CN112912668A - 用于运行家用烹饪器具的方法和家用烹饪器具 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种方法（S1‑S11），在该方法中在持续时间（Δt）里用参数配置（Sq）来运行烹饪物处理装置（6），以便处理烹饪物（G）。紧接在所述持续时间（Δt）结束之后借助于传感器（9）来确定所述烹饪物（G）的表面特性的测量值分布<Vp>，从第p个测量值分布<Vp>与测量值分布<Vp‑1>的比较中计算变化模式<E(Sq)>，并且为所有至此在这种方法的过程中所存储的变化模式｛<E(Sq)>｝计算相应的估计值Bq，所述估计值表示目标分布<Z>相对于测量值分布<Vp>的偏差与目标分布<Z>相对于预测模式<V’p>的偏差之间的差别，其中所述预测模式<V’p>表示测量值分布<Vp>与所属的变化模式<E(Sq)>的叠加，并且调节以下参数配置（Sq），所述参数配置的估计值Bq满足至少一个预先给定的标准。

Description

用于运行家用烹饪器具的方法和家用烹饪器具

技术领域

本发明涉及一种用于运行家用烹饪器具的方法，所述家用烹饪器具具有烹饪室、至少一个用于用多种参数配置对处于烹饪室中的烹饪物进行处理的烹饪物处理装置以及至少一个对准烹饪室里面的用于确定烹饪物的表面特性的分布的传感器，其中通过所述至少两种参数配置能够对所述烹饪物进行局部不同的处理，其中在所述方法中在第p个迭代步骤中（其中p≥1）在预先给定的持续时间（Δt）里用第q个参数配置S_q（其中q≤p）来运行烹饪物处理装置，以用于处理处于烹饪室中的烹饪物并且紧接在所述持续时间Δt结束之后借助于所述至少一个传感器来确定所述烹饪物的表面特性的第p个分布<V_p>。本发明也涉及一种用于执行所述方法的家用烹饪器具。本发明尤其能够有利地运用到微波器具上。

背景技术

US 2018/0098381 A1和US 2017/0290095 A1公开了一种用计算机实现的方法，该方法用于将电子炉的烹饪室中的物品朝目标状态进行加热。所述方法包括在所述炉处于特定的配置中时用一组相对于烹饪室的能量应用方案对物品进行加热这个步骤。所述组的能量应用方案以及所述配置定义所述室中的相应组的可变的能量分布。所述方法也包括对传感器数据进行采集的步骤，所述传感器数据定义所述烹饪物的、对所述组的能量应用方案所作出的、相应组的应答。所述方法也包括生成用于对所述室中的物品进行加热的计划的步骤。所述计划由炉的控制系统来产生并且使用所述传感器数据。

WO 2012/109634 A1公开了一种用于用HF能量对物体进行处理的装置。所述装置能够包括显示器，以用于向使用者显示有待加工的物体的图像，其中所述图像包括所述物品的至少一个第一部分和第二部分。所述装置也能够包括输入单元和至少一个处理器，所述处理器被配置用于：接收基于在所述输入单元上所提供的输入的信息并且用于产生处理信息，所述处理信息用于基于所接收的信息在对物体进行加工时使用，以用于在所述物体的第一区段中获得第一处理结果并且在所述物体的第二区段中获得第二处理结果。

发明内容

本发明的任务是，至少部分地克服现有技术的缺点并且尤其提供一种能够特别容易地实现的和有效的可行方案，以用于将烹饪物自动地处理到所期望的表面特性。

该任务按照独立权利要求的特征来解决。有利的实施方式是从属权利要求、说明书和附图的主题。

该任务通过一种用于运行家用烹饪器具的方法来解决，所述家用烹饪器具具有：

-烹饪室；

-至少一个用于用多种参数配置对处于烹饪室中的烹饪物进行处理的烹饪物处理装置，其中通过至少两种参数配置能够对所述烹饪物进行局部不同的处理；以及

-至少一个对准烹饪室里面的用于确定烹饪物的表面特性的分布<V>的传感器；

其中在所述方法中

a）在第p个迭代步骤中（其中p≥1）在预先给定的持续时间Δt里用第q个参数配置S_q（其中q≤p）来运行至少一个烹饪物处理装置，以用于处理处于烹饪室中的烹饪物；

b）紧接在所述持续时间Δt结束之后借助于所述至少一个传感器来确定或者测量所述烹饪物的表面特性的第p个分布<V_p>；

c）从第p个分布<V_p>与在步骤a）之前所记录的第（p-1）个分布<V_p-1>的比较中计算变化模式<E(S_q)>并且加以存储；

d）为所有至此所存储的变化模式｛<E(S_q)>｝计算相应的估计值B_q，所述估计值将第p个分布<V_q>与所属的变化模式<E(S_q)>联结成预测模式<V’_p>并且表示用于所述预测模式<V’_p>与用于烹饪物的目标分布<Z>的偏差的尺度；

e）调节以下参数配置S_q，所述参数配置的估计值B_q满足至少一个预先给定的标准；

f）为第p个分布<V_p>计算质量值Q_p，该质量值说明所述分布<V_p>相对于目标分布<Z>的偏差；并且

g）如果对所述质量值Q_p来说产生与第（p-1）个质量值Q_p-1相比相对于目标分布<Z>的足够更小的偏差，则在保持当前的参数配置S_q的情况下迭代地分支到步骤a）；并且

h）如果对所述质量值Q_p来说产生与Q_p相比相对于目标分布<Z>的不是足够更小的偏差，则调节新的参数配置S_q+1并且而后迭代地分支到步骤a）。

这种方法带来的优点是，它能够有效地并且在短的时间里如此对烹饪物进行处理，使得其获得与目标分布相对应的所期望的表面特性。

尤其所述方法能够在使用微波辐射或者HF辐射时借助于传感器的数据对烹饪物的加热分布进行有针对性的控制。因此，能够用小的开销实现对于烹饪器具的智能的控制，所述智能的控制能够动态地并且仅仅与当前的时刻相关地获得最佳可能的烹饪结果。尤其所属的计算开销是小的，使得所述方法的迭代步骤能够特别快地执行。也不需要用于存储大的数据量的存储器。由此，也能够在常规的烹饪器具中调节有针对性的温度模式和分布并且更确切地说这仅仅借助于简单的传感器来进行。

所述表面特性比如能够是在烹饪物的表面上测量的温度、湿度或者褐变程度，但是不限于此。所述分布<V_p>下面也被称为“测量值分布”并且表示烹饪物的在迭代p的期间所测量的实际分布。它而后能够按所测量的表面特性的类型被称为温度分布、褐变程度分布等等。所述目标分布<Z>能够类似地被称呼并且尤其无量纲。

