CN112834829A - 紧缩场天线测量系统、构建其的方法、装置及电子设备 - Google Patents

紧缩场天线测量系统、构建其的方法、装置及电子设备 Download PDF

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CN112834829A CN202110156127.2A CN202110156127A CN112834829A CN 112834829 A CN112834829 A CN 112834829A CN 202110156127 A CN202110156127 A CN 202110156127A CN 112834829 A CN112834829 A CN 112834829A
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Abstract

本公开实施例提供了一种紧缩场天线测量系统、构建其的方法、装置及电子设备。紧缩场天线测量系统包括馈源、主反射镜、第一赋形副反射镜和第二赋形副反射镜，其中：第一赋形副反射镜用于将馈源发出的电磁波反射至第二赋形副反射镜；第二赋形副反射镜用于将第一赋形副反射镜反射的电磁波反射至主反射镜；主反射镜用于将第二赋形副反射镜反射的电磁波反射为平面电磁波，平面电磁波形成系统出射场；且，第一赋形副反射镜和/或第二赋形副反射镜的镜面为基于B样条获得的曲面镜面。

Description

紧缩场天线测量系统、构建其的方法、装置及电子设备
技术领域
本公开涉及电子技术领域，特别是涉及一种紧缩场天线测量系统、构建其的方法、装置及电子设备。
背景技术
为了保证毫米波与亚毫米波太赫兹系统的工作质量，必须对其进行精确的测量。但测量毫米波与亚毫米波太赫兹频段的天线系统是一个普遍性的难题。目前，最优的解决方案是使用紧缩场天线测量系统进行天线测试，其中三反射镜紧缩场天线测量系统具有主反射镜口径利用率高、工作频带宽、制造成本低等优点。
如何进一步提高天线测量系统的口径利用率，是目前亟待解决的技术问题。
发明内容
本公开实施例的目的在于提供一种紧缩场天线测量系统、构建其的方法、装置及电子设备，以提高口径利用率。具体技术方案如下：
根据本公开实施例的一个方面，提供一种紧缩场天线测量系统，包括馈源、主反射镜、第一赋形副反射镜和第二赋形副反射镜，其中：
所述第一赋形副反射镜用于将所述馈源发出的电磁波反射至所述第二赋形副反射镜；
所述第二赋形副反射镜用于将所述第一赋形副反射镜反射的电磁波反射至所述主反射镜；
所述主反射镜用于将所述第二赋形副反射镜反射的电磁波反射为平面电磁波，所述平面电磁波形成系统出射场；
且，所述第一赋形副反射镜和/或所述第二赋形副反射镜的镜面为基于B样条获得的曲面镜面。
在一些实施例中，所述馈源相位中心、所述第一赋形副反射镜、所述第二赋形副反射镜以及所述主反射镜的中心反射点位置满足以下函数关系式：
2f＝r1+r2+r3+r4
Figure BDA0002933532420000021
x1＝0
式中，f表示所述主反射镜的焦距，r1表示所述馈源相位中心与所述第一赋形副反射镜中心反射点之间的距离，r2表示所述第一赋形副反射镜中心反射点与所述第二赋形副反射镜中心反射点之间的距离，r3表示所述第二赋形副反射镜中心反射点与所述主反射镜中心反射点之间的距离，r4表示所述主反射镜中心反射点与所述系统出射场口径中心之间的距离，A表示所述主反射镜的焦点的z轴坐标值，与所述主反射镜的焦距之间的比值，z3表示所述主反射镜中心反射点的z轴坐标值，x3表示所述主反射镜中心反射点的x轴坐标值，x1表示所述第一赋形副反射镜中心反射点的x轴坐标值。
在一些实施例中，所述第一赋形副反射镜与所述第二赋形副反射镜之间的电磁波传播光路为格里高利反射形式传播光路，所述第二赋形副反射镜与所述主反射镜之间的电磁波传播光路为卡塞格伦反射形式传播光路。
根据本公开的另一个方面，提供一种构建前述任一技术方案所述的紧缩场天线测量系统的方法，包括：
根据馈源相位中心、第一赋形副反射镜、第二赋形副反射镜以及主反射镜的中心反射点位置，确定第一赋形副反射镜中心反射点的法向量，以及计算第二赋形副反射镜中心反射点的法向量；
基于预设的B样条曲面构建方法、第一赋形副反射镜中心反射点的法向量及第二赋形副反射镜中心反射点的法向量，确定第一赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，及第二赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，所述反射点的数量为预设数量，所述反射点的参数包括反射点的位置和法向量；
基于第一赋形副反射镜的所有反射点的参数，确定第一赋形副反射镜的曲面参数，以及基于第二赋形副反射镜所有反射点的参数，确定第二赋形副反射镜的曲面参数。
在一些实施例中，所述确定第一赋形副反射镜中心反射点的法向量，以及计算第二赋形副反射镜中心反射点的法向量，包括：
根据馈源相位中心、第一赋形副反射镜、第二赋形副反射镜以及主反射镜的中心反射点位置，确定经第一赋形副反射镜反射的第一中心子光束的方向向量，及经第二赋形副反射镜反射的第二中心子光束的方向向量，其中，所述第一中心子光束为从馈源相位中心发出的中心初始子光束经第一赋形副反射镜中心反射点反射的子光束；
根据所述第一中心子光束的方向向量，以及所述中心初始子光束的方向向量，确定第一赋形副反射镜中心反射点的法向量；及，根据所述第二中心子光束的方向向量，以及所述第一中心子光束的方向向量，确定第二赋形副反射镜中心反射点的法向量。
在一些实施例中，所述确定第一赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，及第二赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，包括：
根据预先确定的坐标方程式，获得第一赋形副反射镜中心反射点的第一切向量与法向量方程式；所述坐标方程式中包含三个B样条基函数及各B样条基函数对应的B样条基函数系数；
将三个B样条基函数系数中的第一B样条基函数系数设置为预设数值；
