CN112786512A - 旋转轴及包含所述旋转轴的基板支撑装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种旋转轴及包含旋转轴的基板支撑装置，旋转轴包括：设有通气管道的中心转轴；设置于中心转轴的外围的中空外轴，且中空外轴与中心转轴具有设定的间距；环绕中空外轴内壁且连通通气管道的导气槽；设置于中空外轴且连通导气槽的供气管道；成对设置于中心转轴的密封环凸，通气管道进气口在中心转轴轴线方向上位于成对的密封环凸之间；成对设置于中空外轴的密封环槽，导气槽在中心转轴轴线方向上位于成对的密封环槽之间；密封环凸嵌设于密封环槽中。本发明通过在旋转轴中的导气槽与供气管道的邻近位置设置密封环凸与密封环槽，在确保中心转轴与中空外轴不会直接接触的同时，也增强了旋转轴密封结构的密封性，提升了装置的工艺稳定性。

Description

旋转轴及包含所述旋转轴的基板支撑装置

技术领域

本发明涉及半导体制造设备领域，特别是涉及一种旋转轴及包含所述旋转轴的基板支撑装置。

背景技术

在半导体制造的先进制程中，对晶圆背面的刻蚀、注入和激光退火等背面加工工艺正得到日益广泛的应用。在上述背面加工工艺中，对晶圆正面器件区域的保护对于提升晶圆良率具有重要影响。如直接将晶圆正面放置于加工装置上，就有可能使晶圆正面的器件区域受到划伤、颗粒物污染或金属离子污染等缺陷影响，从而使晶圆良率大幅降低。

目前，已有一些解决方案试图浮空放置并夹持晶圆旋转以进行背面加工工艺。在对晶圆背面进行清洗等加工工艺时，浮空的晶圆正面也不会直接接触到加工装置，从而避免了异常缺陷的产生。其中，采用喷气吹浮晶圆的方案由于其较高的夹持稳定性以及对晶圆正面的良好保护而极具应用前景。在现有的喷气吹浮晶圆的方案中，除了采用垂直于放置面的喷射气体吹浮晶圆外，还会采用倾斜方向的喷射气体，以在晶圆与放置面之间形成流速较快的气流，通过伯努利原理将晶圆吸附并保持于放置面上方，而不会被喷射气体吹走。然而，在现有的喷气吹浮方案中，出于对喷气洁净度的要求，为了避免不同结构之间因机械摩擦而产生颗粒污染物，供气管路中固定结构与旋转结构在其邻接位置是不能直接接触的。在上述邻接位置的非密封性将导致装置中的供气极易从缝隙处泄露，从而影响工艺过程中喷气吹浮晶圆的稳定性。

因此，有必要提出一种新的旋转轴及包含所述旋转轴的基板支撑装置，解决上述问题。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种旋转轴及包含所述旋转轴的基板支撑装置，用于解决现有技术中旋转轴密封结构的密封性差，影响工艺稳定性的问题。

为实现上述目的及其它相关目的，本发明提供了一种旋转轴，其特征在于，包括：

中心转轴，所述中心转轴的内部设有通气管道，所述通气管道的进气口设置于所述中心转轴的外壁，所述通气管道的出气口设置于所述中心转轴轴线方向上的一端；

中空外轴，所述中空外轴环绕所述中心转轴的轴线方向设置于所述中心转轴的外围，且所述中空外轴的内壁与所述中心转轴的外壁之间具有设定的间距；

所述中空外轴的内壁设有导气槽，所述导气槽环绕所述中心转轴的轴线方向设置，并连通所述通气管道的进气口；

所述中空外轴还设有供气管道，所述供气管道的进气口设置于所述中空外轴的外壁，所述供气管道的出气口连通所述导气槽；

所述中心转轴还具有成对设置的密封环凸，所述密封环凸环绕所述中心转轴的轴线方向设置于所述中心转轴的外壁，且所述通气管道的进气口在所述中心转轴的轴线方向上位于成对设置的所述密封环凸之间；所述中空外轴还具有成对设置的密封环槽，所述密封环槽环绕所述中心转轴的轴线方向设置于所述中空外轴的内壁，且所述导气槽在所述中心转轴的轴线方向上位于成对设置的所述密封环槽之间；所述密封环凸嵌设于所述密封环槽中。