参数配置S_q通常相应于特定的值空间，该值空间通过相应的调节或者运行参数来撑开。换言之，参数配置S_q相应于家用烹饪器具的、特定的第q组的调节值或运行值。参数配置S_q包括家用烹饪器具的至少一种调节或运行参数的至少两个可能的调节值。在此，每种运行参数能够具有至少两个值或状态。在最简单的情况中，这两个状态能够是“开”和“关”。至少两种参数配置对烹饪物进行局部不同的处理，由此在通过两种参数配置对烹饪物进行相应的作用时产生表面特性的不同的分布。

所述家用烹饪器具能够是微波器具，其中所述烹饪物处理装置而后具有至少一个用于将微波引入到烹饪室中的微波机构。所述微波机构尤其具有至少一个微波发生器（比如磁控管、换流器控制的微波发生器、基于固体的微波发生器（“Solid State MicrowaveGenerator”）等等）。作为所述微波发生器的改变烹饪室中的场分布的调节或运行参数，能够（尤其在基于半导体地产生微波功率时）比如使用运行频率、对于多个微波发生器和/或馈入点来说能够使用其相对相位等等。

此外，所述微波机构能够具有用于将由微波发生器产生的微波导引到烹饪室中的微波导引机构。所述微波导引机构比如能够是或者具有波导管或者HF电缆。

此外，所述微波机构能够具有至少一个能调节的改变场的组件，也就是说，按所述改变场的组件的位置所述微波的在烹饪室中的场分布是不同的。根据这些改变场的组件的调节或运行参数的调节，而出现特定的场分布并且由此出现烹饪物中的特定的加热或变化模式。

所述至少一个改变场的组件比如能够具有或者是至少一个能旋转的天线，所述天线将微波能量比如由微波机构耦合输出到烹饪室中。这些旋转天线典型地不是旋转对称地成形，因而对其来说能够将角度位置规定为调节或运行参数，所述角度位置比如能够通过步进马达来有针对性地调节。在一种改进方案中，所述至少一个能旋转的天线也能够相对于其高度位置来调节。

作为附加方案或替代方案，所述至少一个改变场的组件能够具有至少一个能够相对于其空间位置来调节的微波反射器。所述微波反射器能够旋转和/或能够移动。能旋转的微波反射器能够被构造为模式摇变器（“Wobbler（摆频信号发生器）”）。能移动的微波反射器能够被构造为能在空间上移动的电介质（比如由特氟隆构成）。

对于所述至少一个烹饪物处理装置具有或者包括微波机构这种情况来说，因此所述至少一个调节或运行参数能够包括来自以下组别的至少一个运行参数，所述组别是

-至少一个能旋转的天线的相应的旋转角；

-至少一个能旋转的天线的相应的高度位置；

-至少一个微波反射器的空间位置；

-微波频率；

-不同的微波发生器之间的相对相位;

这并不排除也还可以调节所述微波机构的另外的能改变场分布的运行参数。

对于所述家用烹饪器具是微波器具并且所观察的表面特性是温度这种情况来说，所述方法也能够被表达如下：

-所述至少一个烹饪物处理装置包括用于将微波引入到烹饪室中的微波机构，其中通过所述微波机构的至少两种参数配置能够在烹饪室中产生微波的不同的场分布；

-所述表面特性是烹饪物的表面温度；并且

-所述至少一个传感器包括至少一个对准烹饪室里面的用于确定烹饪物上的测量值分布<V>的红外传感器；

其中在所述方法中

a)在第p个迭代步骤中（其中p≥1）在预先给定的持续时间Δt里用第q个参数配置S_q（其中q≤p）来运行所述微波机构，以用于用微波来处理处于烹饪室（2）中的烹饪物（G）；

b）紧接在所述持续时间Δt结束之后借助于所述至少一个红外传感器来确定所述烹饪物的第p个测量值分布<V_p>；

c）从所述第p个测量值分布<V_p>与在步骤a）之前所记录的第（p-1）个测量值分布<V_p-1>的比较中计算变化模式<E(S_q)>并且加以存储；

d）为所有至此在这种方法的过程中所存储的变化模式｛<E(S_q)>｝计算相应的估计值B_q，所述估计值表示目标分布<Z>相对于测量值分布<V_p>的偏差与目标分布<Z>相对于预测模式<V’_p>的偏差之间的差别，其中所述预测模式<V’_p>表示所述测量值分布<V_p>与所属的变化模式< E(S_q)>的叠加；

e）调节以下参数配置S_q，所述参数配置的估计值B_q满足至少一个预先给定的标准；

f）为第p个测量值分布<V_p>计算质量值Q_p，该质量值说明所述测量值分布<V_p>相对于目标-测量值分布<Z>的偏差；并且

g）如果对所述质量值Q_p来说产生与第（p-1）个质量值Q_p-1相比相对于目标分布<Z>的足够更小的偏差，则在保持当前的参数配置S_q的情况下迭代地分支到步骤a）；并且

h）如果对所述质量值Q_p来说产生与Q_p相比相对于目标-测量值分布<Z>的不是足够更小的偏差，则调节新的参数配置S_q+1并且而后迭代地分支到步骤a）。

但是，所述家用烹饪器具也能够是烤炉，其中所述烹饪物处理装置而后具有至少一个尤其用电来运行的、用于将热辐射引入到烹饪室中的辐射加热体、比如至少一个低热加热体、至少一个高热加热体和/或至少一个烧烤加热体。

一种改进方案是，对于烤炉的情况来说，所述至少一个烹饪物处理单元包括来自以下组别的至少一个烹饪物处理单元，所述组别具有

-至少一个电辐射加热体；

-至少一个感应线圈；

-至少一个辐射定向的冷却空气风扇；

-至少一个辐射定向的加热空气机构；和/或

-至少一个辐射定向的水馈入机构；

由此实现以下优点，即所述表面特性可以用许多装置（如果在家用烹饪器具中存在的话）来单个地或者在任意的组合中来统一或者调节到表面特性的其他目标分布。这又提高了所述方法的效率。“辐射定向”的装置尤其能够是指材料引入单元，该材料引入单元被设置用于将至少一个局部限定的定向的材料流引入到烹饪室中，以用于对烹饪物进行局部处理。

所述至少一个电辐射加热体用于对烹饪室或者在烹饪室中存在的烹饪物进行加热。它能够是相应的管形加热体，作为替代方案或附加方案比如是印制导线、电阻式表面加热元件等等。如果所述家用烹饪器具配备有至少一个电辐射加热体，则所述烹饪室也能够被称为炉室。

所述至少一个辐射加热体比如能够包括至少一个用于产生低热或低热功能的低热加热体、至少一个用于产生高热或者高热功能的高热加热体、至少一个用于（必要时与至少一个高热加热体一起）产生烧烤功能的烧烤加热体、用于产生热空气或者热空气功能的环形加热体。辐射加热体的调节或运行参数尤其能够包括不同的电气的功率或功率级、比如＜0W、200W、…、800W＞。