根据第一赋形副反射镜中心反射点的坐标位置，所述坐标方程式，及所述第一切向量与法向量方程式，计算三个B样条基函数系数中的另外两个第二B样条基函数系数；
基于所述第一B样条基函数系数和两个第二B样条基函数系数，所述坐标方程式，及所述切向量与法向量方程式，确定第一赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，以及确定第二赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数。
在一些实施例中，所述确定第一赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，以及确定第二赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，包括：
根据当前目标子光束，及主反射镜的反射点参数，确定主反射镜与第二赋形副反射镜之间的当前第二中间子光束；所述当前第二中间子光束经主反射镜反射后，得到所述当前目标子光束；
根据所述坐标方程式，及预先确定的第二切向量与法向量方程式，确定第三B样条基函数系数，以及所述当前第二中间子光束的长度；所述第二切向量与法向量方程式中，包括已确定的所述第一B样条基函数系数、所述第二B样条基函数系数以及所述第三B样条基函数系数；
根据所述坐标方程式，确定第一赋形副反射镜的当前反射点的坐标位置及切向量，并根据所述当前反射点的切向量，确定所述当前反射点的法向量；
根据第一赋形副反射镜的当前反射点的坐标位置及法向量，确定第二赋形副反射镜中与所述当前反射点对应的反射点的坐标位置及法向量；
判断所述当前反射点是否为第一赋形副反射镜的最后一个待确定的反射点，若是，则结束计算；若否，则将下一个反射点作为当前反射点，并返回所述根据当前目标子光束，及主反射镜的反射点参数，确定主反射镜与第二赋形副反射镜之间的当前第二中间子光束的步骤，直到当前反射点为最后一个待确定的反射点。
根据本公开实施例的第三个方面，提供一种构建前述任一技术方案所述的紧缩场天线测量系统的装置，包括：
法向量确定模块，根据馈源相位中心、第一赋形副反射镜、第二赋形副反射镜以及主反射镜的中心反射点位置，确定第一赋形副反射镜中心反射点的法向量，以及计算第二赋形副反射镜中心反射点的法向量；
反射点参数确定模块，用于基于预设的B样条曲面构建方法、第一赋形副反射镜中心反射点的法向量及第二赋形副反射镜中心反射点的法向量，确定第一赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，及第二赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，所述反射点的数量为预设数量，所述反射点的参数包括反射点的位置和法向量；
曲面参数确定模块，用于基于第一赋形副反射镜的所有反射点的参数，确定第一赋形副反射镜的曲面参数，以及基于第二赋形副反射镜所有反射点的参数，确定第二赋形副反射镜的曲面参数。
根据本公开实施例的第四个方面，提供一种电子设备，包括处理器、通信接口、存储器和通信总线，其中，处理器，通信接口，存储器通过通信总线完成相互间的通信；
存储器，用于存放计算机程序；
处理器，用于执行存储器上所存放的程序时，实现前述任一技术方案所述的方法步骤。
根据本公开实施例的第五个方面，提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质内存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现前述任一技术方案所述的方法步骤。
本公开实施例有益效果：
本公开实施例提供的紧缩场天线测量系统、构建其的方法、装置及电子设备，紧缩场天线测量系统包括馈源、主反射镜、第一赋形副反射镜和第二赋形副反射镜，由于第一赋形副反射镜和/或第二赋形副反射镜的镜面为基于B样条获得的曲面镜面，而基于B样条获得的曲面镜面更为光滑，能够减少电磁波在第一赋形副反射镜和第二赋形副反射镜中心区域产生的抖动的情况，因此能够增加静区尺寸，从而提高口径利用率。
当然，实施本公开的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的实施例。
图1a为本公开实施例的一种紧缩天线测量系统的一种结构示意图；
图1b为本公开实施例的一种紧缩场天线测量系统的主反射镜反射出的电磁波的主极化的幅值与口径大小的关系示意图；
图1c为本公开实施例的一种紧缩场天线测量系统的主反射镜反射出的电磁波的交叉极化的幅值与口径大小的关系示意图；
图1d为本公开实施例的一种紧缩场天线测量系统的主反射镜反射出的电磁波的相位与口径大小的关系示意图；
图2为本公开实施例的一种紧缩天线测量系统的侧面结构示意图；
图3为本公开实施例的构建紧缩天线测量系统的方法的流程示意图；
图4为控制节点与第一赋形副反射镜的反射点之间的对应关系图；
图5a为馈源场分布示意图；
图5b为系统出射场分布示意图；
图6为馈源的子光束发射至第一赋形副反射镜的反射点的示意图；
图7为B样条曲线、B样条基函数及控制节点之间的对应关系示意图；
图8为本公开实施例的构建紧缩天线测量系统的装置的结构示意图；
图9为本公开实施例的电子设备的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员基于本申请所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
为提高口径利用率，本公开实施例提供了一种紧缩场天线测量系统、构建其的方法、装置及电子设备。
如图1a所示，本公开一些实施例提供了一种紧缩场天线测量系统，包括馈源1、主反射镜4、第一赋形副反射镜2和第二赋形副反射镜3，其中：
第一赋形副反射镜2用于将馈源1发出的电磁波反射至第二赋形副反射镜3。
第二赋形副反射镜3用于将第一赋形副反射镜2反射的电磁波反射至主反射镜4。
主反射镜4用于将第二赋形副反射镜3反射的电磁波反射为平面电磁波，平面电磁波形成系统出射场。
且，第一赋形副反射镜2和/或第二赋形副反射镜3的镜面为基于B样条获得的曲面镜面。
系统出射场为中部平坦的出射场，如图1b和图1d所示，曲线中部的平坦区域即为适用于天线测量的静区，静区口径与主反射镜口径之间的比值即为口径利用率。
