CN112542494A - 显示面板 - Google Patents

Abstract

本揭露是关于一种显示面板，显示面板包含显示元件、导光结构以及抗反射结构。导光结构其位于像素之间，以将自像素发出的光束导向显示表面。抗反射结构是位于显示元件的像素上方，其中抗反射结构包含光敏配向层、液晶圆形偏光片以及线形偏光片。光敏配向层是位于吸光层上方，其中光敏配向层对于波长范围内的光是敏感的，并且可被所述波长范围内的光硬化。液晶圆形偏光片位于光敏配向层上方，其中液晶圆形偏光片包含由光敏配向层排列的多个液晶分子。线形偏光片位于液晶圆形偏光片上方。

Description

显示面板

相关申请案交叉参照

本申请案为2017年9月13日申请，名称《显示面板及其制造方法(DISPLAY PANELAND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME)》，现经准许序号为15/703,469的美国专利申请案的部分延续申请案，该申请案在此以引用方式全部并入本文中。

技术领域

本揭露是关于一种显示面板，尤其是关于一种有机发光二极管显示面板。

背景技术

显示面板(例如有机发光二极管(organic light-emitting diode，OLED)显示面板)已经被整合于各种电子装置中，例如智能手机，以提供显示功能。然而，显示面板于户外使用时会受到环境光线的影响，而使显示面板的可见性恶化。

发明内容

本揭露的实施例提供一种显示面板，显示面板包含显示元件、吸光层、抗反射结构以及覆盖层。显示元件包含多个像素。吸光层位于显示元件上方并且经配置以吸收一波长范围内的光。抗反射结构位于显示元件的这些像素上方，其中抗反射结构包含光敏配向层、液晶圆形偏光片以及线形偏光片。光敏配向层位于吸光层上方，其中光敏配向层对于所述波长范围内的光是敏感的，并且可被所述波长范围内的光硬化。液晶圆形偏光片位于光敏配向层上方，其中液晶圆形偏光片包含由光敏配向层排列的多个液晶分子。线形偏光片位于液晶圆形偏光片上方。覆盖层位于抗反射结构上方。

在一些实施例中，吸光层经配置以吸收一不可见光。

在一些实施例中，吸光层包括UV光吸收层，以及所述波长范围实质在200nm与400nm之间。

在一些实施例中，液晶圆形偏光片经配置为1/4波长延迟层。

在一些实施例中，显示元件包含有机发光二极管(OLED)元件，以及这些像素各自包含阳极、位于阳极上方的有机发光层以及位于有机发光层上方的阴极。

在一些实施例中，光敏配向层具有硬化温度，所述硬化温度低于有机发光层的玻璃转化温度。

在一些实施例中，显示面板另包含薄膜封装层，位于显示元件与吸光层之间。

在一些实施例中，显示面板另包含触控输入元件，位于显示元件与覆盖层之间。

在一些实施例中，显示面板另包含至少一抗反射层，位于显示元件与覆盖层之间。

在一些实施例中，抗反射层是位于线形偏光片与覆盖层之间。

在一些实施例中，抗反射层是位于吸光层与显示元件之间。

在一些实施例中，抗反射层包括结构层，结构层包含多个突出结构与线形偏光片相对设置。

在一些实施例中，抗反射层另包括光学层与结构层接触，以及光学层的表面与这些突出结构嵌合。

在一些实施例中，光学层的折射率小于结构层的折射率。

本揭露的一些实施例提供一种显示面板，显示面板包含有机发光二极管(OLED)元件以及抗反射结构。OLED元件包含多个像素，其中这些像素各自包含阳极、位于阳极上方的有机发光层以及位于有机发光层上方的阴极。有机发光层具有玻璃转化温度。抗反射结构是位于OLED元件的这些像素上方，其中抗反射结构包含光敏配向层、液晶圆形偏光片以及线形偏光片。光敏配向层是位于OLED元件上方，其中光敏配向层具有硬化温度，所述硬化温度低于有机发光层的所述玻璃转化温度。液晶圆形偏光片位于光敏配向层上方，其中有机圆形偏光片包含由光敏配向层排列的多个液晶分子，多个液晶分子经配置为波长延迟层。线形偏光片位于液晶圆形偏光片上方。