一种设计方案是，所述至少一个电辐射加热体包括至少两个辐射加热体并且所述参数配置包括用于其中至少两个辐射加热体的调节值。换言之，为了执行所述方法，能够利用不同的功率分布，所述不同的功率分布相应于至少两个辐射加热体的不同组的调节参数。

一种改进方案是，所述辐射加热体能够单个地或者个别来运行，并且更确切地说这尤其不取决于多个辐射加热体在选择特定的运行方式（比如烧烤运行方式）时是否一起运行。这带来以下优点，即：能够提供特别好地与所述表面特性的所期望的分布的实现情况相适配的功率分布。

一种改进方案是，所述辐射加热体（尤其仅仅）能够作为功能上的“运行方式”组或加热方式来激活，所述功能上的“运行方式”组或加热方式配属于特定的运行方式。在此，在一种变型方案中，对于至少一种运行方式来说刚好一个辐射加热体能够激活或者为这种运行方式能够分配刚好一个辐射加热体。在至少一种另外的运行方式中至少两个辐射加热体被激活或者为这另外的运行方式分配了至少两个辐射加热体。为了进行比较而在步骤b）中预先给定的局部的功率分布而后能够从属于不同的运行方式的辐射加热体的功率输入中得出。

所述家用烹饪器具也能够是由烤炉和微波器具构成的组合、比如具有附加的微波功能的烤炉或者具有附加的炉功能的微波器具，其中所述组合器具而后具有至少一个微波机构和至少一个辐射加热体。

一种设计方案是，所述至少一个传感器包括至少一个红外传感器和/或至少一个光学传感器。因此，可以特别可靠地确定并且有效地评估表面状态。所述光学传感器尤其适合用于确定褐变程度和/或确定烹饪物的表面上的湿度，而所述红外传感器则尤其适合用于确定烹饪物的表面上的温度分布。所述红外传感器尤其在近红外范围（NIR）内是敏感的。

因此，一种改进方案是，由所述至少一个传感器的测量值尤其作为二维图像来提供烹饪物的表面状态的位置分辨的、尤其是像点状的测量值分布<V>。为此，至少一个传感器能够是位置分辨地测量的传感器。这允许有利地特别快地执行所述方法。

一种改进方案是，所述至少一个光学传感器包括或者是相机，该相机记录烹饪物的像点状组合的图像。所述相机、尤其是数码相机有利地是彩色相机，但是也能够是黑白相机。

一种设计方案是，所述至少一个红外传感器包括至少一个像点状分辨的IR相机，其用于记录至少一幅像点状的热图像（也被称为热图像相机）。

作为替代方案或附加方案，能够使至少一个传感器相对于烹饪物来运动（比如由于固定在能移动的承载部上）并且在不同的空间位置上执行测量，所述测量被合并成全貌。由此实现以下优点，即：能够更加完整地检测或者测定尤其也体积大的或者不平坦的烹饪物的表面。作为替代方案或附加方案，也能够使用多个从不同的视角和/或在不同的位置对准烹饪室里面的传感器，其测量比如能够被合并成全貌。所述至少一个红外传感器而后比如能够被构造为至少一个所谓的温差电堆或者“热电堆”等等。所述至少一个红外传感器也能够被构造为IR分光镜。

作为附加方案或替代方案，能够使所述烹饪物运动，以用于测量其表面特性。比如能够将所述烹饪物放到转盘上。作为附加方案或替代方案，所述烹饪物能够在烹饪室中进行高度调节，这比如通过尤其用马达方式能高度调节的用于烹饪物承载部的支架或者通过能高度调节的烹饪物承载部来进行。所述烹饪物的高度调节尤其自动地通过家用烹饪器具来进行。

一种设计方案是，为了确定所述烹饪物的测量值分布<V>而对其在热图像中的测量值分布<V>进行隔离，也就是说，对所述方法来说仅仅观察烹饪物的测量值分布，而所述烹饪物的环境的表面特性（比如烹饪物承载部、烹饪室壁等等的表面特性）则被忽略或者被去除。换言之，将所述烹饪物的表面的测量值与其他表面或图像区域的测量值分开。为了实现这一点，能够使通过所述传感器来记录的图像比如经受图像评估、尤其是物体识别。这能够实现特别精确地自动地确定烹饪物在烹饪室中的位置。

作为替代方案或附加方案，所述烹饪室中的烹饪物的表面能够通过对于在烹饪过程的开始时的热变化的评估来确定。因此，所述烹饪物的表面通常比典型地金属的烹饪物承载部发热得慢，这比如能够在热图像序列中看出并且能够评估。作为替代方案或附加方案，能够对取决于波长的反射中的时间上的变化进行评估。

作为替代方案，能够通过其他方式、比如在用户侧确定烹饪物在烹饪室中的位置。比如，在一种改进方案中，能够记录烹饪室的外观图并且比如在比如家用烹饪器具的触敏屏和/或用户终端设备、比如智能手机或平板电脑上提供给用户以进行查看。用户现在能够确定与烹饪物相对应的图像面。这比如能够通过借助于手指或笔使烹饪物的通过用户来识别的轮廓在触敏屏上移动这种方式进行。作为替代方案，所记录的图像能够在图像方面被划分为部分区域，并且用户能够选择以下部分区域，在所述部分区域上显示了烹饪物，并且尤其在所述部分区域上主要地显示了烹饪物，尤其在所述部分区域上仅仅显示了烹饪物。所述家用烹饪器具接下来能够仅仅将在用户侧所选择的分段用于执行所述方法。

所述变化模式<E(S_q)>是在第p个迭代步骤中所记录的测量值分布<V_p>及在之前的第（p-1）个迭代步骤中所记录的测量值分布<V_p-1>的函数，这也能够被表达为 <E>=f(<V_p>,<V_p-1>)，其中所述测量值分布<V_p>和<V_p-1>又基于相应的参数配置S_q，所述参数配置能够相同或者不同。所述比较尤其能够是一般的差。

对于所述表面特性是温度这种情况来说，所述变化模式<E(S_q)>描绘了温度升程，所述温度升程在特定的参数配置S_q中产生并且能够通过将在迭代步骤(p-1)和p中的温度分布彼此进行比较这种方式来确定。

此外，为所有至此在这种方法的过程中所存储的变化模式｛<E(S_q)>｝计算相应的估计值B_q，所述估计值表示目标分布<Z>相对于测量值分布<V_p>的偏差与目标分布<Z>相对于预测模式<V’_p>的偏差之间的差别，其中所述预测模式<V’_p>表示测量值分布<V_p>与所属的变化模式<E(S_q)>的叠加。所述预测模式<V’_p>相应于在所述变化模式<E(S_q)>被运用到<V_p>上时会产生的测量值分布。