主反射镜4的镜面形状为抛物面形状，且为了改善静区质量，降低静区的幅值和相位波动，主反射镜4为矩形口径的反射镜。矩形口径的反射镜为左右轴对称结构，其在轴线方向上的干涉较小，从而能够降低静区中心区域的幅值和相位波动。
本公开实施例提供的紧缩场天线测量系统包括馈源1、主反射镜4、第一赋形副反射镜2和第二赋形副反射镜3，由于第一赋形副反射镜2和/或第二赋形副反射镜3的镜面为基于B样条获得的曲面镜面，而基于B样条获得的曲面镜面更为光滑，能够减少电磁波在第一赋形副反射镜2和第二赋形副反射镜3中心区域产生的抖动的情况，因此能够增加静区尺寸，从而提高口径利用率。
如图2所示，在本公开的一些实施例中，馈源1相位中心、第一赋形副反射镜2、第二赋形副反射镜3以及主反射镜4的中心反射点位置满足以下函数关系式：
2f＝r1+r2+r3+r4
Figure BDA0002933532420000071
x1＝0
式中，f表示主反射镜4的焦距，r1表示馈源1相位中心与第一赋形副反射镜2中心反射点之间的距离，r2表示第一赋形副反射镜2中心反射点与第二赋形副反射镜3中心反射点之间的距离，r3表示第二赋形副反射镜3中心反射点与主反射镜4中心反射点之间的距离，r4表示主反射镜4中心反射点与系统出射场口径中心之间的距离，A表示主反射镜4的焦点的z轴坐标值，与主反射镜4的焦距之间的比值，z3表示主反射镜4中心反射点的z轴坐标值，x3表示主反射镜4中心反射点的x轴坐标值，x1表示第一赋形副反射镜2中心反射点的x轴坐标值。
如图1c所示，当馈源1相位中心、第一赋形副反射镜2、第二赋形副反射镜3以及主反射镜4的中心反射点位置满足上述函数关系式时，交叉极化的幅值在-50dB以下，低于-30dB，表明系统性能较好。
如图1a所示，在本公开的一些实施例中，第一赋形副反射镜2与第二赋形副反射镜3之间的电磁波传播光路为格里高利反射形式传播光路，第二赋形副反射镜3与主反射镜4之间的电磁波传播光路为卡塞格伦反射形式传播光路。其中，格里高利反射形式传播光路表示第一赋形副反射镜2与第二赋形副反射镜3之间的光束为多个光束先聚焦于一点，后又发射为扩散型的光束。卡塞格伦反射形式传播光路表示第二赋形副反射镜3与主反射镜4之间的子光束之间近似平行。
如图1a所示，在本公开的一些实施例中，紧缩场天线测量系统还包括衍射挡板5，衍射挡板5位于第一赋形副反射镜2和第二赋形副反射镜3之间的焦散区，衍射挡板5能够吸收第一赋形副反射镜2边缘的衍射波。衍射挡板5中心可以设置呈圆形或矩形的过孔，使得第一赋形副反射镜2反射的光束能够从过孔穿过，并照射至第二赋形副反射镜3，即，过孔的尺寸以第一赋形副反射镜2反射的光束能够穿过该过孔为准。由于静区的一部分扰动来自于边缘衍射波的影响，因此在第一赋形副反射镜2和第二赋形副反射镜3之间的焦散区设置衍射挡板5，能够进一步削弱第一赋形副反射镜2边缘衍射波对静区的影响。
如图3所示，本公开一些实施例提供了一种构建前述紧缩场天线测量系统的方法，包括：
步骤S301，根据馈源1相位中心、第一赋形副反射镜2、第二赋形副反射镜3以及主反射镜4的中心反射点位置，确定第一赋形副反射镜2中心反射点的法向量，以及计算第二赋形副反射镜3中心反射点的法向量。
可以根据实验场地环境的具体情况，如实验场地面积或实验场地高度等情况，以及所需紧缩场静区的尺寸，确定馈源1相位中心、第一赋形副反射镜2、第二赋形副反射镜3、主反射镜4的中心反射点位置。馈源1相位中心、第一赋形副反射镜2、第二赋形副反射镜3、主反射镜4的中心反射点位置满足以下函数关系式：
2f＝r1+r2+r3+r4
Figure BDA0002933532420000091
x1＝0
式中，f表示主反射镜4的焦距，r1表示馈源1相位中心与第一赋形副反射镜2中心反射点之间的距离，r2表示第一赋形副反射镜2中心反射点与第二赋形副反射镜3中心反射点之间的距离，r3表示第二赋形副反射镜3中心反射点与主反射镜4中心反射点之间的距离，r4表示主反射镜4中心反射点与系统出射场口径中心之间的距离，A表示主反射镜4的焦点的z轴坐标值，与主反射镜4的焦距之间的比值，z3表示主反射镜4中心反射点的z轴坐标值，x3表示主反射镜4中心反射点的x轴坐标值，x1表示第一赋形副反射镜2中心反射点的x轴坐标值。
如图2所示，馈源1相位中心位于坐标系的原点处，x1＝0表示第一赋形副反射镜2的中心反射点位于z轴上。第二赋形副反射镜3和主反射镜4的中心反射点位置可以通过上述函数表达式计算得到。主反射镜4的焦点位于(0，0，f*A)处。第一赋形副反射镜2的中心反射点的坐标为(x1，0，z1)，第二赋形副反射镜3的中心反射点的坐标为(x2，0，z2)，主反射镜4的中心反射点的坐标为(x3，0，z3)，系统出射场的口径位于XOY面上。
主反射镜4的镜面可以为抛物面，根据预设的静区与主反射镜4口径之间的比例，以及要实现的静区口径，计算得到主反射镜4口径。例如，静区与主反射镜4口径之间的比例为90％，静区口径为2.7m，则主反射镜4口径为3m，即，主反射镜4矩形口径的长度和宽度均为3m。
第一赋形副反射镜2和第二赋形副反射镜3的口径，由对馈源1辐射出的能量确定，通常第一赋形副反射镜2和第二赋形副反射镜3的口径能够满足反射馈源1辐射出能量的99.9％。
在本公开的一些实施例中，图3所示实施例流程步骤S301，确定第一赋形副反射镜2中心反射点的法向量，以及计算第二赋形副反射镜3中心反射点的法向量，包括：
第一步，根据馈源1相位中心、第一赋形副反射镜2、第二赋形副反射镜3以及主反射镜4的中心反射点位置，确定经第一赋形副反射镜2反射的第一中心子光束的方向向量，及经第二赋形副反射镜3反射的第二中心子光束的方向向量，其中，第一中心子光束为从馈源1相位中心发出的中心初始子光束经第一赋形副反射镜2中心反射点反射的子光束。
从馈源1相位中心发出的中心初始子光束照射至第一赋形副反射镜2的中心反射点，经第一赋形副反射镜2的中心反射点反射，得到第一中心子光束；该第一中心子光束照射至第二赋形副反射镜3中心反射点并反射为第二中心子光束，该第二中心子光束可以照射至主反射镜4中心反射点。因此，可以计算主反射镜4的中心反射点位置，与第二赋形副反射镜3的中心反射点位置之间的差值，获得第二中心子光束的方向向量。计算第二赋形副反射镜3与第一赋形副反射镜2的中心反射点位置之间的差值，获得第一中心子光束的方向向量。
