CN112921269B - 蒸镀系统 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种蒸镀系统。该蒸镀装置包括相对设置的第一线圈和第二线圈；其中，第一线圈的平面与第二线圈的平面平行，第一线圈与第二线圈之间具有用于放置掩膜版的目标区域，掩膜版的延伸平面与第一线圈的平面平行；第一线圈中的第一电流的方向与第二线圈中的第二电流的方向相同，第一线圈的中心到第二线圈中心的连线上的磁感应强度变化率非零，第一磁感应强度与第二磁感应强度的比值的范围为90％至100％，第一磁感应强度为第一线圈和第二线圈对掩膜版的中心的磁感应强度，第二磁感应强度为第一线圈和第二线圈对掩膜版的顶角的磁感应强度。根据本申请实施例能够提高制作得到显示面板的良率。
Description
技术领域
本申请属于显示技术领域，尤其涉及一种蒸镀系统。
背景技术
在制作显示面板过程中，可利用蒸镀方式，通过掩膜版在待蒸镀基板上形成所需的图案。其中，掩膜版与待蒸镀基板需要进行对位。现阶段，使用磁铁板吸引固定掩膜版，使掩膜版与待蒸镀基板对位。
具体地，可在待蒸镀基板一侧设置阵列排布的永磁体，在待蒸镀基板的另一侧放置掩膜版。但由于阵列排布的永磁体的磁场分布均一性较差，在重力作用下掩膜版的部分会出现下垂现象，使得掩膜版和待蒸镀基板贴合受到影响，对位不准，导致制作出的显示面板良率降低。
发明内容
本申请实施例提供一种蒸镀系统，能够提高制作得到显示面板的良率。
本申请实施例提供一种蒸镀系统，包括相对设置的第一线圈和第二线圈；
其中，第一线圈的平面与第二线圈的平面平行，第一线圈与第二线圈之间具有用于放置掩膜版的目标区域，掩膜版的延伸平面与第一线圈的平面平行；
第一线圈中的第一电流的方向与第二线圈中的第二电流的方向相同，第一线圈的中心到第二线圈中心的连线上的磁感应强度变化率非零，第一磁感应强度与第二磁感应强度的比值的范围为90％至100％，第一磁感应强度为第一线圈和第二线圈对掩膜版的中心的磁感应强度，第二磁感应强度为第一线圈和第二线圈对掩膜版的顶角的磁感应强度。
在一些可能的实施例中，第一线圈的中心到第二线圈的中心的连线上的磁感应强度变化率均匀变化。
在一些可能的实施例中，第一线圈的半径与第二线圈的半径相同。
在一些可能的实施例中，第一线圈的半径与第一距离相同，第一距离为第一线圈的中心与第二线圈的中心之间的距离。
在一些可能的实施例中，蒸镀系统还包括供电电源和可调电阻，第一线圈、第二线圈和供电电源串联连接，可调电阻与第二线圈并联连接。
在一些可能的实施例中，蒸镀系统还包括第一供电电源和第二供电电源，第一供电电源与第一线圈串联连接，为第一线圈供电，第二供电电源与第二线圈串联连接，为第二线圈供电。
在一些可能的实施例中，第一线圈和第二线圈均为单匝线圈。
在一些可能的实施例中，第一线圈和第二线圈均为多匝线圈。
在一些可能的实施例中，第二电流的大小小于第一电流的大小。
在一些可能的实施例中，蒸镀系统还可包括第一铁磁性芯体和第二铁磁性芯体，第一线圈缠绕在第一铁磁性芯体上，第二线圈缠绕在第二铁磁性芯体上。
在一些可能的实施例中，蒸镀系统还包括掩膜版；掩膜版的中心与中心连线的中点重合，中心连线为第一线圈中心与第二线圈中心的连线，掩膜版为矩形，掩膜版的第一边的长度长于等于与第一边相邻的第二边的长度。
在一些可能的实施例中，第一线圈、第二线圈和掩膜版满足以下关系：
其中，p为第一磁感应强度与第二磁感应强度的比值，a为第一线圈的中心与第二线圈的中心之间的距离，b为掩膜版的第一边的长度。
在一些可能的实施例中，第一电流的方向和第二电流的方向周期性变化。
