CN112647041A - 镀膜修正掩膜板及蒸镀系统 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种镀膜修正掩膜板和蒸镀系统，包括掩膜基板及多个掩膜调节板，掩膜调节板与掩膜基板的形状及尺寸相匹配，使得掩膜基板形成底板掩膜，掩膜调节板置于掩膜基板上形成可调掩膜；多个掩膜调节板和掩膜基板共同界定形成镀膜修正掩膜板的形状；掩膜调节板被构造为能够沿第一方向滑动地连接于掩膜基板一侧，当掩膜调节板沿第一方向滑动时，进而整个镀膜修正掩膜板的形状改变；当镀膜光谱曲线发生改变时，不需要另行重新修剪甚至制作新的镀膜修正掩膜板，直接实现了镀膜修正掩膜板自身形状可调节的功能，提高了镀膜的生产效率。

Description

镀膜修正掩膜板及蒸镀系统

技术领域

本申请涉及掩膜板技术领域，尤其涉及一种镀膜修正掩膜板和蒸镀系统。

背景技术

随着科学技术的飞速发展，真空镀膜的技术已经得到普遍应用，为了减少手机及数码产品面板、摄像头镜头、平面显示器件的面板的反射率及提升其穿透率，需要在待镀膜产品的表面镀上反射镀膜，干扰光线的行进,在待镀膜产品的表面进行抗反射(AR,anti-reflector)膜的镀膜制程。

在抗反射膜镀膜制程中，用于调整待镀膜产品的镀膜厚度以及镀膜区域的掩膜板有着重要的作用，镀膜时通过掩膜板挡住部分蒸发材料,调整整片伞架的均匀性,使所有待镀膜产品的镀膜厚度一致。

现有技术中，当镀膜光谱曲线及镀膜均匀性发生改变时，就需要另行重新修剪并制作新的修正掩膜板。如此需将设备停机等待掩膜板重新制好才能继续进行，降低了生产效率，不利于镀膜制程的稳定进行。

发明内容

基于此，有必要提供一种镀膜修正掩膜板和蒸镀系统，能够调节修正掩膜板形状。

根据本申请的一个方面，提供一种镀膜修正掩膜板，包括：

一种镀膜修正掩膜板，其特征在于，包括：

掩膜基板；

多个掩膜调节板，每一所述掩膜调节板被构造为能够沿第一方向滑动地连接于所述掩膜基板一侧；

其中，所述掩膜调节板的形状、尺寸与所述掩膜基板相匹配，且所述多个掩膜调节板和所述掩膜基板相互配合界定所述镀膜修正掩膜板的形状。

在其中一个实施例中，所述掩膜基板沿第二方向排布有多个遮挡区；

所述多个掩膜调节板以两个为一组形成多个掩膜调节板组；

每一所述掩膜调节板组对应一个所述遮挡区设置，且每一掩膜调节板组中的两个所述掩膜调节板沿第一方向滑动地连接于相应的所述遮挡区；

其中，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。

在其中一个实施例中，所述镀膜修正掩膜板还包括连接件，所述掩膜基板上设有连接孔；

所述掩膜调节板上设有滑槽；

所述连接件能够穿过所述连接孔并滑动地连接于所述滑槽，所述掩膜调节板被构造为借助所述连接件和所述滑槽配合限位，以相对所述掩膜基板沿第一方向在第一位置和第二位置之间移动。