第二步，根据第一中心子光束的方向向量，以及中心初始子光束的方向向量，确定第一赋形副反射镜2中心反射点的法向量；及，根据第二中心子光束的方向向量，以及第一中心子光束的方向向量，确定第二赋形副反射镜3中心反射点的法向量。
中心初始子光束为由馈源1相位中心发射至第一赋形副反射镜2的中心反射点的子光束，因此，该中心初始子光束的方向向量可以通过计算第一赋形副反射镜2的中心反射点和馈源1相位中心的位置之间的差值得到。
计算第一中心子光束的方向向量，与中心初始子光束的方向向量之间的第一差值，并将该第一差值确定为第一赋形副反射镜2中心反射点的法向量。计算第二中心子光束的方向向量，与第一中心子光束的方向向量之间的第二差值，并将该第二差值确定为第二赋形副反射镜3中心反射点的法向量。
如图3所示，步骤S302，基于预设的B样条曲面构建方法、第一赋形副反射镜2中心反射点的法向量及第二赋形副反射镜3中心反射点的法向量，确定第一赋形副反射镜2除中心反射点之外的其他反射点的参数，及第二赋形副反射镜3除中心反射点之外的其他反射点的参数。
在本公开的一些实施例中，图3所示实施例流程步骤S302，确定第一赋形副反射镜2除中心反射点之外的其他反射点的参数，及第二赋形副反射镜3除中心反射点之外的其他反射点的参数，包括：
第一步，根据预先确定的坐标方程式，获得第一赋形副反射镜2中心反射点的第一切向量与法向量方程式；坐标方程式中包含三个B样条基函数及各B样条基函数对应的B样条基函数系数。
如图4所示，表示了第一赋形副反射点及对应B样条基函数的示意图，其中控制节点tk对应的第一赋形副反射镜2的反射点为中心反射点，该中心反射点由三个B样条基函数控制。
第一赋形副反射镜2的中心反射点的坐标方程式为：
z＝ck-1Bk-1(k)+ckBk(x)+ck+1Bk+1(x)
式中，z表示第一赋形副反射镜2的中心反射点的坐标，Bk-1(x)表示控制节点tk-1对应的B样条基函数，ck-1表示控制节点tk-1对应的B样条基函数的B样条基函数系数，Bk(x)表示控制节点tk对应的B样条基函数，ck表示控制节点tk对应的B样条基函数的B样条基函数系数，Bk+1(x)表示控制节点tk+1对应的B样条基函数，ck+1表示控制节点tk+1对应的B样条基函数的B样条基函数系数。B样条基函数Bk(x)表示为：
Figure BDA0002933532420000111
Figure BDA0002933532420000112
Figure BDA0002933532420000113
式中，tm表示控制节点，总计有M个控制节点，顺序为t1<t2<…<tM。第k个B样条基函数Bk(x)由5个控制节点tk-2，tk-1，tk，tk+1和tk+2定义。每个控制节点的参数由相邻的3个B样条基函数控制，相邻两个控制节点间的曲线由相邻的4个B样条基函数控制。
第二步，将三个B样条基函数系数中的第一B样条基函数系数设置为预设数值。
可以将上述三个B样条基函数系数中的第一B样条函数系数设置为预设数值，例如，可以将ck设置为r1。
第三步，根据第一赋形副反射镜2中心反射点的坐标位置，坐标方程式，及第一切向量与法向量方程式，计算三个B样条基函数系数中的另外两个第二B样条基函数系数。
如图2所示，第一赋形副反射镜2的中心反射点的坐标位置为z轴坐标值：r1。通过对坐标方程式求导，可以得到第一赋形副反射镜2的中心反射点的切向量
Figure BDA0002933532420000121
根据反射定理可知，中心反射点的法向量
Figure BDA0002933532420000122
和切向量
Figure BDA0002933532420000123
相互正交，因此，可以获得第一切向量与法向量方程式：
Figure BDA0002933532420000124
则可以构建方程组：
Figure BDA0002933532420000125
其中，法向量
Figure BDA0002933532420000126
是已知的，ck-1、ck和ck+1三个B样条基函数系数中，ck也是已知参数，因此，上述方程组中仅剩ck-1和ck+1是未知参数。通过对上述方程组进行求解，可以获得三个B样条基函数系数中的另外两个第二B样条基函数，即，可以获得ck-1和ck+1。
第四步，基于第一B样条基函数系数和两个第二B样条基函数系数，坐标方程式，及第一切向量与法向量方程式，确定第一赋形副反射镜2除中心反射点之外的其他反射点的参数，以及确定第二赋形副反射镜3除中心反射点之外的其他反射点的参数。
在本公开的一些实施例中，基于第一B样条基函数系数和两个第二B样条基函数系数，坐标方程式，及第一切向量与法向量方程式，确定第一赋形副反射镜2除中心反射点之外的其他反射点的参数，以及确定第二赋形副反射镜3除中心反射点之外的其他反射点的参数，包括：
第一步，根据当前目标子光束，及主反射镜4的反射点参数，确定主反射镜4与第二赋形副反射镜3之间的当前第二中间子光束；当前第二中间子光束经主反射镜4反射后，得到当前目标子光束。
可以将馈源1发出的电磁波分为预设数量个初始子光束，接着根据预设馈源场分布以及预设系统出射场分布，确定馈源1发出的电磁波中各初始子光束与主反射镜4反射出的各目标子光束之间的映射关系；根据该映射关系，确定各初始子光束对应的目标子光束。其中，馈源1场分布可以为从馈源1发出的呈扩散型的电磁波，如图5a所示，其可以通过不同角度和幅值表示。如图5b所示，系统出射场分布可以为从主反射镜4反射出的平面电磁波，其可以通过与不同口径大小和幅值表示。
可以从主反射镜4反射出的多个目标子光束中，选择一个当前目标子光束。具体地，如图6所示，可以先确定第一赋形副反射镜2上位于同一方位角上的各反射点的参数，图6中所示出的多个子光束位于同一方位角。因此，在选择当前目标子光束时，可以先确定第一赋形副反射镜1上与已确定的前一个子光束位于同一方位角的子光束，接着选择与该子光束对应的目标子光束，作为当前目标子光束，则选择的当前目标子光束为与中心目标子光束相邻的子光束，中心目标子光束为主反射镜4的中心反射点反射的子光束。
由于反射点参数包括反射点的位置和法向量，因此，根据当前目标子光束的方向向量，及主反射镜4的反射点的法向量，可以计算得到经第二赋形副反射镜3反射至主反射镜4的当前第二中间子光束的方向向量。