作为本发明的一种可选方案，所述密封环凸和所述密封环槽为多个且一一对应。

作为本发明的一种可选方案，所述通气管道、所述导气槽和所述供气管道为多个，多个所述导气槽在所述中空外轴的内壁上沿所述中心转轴的轴线方向依次排列，多个所述通气管道的进气口在所述中心转轴的外壁上沿所述中心转轴的轴线方向依次排列并与所述导气槽一一对应。

作为本发明的一种可选方案，所述密封环凸与所述密封环槽之间的径向间隙小于所述密封环凸与所述密封环槽之间的轴向间隙。

作为本发明的一种可选方案，所述密封环凸的凸起高度小于所述密封环槽的凹陷深度。

作为本发明的一种可选方案，所述密封环槽中的不同区域具有不同的凹陷深度，所述密封环槽中靠近所述导气槽一侧的凹陷深度大于所述密封环槽中远离所述导气槽一侧的凹陷深度。

作为本发明的一种可选方案，所述中心转轴的一端连接固定于传动装置，并在所述传动装置的带动下绕其轴线旋转。

作为本发明的一种可选方案，所述中空外轴的部分或全部结构由成对的半轴抱合构成。

本发明还提供了一种基板支撑装置，其特征在于，包括：

用于承接并固定基板的基板卡盘，所述基板卡盘设置有第一喷气管和第二喷气管，所述第一喷气管和所述第二喷气管的出气口设置于所述基板卡盘上用于承接所述基板的承接面，所述第一喷气管用于向所述基板喷气并通过伯努利原理吸附所述基板，所述第二喷气管用于向所述基板喷气并吹浮起所述基板；

如本发明所述的旋转轴，所述旋转轴的中心转轴连接并带动所述基板卡盘转动，所述旋转轴的通气管道的出气口连接所述第一喷气管和所述第二喷气管的进气口。

作为本发明的一种可选方案，所述第一喷气管和所述第二喷气管的出气口为多个。

作为本发明的一种可选方案，所述第一喷气管的出气口的喷气方向倾斜于所述承接面，并与所述承接面形成设定的夹角；所述第二喷气管的出气口的喷气方向垂直于所述承接面。

作为本发明的一种可选方案，所述基板卡盘还设置有用于夹持固定所述基板的定位销，所述定位销通过气缸驱动，所述气缸通过气缸驱动气管连接所述旋转轴的所述通气管道。

作为本发明的一种可选方案，所述基板卡盘还设置有用于将所述基板引导并限位于设定位置的导柱。

如上所述，本发明提供一种旋转轴及包含所述旋转轴的基板支撑装置，具有以下有益效果：

本发明引入一种新的旋转轴及包含所述旋转轴的基板支撑装置，通过在旋转轴中的导气槽与供气管道的邻近位置设置密封环凸与密封环槽，在确保中心转轴与中空外轴不会直接接触的同时，也增强了旋转轴密封结构的密封性，提升了装置的工艺稳定性。