所述估计值B_q又说明，所属的变化模式<E(S_q)>相对于当前的测量值分布<V_p>的运用在多大程度上使这个测量值分布<V_p>可能接近于目标分布<Z>。由此实现以下优点，即：通过这种方式能够估计可供使用的参数配置S_q的调节对下一个迭代步骤的影响。

调节以下参数配置S_q，该参数配置的估计值B_q满足至少一个预先给定的标准，这一点包括：产生刚好一个这样的估计值B_q、也就是以下估计值B_q，所述估计值在下一个迭代步骤中的运用可能实现与目标分布<Z>的最佳接近。

为以下情况实施步骤g），即：所述第p个测量值分布<V_p>比前一个、即第(p-1)个测量值分布<V_p-1>更好地与目标分布<Z>相适配，也就是说已经引起所述实际分布<V>的朝着达到目标分布<Z>的方向的改进。在一种改进方案中，“足够小的偏差”能够是指一种偏差，对于该偏差来说就质量值Q_p而言产生与第（p-1）个质量值Q_p-1相比相对于目标分布<Z>的足够更小的偏差。而后为以下情况实施步骤h），即：就质量值Q_p而言产生与质量值Q_p-1相比相对于目标分布<Z>的不是足够更小的偏差。

因此而后为以下情况实施步骤h），即：所述第p个测量值分布<V_p>比前一个测量值分布<V_p-1>差地与目标分布<Z>相适配，也就是说已经引起所述实际分布的变差，尽管对于基础的参数配置S_q来说按照其估计值B_q可以预料到所有至此所调节的参数配置S_q的可能最好的结果。作为这种情况的补救办法，现在选择并且调节以前还没有使用过的新的参数配置S_q+1。因此，用于执行所述方法的参数配置｛S_q｝的储备逐渐地并且以需求为导向地扩展。但是不知道所述新的参数配置S_q+1是否产生比以前的测量值分布<V_p+1>更好的测量值分布<V_p+1>。

在另一种改进方案中，“足够小的偏差”也能够是指一种偏差，对于该偏差来说就质量值Q_p而言产生与第（p-1）个质量值Q_p-1相比相对于目标分布<Z>的足够更小的偏差或者对于该偏差来说所述第p个测量值分布<V_p>的相对于前一个测量值分布<V_p-1>的改进达到或者超过预先给定的最小尺度。这一点因此也能够被表达如下：如果更大的Q意味着更好的一致性，则必须适用Q_p≥a·Q_p-1，其中a＞1。预先给定的因数a也能够被称为“改进-最小尺度”。如果更小的Q意味着更好的一致性，则能够将所述条件表达为Q_p≤a·Q_p-1，其中a＜1。

而后为以下情况来实施步骤h），即：所述第p个测量值分布<V_p>的相对于前一个测量值分布<V_p-1>的改进没有足够明显地存在。因此，在这种情况下也要选择或者调节新的参数配置S_q+1，如果适用Q_p≥a·Q_p-1，其中a＞1，尽管能够满足Q_p>Q_p-1。

现在，在下一个迭代步骤中，从参数配置｛S_q｝的扩大的储备中又借助于估计值B_q来选择既存的参数配置S_q，除此之外要重新选择最后补充的（“最新的”）参数配置S_q ，尽管没有观察到任何改进。

一种设计方案是，在步骤h）中一直调节新的参数配置S_q+1，直至在最新的参数配置S_q 中出现所述测量值分布<V>的（尤其足够明显的）改进。因此，在本方法中可能的是，烹饪物处理的结果至少对迭代步骤来说在实际上保持相同或者甚至可能变差。

一种改进方案是，所述测量值分布<V_p>如此是分段式的测量值分布，使得其具有不同的部分区域，所述部分区域则具有相应统一的测量值。比如，由相机记录的图像被划分为具有特定的边缘长度或者特定数目的像点的图像分段。通过一个分段来示出的值是对这个分段来说恒定的测量值并且比如能够通过在相应的分段中所包含的像点值或者像素值的平均值形成来确定。在极端情况下，所述分段相应于各个像点，也就是说，所述烹饪物的用于执行方法的测量值分布是像点式的温度分布。一种设计方案是，所述（实际）测量值分布<V_p>、目标分布<Z>和变化模式<E(S_q)>是分别具有k个分段的分段式的分布。

一种改进方案是，如果满足了至少一个预先给定的中断标准，则结束所述方法。所述中断标准尤其可能取决于最后所记录的测量值分布<V_p>。

一种设计方案是，如果所述质量值Q_p达到预先给定的标准和/或所述烹饪物达到预先给定的目标值（V_目标），则结束所述方法。因此，可以实现处理完毕的烹饪物与所期望的最终状态的特别可靠的接近。

一种设计方案是，所述质量值Q_p的标准包括目标质量值Q_目标的达到。在Q_p越小测量值分布<V_p>就越好地接近于目标分布<Z>这个前提下，如果适用Q_p≤Q_目标，则比如能够满足所述中断标准。这个标准因此可以有利地加以使用，如果要在所述测量值分布<V_p>足够接近于目标分布<Z>时中断所述方法。

如果所述标准包括烹饪物达到预先给定的目标值V_目标这一点，则能够将这个目标值与测量值分布<V_p>进行比较，但是这不需要。因此，所述标准比如也能够包括达到在用户或者程序侧预先给定的烹饪持续时间、核心温度等等这样的情况。

一种设计方案是，如果满足了max（<V_p>）≥V_目标或者min（<V_p>）≥V_目标，则所述烹饪物已经达到了预先给定的目标值V_目标。因此，可以特别可靠地达到烹饪物的不同的所期望的最终状态。所述标准max（<V_p>）≥V_目标比如说明，如果也仅仅一个分段已经达到了目标值V_目标，则应该结束所述方法。因此，能够有利地防止对于烹饪物的太过强烈的或者太长时间的处理。所述标准min（<V_p>）≥V_目标说明，如果所有分段已经达到了目标值V_目标，则应该结束所述方法。因此，能够有利地防止对于烹饪物的非连贯的处理。

一种设计方案是，所述变化模式<E(S_q)>分段式地作为第p个测量值分布<V_p>与第(p-1)个分布<V_p-1>之间的差尤其按照

来计算或者相对于第i个分段按照

来计算。所述变化模式<E(S_q)>表示在调节参数配置S_q时对于烹饪物的处理的效果。所述变化模式<E(S_q)>也能够被称为变化分布。

一种设计方案是，所述估计值B_q=B(S_q)按照

来计算或者对于i=1、…、k个分段来说按照

来计算，其中所述预测模式<V’_p比如能够按照

来计算并且所述指数因数d被预先给定。<E(S_q)>、<V’_p>和<V_p>接下来能够作为分量而具有绝对温度并且而后尤其不是比如标准化的相对分布。

<Z*>表示目标分布，所述目标分布相对于当前的测量值分布<V_p>并且相对于<V_p>的k个分量的从中推导出来的平均值D作为瞬时的目标状态在考虑到温度值的情况下来争取达到（“目标-测量值分布”），其中

