CN112696820A - 一种半导体陶瓷电热淋浴器 - Google Patents

一种半导体陶瓷电热淋浴器 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种半导体陶瓷电热淋浴器，其结构包括电热设备、按钮、进水管、出水管，电热设备前表面下端嵌固安装有按钮，并且进水管嵌固安装在电热设备右下端内部，通过箱体上端的陶瓷板和金属板进行加热，将热量传导到导热杆上，受热片进行全面发热，隔板外侧的膨胀球发生膨胀，从而使得推片对水流进行拨动，避免冷水在箱体内部快速流动，确保冷水进行全面的加热后再从排水装置内部进行排出，当排出的温水温度过高时，这时金属球受热膨胀，从而推动了推杆进行移动，将开闭板进行顶开，开闭板绕着扭力轴进行转动，从而将进水管、内部流入回流管内部的冷水排进排水管内部，与温度过高的水进行混合，避免瞬间排出的水温过高发生烫伤。

Description

一种半导体陶瓷电热淋浴器
技术领域
本发明涉及导体陶瓷领域，更具体地说，尤其是涉及到一种半导体陶瓷电热淋浴器。
背景技术
半导体陶瓷是指具有半导体特性、电导率约在10-6～105S/m的陶瓷，半导体陶瓷的电导率因外界条件的变化而发生显著的变化，半导体陶瓷电热淋浴器采用热敏陶瓷加热器作为导热体，对淋浴器的温度进行控制加热，但是在冬天，外部的温度较低，对热敏陶瓷导电影响较大，热敏电阻加热效率下降，同时热敏陶瓷需要与水箱进行分隔加热，造成热敏陶瓷的发热面积有限，并且处于水箱的上端位置，冷水在进行流动的过程中与上端的热敏陶瓷进行接触的面积和时间有限，造成冷水进行加热的温度受限，在使用淋浴器的过程中，瞬间打开温水开关时，冷水只是在水箱内部进行循环流动，热敏陶瓷并未全面的对冷水进行加热，而部分储存温度较高的热水直接排出，导致淋浴流出的水温较低或过高。
发明内容
本发明实现技术目的所采用的技术方案是：该一种半导体陶瓷电热淋浴器，其结构包括电热设备、按钮、进水管、出水管，所述电热设备前表面下端嵌固安装有按钮，并且进水管嵌固安装在电热设备右下端内部，所述出水管嵌固安装在电热设备左下端内部，所述电热设备包括机箱、电路板、陶瓷加热装置、集烟罩，所述进水管嵌固安装在机箱右下端内部，所述机箱内部右下端设有电路板，所述陶瓷加热装置安装在机箱内部上端，所述陶瓷加热装置右下端与进水管上端相贯通，所述集烟罩设在陶瓷加热装置顶部，所述出水管嵌固安装在机箱左下端内部，所述集烟罩呈下端宽上端窄的四棱台结构。
作为本发明的进一步改进，所述陶瓷加热装置包括密封箱、陶瓷板、金属板、加热水箱，所述进水管贯穿于密封箱右端内部，并且陶瓷板安装在密封箱顶部，所述陶瓷板下表面与金属板上表面相贴合，所述加热水箱固定安装在密封箱内部，并且加热水箱右下端与进水管相贯通，所述陶瓷板和金属板均设有两个，呈上下对称结构安装并且之间通过金属杆进行连接。
作为本发明的进一步改进，所述加热水箱包括箱体、导热杆、受热片、膨胀装置、排水装置，所述箱体上端设有导热杆，所述导热杆一端与陶瓷板底面相固定，并且导热杆另一端与受热片外侧表面相抵触，所述受热片嵌固安装在箱体内部上端，所述膨胀装置固定安装在箱体内部，所述排水装置左上端与箱体左下端相贯通，并且排水装置右端与进水管中端内部相贯通，所述受热片呈弧面结构，并且导热杆设有九个，呈弧形等距分布在受热片的上端，同时九个导热杆与陶瓷板进行接触。
作为本发明的进一步改进，所述膨胀装置包括隔板、膨胀球、推片，所述隔板焊接于在箱体内部，所述膨胀球设在隔板外侧，并且隔板外侧表面与推片内部表面相抵触，所述推片焊接于隔板外侧表面，所述膨胀球和推片均设有两个，推片呈弧面结构，并且呈左右对称安装在隔板左右两侧外部。
作为本发明的进一步改进，所述排水装置包括排水管、滑片、金属球、回流管、开闭装置，所述排水管上端与箱体左下端相贯通，所述滑片焊接于排水管内壁，所述金属球固定安装在排水管内部中端，所述回流管左端嵌固安装在排水管右侧中端并且相贯通，所述金属球右侧与开闭装置左端相固定，所述开闭装置嵌固安装在回流管左端内部，并且回流管右端与进水管中端内部相贯通，所述滑片呈弧面结构，并且设有九个，分别设在排水管左右两侧内壁。
