CN112817485A - 透明盖板及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种透明盖板及其制作方法，所述制作方法包括：提供一透明基板，所述透明基板具有相反的第一表面和第二表面；对所述第一表面进行粗糙化处理，在所述第一表面形成微型凸起结构以及微型凹陷结构；完成所述粗糙化处理后，对所述第一表面的预设通光窗口区域进行光滑处理，以降低所述通光窗口区域的粗糙度，提高所述通光窗口区域的透光率。本申请技术方案，在制作透明盖板时，首先对透明基板的第一表面进行整面的粗糙化处理，无需保护通孔区域，提高表面粗糙化处理的效率，完成粗糙化处理后，对所述第一表面的预设通光窗口区域进行光滑处理，以降低所述通光窗口区域的粗糙度，提高所述通光窗口区域的透光率。

Description

透明盖板及其制作方法

技术领域

本申请涉及电子设备透明盖板制作技术领域，更具体的说，涉及一种透明盖板及其制作方法。

背景技术

随着科学技术的不断发展，越来越多的具有显示功能的电子设备被广泛的应用于人们的日常生活以及工作当中，为人们的日常生活以及工作带来了巨大的便利，成为当今人们不可或缺的重要工具。

电子设备实现显示功能的主要部件是显示屏，显示屏包括显示模组以及设置在显示模组显示侧的透明盖板，透明盖板用于保护显示模组。目前，电子设备在显示模组上需要设置通孔，以在通孔内设置功能元件，以集成更多的功能，如在通孔内设置摄像头，实现显示侧成像，在通孔内设置感光元件，实现显示侧的光信息检测等。

为了降低显示屏的炫光问题，以提高用户观看舒适度，透明盖板需要做防炫光处理，形成漫反射面，以降低镜面反射，为了保证透明盖板对应通孔的区域的高透光效果，漫反射面需要避开对应通孔的区域，如是导致透明盖板的制作工艺复杂，制作成本高。

发明内容

有鉴于此，本申请提供了一种透明盖板及其制作方法，方案如下：

一种透明盖板的制作方法，所述制作方法包括：

提供一透明基板，所述透明基板具有相反的第一表面和第二表面；

对所述第一表面进行粗糙化处理，在所述第一表面形成微型凸起结构以及微型凹陷结构；

完成所述粗糙化处理后，对所述第一表面的预设通光窗口区域进行光滑处理，以降低所述通光窗口区域的粗糙度，提高所述通光窗口区域的透光率。

优选的，在上述制作方法中，对所述第一表面进行粗糙化处理的方法包括：

在所述第一表面涂覆蒙砂试剂，对所述第一表面进行刻蚀。

优选的，在上述制作方法中，对所述第一表面进行粗糙化处理的方法包括：

采用碳化硅粉末，对所述第一表面进行研磨。

优选的，在上述制作方法中，完成所述粗糙化处理后，在对通光窗口区域进行光滑处理前，还包括：

采用氢氟酸对所述第一表面进行蚀刻，以去除所述第一表面的微型裂纹。

优选的，在上述制作方法中，在对所述第一表面进行粗糙化处理前，还包括：

在所述第二表面形成保护层。

优选的，在上述制作方法中，所述第二表面具有保护层，在对所述预设通光窗口区域进行光滑处理前，还包括：

去除所述第二表面的保护层；

对所述第一表面以及所述第二表面进行清洗处理。

优选的，在上述制作方法中，对所述第一表面的预设通光窗口区域进行光滑处理的方法包括：

在所述预设通光窗口区域丝印透明油墨层，以在所述预设通光窗口区域形成平坦表面。

优选的，在上述制作方法中，所述透明基板包括多个盖板区域，所述盖板区域均具有所述预设通光窗口区域；

完成所述光滑处理后，还包括：

在所述第二表面形成触控电极；

和/或，

基于所述盖板区域，将所述透明基板分割为多个透明盖板。

本申请还提供了一种透明盖板，所述透明盖板包括：

所述透明盖板具有相反的第一表面和第二表面；

所述第一表面具有微型凸起结构以及微型凹陷结构；

所述第一表面具有预设通光窗口区域，所述通光窗口区域的表面粗糙度小于所述第一表面其他区域的粗糙度；所述通光窗口区域的表面为基于多个所述微型凸起结构以及多个所述微型凹陷结构形成的表面。