在其中一个实施例中，所述掩膜基板沿第二方向具有一对称轴线；

在所述掩膜调节板组的两个所述掩膜调节板均位于第一位置或第二位置，该掩膜调节板组中的两个所述调节掩膜板以所述对称轴线为基准对称设置。

在其中一个实施例中，所述掩膜调节板位于第一位置，所述掩膜调节板朝向所述掩膜基板所在平面的正投影落入所述掩膜基板的范围内；

所述掩膜调节板位于第二位置，所述掩膜调节板朝向所述掩膜基板所在平面的正投影，部分落入所述掩膜基板的范围内。

在其中一个实施例中，每一所述掩膜调节板组的两个所述掩膜调节板的形状、尺寸相同。

在其中一个实施例中，所述掩膜基板沿第二方向具有一对称轴线；

每一所述遮挡区借助所述对称轴线形成对称设置的两个子遮挡区；

每一所述掩膜调节板组的两个所述掩膜调节板分别位于对称设置的两个所述子遮挡区。

在其中一个实施例中，所述多个遮挡区包括多个第一遮挡区和至少一第二遮挡区；

所述掩膜调节板组位于所述第一遮挡区；

所述镀膜修正掩膜板还包括微调掩膜板，所述微调掩膜板位于所述第二遮挡区，且沿第一方向滑动地连接于所述第二遮挡区；

其中，所述第一遮挡区的尺寸大于第一宽度值，所述第二遮挡区的尺寸小于或等于第一宽度值。

在其中一实施例中，上述任意一实施例中提供的所述镀膜修正掩膜板具有修正状态；

当所述镀膜修正掩膜板处于修正状态，所述镀膜修正掩膜板的外廓边缘呈连续的线性曲线。

根据本申请的另一个方面，提供一种蒸镀系统，包括上述任意一实施例中提供的镀膜修正掩膜板及真空蒸镀腔室以及位于所述真空蒸馍腔室内的蒸镀源；所述镀膜修正掩膜版位于所述蒸镀源上方，所述镀膜修正掩膜版进行修正的待镀膜产品位于所述真空蒸镀腔室内。

上述镀膜修正掩膜板及蒸镀系统，通过设置掩膜调节板的形状、尺寸与掩膜基板相匹配，并使得掩膜调节板被构造为能够沿第一方向滑动地连接于掩膜基板一侧，使得掩膜调节板可以改变在掩膜基板上的位置，进而调节修正掩膜板形状，当镀膜光谱曲线及镀膜均匀性发生改变时，不需要另行重新修剪甚至制作新的镀膜板，直接调节掩膜调节板的位置即可实现镀膜修正掩膜板的形状调节，提高了镀膜制程效率，保证了镀膜制程的稳定进行。

附图说明

图1为本申请一实施例提供的镀膜修正掩膜板中的掩膜基板的正视图；

图2为图1中提供的镀膜修正掩膜板中的多个掩膜调节板的正视图；

图3为图1中提供的掩膜调节板位于第一位置时的正视图；

图4为图1中提供的掩膜调节板位于第一位置时的局部放大图；

图5为图1中提供的其中一组掩膜调节板组位于第一位置，其余掩膜调节板组于第二位置时的正视图；

图6为图1中提供的其中一组掩膜调节板组位于第二位置时的局部放大图；

图7为本申请另一实施例提供的包含图1所示的镀膜修正掩膜版的蒸镀系统示意图。

附图标记：100、镀膜修正掩膜板；10、掩膜基板；11、遮挡区；111、第一遮挡区；112、第二遮挡区；113、连接孔；12、子遮挡区；13、对称轴线；20、掩膜调节板组；21、掩膜调节板；211、掩膜调节板作用区；212、掩膜调节板阻隔区；22、微调掩膜板；23、滑槽；231、滑动腔；30、连接件；D1:第一方向；D2:第二方向；200、真空蒸馍腔室；300、蒸镀源；400、伞架；500、腔体加热机构；600、蒸镀材料；700、蒸镀系统；800、待镀膜产品。

具体实施方式

为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或组件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个组件内部的连通或两个组件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当组件被称为“固定于”或“设置于”另一个组件，它可以直接在另一个组件上或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中组件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

参阅附图1至图3，本申请一实施例的镀膜修正掩膜板100包括掩膜基板10及多个掩膜调节板21，图3中示出了第一方向D1，图2中示出了第二方向D2，第一方向D1与第二方向D2相互垂直。

具体地，掩膜调节板21与掩膜基板10的形状及尺寸相匹配，使得掩膜基板10形成底板掩膜，掩膜调节板21置于掩膜基板10上形成可调掩膜，多个掩膜调节板21和掩膜基板10相互配合界定形成镀膜修正掩膜板100的形状。每一掩膜调节板21被构造为能够沿第一方向D1滑动地连接于掩膜基板10一侧，当掩膜调节板21沿第一方向D1滑动时，整个镀膜修正掩膜板100的形状改变。当镀膜光谱曲线发生改变时，不需要另行重新修剪甚至制作新的镀膜修正掩膜板100，直接实现了镀膜修正掩膜板100自身形状可调节的功能，提高了镀膜的效率。

