CN112663105A - 一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法 - Google Patents
一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112663105A CN112663105A CN202011187472.4A CN202011187472A CN112663105A CN 112663105 A CN112663105 A CN 112663105A CN 202011187472 A CN202011187472 A CN 202011187472A CN 112663105 A CN112663105 A CN 112663105A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- ceramic coating
- electrolyte
- metal
- oxide ceramic
- alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 19
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 55
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 55
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 38
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910000711 U alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 7
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000007745 plasma electrolytic oxidation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 27
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 25
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 abstract description 13
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 abstract description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 abstract description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 30
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 16
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 15
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 11
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 7
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 6
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 6
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 6
- 238000000861 blow drying Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 4
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 4
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010963 304 stainless steel Substances 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000589 SAE 304 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N chromium trinitrate Chemical compound [Cr+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- OBOSXEWFRARQPU-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n-dimethylpyridine-2,5-diamine Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N)C=N1 OBOSXEWFRARQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVLSUSDHNOLZMO-UHFFFAOYSA-N [Zn].ClOCl Chemical compound [Zn].ClOCl QVLSUSDHNOLZMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K cerium trichloride Chemical compound Cl[Ce](Cl)Cl VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N chromium(III) oxide Inorganic materials O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 230000005518 electrochemistry Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法,它涉及金属表面改性领域,本发明主要解决现有方法在金属表面制备陶瓷涂层工艺复杂,所需设备昂贵,而且难以在形状复杂工件表面制备陶瓷涂层的问题。本发明的方法为:首先对金属试样打磨清洗干净,然后在一定浓度金属盐的水溶液中,以金属试样为阴极连在电源上,通过调节电源参数,进行电解一定时间,最后清洗、干燥,即得氧化物陶瓷涂层。本发明所需设备简单、工艺参数易调节、绿色环保,并且操作简单,易于实现自动化。本发明应用在金属耐磨、防腐和功能化领域。