在一些实施例中，显示面板另包含吸光层，位于OLED元件上方。

本揭露的一些实施例提供一种显示面板的制造方法。制造方法包含形成有机发光二极管(OLED)元件，其包括有机发光层，其中有机发光层具有玻璃转化温度；形成光敏材料于OLED元件上方；以及于硬化温度，加热光敏材料，其中光敏材料的硬化温度低于有机发光层的玻璃转化温度。制造方法另包含以光照射光敏材料，形成光敏配向层；形成多个液晶分子于光敏配向层上方，这些液晶分子由光敏材料排列以形成液晶圆形偏光片；以及形成线形偏光片于液晶圆形偏光片上方。

在一些实施例中，制造方法另包含在形成光敏材料于显示元件上方之前，形成吸光层于OLED元件上方。

在一些实施例中，所述光是一线形偏振不可见光。

在一些实施例中，线形偏振不可见光是线形偏振UV光，具有实质为200nm与400nm之间的一波长范围。

附图说明

为协助读者达到最佳理解效果，建议在阅读本揭露时同时参考附件图示及其详细文字叙述说明。请注意为遵循业界标准作法，本专利说明书中的图式不一定按照正确的比例绘制。在某些图式中，尺寸可能刻意放大或缩小，以协助读者清楚了解其中的讨论内容。

图1为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图2为示意图，例示本揭露实施例的显示面板的入射环境光的光路径。

图3为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图4为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图5为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图5A为示意图，例示本揭露实施例的抗反射层。

图5B为示意图，例示本揭露实施例的抗反射层。

图6为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图7为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图7A为示意图，例示本揭露实施例的抗反射层。

图7B为示意图，例示本揭露实施例的抗反射层。

图8A、图8B、图8C、图8D与图8E是示意图，例示本揭露实施例的显示面板的制造方法。

图9为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图10为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图11为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图12为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图13为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图14为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

图15为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。

具体实施方式

本揭露提供了数个不同的实施方法或实施例，可用于实现本发明的不同特征。为简化说明起见，本揭露也同时描述了特定零组件与布置的范例。请注意提供这些特定范例的目的仅在于示范，而非予以任何限制。举例而言，在以下说明第一特征如何在第二特征上或上方的叙述中，可能会包括某些实施例，其中第一特征与第二特征为直接接触，而叙述中也可能包括其他不同实施例，其中第一特征与第二特征中间另有其他特征，以致于第一特征与第二特征并不直接接触。此外，本揭露中的各种范例可能使用重复的参考数字和/或文字注记，以使文件更加简单化和明确，这些重复的参考数字与注记不代表不同的实施例与/或配置之间的关联性。

再者，应理解当称元件「连接至」或「耦合至」另一元件时，其可直接连接或耦合至另一元件，或是可有其他中间元件存在。

另外，本揭露在使用与空间相关的叙述词汇，如「在...之下」、「低」、「下」、「上方」、「之上」、「下」、「顶」、「底」和类似词汇时，为便于叙述，其用法均在于描述图示中一个元件或特征与另一个(或多个)元件或特征的相对关系。除了图示中所显示的角度方向外，这些空间相对词汇也用来描述该装置在使用中以及操作时的可能角度和方向。该装置的角度方向可能不同(旋转90度或其它方位)，而在本揭露所使用的这些空间相关叙述可以同样方式加以解释。

在本揭露中，例如「第一」、「第二」以及「第三」用语描述各种元件、组件、区域、层与/或区块，这些元件、组件、区域、层与/或区块不应受限于这些用语。这些用语可以仅用以区分一元件、组件、区域、层或区与另一元件、组件、区域、层或区。除非内文清楚表示，否则本揭露中的「第一」、「第二」以及「第三」用语并非意指序列或顺序。

在本揭露的一些实施例中，提供显示面板(例如OLED显示面板)，包含一体成形的抗反射结构。一体成形的抗反射结构可直接形成于显示面板的显示表面上，而不破坏显示元件，例如OLED元件，并且不需要额外的黏着层，因而可节省制造成本、将显示面板的整体厚度最小化，并且增加附着性。一体成形的抗反射结构可抑制反射来自环境的入射光，因而在户外使用可增加可见兴与对比率。