优选的，在上述透明盖板中，所述第二表面还包括触控电极。

通过上述描述可知，本申请技术方案提供的透明盖板及其制作方法中，在制作透明盖板时，首先对透明基板的第一表面进行整面的粗糙化处理，无需保护通孔区域，提高表面粗糙化处理的效率，完成粗糙化处理后，对所述第一表面的预设通光窗口区域进行光滑处理，以降低所述通光窗口区域的粗糙度，提高所述通光窗口区域的透光率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

本说明书附图所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本申请可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本申请所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本申请所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。

图1为一种本申请实施例提供的一种常规透明盖板制作方法的方法流程示意图；

图2-图5为图1所示方法的工艺结构流程图；

图6为图1所示制作方法出现工艺偏差的原理示意图；

图7-图10为本申请实施例提供的一种透明盖板制作方法的方法及工艺流程图；

图11-图13为本申请实施例提供的另一种透明盖板制作方法的方法及工艺流程图；

图14为本申请实施例所述制作方法进行光滑处理区域修补的原理示意图；

图15为本申请实施例提供的一种透明盖板的结构示意图；

图16为本申请实施例提供的另一种透明盖板的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请中的实施例进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

常规技术中，在制作透明盖板时，制作方法如图1-图5所示，图1为一种本申请实施例提供的一种常规透明盖板制作方法的方法流程示意图，图2-图5为图1所示方法的工艺结构流程图，该制作方法包括：

步骤S11：如图2所示，将大尺寸的玻璃1分割为多个半成品盖板01。半成品盖板01具有相对的背面和正面。

其中，大尺寸的玻璃1包括多个半成品盖板01，相邻半成品盖板01之间具有切割沟道02，基于切割沟道02将其分割为多个分离的半成品盖板01。

步骤S12：如图3所示，在半成品盖板01的正面对应通孔的区域形成第一保护层03，第一保护层03覆盖正面对应通孔的区域，露出半成品盖板01正面的其他区域，在半成品盖板01的背面形成第二保护层04，第二保护层04完全覆盖半成品盖板01的背面。

步骤S13：如图4所示，对半成品盖板01的正面进行粗糙化处理，形成漫反射面。

其中，由于第一保护层03的保护，能够避免对应通孔区域的位置被粗糙化，保证该区域的透光性。

该步骤中，可以通过蒙砂涂布工艺，对半成品盖板01进行粗糙化处理，可以通过调节蒙砂涂布工艺参数，控制表面粗糙度。

该步骤中，还可以通过碳化硅粉末研磨工艺，对半成品盖板01进行粗糙化处理，可以通过研磨工艺参数，控制表面粗糙度。

步骤S14：采用氢氟酸对经过粗糙化处理的半成品盖板01的正面进行刻蚀，以消除表面微裂纹。

步骤S15：如图5所示，去除第一保护层03和第二保护层04，并进行清洗，最终形成所需的透明盖板。

在图1所示制作方法中，因为需要预先保护对应通孔区域，基于切割后的小尺寸的半成品盖板进行制作，需要先切割，针对切割后的半成品盖板进行粗糙化处理，无法整体对切割前的大尺寸透明基板进行粗糙化处理，而且即便是对于小尺寸的半成品盖板，表面粗糙化处理也需要规避通孔区域，工作效率较低。

而且如图6所示，图6为图1所示制作方法出现工艺偏差的原理示意图，半成品盖板中，实线圆形区域12为对应通孔的区域，如果存在定位偏差、或是设备误差导致的偏差、或是操作失误导致的偏差等，第一保护层实际保护的虚线圆形区域13与通孔区域对应的实线圆形区域12不完全重合，此时经过上述制作方法，会导致对应通孔的区域至少部分或是全部被粗糙化处理，从而降低通孔区域的透光率，影响产品良率。

为了解决上述问题，本申请技术方案还提供了一种透明盖板及其制作方法，首先对透明基板的第一表面进行整面的粗糙化处理，无需保护通孔区域，提高表面粗糙化处理的效率，完成粗糙化处理后，对所述第一表面的预设通光窗口区域进行光滑处理，以降低所述通光窗口区域的粗糙度，提高所述通光窗口区域的透光率。