本申请提供一种蒸镀系统，该蒸镀系统包括相对设置有通入电流的第一线圈和第二线圈，第一线圈中第一电流的方向与第二线圈中第二电流的方向相同。第一线圈的中心到第二线圈中心的连线上的磁感应强度变化率非零，可在第一线圈与第二线圈之间的目标区域产生磁场，从而对放置于目标区域的掩膜版产生磁力。第一线圈和第二线圈对掩膜版的中心的磁感应强度与第一线圈和第二线圈对掩膜版的顶角的磁感应强度的比值的范围为90％至100％，在保证距离掩膜版的中心距离最远的掩膜版的顶角受到的磁感应强度，与掩膜版的中心受到的磁感应强度相接近的基础上，可保证掩膜版各部分受到的磁感应强度均较为接近，从而可提高目标区域中掩膜版各部分的磁场分布的均匀性，避免由于磁场分布不均导致掩膜版部分下垂的现象，保证掩膜版和待蒸镀基板对位准确，进而提高了制作得到显示面板的良率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单的介绍，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请提供的蒸镀系统的一实施例的结构示意图；
图2为本申请提供的蒸镀系统的另一实施例的结构示意图；
图3为本申请提供的蒸镀系统的又一实施例的结构示意图；
图4为本申请实施例中第一线圈的一示例的示意图；
图5为本申请实施例中第一线圈缠绕在第一铁磁性芯体上的一示例的示意图。
具体实施方式
下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本申请进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅意在解释本申请，而不是限定本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。
在显示面板如有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示面板等的制作过程中，需要利用蒸镀方式，通过掩膜版在基板上形成所需的图案。在蒸镀系统中，需要对掩膜版和基板进行对位，以保证在基板上形成的图案以及图案位置的准确性。具体地，可利用磁铁板吸引固定掩膜版，使掩膜版与基板贴合，以便于实现掩膜版和基板的对位。
磁铁板位于基板的一侧，掩膜版位于基板的另一侧，从而将掩膜版吸附在基板上。磁铁板具体可包括阵列排布的永磁体。但由于阵列排布的永磁体的磁场分布的均一性较差，在重力作用下，掩膜版的部分可能会发生下垂现象，使得掩膜版和基板的贴合受到影响，尤其是基板和掩膜版的边缘贴合会受到影响，导致掩膜版和基板对位不准，从而使得制作出的显示面板的良率降低。
本申请提供一种蒸镀系统，可利用相对设置的通电的两个线圈产生磁场，通过与线圈相关的参数的调整，可对掩膜版中心产生的磁感应强度和对掩膜版顶角产生的磁感应强度进行调整，使得线圈产生的磁感应强度在掩膜版上分布均匀，避免掩膜版发生下垂现象，保证掩膜版与基板对位准确，从而提高制作出的显示面板的良率。
下面具体对蒸镀系统进行说明。
本申请提供一种蒸镀系统。图1为本申请提供的蒸镀系统的一实施例的结构示意图。如图1所示，该蒸镀系统可包括相对设置的第一线圈11和第二线圈12。
第一线圈11的平面与第二线圈12的平面平行，且第一线圈11与第二线圈12之间相隔一定的距离，即第一线圈11与第二线圈12之间具有一个区域。为了便于说明，将第一线圈11与第二线圈12之间的区域称为目标区域13。该目标区域13可用于放置掩膜版14。掩膜版14的延伸平面与第一线圈11的平面平行，即掩膜版14的延伸平面与第二线圈12的平面平行。
第一线圈11在第一线圈11的平面上的投影为圆环状，第二线圈12在第一线圈11的平面上的投影也为圆环状。第二线圈12的在第一线圈11所在平面上的投影的中心与第一线圈11的中心O1之间的距离在精度可接受距离范围内。精度可接受距离范围可根据对掩膜版14的磁场分布的均匀度的要求设定，在此并不限定。在一些示例中，第二线圈12的在第一线圈11所在平面上的投影的中心与第一线圈11的中心O1重合，即第二线圈12的在第一线圈11所在平面上的投影的中心与第一线圈11的中心之间的距离为0。
