CN112698525A - 彩膜基板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本申请实施例公开了一种彩膜基板和一种彩膜基板制备方法，彩膜基板包括设置在衬底和色阻块之间的粘附层，其中，粘附层靠近色阻块的一侧表面设置有凸部和/或凹部，任一色阻块下方均设置有至少一个与色阻块对位设置的凸部和/或凹部；通过在色阻块下方设置与色阻块对位设置的凸部和/或凹部，能增大粘附层与色阻块之间的接触面积，从而增大色阻块的剥离力。

Description

彩膜基板及其制备方法
技术领域
本申请涉及液晶显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板和一种彩膜基板制备方法。
背景技术
现有彩膜基板中，色阻块包括R色阻块、G色阻块、B色阻块，色阻块的制备成分主要为有机单体、颜料、溶剂和分散剂等。由于单个R色阻块、G色阻块、B色阻块面积较小，且均为有机材料，因此与玻璃基板相溶性和粘附力较差，在高压水洗制程中常常发生膜层脱落导致显示不良和良率损失。
在对现有技术的研究和实践过程中，本申请的发明人发现，在玻璃基板和色阻块之间设置一层粘附层可以有效缓解R色阻块、G色阻块、B色阻块发生膜层脱落的现象，粘附层可以为有机材料、且与色阻块接触的上表面设置为粗糙化表面，具体可以表现为所述上表面形成有至少一个凸部和/或凹部。
因此，现有彩膜基板存在色阻块容易脱落的技术问题。
发明内容
本申请实施例提供一种彩膜基板，可以缓解现有彩膜基板存在色阻块容易脱落的技术问题。
本申请实施例提供一种彩膜基板，包括：
衬底；
色阻块和黑色矩阵层，所述色阻块和所述黑色矩阵层同层设置，且相邻色阻块之间设置有黑色矩阵层；
粘附层，所述粘附层设置在所述衬底上；
其中，所述粘附层朝向所述色阻块的一侧表面设置有凸部和/或凹部，任一所述色阻块下方均设置有至少一个与所述色阻块对位设置的所述凸部和/或所述凹部。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述粘附层朝向所述色阻块的一侧表面设置有至少两个所述凸部，且相邻所述凸部间的距离相等。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述凸部设置在所述粘附层上。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述粘附层朝向所述色阻块的一侧表面形成有至少两个所述凹部，且相邻所述凹部间的距离相等，相邻所述凹部间的所述粘附层形成有所述凸部。
可选的，在本申请的一些实施例中，相邻所述凸部间的距离与相邻所述凹部间的距离相等。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述凸部包括第一凸部和第二凸部，所述第二凸部的高度大于所述第一凸部的高度。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述色阻块下方的所述凸部和/或所述凹部的设置密度大于所述黑色矩阵层下方的所述凸部和/或所述凹部的设置密度。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述彩膜基板包括中心区域、以及围绕所述中心区域设置的边缘区域，所述凸部或所述凹部在所述边缘区域的设置密度大于在所述中心区域的设置密度。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述粘附层的制备材料为透明材料。
相应的，本申请实施例还提供一种彩膜基板制备方法，包括：
提供一衬底；
在所述衬底上制备得到粘附层；
利用黄光工艺对所述粘附层的上表面进行处理，在所述上表面形成有至少一个凸部和/或凹部；
在所述上表面上制备得到间隔设置的黑色矩阵层；
在相邻所述黑色矩阵层间填充色阻材料制备得到与所述黑色矩阵层同层设置的色阻块。
有益效果：本申请实施例提供的彩膜基板包括衬底、粘附层、色阻块和黑色矩阵层，所述粘附层设置在所述衬底和所述色阻块之间，其中，任一所述色阻块下方均设置有至少一个与所述色阻块对位设置的凸部和/或凹部；通过在色阻块下方设置与所述色阻块接触的凸部和/或凹部，能增大所述粘附层与所述色阻块之间的接触面积，从而增大色阻块的剥离力，缓解了现有彩膜基板存在色阻块容易脱落的技术问题。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1A是本申请实施例提供的彩膜基板的第一种截面示意图；