Description
技术领域
本发明属于金属表面改性领域,特别是一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法。
背景技术
目前,在金属表面制备陶瓷涂层的方法主要有热喷涂、化学气相沉积和物理气相沉积等。热喷涂是将涂层材料加热融化,通过高速气流使其雾化并以很高的速度喷射到基体表面,形成涂层。由于是涂层是喷涂材料喷射形成的,所以涂层空隙较多,多为层状结构,层间结合弱,易脱落。并且涂层和基体界面有较大残余应力,导致涂层在使用过程中易脱落失效。另外,热喷涂所需的设备昂贵,工艺过程涉及参数多,较难控制涂层质量。化学气相沉积和物理气相沉积都属于气相沉积法,有一个明显的缺陷就是设备和条件过于复杂和苛刻,尤其是需要真空和高温条件。此外,这些方法都难以在形状复杂工件表面和内腔制备陶瓷涂层。
液相等离子体电解技术是在阳极氧化基础上发展起来的一种在金属表面生长陶瓷涂层的新型技术。其处理过程是将金属置于电解液中并施加一定的电压进行电解,利用电化学方法在电极试样表面产生等离子体微弧放电,在热化学、等离子体化学和电化学的共同作用下在金属表面生成陶瓷膜层。
液相等离子体电解技术按试样连接电源正负极不同,主要分为阳极等离子体电解技术和阴极液相等离子体电解技术两类。阳极液相等离子体电解技术是以Al、Mg、Ti等阀金属及其合金为阳极,可在金属表面上制得耐磨、耐蚀、耐冲击、绝缘及功能化的优质陶瓷膜。阳极液相等离子电解氧化技术通常也被称为“微弧氧化”,但是其仅适用于阀金属,不能用于非阀金属。而阴极液相等离子体电解技术可以打破基体材料的限制,在非阀金属上仍然可以获得金属或陶瓷涂层。
阴极液相等离子体电解技术以被处理金属为阴极,在一个较高的电压下金属基体表面的气膜或预制膜被击穿放电而产生微弧,微弧的能量把沉积物烧结成陶瓷层。由于陶瓷涂层形成过程中有微弧参与,这种微弧条件下的反应过程能赋予陶瓷涂层优异的耐磨防腐性能。由于得到的陶瓷涂层具有特殊的多孔结构也可以应用于催化、生物等功能化陶瓷涂层。
中国专利CN1327091A公开了一种制备氧化物陶瓷涂层的阴极微弧电沉积方法,该方法的特征是将试样加热到400-1000℃,取出后迅速浸入0.05M金属盐水溶液中,待试样冷却后吹干,循环操作10-30次,再将金属盐溶液溶于无水乙醇或水或含水的乙醇溶液中,配制成浓度为0.01-0.2M的溶液作为电解液,将预制了薄膜的试样作为阴极,对试样施加脉冲电压,沉积1-12小时后取出,干燥后在惰性气氛中于500-1000℃加热30-120分钟。但该方法工艺复杂,需要提前预制薄膜。此外,制备时间长,需要长达数小时。
可见,现有方法在金属表面制备陶瓷涂层工艺复杂,所需设备昂贵,而且难以在形状复杂工件表面制备陶瓷涂层的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法,将预处理后的金属试样放入电解液中,连上微弧氧化电源,以要制备的氧化物陶瓷对应的金属为正极、金属试样为负极,在电解液温度为10~100℃,脉冲电压为100~1000V、工作频率为50~2000Hz、占空比为5~50%的条件下,电解10~240min,在金属试样表面形成氧化物陶瓷涂层。
本发明进一步的改进在于,金属试样为铁、铁合金、铝、铝合金、镁、镁合金、铜、铜合金、锌、锌合金、铅、铅合金、铀、铀合金、钛或钛合金。
本发明进一步的改进在于,金属试样表面预处理的具体过程为:对金属试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗20min。
本发明进一步的改进在于,采用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对金属试样打磨抛光。
本发明进一步的改进在于,电解液通过以下过程制得:将Zr、Al、Ce、Mg、Zn、Ni、Co、Cr、Y、Ca元素的硝酸盐、碳酸盐、氧氯化物与氯化物中的一种或多种加入到水中,得到浓度为0.05~1.5mol/L的电解液。
本发明进一步的改进在于,电解的条件为:电解液温度为25~80℃,脉冲电压为150~800V、工作频率为100~1800Hz、占空比为5~45%的条件下,电解15~180min。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
1.本发明方法整个过程在液相环境下进行,所以可以在任何形状表面形成陶瓷涂层,而且对基体材料的适应性广,设备简单,操作方便,生产过程中无需气氛保护或真空条件。
2.本发明方法处理过程中等离子体弧光放电具有高能量密度,等离子体弧光放电的高密度能量,使得电通道内温度高达几百度甚至几千度(但电解液、基体的温度为室温或稍高)、压力可达100MPa以上。这种极限条件下的反应过程能赋予陶瓷涂层用其它技术难以获得的高硬度、高耐磨性等优异性能。
3.本发明方法可以方便地通过改变电解液的成分和调节电源参数对涂层的厚度、组成、结构(如孔径、孔隙率等)等进行调控,从而优化涂层性能,也易于掺杂改性。
附图说明
图1为本发明制备的氧化物陶瓷涂层截面示意图。
图2为实施例1制备的Al2O3陶瓷涂层表面SEM图;
图3为实施例1制备的Al2O3陶瓷涂层表面EDS图;
图4为实施例2制备的ZrO2陶瓷涂层表面SEM图;
图5为实施例2制备的ZrO2陶瓷涂层表面EDS图。
图中,1为多孔层,2为致密层,3为金属基体。
具体实施方式
下面结合实施方法详细说明本发明。
本发明包括以下步骤:
一、金属试样表面预处理:使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对金属试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗20min,然后用吹风机吹干备用;
二、配制电解液:以去离子水为溶剂,配制电解液,其中电解液由浓度为0.05~1.5mol/L的金属盐溶液组成;
三、阴极液相等离子体电解工艺参数:将步骤一预处理后的金属试样放入电解液中,连上微弧氧化电源,以想要制备的氧化物陶瓷对应的金属为正极、金属试样为负极,在电解液温度为10~100℃,脉冲电压为100~1000V、工作频率为50~2000Hz、占空比为5~50%的条件下,电解10~240min;
四、取步骤三处理后的金属试样,采用去离子水冲洗3~5次,用吹风机吹干,即得氧化物陶瓷涂层。