；

D尤其是以℃为单位的温度说明。所述目标分布<Z>无量纲，而<Z*>则以℃来记录。

由此，所述目标-测量值分布<Z*>能够分量式地为所有Z*_i按照

来定义，这也能够被书写为<Z*>=D·<Z>。所述指数因数d说明，应该在多大程度上考虑到与目标分布<Z>的偏差。对于d＞1来说，所述估计值B_q优选使用加热模式<E(S_q)>，所述加热模式对实际-测量值分布<V_p>相对于目标分布<Z>的大的差别进行补偿。

根据有待处理的烹饪物，对于d的个性化的选择可能是有利的。尤其因此能够对要快速加热的具有小的热容量的烹饪物（比如爆米花）或者具有较高的热容量和相应迟钝的响应特性的烹饪物（比如较大的烤块）进行区分。

但是，所述预测模式<V’_p>也能够以其他方式来计算，比如通过将变化模式 <E(S_q)>与测量值分布<V_p>加权地相加这种方式来计算。

一种设计方案是，所述质量值Q_p按照

来计算。

就对所有i来说Z_i=1的情况、也就是均匀的目标分布<Z>的情况而言，Q_p相应于标准偏差。Q_p因此也能够被称为“经过修改的标准偏差”并且视为用于所述实际-测量值分布<V_p>与目标-测量值分布<Z*>=D·<Z>有多类似的尺度。

同样能够引用标准化的经过修改的标准偏差Q_p,norm。该标准偏差尤其具有以下优点，即：其在不取决于绝对温度的情况下说明实际-测量值分布<V_p>与目标-测量值分布<Z*>=D·<Z>的相似度并且始终处于0到1的值范围内。

为此，要将<V_p>的所有k个分量标准化到最大值V_max=max｛V_p,i｝，由此，分量地确定<V_{p_norm}>：

。

与Q_p相类似，Q_{p_norm}能够按照

来定义。下面将Q_{p_norm}和Q_p用作相同的意义。一般来说，能够意义相同地用标准化的值或参量并且用非标准化的值或参量来执行所述方法。

所述任务也通过一种家用烹饪器具来解决，该家用烹饪器具被设计用于执行如上所述的方法。该家用烹饪器具能够与所述方法相类似地构造并且具有相同的优点。

一种设计方案是，至少一个用于用多种参数配置对处于烹饪室中的烹饪物进行处理的烹饪物处理装置具有至少一个对准烹饪室里面的用于确定烹饪物的表面特性的分布<V>的传感器以及用于执行所述方法的数据处理机构，其中能够通过至少两种参数配置来对所述烹饪物局部不同的处理。

附图说明

本发明的上面所描述的特性、特征和优点以及如何实现其的方式方法结合以下对一种实施例所作的示意性的描述而变得更加清楚易懂，下面结合附图对所述实施例进行详细解释。其中：

图1示出了家用烹饪器具的简化的草图，该家用烹饪器具被设置用于执行上面所描述的方法；并且

图2示出了上面所描述的方法的不同的流程步骤。

具体实施方式

图1作为剖面图以侧视图示出了一种呈微波器具1的形式的家用烹饪器具的草图，该家用烹饪器具被设置用于运行在图2中详细描绘的方法。所述微波器具1具有烹饪室2，该烹饪室具有能够借助于门4来封闭的正面的装料口3。在烹饪室2中在烹饪物承载部5上布置了烹饪物G。

此外，所述家用烹饪器具1具有至少一个呈微波产生机构6的形式的烹饪物处理单元。所述微波产生机构6比如能够具有换流器控制的微波发生器、能旋转调节和/或能高度调节的旋转天线7和/或能旋转调节和/或能高度调节的摆频信号发生器（无图）。所述微波器具1能够附加地具有红外辐射加热体（无图）、比如低热加热体、高热加热体和/或烧烤加热体。

所述微波产生机构6借助于控制单元8来操控。尤其所述微波产生机构6能够被调节到至少两种在烹饪室2中具有不同的场分布的参数配置S_q上。不同的参数配置比如能够相应于旋转天线7的不同的旋转角。所述旋转角由此相应于所述微波器具1的改变场的调节或运行参数，所述调节或运行参数具有至少两个呈旋转角度值的形式的调节值。

此外，所述控制单元8与呈热图像相机9的形式的光学传感器相连接。所述热图像相机9如此布置，使得其对准烹饪室2里面并且能够记录烹饪物G的像点式的热图像。由此，所述热图像相机9能够用于记录或者确定烹饪物G的表面上的温度分布<V>。

此外，所述控制单元8能够被设置用于执行上面所描述的方法并且也能够用作评估机构。作为替代方案，所述评估能够在器具外部的机构、比如网络计算机或者所谓的“云”上进行（无图）。

图2示出了上面所描述的方法的不同的流程步骤，所述流程步骤比如能够在图1所描绘的微波器具1中运行。这种方法被构造为迭代方法，其中所述迭代的次数通过步骤或迭代下标p来说明。

在将烹饪物G引入到烹饪室2中之后，开始所述方法并且为此首先执行初始或者起始步骤S0。能够为这个起始步骤S0分配迭代下标p=0。

在所述起始步骤S0的第一子步骤S0-1中调节用于烹饪物G的目标温度T_目标。

接下来在子步骤S0-2中调节用于旋转天线7的第一参数配置S_q=S₁并且而后借助于由微波产生机构6输出的微波将烹饪物G处理预先给定的持续时间Δt（比如在2s与15s之间）。至此在所述方法的范围内所调节的参数配置S_q的数目用下标q来表示。因此，在一开始适用q=1。所述第一参数配置S₁能够被预先给定或者是随机地或者伪随机地来选择。

在持续时间Δt结束之后，在第三子步骤S0-3中借助于热相机来确定烹饪物G的起始的温度分布<V_p=0> 。

所述烹饪物G的温度分布<V_p>如此是分段式的温度分布，因而其具有不同的部分区域，所述部分区域则具有相应的统一的温度值。比如，由热图像相机记录的图像能够被划分为具有特定的边缘长度或者特定数目的像点的图像分段。通过一个分段来描绘的值是对该分段来说恒定的温度值并且比如能够通过在相应的分段中所包含的像点值或者像素值的平均值形成来确定。在极端情况下，所述分段相应于各个像点，也就是说，烹饪物的用于执行所述方法的温度分布是像点式的温度分布。下面要示范性地假设，所述烹饪物G的温度分布<V_p>被划分为k个分段V_p;i，其中i=1、…、k，也就是说适用<V_p>=<V_p;1；…；V_p;k>。