图1B是本申请实施例提供的彩膜基板的第二种截面示意图
图2是本申请实施例提供的彩膜基板的第三种截面示意图；
图3是本申请实施例提供的彩膜基板的第四种截面示意图；
图4是本申请实施例提供的彩膜基板的第五种截面示意图；
图5是本申请实施例提供的彩膜基板制备方法的流程示意图。
附图标记说明：
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具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
本申请实施例提供一种彩膜基板和一种彩膜基板制备方法。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
如图1A、图1B所示，本申请实施例提供的彩膜基板1包括衬底10、粘附层20、色阻块30和黑色矩阵层40，所述粘附层20设置在所述衬底10和所述色阻块30之间，其中，所述粘附层20朝向所述色阻块30的一侧表面设置有凸部50和/或凹部60，至少一所述凸部50和/或所述凹部60与所述色阻块30对位设置。
在本实施例中，所述彩膜基板11包括衬底10、粘附层20、色阻块30和黑色矩阵层40，所述粘附层20设置在所述衬底10和所述色阻块30之间，其中，所述粘附层20朝向所述色阻块30的一侧表面设置有凸部50和/或凹部60，至少一所述凸部50和/或所述凹部60与所述色阻块30对位设置；将所述粘附层20与所述色阻块30接触的表面进行粗糙化设置，能增大所述粘附层20与所述色阻块30之间的接触面积，从而增大二者的结合力，缓解了现有彩膜基板1存在色阻块30容易脱落的技术问题。
其中，所述粘附层20朝向所述色阻块30的一侧表面形成为粗糙化表面，所述粗糙化表面的表现形式可以为设置有至少一个凸部50和/或凹部60，所述粗糙化表面的表现形式还可以为其他能增加所述粘附层20和所述色阻块30之间结合力的设置。
其中，所述凸部50和所述凹部60可以间隔设置，所述凸部50也可以设置在所述粘附层20上。
实施例一：
在一种实施例中，如图1A、图1B所示，任一所述色阻块30下方均设置有至少一个与所述色阻块30对位设置的所述凸部50或所述凹部60。
其中，如图1A所示，所述凸部50和所述凹部60可以为一体成型，即通过一步工艺形成所述凸部50、以及与所述凸部50相邻设置的所述凹部60。
其中，如图1B所示，所述凸部50设置在所述粘附层20上，所述凸部50的制备材料可以为有机透明材料，利用有机材料与有机材料之间的结合力大于有机材料与无机材料之间的结合力的原理，进一步增大所述凸部50与所述色阻块30之间的结合力。
其中，所述凸部50的制备方法可以为：在所述粘附层20上再形成一有机膜层，利用黄光工艺图案化所述有机膜层形成所述凸部50。
在本实施例中，通过在任一色阻块30下方均设置凸部50或凹部60，可以增大任一所述色阻块30与下方所述粘附层20的接触面积，进而增大色阻块30的剥离力，而本申请要解决的正是色阻块30因接触面积较小容易脱落的问题，本实施例可以增大任一所述色阻块30与下方所述粘附层20的接触面积。
实施例二：
在一种实施例中，如图2所示，任一所述色阻块30下方均设置有至少一个所述凸部50和至少一个所述凹部60。
其中，所述凸部50可以与所述凹部60一体成型。
其中，所述凸部50也可以为设置在所述粘附层20上。
其中，至少一所述凸部50还可以设置在所述凹部60内，其中所述凸部50设置在所述凹部60内的粘附层20表面。
具体的，所述凸部50可以设置在所述凹部60的底面，或者所述凸部50可以形成在所述凹部60的侧面。
在本实施例中，任一色阻块30下方均设置有所述凸部50和所述凹部60，在实施例一的基础上在任一所述色阻块30下方还设置有凹部60，与实施例一相比可以进一步增大任一所述色阻块30的剥离力。
其中，所述色阻块30的剥离力是指使所述色阻块30从其下方膜层上脱落所需要施加的力，所述色阻块30的剥离力越大则所述色阻块30越难受外力作用脱落。
实施例三：
在一种实施例中，如图3所示，所述凹部60内还可以形成或设置为粗糙化表面。
其中，可以在所述凹部60内形成或设置有凸部50或凹部60。
其中，所述凸部50和/或所述凹部60可以设置在所述凹部60的底面和/或侧面。
在本实施例中，通过在所述凹部60内形成或设置粗糙化表面，所述粗糙化表面可以为凸部50或凹部60。
在一种实施例中，所述粘附层20的制备材料为透明材料。