步骤二中的电解液可以用含Zr、Al、Ce、Mg、Zn、Ni、Co、Cr、Y、Ca元素的硝酸盐、碳酸盐、氧氯化物或氯化物配制,电解液可以为一种金属盐溶液,也可以是两种或两种以上金属盐溶液按一定比例混合。
优选的,步骤三中所的电解液温度为25~80℃,脉冲电压为150~800V、工作频率为100~1800Hz、占空比为5~45%的条件下,电解15~180min。
所述的金属试样为铁及铁合金、铝及铝合金、镁及镁合金、铜及铜合金、锌及锌合金、铅及铅合金、铀及铀合金或钛及钛合金。
本发明的电解液可以用含Zr、Al、Ce、Mg、Zn、Ni、Co、Cr、Y、Ca元素的硝酸盐、碳酸盐、氧氯化物或氯化物配制,电解液可以为一种金属盐溶液,也可以是两种或两种以上金属盐溶液按一定比例混合。通过调节电解液成分,可以方便地改变陶瓷涂层成分。
如图1所示,整个涂层截面分为两层,即在金属基体3上形成致密层2,在致密层2上形成多孔层1。
下面为本发明的具体实施例。
实施例1
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对304不锈钢试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以10℃的0.15mol/L的Al(NO3)·9H2O水溶液为电解液,以不锈钢试样为阴极,铝板为阳极,脉冲电压为400V、工作频率为500Hz、占空比为10%,进行电解90min,最后用去离子水清洗、干燥,即得Al2O3陶瓷涂层。
从图2可以看出,涂层的表面形貌表现出多孔性和粗糙性,与阀金属微弧氧化涂层形貌类似,表面有许多暗孔,孔的大小为微米级。
从图3可以看出,所制备的涂层主要由Al和O组成,谱图中出现了少量Fe,Fe的特征峰主要来自于基体,并且Al和O的比值接近Al2O3,说明涂层主要由Al2O3组成。
实施例2
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对304不锈钢试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以20℃的0.4mol/L Zr(NO3)4·6H2O的水溶液为电解液,以不锈钢试样为阴极,锆板为阳极,脉冲电压为350V、工作频率为600Hz、占空比为8%,进行电解15min,最后用去离子水清洗、干燥,即得ZrO2陶瓷涂层。
图4为所制备的涂层表面形貌,可以看出,涂层表面有许多不规则区域和微孔。
图5为涂层表面的能谱图,主要有Zr、O、Fe、Cr、Ni元素,其中,Fe、Cr、Ni的特征峰主要来自于不锈钢基体,主要原因是电解制备涂层时间较短,形成的涂层较薄,并且涂层多孔,所以能谱分析时也采集到了基体元素的信号。
实施例3
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对304不锈钢试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以100℃的0.1mol/L Zr(NO3)4·6H2O以及+5wt%的Y(NO3)3·6H2O(电解液中Zr(NO3)4·6H2O的浓度为0.1mol/L,Y(NO3)3·6H2O是加的少量的,电解液中Y(NO3)3·6H2O的质量浓度为5wt%)的水溶液为电解液,以不锈钢试样为阴极,锆板为阳极,脉冲电压为200V、工作频率为400Hz、占空比为20%,进行电解120min,最后用去离子水清洗、干燥,即得ZrO2+Y2O3复合陶瓷涂层。
实施例4
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对铅合金试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以50℃的0.2mol/L的Al(NO3)·9H2O水溶液为电解液,以铅合金试样为阴极,铝板为阳极,脉冲电压为450V、工作频率为600Hz、占空比为8%,进行电解80min,最后用去离子水清洗、干燥,即得Al2O3陶瓷涂层。
实施例5
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对铀合金试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以70℃的0.4mol/L Zr(NO3)4·6H2O的水溶液为电解液,以铀合金试样为阴极,锆板为阳极,脉冲电压为380V、工作频率为700Hz、占空比为10%,进行电解90min,最后用去离子水清洗、干燥,即得ZrO2陶瓷涂层。
实施例6
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对45钢试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以25℃的0.4mol/L Zr(NO3)4·6H2O+8wt%的Ce(NO3)3·6H2O的水溶液(水溶液中Zr(NO3)4·6H2O的浓度为0.4mol/L Y(NO3)3·6H2O的质量浓度为5wt%)为电解液,以45钢试样为阴极,锆板为阳极,脉冲电压为100V、工作频率为800Hz、占空比为5%,进行电解10min,最后用去离子水清洗、干燥,即得ZrO2+CeO2陶瓷涂层。
实施例7
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对TC4钛合金试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以80℃的0.4mol/L氯化镁的水溶液为电解液,以钛合金试样为阴极,镁板为阳极,脉冲电压为800V、工作频率为1000Hz、占空比为45%,进行电解15min,最后用去离子水清洗、干燥,即得MgO陶瓷涂层。
实施例8
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对T8钢打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以50℃的0.4mol/L氧氯化锌的水溶液为电解液,以T8钢试样为阴极,锌板为阳极,脉冲电压为1000V、工作频率为1500Hz、占空比为50%,进行电解180min,最后用去离子水清洗、干燥,即得ZnO陶瓷涂层。
实施例9