如图4及图6所示，本实施例的镀膜修正掩膜板100还包括连接件30，连接件30将掩膜基板10及掩膜调节板21可拆卸的滑动连接，使得镀膜修正掩膜板100的修正调节更加的方便和易操作，连接件30将掩膜基板10及多个掩膜调节板21连接起来共同形成镀膜修正掩膜板100。

在其中一个实施例中，掩膜基板10沿第二方向D2排布有多个遮挡区11，每个遮挡区11边缘相应的画出分隔线；多个掩膜调节板21以两个为一组形成多个掩膜调节板组20，每一掩膜调节板组20对应一个遮挡区11设置，每一掩膜调节板组20中的两个掩膜调节板21沿第一方向D1滑动地连接于相应的遮挡区11；以实现对镀膜修正掩膜板100某一个区域位置的改变，修正了掩膜调节板组20形状的同时也改变了自身的遮挡面积，以适应不同待镀膜产品800的镀膜要求；当改变其中一个掩膜调节板21相对于遮挡区11的位置时，被调节的掩膜调节板21与其他掩膜调节板21之间的位置也被改变。

在其中一实施例中，如图1所示，掩膜基板10上有一对称轴线13，对称轴线13沿第二方向D2将遮挡区11划分为两个分别包含多个遮挡区11的子遮挡区12，每个掩膜调节板组20包含的两个掩膜调节板21分别与两个子遮挡区12连接。

进一步地，如图1所示，掩膜基板10沿第二方向D2形成五个遮挡区11，形成的五个遮挡区11以对称轴线13为基准左右对称设置，遮挡区11的左侧区域形成一个子遮挡区12，遮挡区11的左侧区域形成另一个子遮挡区12。

具体地，如图2所示，掩膜调节板21包括十个，十个掩膜调节板21以两个为一组形成五个掩膜调节板组20，五个掩膜调节板组20与五个遮挡区11对应匹配，形成十个掩膜调节板21也以对称轴线13为基准呈左右两边各设置五个两两对称的形式设置，每两个两两对称的掩膜调节板21形成一个掩膜调节板组20，每一掩膜调节板组20的两个掩膜调节板21的形状、尺寸相同，从而使得镀膜修正掩膜板100被修正到最大形状或最小形状时还保持是以对称轴线13为基准对称的形状。每个掩膜调节板21能够沿第一方向D1滑动的连接于每个遮挡区11上，每个掩膜调节板21的两个掩膜调节板21都可沿第一方向D1滑动远离对称轴线13或靠近对称轴线13，进而调节镀膜修正掩膜板100的形状和遮挡面积。

值得注意的是，图2中所示的十个掩膜调节板21，每个掩膜调节板21均可以进行单独移动，当每个掩膜调节板21单独移动时，被移动的掩膜调节板21与其余九个掩膜调节板21之间的相对位置发生改变，此时可以做到单独只改变其中某一个掩膜调节板21或几个掩膜调节板21而别的掩膜调节板21不发生移动，满足不同待镀膜产品800的要求。

另外地，掩膜调节板21的数量也并不限于十个，此数量只是其中一种实施例，在实际操作过程中，要根据待镀膜产品800的镀膜光谱曲线的设计情况来进行设计。

在其中一实施例中，多个遮挡区11包括第一遮挡区111和第二遮挡区112，通过设置预设宽度值作为基准，将尺寸大于预设宽度值的视为第一遮挡区111，将尺寸小于等于预设宽度值的视为第二遮挡区112；而上述所说的多个掩膜调节板组20包括的掩膜调节板21均位于第一遮挡区111上，在实际生产过程中，要根据掩膜基板10的实际大小和具体操作情况对预设宽度值进行设定，区分出宽度较大的第一遮挡区111及宽度较小的第二遮挡区112。