第一线圈11和第二线圈12的大小可以相同，也可不同。第一线圈11的半径R与第二线圈12的半径R’的差值在精度可接收差值范围内。精度可接收差值范围可根据对掩膜版14的磁场分布的均匀度的要求设定，在此并不限定。在一些示例中，第一线圈11的半径R与第二线圈12的半径R’可相等。
第一线圈11和第二线圈12均通电。第一线圈11中的电流即第一电流I1的方向，与第二线圈12中的电流即第二电流I2的方向相同。第一电流I1的方向在第一线圈11的平面上可以为顺时针方向或逆时针方向。第二电流I2的方向在第二线圈12的平面上可以为顺时针方向或逆时针方向。
通电的第一线圈11和通电的第二线圈12均能够产生磁场。第一线圈11的中心到第二线圈12的中心的连线上的磁感应强度变化率非零，即第一线圈11和第二线圈12在沿第一线圈11的中心到第二线圈12的中心的连线方向上的磁感应强度会产生一定的变化，从而使得第一线圈11和第二线圈12产生的磁场在第一线圈11与第二线圈12之间产生磁力，以能够完成掩膜版14与基板之间的贴合。具体地，第一线圈11的中心O1到第二线圈12的中心O2的连线上的磁感应强度变化率的绝对值与产生的磁力呈正比。
为了便于说明，这里将第一线圈11和第二线圈12对掩膜版14的中心的磁感应强度称为第一磁感应强度，将第一线圈11和第二线圈12对掩膜版14的顶角的磁感应强度称为第二磁感应强度。第一磁感应强度与第二磁感应强度的比值可表征掩膜版14受到的磁场的磁场均匀性。第一磁感应强度与第二磁感应强度的比值的范围可调整至90％至100％。掩膜版14的顶角为距离掩膜版14的中心最远的位置，第一磁感应强度与第二磁感应强度的比值的范围为90％至100％，可保证第一磁感应强度与掩膜版14中除顶角的其他位置的磁感应强度的比值的范围也可保持在90％至100％，从而提高了目标区域13中掩膜版14各部分磁场分布的均匀性。
在本申请实施例中，蒸镀系统包括相对设置有通入电流的第一线圈11和第二线圈12，第一线圈11中第一电流I1的方向与第二线圈12中第二电流I2的方向相同。第一线圈11的中心到第二线圈12中心的连线上的磁感应强度变化率非零，可在第一线圈11与第二线圈12之间的目标区域13产生磁场，从而对放置于目标区域13的掩膜版14产生磁力。第一线圈11和第二线圈12对掩膜版14的中心的磁感应强度与第一线圈11和第二线圈12对掩膜版14的顶角的磁感应强度的比值的范围为90％至100％，在保证距离掩膜版14的中心距离最远的掩膜版14的顶角受到的磁感应强度，与掩膜版14的中心受到的磁感应强度相接近的基础上，可保证掩膜版14各部分受到的磁感应强度均较为接近，从而可提高目标区域13中掩膜版14各部分的磁场分布的均匀性，避免由于磁场分布不均导致掩膜版部分下垂的现象，保证掩膜版和待蒸镀基板对位准确，进而提高了制作得到的显示面板的良率。
本申请实施例中的蒸镀系统结构简单，成本较低。第一线圈11和第二线圈12通电即可产生磁场，与采用磁铁板下压吸附掩膜版14的技术相比，本申请实施例中的蒸镀系统能够缩短显示面板制作过程中的响应时间，从而提高显示面板的制作效率。
进一步地，第一线圈11的中心O1到第二线圈12的中心O2的连线上的磁感应强度变化率的变化率为零。也就是说，第一线圈11的中心O1到第二线圈12的中心O2的连线上的磁感应强度变化率是均匀变化的，可进一步提高蒸镀系统的目标区域13中掩膜版14各部分的磁场分布的均匀性。
在一些示例中，可设置第一线圈11的半径R与第一距离a相同，以实现第一线圈11的中心O1到第二线圈12的中心O2的连线上的磁感应强度变化率的变化率为零。其中，第一距离为第一线圈11的中心O1与第二线圈12的中心O2之间的距离。
将第一线圈11的中点O1与第二线圈12的中点O2的连线作为坐标轴，将将第一线圈11的中点O1与第二线圈12的中点O2的连线作为原点。设第一线圈11的中点O1与第二线圈12的中点O2的连线上任意一点为x，第一线圈11对点x产生的磁感应强度为B1(x)，第二线圈12对点x产生的磁感应强度为B2(x)。第一线圈11和第二线圈12对点x产生的总的磁感应强度B(x)如表达式(1)和(2)所示：