第二步，根据坐标方程式，及预先确定的第二切向量与法向量方程式，确定第三B样条基函数系数，以及当前第二中间子光束的长度；第二切向量与法向量方程式中，包括已确定的第一B样条基函数系数、第二B样条基函数系数以及第三B样条基函数系数。
针对第一赋形副反射镜2上控制节点tk+1对应的反射点，由于任意两个相邻的反射点中，其中一个反射点对应的两个B样条基函数及其B样条基函数系数，与另一个反射点对应的两个B样条基函数及其B样条基函数系数是相同的，因此，坐标方程式中的三个B样条基函数系数，包括已确定的第一B样条基函数系数、第二B样条基函数系数以及另一个待确定的第三B样条基函数系数，已确定的第一B样条基函数系数为ck，第二B样条基函数系数为ck+1，待确定的第三B样条基函数系数为ck+2。
对坐标方程式进行求导可以获得第一赋形副反射镜2的当前反射点的切向量
Figure BDA0002933532420000131
根据反射定理可知，当前反射点的法向量
Figure BDA0002933532420000132
和切向量
Figure BDA0002933532420000133
相互正交，因此，可以获得第二切向量与法向量方程式：
Figure BDA0002933532420000134
如图2所示，P1为当前反射点，P2为第二赋形副反射镜3上，与当前反射点对应的反射点，P3为主反射镜4上，与当前反射点对应的反射点。根据等光程条件，反射点P3至系统出射场口径之间的子光束a1的长度a2、反射点P3与反射点P2之间的子光束b1的长度b2、反射点P2与反射点P1之间的子光束c1的长度c2以及反射点P1与馈源1相位中心之间的子光束d1的长度d2之和，与馈源1相位中心与第一赋形副反射镜2的中心反射点之间的距离r1、第一赋形副反射镜2与第二赋形副反射镜3的中心反射点之间的距离r2、第二赋形副反射镜3与主反射镜4的中心反射点之间的距离r3，以及主反射镜4的中心反射点至系统出射场口径的距离r4之和相同，则有方程组：
Figure BDA0002933532420000141
r1、r2、r3和r4均为已知参数，由于主反射镜4的各反射点的参数均为已知参数，因此，a2为已知参数。P1的坐标位置可以表示为tk+2的方程式，距离d2可以通过反射点P1和馈源1相位中心计算得到，即，距离d2可以表示为tk+2的方程式。光束b1的方向向量是已知参数，反射点P2的坐标位置可以通过光束b1的方向向量和长度b2确定，即，反射点P2的坐标可以表示为光束b1的长度b2的表达式。则光束c1的长度c2可以根据反射点P1和反射点P2的坐标计算得到，即，光束c1的长度c2可以表示为tk+2和光束b1的长度b2的方程式。
因此，上述方程组中包括两个未知参数：ck+2和长度b2，对上述方程组求解，即可得到ck+2和的长度b2。
第三步，根据坐标方程式，确定第一赋形副反射镜2的当前反射点的坐标位置及切向量，并根据当前反射点的切向量，确定当前反射点的法向量。
当计算得到ck+2和长度b2后，可以根据坐标方程式，确定第一赋形副反射镜2的当前反射点P1的坐标位置及切向量。接着，根据反射定理，可以确定当前反射点P1的法向量。
第四步，根据第一赋形副反射镜2的当前反射点的坐标位置及法向量，确定第二赋形副反射镜3中与当前反射点对应的反射点的坐标位置及法向量。
光束b1的长度b2确定后，可以根据光束b1的长度b2、方向向量以及反射点P3的坐标位置，确定第二赋形副反射镜3的反射点P2的坐标位置。根据当前反射点P1与反射点P2的坐标位置，可以计算得到光束c1的长度c2和方向向量，计算光束b1的方向向量和光束c1的方向向量之间的差值，得到反射点P2的法向量。
第五步，判断当前反射点是否为第一赋形副反射镜2的最后一个待确定的反射点，若是，则结束计算；若否，则将下一个反射点作为当前反射点，并返回根据当前目标子光束，及主反射镜4的反射点参数，确定主反射镜4与第二赋形副反射镜3之间的当前第二中间子光束的步骤，直到当前反射点为最后一个待确定的反射点。
步骤S303，基于第一赋形副反射镜2的所有反射点的参数，确定第一赋形副反射镜2的曲面参数，以及基于第二赋形副反射镜3所有反射点的参数，确定第二赋形副反射镜3的曲面参数。
如图4和图7所示，由于第一赋形副反射镜2上任意相邻的两个反射点之间的曲线可以基于B样条获得，由于每个控制节点由三个B样条基函数确定，则任意两个相邻的控制节点之间的曲线由相邻的四个B样条基函数确定。接着，基于多个曲线可以得到曲面，具体地，可以将第一赋形副反射镜2任意四个相邻的反射点之间的曲面设置为球面或者抛物面；同样，也可以将第二赋形副反射镜3任意四个反射点之间的曲面设置为球面或者抛物面。
本公开实施例提供的构建紧缩场天线测量的方法，第一赋形副反射镜2和/或第二赋形副反射镜3的镜面为基于B样条获得的曲面镜面，而基于B样条获得的曲面镜面更为光滑，能够减少电磁波在第一赋形副反射镜2和第二赋形副反射镜3中心区域产生的抖动的情况，因此能够增加静区尺寸，从而提高口径利用率。
如图8所示，本公开一些实施例提供了一种构建前述紧缩场天线测量系统的装置，包括：
法向量确定模块801，根据馈源1相位中心、第一赋形副反射镜2、第二赋形副反射镜3以及主反射镜4的中心反射点位置，确定第一赋形副反射镜2中心反射点的法向量，以及计算第二赋形副反射镜3中心反射点的法向量；
反射点参数确定模块802，用于基于预设的B样条曲面构建方法、第一赋形副反射镜2中心反射点的法向量及第二赋形副反射镜3中心反射点的法向量，确定第一赋形副反射镜2除中心反射点之外的其他反射点的参数，及第二赋形副反射镜3除中心反射点之外的其他反射点的参数；
曲面参数确定模块803，用于基于第一赋形副反射镜2的所有反射点的参数，确定第一赋形副反射镜2的曲面参数，以及基于第二赋形副反射镜3所有反射点的参数，确定第二赋形副反射镜3的曲面参数。
本公开实施例提供的构建紧缩场天线测量的装置，第一赋形副反射镜2和/或第二赋形副反射镜3的镜面为基于B样条获得的曲面镜面，而基于B样条获得的曲面镜面更为光滑，能够减少电磁波在第一赋形副反射镜2和第二赋形副反射镜3中心区域产生的抖动的情况，因此能够增加静区尺寸，从而提高口径利用率。
在本公开的一些实施例中，上述法向量确定模块801，具体用于：