为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本申请作进一步详细的说明。

如图7-图10所示，图7-图10为本申请实施例提供的一种透明盖板制作方法的方法及工艺流程图，该制作方法包括：

步骤S21：如图8所示，提供一透明基板21，所述透明基板21具有相反的第一表面和第二表面。

其中，透明基板21可以为玻璃基板。

步骤S22：如图9所示，对所述第一表面进行粗糙化处理，在所述第一表面形成微型凸起结构以及微型凹陷结构。

该步骤中，为了避免粗糙化处理过程对第二表面造成损伤，在进行粗糙化处理前，在所述第二表面形成保护层214，保护层214完全覆盖第二表面。

步骤S23：如图10所示，完成所述粗糙化处理后，对所述第一表面的预设通光窗口区域213进行光滑处理，以降低所述通光窗口区域213的粗糙度，提高所述通光窗口区域213的透光率。

其中，在对所述第一表面的预设通光窗口区域213进行光滑处理前，先去除保护层214，也可以在对所述第一表面的预设通光窗口区域213进行光滑处理后，再去除保护层214。

本申请实施例所述制作方法中，完成所述粗糙化处理后，在对通光窗口区域进行光滑处理前，还包括：采用氢氟酸对所述第一表面进行蚀刻，以去除所述第一表面的微型裂纹，保证透明基板21的表面粗糙处理后具有较好的机械强度，以避免后续切割时，发生碎片问题。刻蚀后，通过清洗去除表面刻蚀残留污渍。

其中，透明基板21包括多个盖板区域211，相邻盖板区域211之间具有切割沟道212。本申请实施例所述制作方法能够在对透明基板21进行切割前，同时对多个盖板区域211的表面进行粗糙化处理，而且无需对通光窗口区域213进行保护，即该过程中同时对通光窗口区域213进行粗糙化，大大提高了粗糙化处理的工作效率。

显然也可以将透明基板21基于切割沟道212分割为多个半成品盖板后，再进行粗糙化处理，每个半成品盖板包括一个所述盖板区域211。该方式，对于每个半成品盖板，能够对整个表面进行粗糙化处理，而且无需对通光窗口区域213进行保护，即该过程中同时对通光窗口区域213进行粗糙化，大大提高了粗糙化处理的工作效率。

为了提高工作效率，本申请以在分割前同时对多个盖板区域211的表面进行粗糙化处理为例进行说明。

本申请实施例中，对所述第一表面进行粗糙化处理的一种方法包括：在所述第一表面涂覆蒙砂试剂，对所述第一表面进行刻蚀。通过调整蒙砂试剂中颗粒尺寸，能够使得透明基板21第一表面的微型凸起结构以及微型凹陷结构尺寸均在纳米量级，可以在实现漫反射、降低炫光的同时，避免人体感知明显的凹凸变化。

将蒙砂粉与盐酸按照预设比例形成的均匀混合后，静置预设时间进行充分熟化后，形成蒙砂试剂。蒙砂粉为氟化物、硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾以及其他添加剂的混合物。氟化物包括氟化铵、氟氢化钾、氟化钙以及氟化氢铵中的一种或是多种。其他添加剂包括重晶石粉、高岭土、石英砂、金刚砂粉、碳纤维粉末、特氟龙颗粒、超岩棕刚玉耐火级段砂粉、聚丙烯酸钠、硅藻土以及羟乙基纤维素中的一种或多种。蒙砂粉中每种材料均预先研磨成纳米级粉末，然后混合搅拌均匀。

通过蒙砂试剂对透明基板21进行表面粗糙化处理时，首先，对透明基板进行预处理，包括对透明基板21进行清洗，清洗后再通过酸液对第一表面进行预刻蚀。然后，将经过预处理后的透明基板的通过浸泡或是喷淋蒙砂试剂的方式，对其第一表面进行蒙砂处理，使其第一表面充分与蒙砂试剂反应。最后清洗并晾干，完成第一表面的粗糙化处理。

本申请实施例所述制作方法中，对所述第一表面进行粗糙化处理的另一种方法包括：采用碳化硅粉末，对所述第一表面进行研磨。该方式中，可以采用碳化硅粉末对透明基板21的表面进行研磨，以对第一表面进行粗糙化处理。通过调控碳化硅粉末的颗粒大小，可以调整第一表面最终粗糙度，能够使得透明基板21第一表面的微型凸起结构以及微型凹陷结构均在尺寸纳米量级，可以在实现漫反射、降低炫光的同时，避免人体感知明显的凹凸变化。