附图说明

图1显示为本发明实施例一中提供的所述旋转轴的立体图。

图2显示为本发明实施例一中提供的所述旋转轴的俯视图。

图3显示为本发明实施例一中提供的所述旋转轴的侧视图。

图4显示为本发明实施例一中提供的所述旋转轴在图2中AA方向上的截面图。

图5显示为本发明实施例一中提供的所述旋转轴在图3中CC方向上的截面图。

图6显示为本发明实施例一中提供的所述旋转轴在图5中D区域的放大图。

图7显示为本发明实施例一中提供的所述中心转轴的正视图。

图8显示为本发明实施例一中提供的所述中心转轴的俯视图。

图9显示为本发明实施例一中提供的所述中心转轴在图7中UU方向上的截面图。

图10显示为本发明实施例一中提供的所述中心转轴在图8中YY方向上的截面图。

图11显示为本发明实施例一中提供的所述中心转轴在图7中B区域的放大图。

图12显示为本发明实施例一中提供的所述半轴的正视图。

图13显示为本发明实施例一中提供的所述半轴的斜下方所视立体图。

图14显示为本发明实施例二中提供的基板支撑装置的正视截面图。

元件标号说明

101 中心转轴

102 通气管道

102a 第一通气管道

102b 第二通气管道

102c 第三通气管道

102d 第四通气管道

103 中空外轴

103a 半轴

104 导气槽

105 供气管道

106 密封环凸

107 密封环槽

108 定位孔

109 定位块

110 连接件

200 基板

201 基板卡盘

201a 承接面

202 第一喷气管

203 第二喷气管

204 定位销

205 导柱

300 旋转轴

301 第一气源

302 第二气源

400 供液喷口

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其它优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。

请参阅图1至图14。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想，虽图示中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的形态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局形态也可能更为复杂。

实施例一

请参阅图1至图13，本实施例提供了一种旋转轴。图1至图6展示了本实施例所提供的旋转轴的结构，其中，图1是所述旋转轴的立体图，图2是其俯视图，图3是其侧视图，图4是图2中AA方向上的截面图，图5是图3中CC方向上的截面图，图6是图5中D区域的放大图。

如图1至图5所示，所述旋转轴包括：中心转轴101，所述中心转轴101的内部设有通气管道102，所述通气管道102的进气口设置于所述中心转轴101的外壁，所述通气管道102的出气口设置于所述中心转轴101轴线方向上的一端。在图7至图11中单独展示了本实施例所提供的中心转轴101的结构，其中，图7是所述中心转轴101的正视图，图8是其俯视图，图9是图7中UU方向上的截面图，图10是图8中YY方向上的截面图，图11是图7中B区域的放大图。具体地，如图4和图5所示，本实施例中所述通气管道102为多个，包括第一通气管道102a、第二通气管道102b、第三通气管道102c和第四通气管道102d。上述各个通气管道的进气口在所述中心转轴101的外壁上沿所述中心转轴101的轴线方向依次排列，且其在径向上开口方向各不相同。如图2所示，各个通气管道的出气口则设置于所述中心转轴101的顶部。需要指出的是，本实施例中，所述中心转轴101为垂直放置，因此所述中心转轴101的轴线方向为垂直方向，在本发明的其他实施案例中，所述中心转轴101还可以是以水平方向或其他任意角度放置。此外，所述通气管道102的数量也可以根据实际需要进行调整。结合图8和图9还可以看出，各个所述通气管道102在所述中心转轴101顶部的出气口的数量也可以根据实际需要而进行不同设置。

作为示例，如图1和图7所示，所述中心转轴101的一端连接固定于传动装置，并在所述传动装置的带动下绕其轴线旋转。从图1和图7中可见，所述中心转轴101的下端设置有连接传动装置(图中未画出)的连接结构，通过所述传动装置连接固定并带动所述中心转轴101绕其轴线进行转动，从而实现所述旋转轴的旋转功能。

如图1至图6所示，所述旋转轴还包括：中空外轴103，所述中空外轴103环绕所述中心转轴101的轴线方向设置于所述中心转轴101的外围，且所述中空外轴103的内壁与所述中心转轴101的外壁之间具有设定的间距。从图5以及图6的放大图中可以看到，所述中空外轴103与所述中心转轴101之间并不直接接触，而是在所述旋转轴的顶部或底部位置通过轴承等连接件进行连接，这可以避免在所述旋转轴的中间区域由所述中空外轴103与所述中心转轴101之间的机械摩擦而产生的颗粒物污染，从而提升旋转轴结构的洁净度。