其中，所述粘附层20的制备材料可以为有机透明材料，由于色阻块30也为有机材料，色阻块30与无机材料膜层的结合力小于与有机材料膜层的结合力，因此可以增大色阻块30与粘附层20之间的结合力。
在一种实施例中，所述粘附层20朝向所述色阻块30的一侧表面设置有至少两个所述凸部50，且相邻所述凸部50间的距离相等。
其中，所述相邻凸部50可以设置在同一所述色阻块30下方。
其中，所述相邻凸部50也可以设置在不同所述色阻块30下方。
在本实施例中，所述凸部50间的距离相等，同时，所述凸部50的形状、大小也可以相同，那么在对应形成所述凸部50时，掩膜板上与凸部50对应的开口区或遮蔽区的位置呈规律排布，便于掩膜板的设计和制备生产。
在一种实施例中，所述凸部50设置在所述粘附层20上。
其中，具体可参考实施例一内容，如图1B所示，凸部50可以设置在所述粘附层20上。
在一种实施例中，所述粘附层20朝向所述色阻块30的一侧表面形成有至少两个所述凹部60，且相邻所述凹部60间的距离相等，相邻所述凹部60间形成有所述凸部50。
其中，所述凹部60可以设置在同一色阻块30下方，所述相邻凹部60间的距离相等可以为同一色阻块30下方的相邻凹部60间的距离相等，
其中，所述凹部60也可以分别设置在不同色阻块30下方。
在一种实施例中，所述凹部60的宽度小于任一色阻块30的宽度。
其中，所述凹部60的宽度小于所述色阻块30宽度的十分之一。
在一种实施例中，相邻所述凸部50间的距离与相邻所述凹部60间的距离相等。
其中，在同一色阻块30下方，所述凸部50间的距离与相邻所述凹部60间的距离相等。
其中，所述凸部50与所述凹部60为同一步工艺对所述粘附层20处理后制备得到，所述凸部50与所述凹部60相邻设置。
其中，所述凸部50的宽度与所述凹部60的宽度相等。
实施例四：
在一种实施例中，如图4所示，所述凸部50包括第一凸部501和第二凸部502，所述第二凸部502的高度大于所述第一凸部501的高度。
在本实施例中，所述第一凸部501可以设置于所述粘附层20上，也可以由所述粘附层20形成，所述第二凸部502同样可以设置于所述粘附层20上，也可以由所述粘附层20形成。
其中，所述第一凸部501和所述第二凸部502均为设置于所述粘附层20上的独立构件。
其中，所述第一凸部501为设置于所述粘附层20上的独立构件，所述第二凸部502由所述粘附层20形成。
其中，所述第一凸部501由所述粘附层20形成，所述第二凸部502为设置于所述粘附层20上的独立构件。
其中，所述第一凸部501和所述第二凸部502均由所述粘附层20形成。
在本实施例中，所述凸部50可以包括高度不同的第一凸部501和第二凸部502，还可以包括形状不同或高度不同的其他凸部50。
在一种实施例中，所述色阻块30下方的所述凸部50和/或所述凹部60的设置密度大于所述黑色矩阵层40下方的所述凸部50和/或所述凹部60的设置密度。
在本实施例中，提供的彩膜基板1能缓解色阻块30容易脱落的技术问题，因此在色阻块30下方设置较密集的凸部50和/或凹部60能更好的增大色阻块30的所述剥离力。
在一种实施例中，所述色阻块30下方的所述凸部50和/或所述凹部60的设置数量大于所述黑色矩阵层40下方的所述凸部50和/或所述凹部60的设置数量。
在本实施例中，提供的彩膜基板1能缓解色阻块30容易脱落的技术问题，因此在色阻块30下方设置数量较多的凸部50和/或凹部60能更好的增大色阻块30的所述剥离力。
在一种实施例中，所述彩膜基板1包括中心区域、以及围绕所述中心区域设置的边缘区域，所述凸部50或所述凹部60在所述边缘区域的设置密度大于在所述中心区域的设置密度。
在一种实施例中，任一所述黑色矩阵层40下方设置有至少一凸部50和/或凹部60。
其中，所述凸部50和/或所述凹部60相邻设置，所述凸部50可以设置在所述粘附层20上，所述凸部50也可以与所述凹部60同一步工艺制备得到。
在本实施例中，所述黑色矩阵层40下方的粘附层20设置有粗糙化表面，所述粗糙化表面可以为在粘附层20靠近所述黑色矩阵层40一侧的表面上设置凸部50和/或凹部60，通过增大黑色矩阵层40与下方膜层之间结合力，由于黑色矩阵层40与所述色阻块30触接，因此，可以间接的增大所述色阻块30的剥离力。
如图5所示，本申请实施例提供的彩膜基板1制备方法包括：
S1:提供一衬底10；
S2:在所述衬底10上制备得到粘附层20；
S3:利用黄光工艺对所述粘附层20的上表面进行处理，在所述上表面形成有至少一个凸部50和/或凹部60；
S4:在所述上表面上制备得到间隔设置的黑色矩阵层40；