如图11-图13所示，图11-图13为本申请实施例提供的另一种透明盖板制作方法的方法及工艺流程图，在图7-图10所示实施基础上，该制作方法包括：

步骤S31：该步骤与上述步骤S21相同，如图8所示，提供一透明基板21，所述透明基板21具有相反的第一表面和第二表面。

步骤S32：该步骤与上述步骤S22相同，如图9所示，对所述第一表面进行粗糙化处理，在所述第一表面形成微型凸起结构以及微型凹陷结构。

步骤S33：如图12所示，完成粗糙化处理后，去除所述第二保护层214。粗糙化处理后，去除所述第二保护层214前，可以先进行氢氟酸刻蚀，以消除微裂纹。

步骤S34：对所述第一表面以及所述第二表面进行清洗处理。

步骤S35：如图10所示，完成清洗处理后，对所述第一表面的预设通光窗口区域进行光滑处理。

图11和图12所示方式基于图7-图10所示方式，在对所述预设通光窗口区域进行光滑处理前，还包括：去除所述第二表面的保护层；对所述第一表面以及所述第二表面进行清洗处理。

本申请实施例中，对所述第一表面的预设通光窗口区域213进行光滑处理的方法包括：如图10所示，在所述预设通光窗口区域213丝印透明油墨层32，以在所述预设通光窗口区域213形成平坦表面，降低漫反射，从而提高通光窗口区域213的透光率。

其他方式中，对所述第一表面的预设通光窗口区域213进行光滑处理的方法还可以如图13所示，通过激光照射，使得该通光窗口区域213表面熔融再固定，如是能够利用熔融再固定过程中的表面张力，形成一个毫米级尺度的凸曲面，将通光窗口区域213所有纳米级的微型凸起结构以及微型凹陷结构转换为一个对应通孔尺寸的毫米级凸曲面，能够增大视场角。

如上述，所述透明基板21包括多个盖板区域211，所述盖板区域211均具有所述预设通光窗口区域213。如果将触控电极集成在透明盖板上，完成所述光滑处理后，所述制作方法还包括：在所述第二表面形成触控电极。形成触控电极后，再进行切割，形成多个分离的透明盖板，如是可以同时形成多个透明盖板的触控电极，提高工作效率。

如果将触控电极集成在显示模组中，此时，无需在透明盖板上形成触控电极，完成光滑处理后，所述制作方法还包括：基于所述盖板区域211，将所述透明基板21分割为多个透明盖板。每个透明盖板包括一个所述盖板区域211。

如上述，所述透明基板进行切割，此时如果触控电极集成在透明盖板上，完成所述光滑处理后，所述制作方法还包括：在所述第二表面形成触控电极。

本申请技术方案还包括完成光滑处理后，还包括：检测实际光滑处理区域相对于通光窗口区域213是否有偏差，如果有，进行再次光滑处理，以使得实际光滑处理区域包括通光窗口区域213。

如图14所示，图14为本申请实施例所述制作方法进行光滑处理区域修补的原理示意图，由于定位误差、设备误差或是操作失误等因素，可能会导致同一批次的所有透明盖板中实际光滑处理区域23相对于通光窗口区域213具有固定的偏差，本申请实施例所述制作方法，通过检测实际光滑处理区域相对于通光窗口区域213是否有偏差，在确定有偏差时，进行再次光滑处理，形成新的实际光滑处理区域24，新的实际光滑处理区域24区域大于第一次光滑处理对应的实际光滑处理区域23，且包括第一次光滑处理对应的实际光滑处理区域23。

图6所示方式中，由于其是采用保护通孔区域，如果出现偏差，基于其技术方案流程，无法通过补偿修复实现通孔区域一致性的透光效率，这是由于通孔区域部分是被粗糙化的表面(第一区域)，部分是光滑表面(第二区域)，如果丝印透明油，由于第一区域和第二区域表面差异性，丝印透明油墨层后，两区域与透明油墨层界面不一致，影响光学性能。而本申请实施例中，由于是整个表面的粗糙化，两次光滑处理采用相同透明油墨层，两个区域均是透明油和粗糙表面的界面，一致性好，光学性能相同。