I2＝k×I1 (2)
其中，μ0为真空磁导率，I1为第一电流的大小，R为第一线圈11的半径，a为第一距离，k为第二电流的大小与第一电流的大小的比值。
通过调节第一线圈11的第一电流I1、第一线圈11的半径R、第一线圈11的中心O1到第二线圈12的中心O2的距离、第二线圈12的第二电流I2、第二线圈12的半径R’，即可实现对蒸镀系统产生的磁场的控制，控制更加灵活，且能够控制的精度极高。
第一线圈11的中点O1与第二线圈12的中点O2的连线上的磁感应强度变化率即为上述表达式(1)的B(x)的一阶导数。B(x)的一阶导数
如表达式(3)所示：
在x＝0的情况下，B(x)的一阶导数
如表达式(4)所示：
第一线圈11的中心O1到第二线圈12中心O2的连线上的磁感应强度变化率非零，即B(x)的一阶导数
第一线圈11的中心O1到第二线圈12的中心O2的连线上的磁感应强度变化率的变化率即为B(x)的二阶导数
B(x)的二阶导数
如表达式(5)所示：
在x＝0的情况下，B(x)的二阶导数
如表达式(6)所示：
在R＝a的情况下，B(x)的二阶导数
恒为零，即第一线圈11的中心O1到第二线圈12的中心O2的连线上的磁感应强度变化率的变化率为零。
因此，如图1所示，设置第一线圈11的半径R与第一距离a相同，第二电流I2的大小小于第一电流I1的大小，即可实现第一线圈11的中心O1到第二线圈12的中心O2的连线上的磁感应强度变化率的变化率为零。
在一些示例中，第一线圈11的半径R与第二线圈12的半径R’相同。第一线圈11的半径R与第一距离相同。
上述蒸镀系统还可包括掩膜版14。掩膜版14的中心与中心连线的中点O重合。中心连线为第一线圈11中心O1与第二线圈12中心O2的连线。掩膜版14可为矩形。掩膜版14可包括两条第一边和第二边，第一边和第二边相邻。第一边的长度长于等于与该第一边相邻的第二边的长度。更进一步地，掩膜版14可为正方形。在掩膜版14为正方形的情况下，掩膜版14的第一边的边长等于第二边的边长。在掩膜版14上磁场偏离第一线圈11和第二线圈12对掩膜版14中心最远的点位于掩膜版14的顶角。掩膜版14的顶角受到的磁感应强度应等于掩膜版14的中心受到的磁感应强度与能够表征期望的磁场均匀度的参数的乘积。能够表征期望的磁场均匀度的参数可根据场景和需求设定，在本申请实施例中，能够表征期望的磁场均匀度的参数的范围为90％至100％。
为了满足掩膜版14的顶角受到的磁感应强度应等于掩膜版14的中心受到的磁感应强度与能够表征期望的磁场均匀度的参数的乘积的条件，在掩膜版14为正方形的情况下，可根据以下表达式(7)至(9)得到表达式(10)：
对表达式(10)进行泰勒展开，得到表达式(11)：
由于用于表征期望的磁场均匀度的参数p的范围为90％至100％，则p＜1。对应地，根据p＜1以及表达式(11)，可以得到以下表达式(12)：
其中，b为掩膜版14的第一边的长度。其他与上述表达式中相同的参数与上述表达式参数相同，在此不再赘述。
也就是说，在第一线圈11、第二线圈12和掩膜版14满足上述表达式(12)的情况下，可提高掩膜版14受到蒸镀系统的磁场的均匀度。
在一些示例中，蒸镀系统还可包括用于为第一线圈11和第二线圈12供电的供电电源。图2为本申请提供的蒸镀系统的另一实施例的结构示意图。如图2所示，蒸镀系统在包括第一线圈11和第二线圈12的基础上，还可包括供电电源V和可调电阻r。
第一线圈11、第二线圈12和供电电源V串联连接，能够保证第一线圈11中的第一电流的方向与第二线圈12中的第二电流的方向相同。通过调节供电电源V，可改变第一电流I1的方向和第二电流I2的方向，还可改变第一电流I1的大小和第二电流I2的大小，从而调整蒸镀系统产生的磁场的方向、大小。可通过调节可调电阻r的接入阻值，调节第一电流I1的大小与第二电流I2的大小的比值，以实现第一线圈11中的第一电流I1的大小与第二线圈12中的第二电流I2的大小的不同。即可通过调节可调电阻r的接入阻值，调整上述表达式中的k。