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对45钢试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以60℃的0.4mol/L硝酸镍的水溶液为电解液,以45钢试样为阴极,镍板为阳极,脉冲电压为150V、工作频率为2000Hz、占空比为30%,进行电解240min,最后用去离子水清洗、干燥,即得NiO陶瓷涂层。
实施例10
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对不锈钢试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以50℃的0.4mol/L氯化铈的水溶液为电解液,以不锈钢试样为阴极,铈板为阳极,脉冲电压为380V、工作频率为50Hz、占空比为40%,进行电解200min,最后用去离子水清洗、干燥,即得CeO2陶瓷涂层。
实施例11
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对铁试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以70℃的0.4mol/L硝酸铬的水溶液为电解液,以铁试样为阴极,铬板为阳极,脉冲电压为380V、工作频率为100Hz、占空比为10%,进行电解150min,最后用去离子水清洗、干燥,即得Cr2O3陶瓷涂层。
实施例12
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对TC4钛合金试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以60℃的0.4mol/L氯化钇的水溶液为电解液,以钛合金试样为阴极,钇板为阳极,脉冲电压为380V、工作频率为1800Hz、占空比为10%,进行电解90min,最后用去离子水清洗、干燥,即得Y2O3陶瓷涂层。
实施例13
首先使用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对铁试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗10min,然后用吹风机吹干备用,然后以70℃的0.4mol/L氯化钙的水溶液为电解液,以铁试样为阴极,钙板为阳极,脉冲电压为380V、工作频率为700Hz、占空比为10%,进行电解90min,最后用去离子水清洗、干燥,即得CaO陶瓷涂层。
Claims (6)
1.一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法,其特征在于,将预处理后的金属试样放入电解液中,连上微弧氧化电源,以要制备的氧化物陶瓷对应的金属为正极、金属试样为负极,在电解液温度为10~100℃,脉冲电压为100~1000V、工作频率为50~2000Hz、占空比为5~50%的条件下,电解10~240min,在金属试样表面形成氧化物陶瓷涂层。
2.根据权利要求1所述的一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法,其特征在于,金属试样为铁、铁合金、铝、铝合金、镁、镁合金、铜、铜合金、锌、锌合金、铅、铅合金、铀、铀合金、钛或钛合金。
3.根据权利要求1所述的一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法,其特征在于,金属试样表面预处理的具体过程为:对金属试样打磨抛光,再用质量百分含量为95%的乙醇溶液进行超声清洗20min。
4.根据权利要求3所述的一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法,其特征在于,采用320#、600#、1000#和1500#砂纸依次对金属试样打磨抛光。
5.根据权利要求1所述的一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法,其特征在于,电解液通过以下过程制得:将Zr、Al、Ce、Mg、Zn、Ni、Co、Cr、Y、Ca元素的硝酸盐、碳酸盐、氧氯化物与氯化物中的一种或多种加入到水中,得到浓度为0.05~1.5mol/L的电解液。
6.根据权利要求1所述的一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法,其特征在于,电解的条件为:电解液温度为25~80℃,脉冲电压为150~800V、工作频率为100~1800Hz、占空比为5~45%的条件下,电解15~180min。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011187472.4A CN112663105A (zh) | 2020-10-29 | 2020-10-29 | 一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011187472.4A CN112663105A (zh) | 2020-10-29 | 2020-10-29 | 一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112663105A true CN112663105A (zh) | 2021-04-16 |
Family
ID=75402821
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011187472.4A Pending CN112663105A (zh) | 2020-10-29 | 2020-10-29 | 一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112663105A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113430613A (zh) * | 2021-06-17 | 2021-09-24 | 西安交通大学 | 一种复杂异形构件内外表面制备陶瓷涂层的方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008120046A1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-09 | Gostevs, Vladimirs | Method of forming a protective ceramic coating on the surface of metal products |