图1为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图1所示，显示面板1包含显示元件10、抗反射结构30以及覆盖层40。在一些实施例中，显示面板1可包含电激发光显示面板，例如OLED显示面板。在一些实施例中，显示元件10可包含复数个像素10P形成于衬底11上方。衬底11可包含坚硬衬底，例如玻璃衬底，或是可挠式衬底，例如塑胶衬底。在一些实施例中，衬底11上可形成电路(例如驱动电路)。每一个像素10P可包含阳极12、有机发光层14与阴极16。阳极12可形成于衬底11上方，并且电连接至驱动电路。有机发光层14可形成于阳极12上方。阴极16可形成于有机发光层14上方，并且电连接至驱动电路。在一些实施例中，可藉由沉积、光微影与蚀刻技术，于衬底11上形成阳极12、有机发光层14与阴极16，因而可增加显示元件10的解析度。阳极12与阴极16可由透明传导材料形成，例如铟锡氧化物(indiumtin oxide，ITO)或薄金属材料。在一些实施例中，显示元件10可包含可挠式显示元件或是可弯式显示面板。在此情况下，阳极12与阴极16可由具有薄厚度的透明传导材料制成，例如氧化铟锡(indium tin oxide，ITO)或金属材料。在一些实施例中，显示元件10可包含可挠式显示元件或是可弯式显示面板。在此情况下，阳极12与阴极16可由具有良好展性与延性的传导材料制成，例如薄金属。

抗反射结构30位于显示元件10的像素10P上方，并且经配置以抑制入受环境光的反射，以及使自像素10P发出的光通过，因而改良显示面板1于户外环境的对比率。在一些实施例中，抗反射结构30可一体成形于显示元件10上方，而不需要额外的黏着层。在一些实施例中，抗反射结构30可包含光敏配向层32、液晶圆形偏光片34与线形偏光片36。在一些实施例中，光敏配向层32位于显示元件10上方。在一些实施例中，光敏配向层32可由光敏材料形成，例如以聚亚酰胺为基底的材料。光敏配向层32对一波长范围内的光敏感且可被一波长范围内的光硬化。在一些实施例中，光敏配向层32对于不可见光(例如UV光)敏感，并且该光的波长范围是在200nm与400nm之间，但不以此为限。在一些实施例中，在硬化温度下，光敏材料可被热硬化而固化。在一些实施例中，光敏材料的硬化温度低于有机发光层14的玻璃转化温度(glass transition temperature,Tg)，因而有机发光层14不会受到破坏。例如，光敏配向层32的硬化温度实质低于110℃，例如在约50℃与约80℃之间，但不以此为限。

在一些实施例中，显示面板1可选择性地包含吸光层20，吸光层20位于显示元件10上方并且经配置以吸收用于硬化光敏配向层32的光。吸光层20可一体成形于显示面板1上方。吸光层20的设置可防止显示元件10(特别是有机发光层14)受到用于硬化光敏配向层32的光的破坏。在一些实施例中，吸光层20是经配置以吸收不可见光。举例而言，吸光层包含UV光吸收层，并且波长范围实质为200nm与400nm之间。

液晶圆形偏光片34位于光敏配向层32上方。液晶圆形偏光片34包含由光敏配向层32排列的复数个液晶分子34L。在一些实施例中，光敏配向层32的材料可被光照射分解，并且分解的材料可结合至液晶分子34L，以使液晶分子34L产生配向。因此，配向后的液晶分子34L可提供相位延迟效果(phase retardation effect)。在一些实施例中，液晶圆形偏光片34经配置成为1/4波长(λ)延迟层。在一些实施例中，液晶分子34L可包含层列(smectic)液晶分子、向列(nematic)液晶分子、胆固醇(cholesteric)液晶分子、盘状液晶分子、杆状液晶分子或其他合适的液晶分子。

线形偏光片36位于液晶圆形偏光片34上方。在一些实施例中，线形偏光片36可接触液晶圆形偏光片34，并且可一体成形于液晶圆形偏光片34上方。线形偏光片36经配置以使得特定线形偏光的光通过，并且过滤另一特定线形偏光的光。线形偏光片36结合液晶圆形偏光片34是经配置作为抗反射结构30，以抑制入射的环境光。

