件连接成可共同转动的整体；
或者，第一部件与第一连接件及抗腐蚀粘结层连接成可共同转动的一个整体，而第二连接件是一个独立转动的零件，或者第二连接件与第二部件连接成可共同转动的另一个整体。
8.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：
反应腔；
气体喷淋头，位于所述反应腔内顶部，所述气体喷淋头的材料包括单晶硅；安装基板，位于所述气体喷淋头上，其内具有安装孔，所述安装基板的材料包括铝合金；
第一连接件，位于所述安装孔内，与所述安装基板可拆卸连接；
抗腐蚀粘结层，使所述气体喷淋头与第一连接件连接在一起，所述抗腐蚀粘结层具有弹性且能够耐等离子体腐蚀，所述抗腐蚀粘结层的材料包括Kalrez材料，所述Kalrez材料为全氟醚橡胶。
9.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：
反应腔；
气体喷淋头，位于所述反应腔内顶部，所述气体喷淋头的材料包括单晶硅；
上接地环，包围所述气体喷淋头上；
安装基板，位于所述上接地环上，其内具有安装孔，所述安装基板的材料包括铝合金；
第一连接件，位于所述安装孔内，与所述安装基板可拆卸连接；
抗腐蚀粘结层，使所述上接地环与第一连接件连接在一起，所述抗腐蚀粘结层具有弹性且能够耐等离子体腐蚀，所述抗腐蚀粘结层的材料包括Kalrez材料，所述Kalrez材料为全氟醚橡胶。
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