在其中一实施例中，镀膜修正掩膜板100还包括微调掩膜板22，微调掩膜板22位于第二遮挡区112且沿第一方向D1滑动地连接于掩膜基板10的第二遮挡区112。微调掩膜板22是针对宽度较小的第二遮挡区112设置的，当掩膜调节板21的宽度小于等于安全宽度即预设宽度值时，就不便将此掩膜板再进行分割，以免对掩膜板本身的材料造成损害或切割误差，直接将其作为一个整体形成微调掩膜板22置于第二遮挡区112上。

具体地，如图1及图2所示，第二遮挡区112位于掩膜基板10的顶部区域，微调掩膜板22位于第二遮挡区112上也位于顶部区域上，第二遮挡区112的对称轴线13也是微调掩膜板22自身的对称轴，当微调掩膜板22沿第一方向D1滑动时，最大调节幅度比掩膜调节板21的最大调节幅度小，起到顶部微调的作用。

此种结构设计方式主要是针对本实施例镀膜修正掩膜板100的形状设计的，由于掩膜基板10顶部区域宽度较窄小于等于预设宽度值，所以直接设置宽度较小得到微调掩膜板22固定在第二遮挡区112上进行移动，避免产生切割而损坏掩膜板。

在其中一实施例中，每个掩膜调节板21上开设有滑槽23，滑槽23内形成滑动腔231，掩膜基板10上设有连接孔113，连接件30能够穿过连接孔113可拆卸的滑动连接在滑槽23内，实现第一遮挡区111与掩膜调节板21可拆卸的连接；由于滑动腔231内具有一定的活动空间，掩膜调节板21能够沿第一方向D1滑动使得连接件30位于滑槽23的不同位置，实现掩膜调节板21与掩膜基板10的相对位置，进而调节镀膜修正掩膜板100的形状。

进一步地，连接件30可为螺栓螺母件，滑槽23为腰型孔，螺栓的外径与腰型孔及连接孔113相匹配，使得连接件30可顺利穿过连接孔113及腰型孔并可在腰型孔的滑动腔231内顺利的移动到不同位置，螺母从掩膜基板10背离掩膜调节板21的一侧穿过连接孔113及腰型孔，并将螺栓固定在掩膜调节板21背离掩膜基板10的一侧，保证了掩膜基板10与掩膜调节板21连接的稳定性；同时由于螺栓的外径与腰型孔及连接孔113相匹配，也保证了掩膜调节板21位置发生改变时连接件30在滑槽23内移动的可操作性。

在其中一实施例中，如图4所示，将连接件30位于滑槽23远离对称轴线13的一侧时的状态定义为第一位置；如图6所示，将将连接件30位于滑槽23靠近对称轴线13的一侧时的状态定义为第二位置；掩膜调节板21借助连接件30和滑槽23配合限位，以相对掩膜基板10沿第一方向D1在第一位置和第二位置之间移动，在每一掩膜调节板组20的两个掩膜调节板21均位于第一位置或都位于第二位置，掩膜调节板组20中的两个掩膜调节板21以对称轴线13为基准对称设置。

具体地，当掩膜调节板21位于第一位置时，掩膜调节板21朝向掩膜基板10所在平面的正投影落入掩膜基板10的范围内；当掩膜调节板21位于第二位置时，当掩膜调节板21朝向掩膜基板10所在平面的正投影，部分落入掩膜基板10的范围内；当微调掩膜板22沿第一方向D1在第一位置及第二位置及之间移动时，微调掩膜板22朝向掩膜基板10所在平面的正投影一直与对称轴线13有交叉。

进一步地，如图2所示，掩膜调节板21包括掩膜调节板作用区211和掩膜调节板阻隔区212，掩膜调节板阻隔区212是用于对掩膜调节板作用区211进行阻隔以形成待镀膜产品800之间的间隔带，为功能性设计；滑槽23开设在掩膜调节板作用区211上，连接件30与掩膜基板10连接并将其固定在掩膜调节板作用区211的滑槽23内；在掩膜调节板作用区211位置发生改变时，掩膜调节板阻隔区212也随之发生移动以保证待镀膜产品800形成的镀膜层的完整性。