作为本发明的进一步改进，所述开闭装置包括推杆、开闭环、限位转槽、扭力轴、开闭板，所述推杆左端与金属球右侧表面相焊接，所述开闭环嵌固安装在排水管左端内部，所述开闭环内壁设有限位转槽，所述限位转槽内部通过扭力轴与开闭板外侧端相铰接，所述开闭板位于开闭环内部，并且开闭板左侧表面与推杆右端相抵触，所述限位转槽、扭力轴和开闭板均设有两个，并且呈上下对称结构，两个开闭板之间进行抵触。
本发明的有益效果在于：
1.通过箱体上端的陶瓷板和金属板进行加热，将热量传导到导热杆上，受热片进行全面发热，通过隔板能够增加箱体内部水的流动距离，箱体内部水温升高后，这时隔板外侧的膨胀球发生膨胀，从而使得推片对水流进行拨动，提高箱体内部的水流动面积，避免冷水在箱体内部快速流动，确保冷水进行全面的加热后再从排水装置内部进行排出。
2.当排出的温水温度过高时，这时金属球受热膨胀，从而推动了推杆进行移动，将开闭板进行顶开，开闭板绕着扭力轴进行转动，从而将进水管、内部流入回流管内部的冷水排进排水管内部，与温度过高的水进行混合，避免瞬间排出的水温过高发生烫伤。
附图说明
图1为本发明一种半导体陶瓷电热淋浴器的结构示意图。
图2为本发明一种电热设备的内部结构示意图。
图3为本发明一种陶瓷加热装置的内部结构示意图。
图4为本发明一种加热水箱的内部结构示意图。
图5为本发明一种膨胀装置的工作状态结构示意图。
图6为本发明一种排水装置的局部内部结构示意图。
图7为本发明一种开闭装置的内部以及局部放大结构示意图。
图中：电热设备-1、按钮-2、进水管-3、出水管-4、机箱-11、电路板-12、陶瓷加热装置-13、集烟罩-14、密封箱-131、陶瓷板-132、金属板-133、加热水箱-134、箱体-34a、导热杆-34b、受热片-34c、膨胀装置-34d、排水装置-34e、隔板-d1、膨胀球-d2、推片-d3、排水管-e1、滑片-e2、金属球-e3、回流管-e4、开闭装置-e5、推杆-e51、开闭环-e52、限位转槽-e53、扭力轴-e54、开闭板-e55。
具体实施方式
以下结合附图对本发明做进一步描述：
实施例1：
如附图1至附图5所示：
本发明一种半导体陶瓷电热淋浴器，其结构包括电热设备1、按钮2、进水管3、出水管4，所述电热设备1前表面下端嵌固安装有按钮2，并且进水管3嵌固安装在电热设备1右下端内部，所述出水管4嵌固安装在电热设备1左下端内部，所述电热设备1包括机箱11、电路板12、陶瓷加热装置13、集烟罩14，所述进水管3嵌固安装在机箱11右下端内部，所述机箱11内部右下端设有电路板12，所述陶瓷加热装置13安装在机箱11内部上端，所述陶瓷加热装置13右下端与进水管3上端相贯通，所述集烟罩14设在陶瓷加热装置13顶部，所述出水管4嵌固安装在机箱11左下端内部，所述集烟罩14呈下端宽上端窄的四棱台结构，利于将下端陶瓷加热装置13加热过程中产生的烟气进行集中收集并且从机箱11的顶部进行排出。
其中，所述陶瓷加热装置13包括密封箱131、陶瓷板132、金属板133、加热水箱134，所述进水管3贯穿于密封箱131右端内部，并且陶瓷板132安装在密封箱131顶部，所述陶瓷板132下表面与金属板133上表面相贴合，所述加热水箱134固定安装在密封箱131内部，并且加热水箱134右下端与进水管3相贯通，所述陶瓷板132和金属板133均设有两个，呈上下对称结构安装并且之间通过金属杆进行连接，提高陶瓷板132自身的发热效果，从而提高热量传导到加热水箱134上端。