在另一些示例中，蒸镀系统还可包括第一供电电源和第二供电电源。图3为本申请提供的蒸镀系统的又一实施例的结构示意图。如图3所示，第一线圈11和第一供电电源V1在同一个回路中，第一供电电源V1与第一线圈11串联，为第一线圈11供电。第一线圈11和第一供电电源V1所在的回路中还可包括其他部件，在此并不限定。通过调节第一供电电源V1，可改变第一线圈11中第一电流I1的方向，也可改变第一线圈11中第一电流I1的大小。第二线圈12和第二供电电源V2在同一个回路中，第二供电电源V2与第二线圈12串联，为第二线圈12供电。第二线圈12和第二供电电源V2所在的回路中还可包括其他部件，在此并不限定。通过调节第二供电电源V2，可改变第二线圈12中第二电流I2的方向，也可改变第二线圈12中第二电流I2的大小。通过调节第一电流I1和第二电流I2的方向、大小，从而调整蒸镀系统产生的磁场的大小、方向。
在一些示例中，上述实施例中的第一线圈11和第二线圈12可均为单匝线圈。
在另一些示例中，上述实施例中的第一线圈11和第二线圈12可均为多匝线圈。图4为本申请实施例中第一线圈11的一示例的示意图。图4中的箭头表示第一线圈11中第一电流I1的方向。第二线圈12的结构可与图4所示的第一线圈11的结构相同，在此不再赘述。多匝线圈可进一步增强磁场，进一步提高蒸镀系统对掩膜版14产生的磁力，提高掩膜版14和基板的贴合的可靠性。
为了进一步增强蒸镀系统对掩膜版14产生的磁场，可将上述实施例中的第一线圈11和第二线圈12缠绕在各自所对应的铁磁性芯体上。即蒸镀系统还可包括第一铁磁性芯体和第二铁磁性芯体。第一线圈11可缠绕在第一铁磁性芯体上，第二线圈12可缠绕在第二铁磁性芯体上。
以第一线圈11为多匝线圈为例，图5为本申请实施例中第一线圈11缠绕在第一铁磁性芯体上的一示例的示意图。如图5所示，第一线圈11缠绕在第一铁磁性芯体15上。图5中的箭头表示第一线圈11中第一电流I1的方向。多匝线圈中的每一匝中电流的方向都相同。第二线圈12缠绕在第二铁磁性芯体的结构与第一线圈11缠绕在第一铁磁性芯体的结构基本相同，可参见图5，在此不再赘述。
第一铁磁性芯体和第二铁磁性芯体均为铁磁性材质。铁磁性材质的材料可包括金属磁性材料和非金属磁性材料，在此并不限定。利用第一铁磁性芯体和第二铁磁性芯体的铁磁性材质的束磁特性，即利用铁磁性材质具有的高磁导率，提升磁通密度，即提升磁感应强度，可增强蒸镀系统产生的磁场，也能够进一步提高蒸镀系统产生的磁场的均匀性，避免掩膜版出现下垂的现象，保证掩膜版与基板的贴合，进一步提高制作出的显示面板的良率。
在一些示例中，上述实施例中，第一电流I1的方向和第二电流I2的方向可周期性变化。第一电流I1的方向和第二电流I2的方向变化的周期可根据场景和需求设定，如根据蒸镀的基板的批次设定，在此并不限定。
例如，在进行第一批基板的蒸镀的情况下，第一电流I1的方向、第二电流I2的方向均为第一方向；在进行第二批基板的蒸镀的情况下，第一电流I1的方向、第二电流I2的方向均为第二方向。第一方向与第二方向相反。
通过周期性改变第一电流I1的方向和第二电流I2的方向，可有效对掩膜版14的磁化现象进行矫正，以避免磁化现象对磁场分布的不良影响，进一步保证磁场分布的均匀性，以进一步提高利用掩膜版14制得的显示面板的良率。
需要明确的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同或相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。本申请并不局限于上文所描述并在图中示出的特定结构。本领域的技术人员可以在领会本申请的精神之后，作出各种改变、修改和添加。并且，为了简明起见，这里省略对已知技术的详细描述。