在方法步骤S1中以第q个参数配置S_q（其中q≤p）将所述微波机构运行预先给定的持续时间Δt，以用于用微波对处于烹饪室中的烹饪物G进行处理。如果在起始位置S0之后第一次执行步骤S1或者步骤S1紧接在起始步骤S0之后，则适用p=q=1。因为所述参数配置S_q能够从一组最大p个参数配置中选出，所以，如果第一次执行步骤S1，则首先仅仅存在所述在步骤S0-2中所调节的参数配置S₁。

在步骤S2中，在持续时间Δt结束之后借助于热相机来确定烹饪物G的第p个温度分布<V_p>。所述温度分布的确定能够包括对于各个像点的配属于相应的分段V_p;i的温度测量值的平均，如果所述分段V_p;i包括一个以上的像点的话。

在一种具有k=4个的简化的实例中，所述温度分布<V_p>在迭代步骤p中呈现如下：

其中各个温度值V_p,i以摄氏度来说明。

在步骤S3中查询，在步骤S2中所测量的温度分布<V_p>是否已经达到或超过目标-温度值T_目标。如果是（“J”），则在步骤S4中结束所述方法。步骤S3中的条件或查询通常也能够被书写为<V_p>≥T_目标并且在一种实例中能够被设计为

max｛V_p,i｝≥T_目标，

也就是说，如果所述温度分布<V_p>的至少一个分段V_p,i已经超过目标温度，则结束所述方法。作为替代方案，如果特定数目的分段V_p,i、特定百分率的分段V_p,i或者所有分段V_p,i已经达到或者超过目标-温度值T_目标，则比如能够结束所述方法。最后一个条件也能够被称为min｛V_p,i｝≥T_目标。

如果在所述在步骤S3中所执行的查询中不满足所述条件（“N”），则分支到步骤S5。

在步骤S5中将之前所测量的第p个温度分布<V_p>与之前所测量的温度分布<V_p-1>相比较或者相联结并且从中计算出对当前所调节的参数配置S_q来说特有的变化模式<E(S_q)>，并且而后将这种变化模式<E(S_q)>加以存储。这一点尤其能够如此来执行，从而分段式地比较所述温度分布<V_p-1>和<V_p>，也就是说将两个温度分布<V_p-1>和<V_p>的具有相同的下标i的相应的分段彼此联结起来。

尤其能够作为两个温度分布<V_p-1>和<V_p>的差来计算所述变化模式<E(S_q)>，也就是说，确定<E(S_q)>= <V_p>-<V_p-1>。所述变化模式<E(S_q)>因此同样被划分为k个分段E_i(S_q)。在此，尤其将具有相同的下标i的分段V_p;i和V_p-1;i从彼此当中扣除，也就是说，为所有分段E_i(S_q)计算联结关系

，

所述变化模式<E(S_q)>相应于所述两个在时间上彼此先后相随的温度分布<V_p-1>和<V_p>之间的温差的分段式的分布并且由此在内容上相应于通过这种所调节的参数配置S_q所引起的、作用到烹饪物G上的效应。

关于上述实例，如果适用

，

则比如按照

来产生变化模式E_q≡<E(S_q)>。

所述变化模式<E(S_q)>除了能够被规定为温差之外，比如也能够被规定为每时间单位的温度升高。物理单位在这种情况下比如能够被规定为℃/s。

在步骤S6中，为所有至此所存储的变化模式<E(S)>=｛<E(S_q)>｝计算相应的估计值B(S_q)。在首次执行步骤S5时，仅仅存在所述变化模式<E(S₁)>，因而也仅仅计算一个估计值B(S₁)。

所述估计值B(S_q)在这里基于所述温度分布<V_p>和预测模式<V’_p>与用于烹饪物G的目标模式<Z>的相应的联结。在此，如果运用所述参数配置S_q，那么所述预测模式<V’_p>就相应于分段式的温度分布，所述分段式的温度分布则相应于为下一个迭代步骤近似计算的或者所约计的温度分布。

能够为特定的变化模式<E(S_q)>比如分段式地按照

来计算所述预测模式<V’_p>。在其余的实例中，在此会得出：

。

所述估计值B(S_q)表示用于预测模式<V’_p>相对于用于烹饪物G的目标模式<Z>的可能的偏差的品质或尺度。“最好的计算值”B(S_p)说明，如果所述微波机构被调节到属于此的参数配置S_q，则大概可能地比用其他已经调节的或者所测试的参数配置S_q更好地对目标模式 <Z>进行约计。所述估计值B_p=B(S_p)也能够被称为“预测品质”。

尤其能够按照

来计算所述估计值B(S_p)，这在与分段相关的描述中相应于计算

其中k是分段i的数目。在这种情况下。B_p的值越大，则越好地对所述目标分布<Z>进行约计。

所述指数d的值是预设的值，该值确定，在多大程度上考虑到与目标分布<Z>的偏差。对于d＞1来说得出这一点，即：所述估计值B优选使用这样的变化模式<E(S_q)>，所述变化模式对当前的温度分布<V_p>相对于目标分布<Z>的大的差别进行补偿。

在上述实例中，对于作为（标准化的）目标分布<Z>来说期望具有T_目标=80℃的均匀的温度分布，也就是说，适用：

，

因而对于d=1和φ(<V_p>)的平均值D来说得出

，

其中

并且从中得出估计值

B(S_q)=

。

为了进行比较，现在确定另一个较旧的加热模式<E_j>的估计值B_j（其中j＜g）：

B(S_j)=

。

因此，会选择变化模式<E_j>≡<E(S_j)>，因为适用B(S_j) ＞B(S_q)。所述通过<E_q>≡<E(S_q)>的运用而产生的模式<V’_p(E_j)>与通过<E(S_j)>的运用而产生的模式<V’_p(E_j)>的比较说明，结果< V’_p(E_j)>更为均匀：

。

在所述方法的一种变型方案中，能够取代

而使用平均值D’，该平均值在运用变化模式<E(S_q)>时已经一同考虑到可预料的加热，这可以用以下形式

来描述。D和D’能够以℃来说明。

还是在一种变型方案中，尤其能够在与所有变化模式的全体的平均的加热的比较中同样一同考虑到变化模式<E(S_q)>的平均的加热。

一种改进方案是，排除以下变化模式，所述变化模式在其平均的加热中没有某个最小阈值。由此，能够防止对于所述方法的错误控制，因为在极限情况<E(S_q)>=<0>中，

其中

并且对

来说由此适用B_q=0。

在步骤S7中，调节来自可用组别的至此至少已经调节过一次的参数配置｛S_q｝的参数配置S_q，该参数配置大概可能最佳地接近于目标分布<Z>。这尤其能够是与最大的估计值B(S_q)相对应的参数配置S_q。

在步骤S8中，此外为第p个温度分布<V_p>计算所属的第p个标量的质量值Q_p(<V_p>、<Z>)，该质量值计量当前所测量的第p个温度分布<V_p>与目标分布<Z>的偏差或者表示用于当前所测量的第p个温度分布<V_p>与目标分布<Z>的相似度。比如，能够按照