其中，所述加热水箱134包括箱体34a、导热杆34b、受热片34c、膨胀装置34d、排水装置34e，所述箱体34a上端设有导热杆34b，所述导热杆34b一端与陶瓷板132底面相固定，并且导热杆34b另一端与受热片34c外侧表面相抵触，所述受热片34c嵌固安装在箱体34a内部上端，所述膨胀装置34d固定安装在箱体34a内部，所述排水装置34e左上端与箱体34a左下端相贯通，并且排水装置34e右端与进水管3中端内部相贯通，所述受热片34c呈弧面结构，并且导热杆34b设有九个，呈弧形等距分布在受热片34c的上端，同时九个导热杆34b与陶瓷板132进行接触，确保将陶瓷板132上的热量进行均匀传导到受热片34c上，通过受热片34c提高与冷水进行接触的面积，从而提高冷水进行加热的时间，避免冷水加热温度受限。
其中，所述膨胀装置34d包括隔板d1、膨胀球d2、推片d3，所述隔板d1焊接于在箱体34a内部，所述膨胀球d2设在隔板d1外侧，并且隔板d1外侧表面与推片d3内部表面相抵触，所述推片d3焊接于隔板d1外侧表面，所述膨胀球d2和推片d3均设有两个，推片d3呈弧面结构，并且呈左右对称安装在隔板d1左右两侧外部，通过膨胀球d2受热膨胀从而使得推片d3对水流进行拨动，提高箱体34a内部的水流动面积，从而提高水的受热面积。
本实施例的具体使用方式与作用：
本发明中，通过按下按钮2启动电热设备1进行工作，将外部的冷水接通进水管3，冷水从进水管3进入到箱体34a内部，通过箱体34a上端的陶瓷板132和金属板133进行加热，将热量传导到导热杆34b上，通过九个导热杆34b将热量传导到受热片34c上，使得受热片34c进行全面发热，通过隔板d1能够增加箱体34a内部水的流动距离，同时提高受热片34c与箱体34a内部冷水进行接触的面积，从而提高冷水进行加热的时间，避免冷水加热温度受限，箱体34a内部水温升高后，这时隔板d1外侧的膨胀球d2发生膨胀，从而使得推片d3对水流进行拨动，提高箱体34a内部的水流动面积，从而提高水的受热面积，避免冷水在箱体34a内部快速流动，确保冷水进行全面的加热后再从排水装置34e内部进行排出。
实施例2：
如附图6至附图7所示：
其中，所述排水装置34e包括排水管e1、滑片e2、金属球e3、回流管e4、开闭装置e5，所述排水管e1上端与箱体34a左下端相贯通，所述滑片e2焊接于排水管e1内壁，所述金属球e3固定安装在排水管e1内部中端，所述回流管e4左端嵌固安装在排水管e1右侧中端并且相贯通，所述金属球e3右侧与开闭装置e5左端相固定，所述开闭装置e5嵌固安装在回流管e4左端内部，并且回流管e4右端与进水管3中端内部相贯通，所述滑片e2呈弧面结构，并且设有九个，分别设在排水管e1左右两侧内壁，提高温水排出在排水管e1内部的流动速度，避免温水排出流动时间过长温度发生下降。
其中，所述开闭装置e5包括推杆e51、开闭环e52、限位转槽e53、扭力轴e54、开闭板e55，所述推杆e51左端与金属球e3右侧表面相焊接，所述开闭环e52嵌固安装在排水管e1左端内部，所述开闭环e52内壁设有限位转槽e53，所述限位转槽e53内部通过扭力轴e54与开闭板e55外侧端相铰接，所述开闭板e55位于开闭环e52内部，并且开闭板e55左侧表面与推杆e51右端相抵触，所述限位转槽e53、扭力轴e54和开闭板e55均设有两个，并且呈上下对称结构，两个开闭板e55之间进行抵触，利于对回流管e4内部进行密封，同时当排水管e1内部的温度过高时，能够推动推杆e51将开闭板e55进行顶开，从而将回流管e4内部的部分冷水与排水管e1内部温度过高的水进行混合，避免排出的温水温度过高发生烫伤。
本实施例的具体使用方式与作用：
本发明中，加热后的水从排水管e1内部排出的过程中，通过与滑片e2进行接触，从而提高了水流在排水管e1内部的流动速度，避免温水排出流动时间过长温度发生下降，确保温水从出水管4排出后的温度不会下降过多，同时当排出的温水温度过高时，这时金属球e3受热膨胀，从而推动了推杆e51进行移动，将开闭板e55进行顶开，开闭板e55绕着扭力轴e54进行转动，从而将进水管3内部流入回流管e4内部的冷水排进排水管e1内部，与温度过高的水进行混合，避免瞬间排出的水温过高发生烫伤。