CN102115901A (zh) * | 2011-01-13 | 2011-07-06 | 陕西师范大学 | 镁合金表面沉积Al2O3陶瓷涂层的方法 |
CN105063651A (zh) * | 2015-09-15 | 2015-11-18 | 北京科技大学 | 一种液相阴极等离子电解制备氧化铝微球粉末的方法 |
CN107557836A (zh) * | 2017-09-07 | 2018-01-09 | 西北工业大学 | TiAl合金表面阴极微弧等离子体电解沉积制备CeO2‑Al2O3复合陶瓷层的方法 |
-
2020
- 2020-10-29 CN CN202011187472.4A patent/CN112663105A/zh active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008120046A1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-09 | Gostevs, Vladimirs | Method of forming a protective ceramic coating on the surface of metal products |
CN102115901A (zh) * | 2011-01-13 | 2011-07-06 | 陕西师范大学 | 镁合金表面沉积Al2O3陶瓷涂层的方法 |
CN105063651A (zh) * | 2015-09-15 | 2015-11-18 | 北京科技大学 | 一种液相阴极等离子电解制备氧化铝微球粉末的方法 |
CN107557836A (zh) * | 2017-09-07 | 2018-01-09 | 西北工业大学 | TiAl合金表面阴极微弧等离子体电解沉积制备CeO2‑Al2O3复合陶瓷层的方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
王鹏等: ""阴极等离子电解制备抗氧化涂层"", 《表面技术》 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113430613A (zh) * | 2021-06-17 | 2021-09-24 | 西安交通大学 | 一种复杂异形构件内外表面制备陶瓷涂层的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Hussein et al. | Production of anti-corrosion coatings on light alloys (Al, Mg, Ti) by plasma-electrolytic oxidation (PEO) | |
TWI564437B (zh) | 非金屬塗覆物及其生產方法 | |
Walsh et al. | Plasma electrolytic oxidation (PEO) for production of anodised coatings on lightweight metal (Al, Mg, Ti) alloys | |
Han-Hua et al. | Characterization of microarc oxidation process on aluminium alloy | |
JP4554542B2 (ja) | 電解用電極 | |
Dehnavi | Surface modification of aluminum alloys by plasma electrolytic oxidation | |
CN105839127A (zh) | 金属工件表面碳基薄膜的褪镀方法 | |
WO2022165961A1 (zh) | 一种镁合金超高孔隙率微弧氧化涂层及其制备方法与应用 | |
CN1138023C (zh) | 一种制备氧化物陶瓷涂层的阴极微弧电沉积方法 | |
An et al. | Effects of electrical parameters and their interactions on plasma electrolytic oxidation coatings on aluminum substrates | |
CN104087935B (zh) | 一种钛镍医学植入材料的制备方法 | |
CN109183115A (zh) | 一种表面覆有超硬微弧氧化陶瓷膜的铝合金的制备方法 | |
Kamel et al. | Nickel electrodeposition from novel lactate bath | |
CN112663105A (zh) | 一种阴极液相等离子体电解制备氧化物陶瓷涂层的方法 | |
CN112538647B (zh) | 一种不锈钢表面液相等离子体电解制备氧化铝基陶瓷涂层的方法 | |
CN107119296A (zh) | 一种阳极活化钛合金电镀铜的方法 | |
CN110777413B (zh) | 一种等离子体阴极电解沉积陶瓷涂层表面激光重熔的方法 | |
JP2023523690A (ja) | 電極を製造するための金属基材の処理のための方法 | |
KR20100103968A (ko) | 알루미늄 및 알루미늄 합금 소재의 표면개질 방법 | |
US20120175270A1 (en) | Electrode for Electrolytic Processes with Controlled Crystalline Structure | |
CN111254476A (zh) | 一种纯铜表面耐蚀黑色微弧氧化膜的制备方法 | |
CN115896713A (zh) | 一种高结合力耐高温耐磨防腐的新型Al2O3/SiO2复合涂层及其制备方法 | |
Guang-Liang et al. | Characterization of microarc oxidation discharge process for depositing ceramic coating | |
HU et al. | Discharge channel structure revealed by plasma electrolytic oxidation of AZ31Mg alloy with magnetron sputtering Al layer and corrosion behaviors of treated alloy | |
TWI835152B (zh) | 不銹鋼表面製備陶瓷膜的製作方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20210416 |