值得注意的是，本申请所保护的镀膜修正掩膜板100并不限于图中所示的类似水滴形的形状，镀膜修正掩膜板100的形状是按照待镀膜产品800的镀膜要求进行的设计，因此镀膜修正掩膜板100可以为任何别的形状，来实现本申请中的修正镀膜修正掩膜板100形状和面积的功能。

在其中一实施例中，如图3所示，为本申请提供的镀膜修正掩膜板100的最小遮挡面积，将所有掩膜调节板21及微调掩膜板22按照与遮挡区11相对的位置放置在掩膜基板10上且将边缘与遮挡区11的边缘完全对齐，此时掩膜调节板21朝向掩膜基板10所在平面的正投影全部落入掩膜基板10内。

具体地，此时连接孔113位于滑槽23离对称轴线13最远的一侧，将连接件30从掩膜基板10远离掩膜调节板21的一侧穿入连接孔113和滑槽23，将所有掩膜调节板21及微调掩膜板22固定，掩膜调节板21按照边缘与对称轴线13重合的方式设置在对称轴线13的两侧，掩膜调节板21处于第一位置，整个镀膜修正掩膜板100的外廓边缘呈连续的线性曲线。

具体地，此时可以将掩膜调节板21沿图4中所示的第一方向D1方向移动，首先拆卸连接件30，将掩膜调节板21从掩膜基板10上的固定取消；然后移动掩膜调节板21，使得连接件30位于滑槽23内的位置发生改变；使得掩膜调节板21的边缘从掩膜基板10的边缘露出，掩膜调节板21朝向掩膜基板10所在平面的正投影部分超过掩膜基板10，直至连接件30位于滑槽23的另一端，掩膜调节板21位于第二位置，形成最大的遮挡面积并调节了掩膜修正镀膜板100的形状。

本申请的镀膜修正掩膜板100可以根据待镀膜产品800的镀膜要求使得掩膜调节板21和在掩膜基板10表面移动从而改变镀膜修正掩膜板100的大小、形状和对镀膜产品的遮挡面积，从而可在多种待镀膜产品800的不同镀膜要求下使用。

在其中一实施例中，如图5所示，将图中的其中四组掩膜调节板组20与微调掩膜板22都移动到第二位置，其中一组掩膜调节板组20停留在第一位置，形成的其中一种形状的镀膜修正掩膜板100，本实施例相较于图3中所示实施例，增大了整个镀膜修正掩膜板100的遮挡面积，提供了另一种形状的镀膜修正掩膜板100。

具体地，四组处于第二位置的掩膜调节板组20的外廓边缘呈连续的规则曲线，其中一组处于第一位置的掩膜调节板组20与相近的两组掩膜调节板组20之间外廓边缘形成台阶状的不规则曲线。

结合图1至图7所示，本申请还提供一种蒸镀系统700，包括上述任一实施例提供的镀膜修正掩膜板100及真空蒸馍腔室200以及位于真空蒸馍腔室内200的蒸镀源300；所述镀膜修正掩膜版100位于蒸镀源300上方，镀膜修正掩膜版100进行修正的待镀膜产品800位于真空蒸馍腔室200内。

具体地，蒸镀系统700对待镀膜产品800进行镀膜时，需要先将待镀膜产品800固定到伞架400上；当蒸镀系统700内环境被腔体加热机构500加热达到镀膜所需环境时，蒸镀源300提供蒸镀材料600，边旋转伞架400边蒸镀材料600，并通过镀膜修正掩膜板100挡住部分蒸镀材料600,以调整镀膜的均匀性。对待镀膜产品800进行完整的增透膜镀膜制程。

本申请实施例中的镀膜修正掩膜板100及蒸镀系统700，相较于现有技术，至少具有以下优点：

1、通过掩膜调节板21被构造为能够沿第一方向D1滑动地连接于掩膜基板10一侧，当掩膜调节板21沿第一方向D1滑动时，进而进而整个镀膜修正掩膜板100的形状改变。当镀膜光谱曲线发生改变时，不需要另行重新修剪甚至制作新的镀膜修正掩膜板100，提高了镀膜的生产效率；