利用本发明所述技术方案，或本领域的技术人员在本发明技术方案的启发下，设计出类似的技术方案，而达到上述技术效果的，均是落入本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种半导体陶瓷电热淋浴器，其结构包括电热设备(1)、按钮(2)、进水管(3)、出水管(4)，所述电热设备(1)前表面下端嵌固安装有按钮(2)，并且进水管(3)嵌固安装在电热设备(1)右下端内部，所述出水管(4)嵌固安装在电热设备(1)左下端内部，其特征在于：
所述电热设备(1)包括机箱(11)、电路板(12)、陶瓷加热装置(13)、集烟罩(14)，所述进水管(3)嵌固安装在机箱(11)右下端内部，所述机箱(11)内部右下端设有电路板(12)，所述陶瓷加热装置(13)安装在机箱(11)内部上端，所述陶瓷加热装置(13)右下端与进水管(3)上端相贯通，所述集烟罩(14)设在陶瓷加热装置(13)顶部，所述出水管(4)嵌固安装在机箱(11)左下端内部。
2.根据权利要求1所述的一种半导体陶瓷电热淋浴器，其特征在于：所述陶瓷加热装置(13)包括密封箱(131)、陶瓷板(132)、金属板(133)、加热水箱(134)，所述进水管(3)贯穿于密封箱(131)右端内部，并且陶瓷板(132)安装在密封箱(131)顶部，所述陶瓷板(132)下表面与金属板(133)上表面相贴合，所述加热水箱(134)固定安装在密封箱(131)内部，并且加热水箱(134)右下端与进水管(3)相贯通。
3.根据权利要求2所述的一种半导体陶瓷电热淋浴器，其特征在于：所述加热水箱(134)包括箱体(34a)、导热杆(34b)、受热片(34c)、膨胀装置(34d)、排水装置(34e)，所述箱体(34a)上端设有导热杆(34b)，所述导热杆(34b)一端与陶瓷板(132)底面相固定，并且导热杆(34b)另一端与受热片(34c)外侧表面相抵触，所述受热片(34c)嵌固安装在箱体(34a)内部上端，所述膨胀装置(34d)固定安装在箱体(34a)内部，所述排水装置(34e)左上端与箱体(34a)左下端相贯通，并且排水装置(34e)右端与进水管(3)中端内部相贯通。
4.根据权利要求3所述的一种半导体陶瓷电热淋浴器，其特征在于：所述膨胀装置(34d)包括隔板(d1)、膨胀球(d2)、推片(d3)，所述隔板(d1)焊接于在箱体(34a)内部，所述膨胀球(d2)设在隔板(d1)外侧，并且隔板(d1)外侧表面与推片(d3)内部表面相抵触，所述推片(d3)焊接于隔板(d1)外侧表面。
5.根据权利要求3所述的一种半导体陶瓷电热淋浴器，其特征在于：所述排水装置(34e)包括排水管(e1)、滑片(e2)、金属球(e3)、回流管(e4)、开闭装置(e5)，所述排水管(e1)上端与箱体(34a)左下端相贯通，所述滑片(e2)焊接于排水管(e1)内壁，所述金属球(e3)固定安装在排水管(e1)内部中端，所述回流管(e4)左端嵌固安装在排水管(e1)右侧中端并且相贯通，所述金属球(e3)右侧与开闭装置(e5)左端相固定，所述开闭装置(e5)嵌固安装在回流管(e4)左端内部，并且回流管(e4)右端与进水管(3)中端内部相贯通。
6.根据权利要求5所述的一种半导体陶瓷电热淋浴器，其特征在于：所述开闭装置(e5)包括推杆(e51)、开闭环(e52)、限位转槽(e53)、扭力轴(e54)、开闭板(e55)，所述推杆(e51)左端与金属球(e3)右侧表面相焊接，所述开闭环(e52)嵌固安装在排水管(e1)左端内部，所述开闭环(e52)内壁设有限位转槽(e53)，所述限位转槽(e53)内部通过扭力轴(e54)与开闭板(e55)外侧端相铰接，所述开闭板(e55)位于开闭环(e52)内部，并且开闭板(e55)左侧表面与推杆(e51)右端相抵触。
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