S5:在相邻所述黑色矩阵层40间填充色阻材料制备得到与所述黑色矩阵层40同层设置的色阻块30。
其中，所述黄光工艺包括曝光工艺、显影工艺。
其中，所述黑色矩阵层40两侧相邻的色阻材料的颜色不同，所述色阻材料填充后形成色阻块30，所述黑色矩阵层40用于防止相邻色阻块30发生混色现象。
在一种实施例中，形成有至少一个凸部50或凹部60的步骤还包括：
在所述粘附层20上方形成一层有机膜层，通过黄光工艺处理所述有机膜层得到所述凸部50，所述凸部50设置在所述粘附层20上。
在一种实施例中，形成有至少一个凸部50或凹部60的步骤还包括：
提供一掩膜板，通过所述掩膜板对所述粘附层20进行黄光工艺处理，使所述有机膜层形成所述凸部50，所述凸部50设置在所述粘附层20上。
在一种实施例中，形成有至少一个凸部50或凹部60的步骤还包括：
在所述粘附层20上方形成一层有机膜层，通过黄光工艺处理所述粘附层20得到所述凸部50和所述凹部60，所述凸部50和所述凹部60为所述粘附层20经处理后形成。
在一种实施例中，通过黄光工艺处理所述粘附层20得到所述凸部50和所述凹部60的步骤还包括：
提供另一掩膜板，通过所述掩膜板对所述粘附层20进行黄光工艺处理，使所述粘附层20形成所述凸部50和所述凹部60，所述凸部50与所述凹部60相邻设置，相邻两所述凸部50之间形成有所述凹部60。
本申请提供的彩膜基板包括衬底、粘附层、色阻块和黑色矩阵层，所述粘附层设置在所述衬底和所述色阻块之间，其中，所述粘附层朝向所述色阻块的一侧表面设置有凸部和/或凹部，任一所述色阻块下方均设置有至少一个与所述色阻块对位设置的所述凸部和/或所述凹部；将所述粘附层与所述色阻块接触的表面进行粗糙化设置，能增大所述粘附层与所述色阻块之间额接触面积，从而增大二者的结合力，缓解了现有彩膜基板存在色阻块容易脱落的技术问题。
以上对本申请实施例所提供的一种彩膜基板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
衬底；
色阻块和黑色矩阵层，所述色阻块和所述黑色矩阵层同层设置，且相邻所述色阻块之间设置有所述黑色矩阵层；
粘附层，所述粘附层设置在所述衬底上；
其中，所述粘附层朝向所述色阻块的一侧表面设置有凸部和/或凹部，至少一所述凸部和/或所述凹部与所述色阻块对位设置。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述粘附层朝向所述色阻块的一侧表面设置有至少两个所述凸部，且相邻所述凸部间的距离相等。
3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述凸部设置在所述粘附层上。
4.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述粘附层朝向所述色阻块的一侧表面形成有至少两个所述凹部，且相邻所述凹部间的距离相等，相邻所述凹部间的所述粘附层形成有所述凸部。
5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，相邻所述凸部间的距离与相邻所述凹部间的距离相等。
6.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述凸部包括第一凸部和第二凸部，所述第二凸部的高度大于所述第一凸部的高度。
7.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻块下方的所述凸部和/或所述凹部的设置密度大于所述黑色矩阵层下方的所述凸部和/或所述凹部的设置密度。
8.如权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括中心区域、以及围绕所述中心区域设置的边缘区域，所述凸部或所述凹部在所述边缘区域的设置密度大于在所述中心区域的设置密度。
9.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述粘附层的制备材料为透明材料。
10.一种彩膜基板制备方法，其特征在于，包括：
提供一衬底；
在所述衬底上制备得到粘附层；
利用黄光工艺对所述粘附层的上表面进行处理，在所述上表面形成有至少一个凸部和/或凹部；
在所述上表面上制备得到间隔设置的黑色矩阵层；
在相邻所述黑色矩阵层间填充色阻材料制备得到与所述黑色矩阵层同层设置的色阻块。
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