作为示例，如图12至13所示，所述中空外轴103的部分或全部结构由成对的半轴103a抱合构成。其中，图12是以所述供气管道105为基准的所述半轴103a的正视图，图13是所述半轴103a的斜下方所视立体图。在本实施例中，所述中空外轴103的上半部分，即所述第一通气管道102a和所述第二通气管道102b所连接的部分是由成对的半轴103a抱合构成，而其他部分则是多个一体的环状结构叠置而成。

作为示例，如图4、图5、图12及图13所示，所述中空外轴103的内壁设有导气槽104，所述导气槽104环绕所述中心转轴101的轴线方向设置，并连通所述通气管道102的进气口。所述中空外轴103还设有供气管道105，所述供气管道105的进气口设置于所述中空外轴103的外壁，所述供气管道105的出气口连通所述导气槽104。

具体地，本实施例中，所述导气槽104和所述供气管道105为多个，多个所述导气槽104在所述中空外轴103的内壁上沿所述中心转轴101的轴线方向依次排列，多个所述通气管道102的进气口在所述中心转轴101的外壁上沿所述中心转轴101的轴线方向依次排列并与所述导气槽104一一对应。即本发明中，通过所述通气管道102、所述导气槽104和所述供气管道105的连接，实现了所述旋转轴中供气结构与旋转结构的兼容。供气源所供给的气体能够从所述供气管道105的进气口进入所述旋转轴，经由所述供气管道105、所述导气槽104和所述通气管道102，从所述通气管道102的出气口排出。

如图4至图13所示，所述中心转轴101还具有成对设置的密封环凸106，所述密封环凸106环绕所述中心转轴101的轴线方向设置于所述中心转轴101的外壁，且所述通气管道102的进气口在所述中心转轴101的轴线方向上位于成对设置的所述密封环凸106之间；所述中空外轴103还具有成对设置的密封环槽107，所述密封环槽107环绕所述中心转轴101的轴线方向设置于所述中空外轴103的内壁，且所述导气槽104在所述中心转轴101的轴线方向上位于成对设置的所述密封环槽107之间；所述密封环凸106嵌设于所述密封环槽107中。如图6所示，所述密封环凸106和所述密封环槽107为多个且一一对应。由于在本发明中，所述中空外轴103与所述中心转轴101之间并不直接接触，为了确保垂直方向上各个所述导气槽104具有一定的密封性能，防止供气泄露所导致的工艺性能不佳，本发明引入了成对并交错设置的所述密封环凸106和所述密封环槽107，在所述密封环凸106和所述密封环槽107之间形成了蜿蜒曲折的流道，改善气体在所述中空外轴103与所述中心转轴101之间的密封性能。

作为示例，如图6所示，所述密封环凸106与所述密封环槽107之间的径向间隙(H1)小于所述密封环凸106与所述密封环槽107之间的轴向间隙(W1/W2)。当所述导气槽104经由所述径向间隙流入所述轴向间隙时，由于所述轴向间隙空间较大，这将引起较大的压损，使得气体的流速随着其通过的所述密封环凸106和所述密封环槽107而逐级降低，从而达到良好的密封效果。

可选地，如图6所示，所述密封环凸106的凸起高度小于所述密封环槽107的凹陷深度。从图6中可以看出，通过在所述密封环槽107设置较深的凹陷，能够使所述径向间隙处流出的气体进入空间较大的所述轴向间隙中，强化了该结构对于降低流速的效果，从而增强了气体密封性能。

可选地，如图6所示，所述密封环槽107中的不同区域具有不同的凹陷深度，所述密封环槽107中靠近所述导气槽104一侧的凹陷深度(H2)大于所述密封环槽107中远离所述导气槽104一侧的凹陷深度(H3)。具体地，在图6中，上下两个位置的所述导气槽104中，其密封环槽107接近所述导气槽104一侧的凹陷深度(H2)都大于远离所述导气槽104一侧的凹陷深度(H3)。接近所述导气槽104一侧的较深的凹陷深度可以确保有较大的空间缓冲气体流速，而较浅区域则确保了能够在后续结构中设置较窄的径向间隙，这确保了所述导气槽104附近的所述密封环凸106和所述密封环槽107的嵌设结构可以对其邻近的所述导气槽104具有更好的密封效果。