根据馈源1相位中心、第一赋形副反射镜2、第二赋形副反射镜3以及主反射镜4的中心反射点位置，确定经第一赋形副反射镜2反射的第一中心子光束的方向向量，及经第二赋形副反射镜3反射的第二中心子光束的方向向量，其中，第一中心子光束为从馈源1相位中心发出的中心初始子光束经第一赋形副反射镜2中心反射点反射的子光束；
根据第一中心子光束的方向向量，以及中心初始子光束的方向向量，确定第一赋形副反射镜2中心反射点的法向量；及，根据第二中心子光束的方向向量，以及第一中心子光束的方向向量，确定第二赋形副反射镜3中心反射点的法向量。
在本公开的一些实施例中，上述反射点参数确定模块，具体用于：
根据预先确定的坐标方程式，获得第一赋形副反射镜2中心反射点的第一切向量与法向量方程式；坐标方程式中包含三个B样条基函数及各B样条基函数对应的B样条基函数系数；
将三个B样条基函数系数中的第一B样条基函数系数设置为预设数值；
根据第一赋形副反射镜2中心反射点的坐标位置，坐标方程式，及第一切向量与法向量方程式，计算三个B样条基函数系数中的另外两个第二B样条基函数系数；
基于第一B样条基函数系数和两个第二B样条基函数系数，坐标方程式，及第一切向量与法向量方程式，确定第一赋形副反射镜2除中心反射点之外的其他反射点的参数，以及确定第二赋形副反射镜3除中心反射点之外的其他反射点的参数。
在本公开的一些实施例中，上述反射点参数确定模块，具体还用于：
根据当前目标子光束，及主反射镜4的反射点参数，确定主反射镜4与第二赋形副反射镜3之间的当前第二中间子光束；当前第二中间子光束经主反射镜4反射后，得到当前目标子光束；
根据坐标方程式，及预先确定的第二切向量与法向量方程式，确定第三B样条基函数系数，以及当前第二中间子光束的长度；第二切向量与法向量方程式中，包括已确定的第一B样条基函数系数、第二B样条基函数系数以及第三B样条基函数系数；
根据坐标方程式，确定第一赋形副反射镜2的当前反射点的坐标位置及切向量，并根据当前反射点的切向量，确定当前反射点的法向量；
根据第一赋形副反射镜2的当前反射点的坐标位置及法向量，确定第二赋形副反射镜3中与当前反射点对应的反射点的坐标位置及法向量；
判断当前反射点是否为第一赋形副反射镜2的最后一个待确定的反射点，若是，则结束计算；若否，则将下一个反射点作为当前反射点，并返回根据当前目标子光束，及主反射镜4的反射点参数，确定主反射镜4与第二赋形副反射镜3之间的当前第二中间子光束的步骤，直到当前反射点为最后一个待确定的反射点。
本公开实施例还提供了一种电子设备，如图9所示，包括处理器901、通信接口902、存储器903和通信总线904，其中，处理器901，通信接口902，存储器903通过通信总线904完成相互间的通信。
存储器903，用于存放计算机程序。
处理器901，用于执行存储器903上所存放的程序时，实现如下步骤：
根据馈源1相位中心、第一赋形副反射镜2、第二赋形副反射镜3以及主反射镜4的中心反射点位置，确定第一赋形副反射镜2中心反射点的法向量，以及计算第二赋形副反射镜3中心反射点的法向量。
基于预设的B样条曲面构建方法、第一赋形副反射镜2中心反射点的法向量及第二赋形副反射镜3中心反射点的法向量，确定第一赋形副反射镜2除中心反射点之外的其他反射点的参数，及第二赋形副反射镜3除中心反射点之外的其他反射点的参数。
基于第一赋形副反射镜2的所有反射点的参数，确定第一赋形副反射镜2的曲面参数，以及基于第二赋形副反射镜3所有反射点的参数，确定第二赋形副反射镜3的曲面参数。
上述电子设备提到的通信总线可以是外设部件互连标准(Peripheral ComponentInterconnect，PCI)总线或扩展工业标准结构(Extended Industry StandardArchitecture，EISA)总线等。该通信总线可以分为地址总线、数据总线、控制总线等。为便于表示，图中仅用一条粗线表示，但并不表示仅有一根总线或一种类型的总线。
通信接口用于上述电子设备与其他设备之间的通信。
存储器可以包括随机存取存储器(Random Access Memory，RAM)，也可以包括非易失性存储器(Non-Volatile Memory，NVM)，例如至少一个磁盘存储器。可选的，存储器还可以是至少一个位于远离前述处理器的存储装置。
上述的处理器可以是通用处理器，包括中央处理器(Central Processing Unit，CPU)、网络处理器(Network Processor，NP)等；还可以是数字信号处理器(Digital SignalProcessor，DSP)、专用集成电路(Application Specific Integrated Circuit，ASIC)、现场可编程门阵列(Field-Programmable Gate Array，FPGA)或者其他可编程逻辑器件、分立门或者晶体管逻辑器件、分立硬件组件。
在本公开提供的又一实施例中，还提供了一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质内存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述任一构建紧缩场天线系统的方法的步骤。
在本公开提供的又一实施例中，还提供了一种包含指令的计算机程序产品，当其在计算机上运行时，使得计算机执行上述实施例中任一构建紧缩场天线系统的方法。
在上述实施例中，可以全部或部分地通过软件、硬件、固件或者其任意组合来实现。当使用软件实现时，可以全部或部分地以计算机程序产品的形式实现。所述计算机程序产品包括一个或多个计算机指令。在计算机上加载和执行所述计算机程序指令时，全部或部分地产生按照本公开实施例所述的流程或功能。所述计算机可以是通用计算机、专用计算机、计算机网络、或者其他可编程装置。所述计算机指令可以存储在计算机可读存储介质中，或者从一个计算机可读存储介质向另一个计算机可读存储介质传输，例如，所述计算机指令可以从一个网站站点、计算机、服务器或数据中心通过有线(例如同轴电缆、光纤、数字用户线(DSL))或无线(例如红外、无线、微波等)方式向另一个网站站点、计算机、服务器或数据中心进行传输。所述计算机可读存储介质可以是计算机能够存取的任何可用介质或者是包含一个或多个可用介质集成的服务器、数据中心等数据存储设备。所述可用介质可以是磁性介质，(例如，软盘、硬盘、磁带)、光介质(例如，DVD)、或者半导体介质(例如固态硬盘Solid State Disk(SSD))等。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