2、在调节了镀膜修正掩膜板100形状的同时，也改变了镀膜修正掩膜板100的遮挡面积，为待镀膜产品800提供了不同的遮挡面积；

3、连接件30可被拆下并滑动到滑槽23的不同位置，使得镀膜修正掩膜板100的调节更加的方便和易操作；

4、每一掩膜调节板组20中的两个掩膜调节板21沿第一方向D1滑动地连接于相应的遮挡区11，可实现对镀膜修正掩膜板100某一个区域的调节，以适应不同待镀膜产品800的镀膜要求。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种镀膜修正掩膜板，其特征在于，包括：

掩膜基板；

多个掩膜调节板，每一所述掩膜调节板被构造为能够沿第一方向滑动地连接于所述掩膜基板一侧；

其中，所述掩膜调节板的形状、尺寸与所述掩膜基板相匹配，且所述多个掩膜调节板和所述掩膜基板相互配合界定所述镀膜修正掩膜板的形状。

2.根据权利要求1所述的镀膜修正掩膜板，其特征在于，所述掩膜基板沿第二方向排布有多个遮挡区；

所述多个掩膜调节板以两个为一组形成多个掩膜调节板组；

每一所述掩膜调节板组对应一个所述遮挡区设置，且每一掩膜调节板组中的两个所述掩膜调节板沿第一方向滑动地连接于相应的所述遮挡区；

其中，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。

3.根据权利要求2所述的镀膜修正掩膜板，其特征在于，所述镀膜修正掩膜板还包括连接件，所述掩膜基板上设有连接孔；

所述掩膜调节板上设有滑槽；

所述连接件能够穿过所述连接孔并滑动地连接于所述滑槽，所述掩膜调节板被构造为借助所述连接件和所述滑槽配合限位，以相对所述掩膜基板沿第一方向在第一位置和第二位置之间移动。

4.根据权利要求3所述的镀膜修正掩膜板，其特征在于，所述掩膜基板沿第二方向具有一对称轴线；

在所述掩膜调节板组的两个所述掩膜调节板均位于第一位置或第二位置，该掩膜调节板组中的两个所述调节掩膜板以所述对称轴线为基准对称设置。

5.根据权利要求4所述的镀膜修正掩膜板，其特征在于，所述掩膜调节板位于第一位置，所述掩膜调节板朝向所述掩膜基板所在平面的正投影落入所述掩膜基板的范围内；

所述掩膜调节板位于第二位置，所述掩膜调节板朝向所述掩膜基板所在平面的正投影，部分落入所述掩膜基板的范围内。

6.根据权利要求2所述的镀膜修正掩膜板，其特征在于，每一所述掩膜调节板组的两个所述掩膜调节板的形状、尺寸相同。

7.根据权利要求2所述的镀膜修正掩膜板，其特征在于，所述掩膜基板沿第二方向具有一对称轴线；

每一所述遮挡区借助所述对称轴线形成对称设置的两个子遮挡区；

每一所述掩膜调节板组的两个所述掩膜调节板分别位于对称设置的两个所述子遮挡区。

8.根据权利要求2所述的镀膜修正掩膜板，其特征在于，所述多个遮挡区包括多个第一遮挡区和至少一第二遮挡区；

所述掩膜调节板组位于所述第一遮挡区；

所述镀膜修正掩膜板还包括微调掩膜板，所述微调掩膜板位于所述第二遮挡区，且沿第一方向滑动地连接于所述第二遮挡区；

其中，所述第一遮挡区的尺寸大于第一宽度值，所述第二遮挡区的尺寸小于或等于第一宽度值。

9.根据权利要求1-8任一项所述的镀膜修正掩膜板，其特征在于，所述镀膜修正掩膜板具有修正状态；

当所述镀膜修正掩膜板处于修正状态，所述镀膜修正掩膜板的外廓边缘呈连续的线性曲线。

10.一种蒸镀系统，其特征在于，包括：如权利要求1～9中任意一项所述的镀膜修正掩膜板及真空蒸镀腔室以及位于所述真空蒸馍腔室内的蒸镀源；

所述镀膜修正掩膜版位于所述蒸镀源上方，所述镀膜修正掩膜版进行修正的待镀膜产品位于所述真空蒸镀腔室内。

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