在本实施例中，所述中空外轴103的上半部分，即所述第一通气管道102a和所述第二通气管道102b所连接的部分是由成对的半轴103a抱合构成，这是由于本实施例仅在所述第一通气管道102a和所述第二通气管道102b所连接的部分引入了所述密封环凸106和所述密封环槽107的密封结构。相互交错的结构决定了所述中空外轴103的上半部分需要通过两个所述半轴103a抱合构成，而其他区域则可直接由环形结构叠套构成。可选地，如图13所示，所述半轴103a上还设有定位孔108和定位块109，用于在两个半轴抱合时进行定位。图13中所展示的所述半轴103a上设置的是定位块109，而在另一半轴的对应位置上设置的是能与所述定位块109相互嵌合的定位槽。如图1和图3所示，在两个半轴抱合后，还可以通过连接件110对其进行固定。在本实施例中，所述第一通气管道102a和所述第二通气管道102b所供给的是直接接触晶圆的洁净度要求高的洁净气体，因此其密封结构要求不能因为机械摩擦而产生颗粒物污染；而所述第三通气管道102c和所述第四通气管道102d所供给的是用于驱动气缸动作的驱动气体，对洁净度要求较低，因此可以采用密封件连接的直接接触式的封闭结构，其气密性较高。当然，如仅为了洁净度考虑，在本发明的其他实施案例中，也可以全部替换为由所述密封环凸106和所述密封环槽107构成的密封结构。

实施例二

请参阅图14，本实施例提供了一种包含实施例一所述旋转轴的基板支撑装置。

所述基板支撑装置包括：

用于承接并固定基板200的基板卡盘201，所述基板卡盘201设置有第一喷气管202和第二喷气管203，所述第一喷气管202和所述第二喷气管203的出气口设置于所述基板卡盘201上用于承接所述基板200的承接面201a，所述第一喷气管202用于向所述基板200喷气并通过伯努利原理吸附所述基板200，所述第二喷气管203用于向所述基板200喷气并吹浮起所述基板200；

如实施例一中所述的旋转轴300，所述旋转轴300的中心转轴连接并带动所述基板卡盘201转动，所述旋转轴300的通气管道的出气口连接所述第一喷气管202和所述第二喷气管203的进气口。

需要指出的是，图14中仅示意性标出所述基板卡盘201与所述旋转轴300之间的位置关系，所述旋转轴300的具体结构请参考实施例一所述。

作为示例，如图14所示，所述第一喷气管202和所述第二喷气管203的出气口为多个。其中，所述第一喷气管202的出气口的喷气方向倾斜于所述承接面201a，并与所述承接面201a形成设定的夹角；所述第二喷气管203的出气口的喷气方向垂直于所述承接面201a。通过所述第一喷气管202的出气口的喷气可以利用伯努利原理将所述基板200吸附并保持于放置面上方，而不会被喷射气体吹走。通过所述第二喷气管203的出气口的喷气则可以喷射气体吹浮所述基板200，以调节基板200与承接面201a之间的间距，使其保持浮空，而不会接触到所述承接面201a。如实施例一中所述，所述第一喷气管202和所述第二喷气管203的供气来自于所述第一通气管道102a和所述第二通气管道102b，由于会直接接触晶圆表面，其对于洁净度的要求较高。上述两组通气管道的供气可以分别进行控制，使得所述基板200可以在工艺过程中稳定地保持在所述基板卡盘201的上方。在图14中上述两组通气管道由第一气源301和第二气源302进行供气。在本实施例中，还通过供液喷口400进行清洗液或者刻蚀液的供给，在保持所述基板200旋转的同时，进行湿法清洗或刻蚀工艺。