来计算质量值Q_p，其中D相应于所有分段V_p,i的平均值，这比如能够按照

来计算。在此D处于0≤D≤1的值范围内。Q_p越小，则<V_p>就越靠近<Z>。类似地，也能够取代Q_p而使用Q_p,norm。

就均匀的目标-温度分布而言（该目标-温度分布比如能够被表达为<Z>=恒定的），Q_p相应于标准偏差。Q_p因此在上述具体的设计方案中也能够被称为“经过修改的标准偏差”。

在这个计算步骤中，在一种变型方案中，有利地取代温度分布<V_p>而使用被标准化到分段V_p,i的最大的温度值V_p,max上的温度分布<V*_p>，该温度分布具有其分段V*_p,i=比如V_p,i/V_p,max，并且在此也从所述标准化的分段V*_p,i中计算平均值D。

步骤S9也能够是可选的，在该步骤S9中检查，是否适用Q_p≤Q_目标，也就是说，是否所述质量值Q_p已经达到了预先给定的目标值Q_目标，也就是，是否已经足够精确地达到了所述目标分布<Z>或者<Z*>。如果是（“J”），则返回分支到步骤S1。

如果所述质量值Q_p没有达到至少一个标准（“N”），则分支到步骤S10。

在步骤S10中查询，所述质量值Q_p比为前一个第(p-1)个步骤所计算的质量值

更差还是更好，这通过表述

来象征。如果是（“J”），则在保持当前的参数配置S_q的情况下返回分支到步骤S1。在此，按照p:=p+1给迭代下标p增加了值一。

如果在步骤S10中所述质量值Q_p比质量值Q_p-1更差（“N”）（也就是说与目标分布<Z>的一致性对第p个过程来说比在前一个第(p-1)个过程中更差），则在步骤S11中调节新的参数配置S_q+1并且而后返回分支到步骤S1。在此，按照p:=p+1给所述迭代下标p增加一（“迭代的返回分支”）。所述新的参数配置S_q+1在所述方法的范围内至此尚未被调节。该新的参数配置能够被预先给定或者随机地或者伪随机地来选择。由此所述参数配置S_q的组｛S_q｝的组成员的数目提高了一。

上面所描述的方法能够实现在使用微波辐射或HF辐射时借助于热图像相机的数据来对烹饪物的加热分布进行有针对性的控制。因此，能够以小的开销实现对于微波烹饪器具的智能控制，所述智能控制能够动态地并且仅仅与当前的时刻相关地获得最佳可能的烹饪结果。由此，也能够在常规的微波器具中调节有针对性的温度模式和分布，这一点迄今被视为几乎是不可能的并且更确切地说仅仅借助于简单的热相机和用于旋转天线的步进马达来进行。

当然，本发明不局限于所示出的实施例。

因此，上述方法步骤也能够以其他顺序或者必要时也并行地来执行。比如，所述步骤S5到S7和S8到S10的顺序能够倒转，所述步骤S3和S4能够紧挨着在步骤S8之前或者之后来执行等等。

也能够已经为步骤p=1来执行所述步骤S8和S8，如果存在质量值Q₀，比如因为其已经在起始步骤S0的范围内被计算出。

此外，能够在步骤S10中要求，所述质量值Q_p相对于以前的迭代的质量值Q_p-1的改进必须比如以条件Q_p≤Q_p-1·a的形式（其中a＜1，比如a=0.995）达到或者超过特定的最小尺度a，如果更小的Q意味着更好的一致性。所述最小尺度a能够任意地、但是而后固定地来选择或者能够动态地对其进行适配。因此，能够有利地防止出现准静态的状态，在所述准静态的状态中仅仅出现一次无限小的烹饪进展。如果不满足所述条件，则分支到步骤S11。因此，步骤S10能够如此构成，从而，如果不仅满足了条件Q_p＜Q_p-1而且满足了条件Q_p＜Q_p-1·a（其中a＜1），而后才直接返回分支到步骤S1。

如果使用Q_p的有偏差的定义，那么这必要时就要求显而易见的适配。比如，用于以所述形式来定义的质量值Q_p的条件内容是，其用数目表示的函值根据Q_p≥Q_p-1·a（其中a＞1）随着与目标分布<Z>的更好的接近情况而升高。

在另一种也能够普遍使用的改动方案中，步骤S10能够直接紧接在步骤S7之后来执行（也就是放弃步骤S8和S9）。而后，所述质量估计Q能够预测地以形式Q=Q_p（<V_p>+<E(S_q)>、<Z>）还在实际上调节所述参数配置S_q之前来执行。如果所述质量值Q_p小于质量值Q_p-1，则不使用所述参数配置S_q，而是寻找新的参数配置S_q+1并且而后返回分支到步骤S1。这具有以下优点，即：不调节参数配置S_q，因为其不会改进总体结果，尽管其在估计函数B_q的结果的基础上表示当前可供使用的可行方案中的最佳可行方案。

也能够考虑，由于烹饪物和总系统的可变性而可能的是，在过去特定的变化模式<E(S_q)>不再有效。而后可能普遍有利的是，较长时间（比如自一分钟起）不再使用的变化模式<E(S_q)>动态地予以更新或者间或地就其有效性进行检查。

这比如能够通过中间步骤来进行，在所述中间步骤中将所述微波器具1调节到所属的参数配置S_q上并且而后在用这个参数配置S_q对烹饪物进行处理之后计算出所属的变化模式<E(S_q)> 并且取代旧的变化模式<E(S_q)>而加以存储。

此外，能够将步骤顺序S3、S4与步骤顺序S1、S2交换。而后取代返回分支到步骤S1而返回分支到步骤S3。

一般来说，所述方法能够用标准化的或者非标准化的值和分布来执行。

一般来说，“一个”等等尤其在“至少一个”或者“一个或者多个”等等的意义上能够是指单数或复数，只要这一点没有明确地比如通过表述“刚好一个”等等被排除在外。

数目说明也能够不仅包括刚好所说明的数目而且包括常见的公差范围，只要这一点未明确被排除在外。

附图标记列表：

1 微波器具

2 烹饪室

3 装料口

4 门

5 烹饪物承载部

6 微波产生机构

7 旋转天线

8 控制单元

9 热图像相机

B(S_q) 估计值

<E(S_q)> 变化模式

G 烹饪物

p 迭代步骤

Q_p 第p次迭代的质量值

Q_目标 目标-质量值

S_q 参数配置

S1-S11 方法步骤

T_目标 目标温度

Δt 持续时间

<V> 烹饪物的表面上的温度分布

<V_p> 第p次迭代中的温度分布。

Claims (14)

1.用于运行家用烹饪器具（1）的方法（S1-S11），所述家用烹饪器具具有：

- 烹饪室（2），

- 至少一个用于用多种参数配置（S_q）对处于所述烹饪室（2）中的烹饪物（G）进行处理的烹饪物处理装置（6），其中通过至少两种参数配置（S_q）能够对所述烹饪物（G）进行局部不同的处理，以及