本说明书中的各个实施例均采用相关的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于系统实施例而言，由于其基本相似于方法实施例，所以描述的比较简单，相关之处参见方法实施例的部分说明即可。
以上所述仅为本公开的较佳实施例，并非用于限定本公开的保护范围。凡在本公开的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均包含在本公开的保护范围内。

Claims (10)

1.一种紧缩场天线测量系统，其特征在于，包括馈源、主反射镜、第一赋形副反射镜和第二赋形副反射镜，其中：
所述第一赋形副反射镜用于将所述馈源发出的电磁波反射至所述第二赋形副反射镜；
所述第二赋形副反射镜用于将所述第一赋形副反射镜反射的电磁波反射至所述主反射镜；
所述主反射镜用于将所述第二赋形副反射镜反射的电磁波反射为平面电磁波，所述平面电磁波形成系统出射场；
且，所述第一赋形副反射镜和/或所述第二赋形副反射镜的镜面为基于B样条获得的曲面镜面。
2.根据权利要求1所述的紧缩场天线测量系统，其特征在于，所述馈源相位中心、所述第一赋形副反射镜、所述第二赋形副反射镜以及所述主反射镜的中心反射点位置满足以下函数关系式：
2f＝r1+r2+r3+r4
Figure FDA0002933532410000011
x1＝0
式中，f表示所述主反射镜的焦距，r1表示所述馈源相位中心与所述第一赋形副反射镜中心反射点之间的距离，r2表示所述第一赋形副反射镜中心反射点与所述第二赋形副反射镜中心反射点之间的距离，r3表示所述第二赋形副反射镜中心反射点与所述主反射镜中心反射点之间的距离，r4表示所述主反射镜中心反射点与所述系统出射场口径中心之间的距离，A表示所述主反射镜的焦点的z轴坐标值，与所述主反射镜的焦距之间的比值，z3表示所述主反射镜中心反射点的z轴坐标值，x3表示所述主反射镜中心反射点的x轴坐标值，x1表示所述第一赋形副反射镜中心反射点的x轴坐标值。
3.根据权利要求1所述的紧缩场天线测量系统，其特征在于，所述第一赋形副反射镜与所述第二赋形副反射镜之间的电磁波传播光路为格里高利反射形式传播光路，所述第二赋形副反射镜与所述主反射镜之间的电磁波传播光路为卡塞格伦反射形式传播光路。
4.一种构建如权利要求1所述的紧缩场天线测量系统的方法，其特征在于，包括：
根据馈源相位中心、第一赋形副反射镜、第二赋形副反射镜以及主反射镜的中心反射点位置，确定所述第一赋形副反射镜中心反射点的法向量，以及计算所述第二赋形副反射镜中心反射点的法向量；
基于预设的B样条曲面构建方法、所述第一赋形副反射镜中心反射点的法向量及所述第二赋形副反射镜中心反射点的法向量，确定所述第一赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，及所述第二赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，所述反射点的数量为预设数量，所述反射点的参数包括反射点的位置和法向量；
基于所述第一赋形副反射镜的所有反射点的参数，确定所述第一赋形副反射镜的曲面参数，以及基于所述第二赋形副反射镜所有反射点的参数，确定所述第二赋形副反射镜的曲面参数。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述确定所述第一赋形副反射镜中心反射点的法向量，以及计算所述第二赋形副反射镜中心反射点的法向量，包括：
根据馈源相位中心、第一赋形副反射镜、第二赋形副反射镜以及主反射镜的中心反射点位置，确定经第一赋形副反射镜反射的第一中心子光束的方向向量，及经第二赋形副反射镜反射的第二中心子光束的方向向量，其中，所述第一中心子光束为从馈源相位中心发出的中心初始子光束经第一赋形副反射镜中心反射点反射的子光束；
根据所述第一中心子光束的方向向量，以及所述中心初始子光束的方向向量，确定第一赋形副反射镜中心反射点的法向量；及，根据所述第二中心子光束的方向向量，以及所述第一中心子光束的方向向量，确定第二赋形副反射镜中心反射点的法向量。
6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述确定第一赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，及第二赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，包括：
根据预先确定的坐标方程式，获得第一赋形副反射镜中心反射点的第一切向量与法向量方程式；所述坐标方程式中包含三个B样条基函数及各B样条基函数对应的B样条基函数系数；
将三个B样条基函数系数中的第一B样条基函数系数设置为预设数值；
根据第一赋形副反射镜中心反射点的坐标位置，所述坐标方程式，及所述第一切向量与法向量方程式，计算三个B样条基函数系数中的另外两个第二B样条基函数系数；
基于所述第一B样条基函数系数和两个第二B样条基函数系数，所述坐标方程式，及所述第一切向量与法向量方程式，确定第一赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，以及确定第二赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述确定第一赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，以及确定第二赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，包括：
根据当前目标子光束，及主反射镜的反射点参数，确定主反射镜与第二赋形副反射镜之间的当前第二中间子光束；所述当前第二中间子光束经主反射镜反射后，得到所述当前目标子光束；