作为示例，如图14所示，所述基板卡盘201还设置有用于夹持固定所述基板200的定位销204，所述定位销204通过气缸驱动，所述气缸通过气缸驱动气管连接所述旋转轴300的所述通气管道。如实施例一中所述，所述气缸的驱动供气来自于所述第三通气管道102c和所述第四通气管道102d，其对于洁净度要求较低，而对于气密性要求较高。在本实施例中，之所以需要两路通气管道对气缸供气，是由于所述基板卡盘201上的多个所述定位销204及其驱动气缸是按照两组分组设置的，可以在用一组夹持所述基板200时，另一组放开；而另一组夹持所述基板200时，之前夹持的一组则放开所述基板200。通过以上设置，可以使所述基板200的边缘被夹持的位置也都得到湿法清洗等工艺的充分处理。连接所述第三通气管道102c和所述第四通气管道102d的气缸供气气源在图14中未表示。所述第一气源301和所述第二气源302所供给的都可以是洁净的氮气或者惰性气体，并通过MFC精确控制流量。而所述气缸供气气源的供气用于驱动气缸动作，其对于流量控制和洁净度的要求较低，可以是由空气压缩机等设备提供的压缩空气，也可以采用与所述第一气源301和所述第二气源302相同的气源。

作为示例，如图14所示，所述基板卡盘201还设置有用于将所述基板200引导并限位于设定位置的导柱205。当所述基板200从所述基板卡盘201上方放下时，通过锥形的所述导柱205，可以将所述基板200引导至所述基板卡盘201上的设定位置。

通过本实施例所提供的基板支撑装置，不但能够确保所述基板200在工艺过程中吹浮于所述基板卡盘201的上方而不会与之直接接触，也通过所述密封环凸106和所述密封环槽107的密封结构的设置，使在保有不产生颗粒物污染的非接触式结构的同时，也强化了其密封性能，增加了装置在工艺过程中对保持所述基板200的稳定性。需要指出的是，本实施例中所例举的是本发明所提供的旋转轴应用于单片式晶圆清洗或刻蚀设备的基板支撑装置中的情况，在本发明的其他实施案例中，所述旋转轴还可以应用于其他需要高洁净度供气的旋转装置中。

综上所述，本发明提供了一种旋转轴及包含所述旋转轴的基板支撑装置，所述旋转轴包括：中心转轴，所述中心转轴的内部设有通气管道，所述通气管道的进气口设置于所述中心转轴的外壁，所述通气管道的出气口设置于所述中心转轴轴线方向上的一端；中空外轴，所述中空外轴环绕所述中心转轴的轴线方向设置于所述中心转轴的外围，且所述中空外轴的内壁与所述中心转轴的外壁之间具有设定的间距；所述中空外轴的内壁设有导气槽，所述导气槽环绕所述中心转轴的轴线方向设置，并连通所述通气管道的进气口；所述中空外轴还设有供气管道，所述供气管道的进气口设置于所述中空外轴的外壁，所述供气管道的出气口连通所述导气槽；所述中心转轴还具有成对设置的密封环凸，所述密封环凸环绕所述中心转轴的轴线方向设置于所述中心转轴的外壁，且所述通气管道的进气口在所述中心转轴的轴线方向上位于成对设置的所述密封环凸之间；所述中空外轴还具有成对设置的密封环槽，所述密封环槽环绕所述中心转轴的轴线方向设置于所述中空外轴的内壁，且所述导气槽在所述中心转轴的轴线方向上位于成对设置的所述密封环槽之间；所述密封环凸嵌设于所述密封环槽中。本发明通过在旋转轴中的导气槽与供气管道的邻近位置设置密封环凸与密封环槽，在确保中心转轴与中空外轴不会直接接触的同时，也增强了旋转轴密封结构的密封性，提升了装置的工艺稳定性。

上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。

Claims (13)