- 至少一个对准所述烹饪室（2）里面的传感器（9），用于确定所述烹饪物（G）的表面特性的测量值分布<V>，

其中在所述方法中

a）在第p个迭代步骤（p）中（其中p≥1）在预先给定的持续时间（Δt）里用第q个参数配置（S_q）（其中q≤p）来运行至少一个烹饪物处理装置（6），以用于对处于所述烹饪室（2）中的烹饪物（G）进行处理；

b）紧接在所述持续时间（Δt）结束之后借助于至少一个传感器（9）来确定所述烹饪物（G）的表面特性的第p个测量值分布<V_p>，

c）从所述第p个测量值分布<V_p>与在步骤a）之前所记录的第（p-1）个测量值分布<V_p-1>的比较中计算变化模式<E(S_q)>并且加以存储，

d）为所有至此在这种方法的过程中所存储的变化模式｛<E(S_q)>｝计算相应的估计值B_q，所述估计值表示目标分布<Z>相对于测量值分布<V_p>的偏差与目标分布<Z>相对于预测模式<V’_p>的偏差之间的差别，其中所述预测模式<V’_p>表示所述测量值分布<V_p>与所属的变化模式<E(S_q)>的叠加，

e）调节以下参数配置（S_q），所述参数配置的估计值B_q满足至少一个预先给定的标准，

f）为第p个测量值分布<V_p>计算质量值Q_p，该质量值说明所述分布<V_p>相对于目标-测量值分布<Z>的偏差；并且

g）如果对所述质量值Q_p来说产生与第（p-1）个质量值Q_p-1相比相对于所述目标-测量值分布<Z>的足够更小的偏差，则在保持当前的参数配置（S_q）的情况下迭代地分支到步骤a）；并且

h）如果对所述质量值Q_p来说产生与质量值Q_p-1相比相对于所述目标-测量值分布<Z>的不是足够更小的偏差，则调节新的参数配置S_q+1并且而后迭代地分支到步骤a）。

2.根据权利要求1所述的方法（S1-S11），其中所述测量值分布<V_p>和所述目标-测量值分布<Z>是温度分布。

3.根据权利要求2所述的方法，

- 所述至少一个烹饪物处理装置具有用于将微波引入到烹饪室（G）中的微波机构（6），其中通过所述微波机构（6）的至少两种参数配置（S_q）能够在所述烹饪室（2）产生微波的不同的场分布，

- 所述表面特性是所述烹饪物（G）的表面温度，并且

- 所述至少一个传感器（9）包括至少一个对准烹饪室（2）里面的红外传感器（9），用于确定所述烹饪物（G）上的温度分布<V>，

其中在所述方法中

a）在第p个迭代步骤中（其中p≥1）在预先给定的持续时间（Δt）里用第q个参数配置S_q（其中q≤p）来运行所述微波机构（6），以用于用微波来处理处于所述烹饪室（2）中的烹饪物（G），

b）紧接在所述持续时间（Δt）结束之后借助于所述至少一个红外传感器（9）来确定所述烹饪物（G）的第p个温度分布<V_p>；

c）从所述第p个温度分布<V_p>与在步骤a）之前所记录的第（p-1）个温度分布<V_p-1>的比较中计算变化模式<E(S_q)>并且加以存储；

d）为所有至此在这种方法的过程中所存储的变化模式｛<E(S_q)>｝计算相应的估计值B_q，所述估计值表示目标-温度分布<Z>相对于所述温度分布<V_p>的偏差与目标-温度分布<Z>相对于预测模式<V’_p>的偏差之间的差别，其中所述预测模式<V’_p>表示所述温度分布<V_p>与所属的变化模式< E(S_q)>的叠加；

e）调节以下参数配置S_q，所述参数配置的估计值B_q满足至少一个预先给定的标准；

f）为第p个温度分布<V_p>计算质量值Q_p，该质量值说明所述温度分布<V_p>相对于目标-温度分布<Z>的偏差；并且

g）如果对于所述第p个质量值Q_p来说产生与第（p-1）个质量值Q_p-1相比相对于目标-温度分布<Z>的足够更小的偏差，则在保持当前的参数配置（S_q）的情况下迭代地分支到步骤a）；并且

h）如果对于Q_p来说产生与Q_p-1相比相对于目标-温度分布<Z>的更高的偏差，则调节新的参数配置（S_q+1）并且而后迭代地分支到步骤a）。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述测量值分布<V_p>、目标-测量值分布<Z>和变化模式<E(S_q)>是具有k个分段的分段式的分布。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中如果

- 所述质量值Q_p达到预先给定的标准和/或

- 所述烹饪物达到预先给定的目标值（V_目标），

则结束所述方法。

6.根据权利要求4所述的方法，其中所述质量值Q_p的标准包括达到目标质量值Q_目标。

7.根据权利要求4或5中任一项所述的方法，其中如果满足了max(<V_p>)≥V_目标或者min(<V_p>)≥V_目标，则所述烹饪物（G）已经达到了预先给定的目标值（V_目标）。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述变化模式<E(S_q)>分段式地作为第p个测量值分布<V_p>与第 (p-1)个分布<V_p-1>之间的差尤其按照

来计算。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述估计值B_q按照

用预测模式

和指数因数d来计算。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述质量值Q_p按照

来计算，其中

。

11.根据权利要求3结合权利要求4到10中任一项所述的方法，其中参数配置S_q分别包括所述微波机构（6）的来自以下组别的至少一个运行参数（S_q）的值，所述组别是

- 至少一个能旋转的天线（7）的相应的旋转角；

- 至少一个能旋转的天线（7）的相应的高度位置；

- 至少一个微波反射器的空间位置；

- 微波频率；

- 不同的微波发生器之间的相对相位。

12.根据权利要求2和3结合权利要求4到11中任一项所述的方法，其中记录至少一个红外传感器（9）包括至少一个热图像相机并且步骤b）包括至少一个像点式的热图像的记录。

13.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中为了确定所述烹饪物（G）的测量值分布<V_p>而对借助于来自烹饪室（2）的至少一个传感器（9）记录的图像中的测量值分布<V_p>进行隔离。

14.家用烹饪器具（1），具有

- 烹饪室（2），

- 至少一个用于用多种参数配置（S_q）对处于所述烹饪室（2）中的烹饪物（G）进行处理的烹饪物处理装置（6），其中通过至少两种参数配置（S_q）能够对所述烹饪物（G）进行局部不同的处理，

- 至少一个对准所述烹饪室（2）里面的传感器（9），用于确定所述烹饪物（G）的表面特性的分布<V>，以及

- 用于执行根据前述权利要求中任一项所述的方法（S1-S11）的数据处理机构（10）。

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