基于上述实施例，本申请另一实施例还提供了一种透明盖板，所述透明盖板如图15所示，图15为本申请实施例提供的一种透明盖板的结构示意图，所示透明盖板31包括：

所述透明盖板具有相反的第一表面S1和第二表面S2；

所述第一表面S1具有微型凸起结构以及微型凹陷结构；

所述第一表面具有预设通光窗口区域213，所述通光窗口区域213的表面粗糙度小于所述第一表面S1其他区域的粗糙度；所述通光窗口区域213的表面为基于多个所述微型凸起结构以及多个所述微型凹陷结构形成的表面。

在图15所示方式中，通光窗口区域213包括透明油墨层32，透明油墨层32覆盖通光窗口区域213内的多个所述微型凸起结构以及多个所述微型凹陷结构，从而提高通光窗口区域213表面的平坦性，降低粗糙度，使得通光窗口区域213相对于第一表面S1其他区域具有较好的透光性。

如图16所示，图16为本申请实施例提供的另一种透明盖板的结构示意图，该方式中，所示透明盖板31与图15所示方式不同在于，所述通光窗口区域213的表面为凸曲面，该凸曲面与透明盖板31为一体结构，如上述实施例所述，可以通过激光照射，使得通光窗口区域213表面的多个所述微型凸起结构以及多个所述微型凹陷结构熔融再固定，基于表面张力使得其固定时收缩为一个凸曲面。

可选的，本申请实施例所述透明盖板中，所述第二表面S2还包括触控电极，这样，可以使得透明盖板31集成触控功能。

本说明书中各个实施例采用递进、或并列、或递进和并列结合的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的透明盖板而言，由于其与实施例公开的制作方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见制作方法部分说明即可。

需要说明的是，在本申请的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中设置的组件。

还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括上述要素的物品或者设备中还存在另外的相同要素。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种透明盖板的制作方法，所述制作方法包括：

提供一透明基板，所述透明基板具有相反的第一表面和第二表面；

对所述第一表面进行粗糙化处理，在所述第一表面形成微型凸起结构以及微型凹陷结构；

完成所述粗糙化处理后，对所述第一表面的预设通光窗口区域进行光滑处理，以降低所述通光窗口区域的粗糙度，提高所述通光窗口区域的透光率。

2.根据权利要求1所述的制作方法，对所述第一表面进行粗糙化处理的方法包括：

在所述第一表面涂覆蒙砂试剂，对所述第一表面进行刻蚀。

3.根据权利要求1所述的制作方法，对所述第一表面进行粗糙化处理的方法包括：

采用碳化硅粉末，对所述第一表面进行研磨。

4.根据权利要求1所述的制作方法，完成所述粗糙化处理后，在对通光窗口区域进行光滑处理前，还包括：

采用氢氟酸对所述第一表面进行蚀刻，以去除所述第一表面的微型裂纹。

5.根据权利要求1所述的制作方法，在对所述第一表面进行粗糙化处理前，还包括：

在所述第二表面形成保护层。

6.根据权利要求1所述的制作方法，所述第二表面具有保护层，在对所述预设通光窗口区域进行光滑处理前，还包括：

去除所述第二表面的保护层；

对所述第一表面以及所述第二表面进行清洗处理。

7.根据权利要求1所述的制作方法，对所述第一表面的预设通光窗口区域进行光滑处理的方法包括：

在所述预设通光窗口区域丝印透明油墨层，以在所述预设通光窗口区域形成平坦表面。

8.根据权利要求1-7任一项所述的制作方法，所述透明基板包括多个盖板区域，所述盖板区域均具有所述预设通光窗口区域；

完成所述光滑处理后，还包括：

在所述第二表面形成触控电极；

和/或，

基于所述盖板区域，将所述透明基板分割为多个透明盖板。

9.一种透明盖板，所述透明盖板包括：

所述透明盖板具有相反的第一表面和第二表面；

所述第一表面具有微型凸起结构以及微型凹陷结构；

所述第一表面具有预设通光窗口区域，所述通光窗口区域的表面粗糙度小于所述第一表面其他区域的粗糙度；所述通光窗口区域的表面为基于多个所述微型凸起结构以及多个所述微型凹陷结构形成的表面。

10.根据权利要求9所述的透明盖板，所述第二表面还包括触控电极。

Images