1.一种旋转轴，其特征在于，包括：

中心转轴，所述中心转轴的内部设有通气管道，所述通气管道的进气口设置于所述中心转轴的外壁，所述通气管道的出气口设置于所述中心转轴轴线方向上的一端；

中空外轴，所述中空外轴环绕所述中心转轴的轴线方向设置于所述中心转轴的外围，且所述中空外轴的内壁与所述中心转轴的外壁之间具有设定的间距；

所述中空外轴的内壁设有导气槽，所述导气槽环绕所述中心转轴的轴线方向设置，并连通所述通气管道的进气口；

所述中空外轴还设有供气管道，所述供气管道的进气口设置于所述中空外轴的外壁，所述供气管道的出气口连通所述导气槽；

所述中心转轴还具有成对设置的密封环凸，所述密封环凸环绕所述中心转轴的轴线方向设置于所述中心转轴的外壁，且所述通气管道的进气口在所述中心转轴的轴线方向上位于成对设置的所述密封环凸之间；所述中空外轴还具有成对设置的密封环槽，所述密封环槽环绕所述中心转轴的轴线方向设置于所述中空外轴的内壁，且所述导气槽在所述中心转轴的轴线方向上位于成对设置的所述密封环槽之间；所述密封环凸嵌设于所述密封环槽中。

2.根据权利要求1所述的旋转轴，其特征在于，所述密封环凸和所述密封环槽为多个且一一对应。

3.根据权利要求1所述的旋转轴，其特征在于，所述通气管道、所述导气槽和所述供气管道为多个，多个所述导气槽在所述中空外轴的内壁上沿所述中心转轴的轴线方向依次排列，多个所述通气管道的进气口在所述中心转轴的外壁上沿所述中心转轴的轴线方向依次排列并与所述导气槽一一对应。

4.根据权利要求1所述的旋转轴，其特征在于，所述密封环凸与所述密封环槽之间的径向间隙小于所述密封环凸与所述密封环槽之间的轴向间隙。

5.根据权利要求1所述的旋转轴，其特征在于，所述密封环凸的凸起高度小于所述密封环槽的凹陷深度。

6.根据权利要求1所述的旋转轴，其特征在于，所述密封环槽中的不同区域具有不同的凹陷深度，所述密封环槽中靠近所述导气槽一侧的凹陷深度大于所述密封环槽中远离所述导气槽一侧的凹陷深度。

7.根据权利要求1所述的旋转轴，其特征在于，所述中心转轴的一端连接固定于传动装置，并在所述传动装置的带动下绕其轴线旋转。

8.根据权利要求1所述的旋转轴，其特征在于，所述中空外轴的部分或全部结构由成对的半轴抱合构成。

9.一种基板支撑装置，其特征在于，包括：

用于承接并固定基板的基板卡盘，所述基板卡盘设置有第一喷气管和第二喷气管，所述第一喷气管和所述第二喷气管的出气口设置于所述基板卡盘上用于承接所述基板的承接面，所述第一喷气管用于向所述基板喷气并通过伯努利原理吸附所述基板，所述第二喷气管用于向所述基板喷气并吹浮起所述基板；

如权利要求1-8中任意一项所述的旋转轴，所述旋转轴的中心转轴连接并带动所述基板卡盘转动，所述旋转轴的通气管道的出气口连接所述第一喷气管和所述第二喷气管的进气口。

10.根据权利要求9所述的基板支撑装置，其特征在于，所述第一喷气管和所述第二喷气管的出气口为多个。

11.根据权利要求10所述的基板支撑装置，其特征在于，所述第一喷气管的出气口的喷气方向倾斜于所述承接面，并与所述承接面形成设定的夹角；所述第二喷气管的出气口的喷气方向垂直于所述承接面。

12.根据权利要求9所述的基板支撑装置，其特征在于，所述基板卡盘还设置有用于夹持固定所述基板的定位销，所述定位销通过气缸驱动，所述气缸通过气缸驱动气管连接所述旋转轴的所述通气管道。

13.根据权利要求9所述的基板支撑装置，其特征在于，所述基板卡盘还设置有用于将所述基板引导并限位于设定位置的导柱。

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