根据所述坐标方程式，及预先确定的第二切向量与法向量方程式，确定第三B样条基函数系数，以及所述当前第二中间子光束的长度；所述第二切向量与法向量方程式中，包括已确定的所述第一B样条基函数、所述第二B样条基函数系数以及所述第三B样条基函数系数；
根据所述坐标方程式，确定第一赋形副反射镜的当前反射点的坐标位置及切向量，并根据所述当前反射点的切向量，确定所述当前反射点的法向量；
根据第一赋形副反射镜的当前反射点的坐标位置及法向量，确定第二赋形副反射镜中与所述当前反射点对应的反射点的坐标位置及法向量；
判断所述当前反射点是否为第一赋形副反射镜的最后一个待确定的反射点，若是，则结束计算；若否，则将下一个反射点作为当前反射点，并返回所述根据当前目标子光束，及主反射镜的反射点参数，确定主反射镜与第二赋形副反射镜之间的当前第二中间子光束的步骤，直到当前反射点为最后一个待确定的反射点。
8.一种构建如权利要求1所述的紧缩场天线测量系统的装置，其特征在于，包括：
法向量确定模块，根据馈源相位中心、第一赋形副反射镜、第二赋形副反射镜以及主反射镜的中心反射点位置，确定第一赋形副反射镜中心反射点的法向量，以及计算第二赋形副反射镜中心反射点的法向量；
反射点参数确定模块，用于基于预设的B样条曲面构建方法、第一赋形副反射镜中心反射点的法向量及第二赋形副反射镜中心反射点的法向量，确定第一赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，及第二赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，所述反射点的数量为预设数量，所述反射点的参数包括反射点的位置和法向量；
曲面参数确定模块，用于基于第一赋形副反射镜的所有反射点的参数，确定第一赋形副反射镜的曲面参数，以及基于第二赋形副反射镜所有反射点的参数，确定第二赋形副反射镜的曲面参数。
9.一种电子设备，其特征在于，包括处理器、通信接口、存储器和通信总线，其中，处理器，通信接口，存储器通过通信总线完成相互间的通信；
存储器，用于存放计算机程序；
处理器，用于执行存储器上所存放的程序时，实现权利要求4-7任一项所述的方法步骤。
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质内存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求4-7任一项所述的方法步骤。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113533864A (zh) * 2021-07-01 2021-10-22 北京邮电大学 一种三反射镜紧缩场天线测量系统及结构和参数确定方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1328628A (zh) * 1998-10-13 2001-12-26 考金特光学技术公司 利用凹超环面反射镜的集聚和收集光学系统
JP2009026742A (ja) * 2007-06-20 2009-02-05 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子ビーム装置及びその制御方法
CN101839694A (zh) * 2010-05-17 2010-09-22 西南交通大学 反光式高速铁路专用测量觇牌
CN103513117A (zh) * 2013-07-16 2014-01-15 北京邮电大学 一种三反射镜紧缩场天线测量系统
CN109841961A (zh) * 2019-03-24 2019-06-04 西安电子科技大学 基于超表面的多波束双镜天线
CN111338386A (zh) * 2019-12-20 2020-06-26 武汉理工大学 一种风荷载作用下定日镜聚光效率评估方法
CN113533864A (zh) * 2021-07-01 2021-10-22 北京邮电大学 一种三反射镜紧缩场天线测量系统及结构和参数确定方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1328628A (zh) * 1998-10-13 2001-12-26 考金特光学技术公司 利用凹超环面反射镜的集聚和收集光学系统
JP2009026742A (ja) * 2007-06-20 2009-02-05 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子ビーム装置及びその制御方法
CN101839694A (zh) * 2010-05-17 2010-09-22 西南交通大学 反光式高速铁路专用测量觇牌
CN103513117A (zh) * 2013-07-16 2014-01-15 北京邮电大学 一种三反射镜紧缩场天线测量系统
CN109841961A (zh) * 2019-03-24 2019-06-04 西安电子科技大学 基于超表面的多波束双镜天线
CN111338386A (zh) * 2019-12-20 2020-06-26 武汉理工大学 一种风荷载作用下定日镜聚光效率评估方法
CN113533864A (zh) * 2021-07-01 2021-10-22 北京邮电大学 一种三反射镜紧缩场天线测量系统及结构和参数确定方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
陈天洋: "准光反射面系统电磁仿真算法研究与应用", 《中国博士学位论文全文数据库 信息科技辑》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113533864A (zh) * 2021-07-01 2021-10-22 北京邮电大学 一种三反射镜紧缩场天线测量系统及结构和参数确定方法
CN113533864B (zh) * 2021-07-01 2022-07-29 北京邮电大学 一种三反射镜紧缩场天线测量系统及结构和参数确定方法

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