本领域技术人员应能理解，上述实施例均是示例性而非限制性的。在不同实施例中出现的不同技术特征可以进行组合，以取得有益效果。本领域技术人员在研究附图、说明书及权利要求书的基础上，应能理解并实现所揭示的实施例的其他变化的实施例。在权利要求书中，术语“包括”并不排除其他装置或步骤；数量词“一个”不排除多个；术语“第一”、“第二”用于标示名称而非用于表示任何特定的顺序。权利要求中的任何附图标记均不应被理解为对保护范围的限制。权利要求中出现的多个部分的功能可以由一个单独的硬件或软件模块来实现。某些技术特征出现在不同的从属权利要求中并不意味着不能将这些技术特征进行组合以取得有益效果。
Claims (7)
1.一种蒸镀系统，其特征在于，包括相对设置的第一线圈和第二线圈；
其中，所述第一线圈的平面与第二线圈的平面平行，所述第一线圈与所述第二线圈之间具有用于放置掩膜版的目标区域，所述掩膜版的延伸平面与所述第一线圈的平面平行；
所述第一线圈中的第一电流的方向与所述第二线圈中的第二电流的方向相同，I2＝k×I1，k为所述第二电流I2的大小与所述第一电流I1的大小的比值，所述第二电流的大小小于所述第一电流的大小，所述第一线圈的中心到所述第二线圈中心的连线上的磁感应强度变化率非零，所述第一线圈的中心到所述第二线圈的中心的连线上的磁感应强度变化率的绝对值与产生的磁力呈正比，第一磁感应强度与第二磁感应强度的比值的范围为90％至100％，所述第一磁感应强度为所述第一线圈和所述第二线圈对所述掩膜版的中心的磁感应强度，所述第二磁感应强度为所述第一线圈和所述第二线圈对所述掩膜版的顶角的磁感应强度；
所述掩膜版的中心与中心连线的中点重合，所述中心连线为所述第一线圈中心与所述第二线圈中心的连线，所述掩膜版为矩形，所述掩膜版的第一边的长度长于等于与所述第一边相邻的第二边的长度，所述第一线圈、所述第二线圈和所述掩膜版满足以下关系：
其中，p为第一磁感应强度与第二磁感应强度的比值，a为第一线圈的中心与所述第二线圈的中心之间的距离，b为所述掩膜版的所述第一边的长度。
2.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，
所述第一线圈的半径与所述第二线圈的半径相同；
所述第一线圈的半径与第一距离相同，所述第一距离为所述第一线圈的中心与所述第二线圈的中心之间的距离。
3.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，
所述蒸镀系统还包括供电电源和可调电阻，所述第一线圈、所述第二线圈和所述供电电源串联连接，所述可调电阻与所述第二线圈并联连接；
或者，
所述蒸镀系统还包括第一供电电源和第二供电电源，所述第一供电电源与所述第一线圈串联连接，为所述第一线圈供电，所述第二供电电源与所述第二线圈串联连接，为所述第二线圈供电。
4.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，
所述第一线圈和所述第二线圈均为单匝线圈；
或者，
所述第一线圈和所述第二线圈均为多匝线圈。
5.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，所述蒸镀系统还可包括第一铁磁性芯体和第二铁磁性芯体，
所述第一线圈缠绕在所述第一铁磁性芯体上，所述第二线圈缠绕在所述第二铁磁性芯体上。
6.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，还包括所述掩膜版。
7.根据权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，
所述第一电流的方向和所述第二电流的方向周期性变化。
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