在一些实施例中，覆盖层40位于抗反射结构30上方。覆盖层40经配置作为保护层，以保护显示面板1。在一些实施例中，覆盖层40可包含塑胶层，但不以此为限。

在一些实施例中，在显示元件10上方，可一体成形经配置提供其他功能的功能层。

图2为示意图，例示本揭露实施例的显示面板的入射环境光的光路径。如图2所示，入射环境光L的一部分通过线形偏光片36，并且成为第一线形偏振光(first linearpolarizing light)P1，例如水平偏振光(horizontal polarizing light)。而后，第一线形偏振光P1通过液晶圆型偏光片34，并且延迟1/4波长，成为第一圆形偏振光(firstcircular polarizing light)C1，例如右圆偏振光(right circular polarizing light)。而后，第一圆形偏振光C1被显示元件10的阴极16或阳极12反射，并且第一圆形偏振光C1的偏振反转成为第二圆形偏振光C2，例如左圆偏振光。而后，第二圆形偏振光C2通过液晶圆形偏光片34，并且延迟1/4波长成为第二线形偏振光P2，例如垂直偏振光。第二线形偏振光P2受到线形偏光片36过滤，因而不会射出(exit)。据此，入射环境光L的反射受到抑制。

本揭露的显示面板不限于上述实施例，并且可具有其他不同的实施例。为简化说明且便于比较本揭露的各个实施例，以下各个实施例中相同元件是以同元件符号标示。为了便于比较不同实施例之间的差异，以下说明将详述实施例的异处，并且不再赘述相同特征。

图3为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图3所示，相对于图1的显示面板1，显示面板2可另包含薄膜封装(thin film encapsulation，TFE)层22位于显示元件10与反射结构30之间，例如位于显示元件10与吸光层20之间。TFE 22经配置以囊封显示元件10，使其免于暴露于潮湿、氧气或类似者，因而可延长显示面板2的寿命。在一些实施例中，TFE22可一体成形于显示元件10上方。在一些实施例中，TFE 22可由有机材料或无机材料形成的单层封装层。在一些实施例中，TFE 22可为有机材料与无机材料彼此堆叠而形成的多层封装层。例如，TFE 22可包含两个无机膜以及夹置于两个无机膜之间的一个有机膜。

图4为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图4所示，相对于图3的显示面板2，显示面板3可另包含触控输入元件24，经配置以提供触控输入功能。在一些实施例中，触控输入元件24可位于显示元件10与覆盖层40之间。在一些实施例中，触控输入元件24可位于TFE 22与抗反射结构30之间，但不以此为限。在一些实施例中，触控输入元件24可一体成形于TFE 22上方。在一些实施例中，触控输入元件24可包含电容式触控输入元件或是其他形式的触控输入元件。

图5为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图5所示，相对于图4的显示面板3，显示面板4可另包含至少一抗反射层50于显示元件10与覆盖层40之间。在一些实施例中，抗反射层50可位于线形偏光片36与覆盖层40之间。在一些实施例中，抗反射层50可一体成形于抗反射结构30上方。在一些实施例中，抗反射层50的详细结构可如图5A或图5B所述。

图5A为示意图，例示本揭露实施例的抗反射层。如图5与图5A所示，抗反射层50可包含结构层52。在一些实施例中，结构层52包含复数个突出结构52P与该显示元件10相对设置。举例而言，突出结构52P可包含自结构层52向外突出的蛾眼结构，以及可在相邻的蛾眼结构之间形成凹陷结构，例如凹部。在一些实施例中，突出结构52P与凹陷结构彼此连接，并且突出结构52P与凹陷结构之间不形成平坦表面，例如形成粗糙表面。在一些实施例中，结构层52的折射率不同于与结构层52交界的介质的折射率。在一些实施例中，结构层52的折射率大于该介质的折射率。举例而言，该介质可包含气体介质，例如折射率约为1的空气，以及结构层52可由透明材料形成，例如折射率约为1.5的有机或无机材料，但不以此为限。

图5B为示意图，例示本揭露实施例的抗反射层。如图5B所示，抗反射层50可另包含位于结构层52上方的光学层54。在一些实施例中，光学层54接触结构层52，并且光学层54的表面54S与结构层52的突出结构52P相匹配，例如相互嵌合。在一些实施例中，结构层52与光学层54由透明材料形成，例如具有不同折射率的有机或无机材料。在一些实施例中，光学层54的折射率小于结构层52的折射率。举例而言，光学层54的折射率约为1，以及结构层52的折射率约为1.5，但不以此为限。

在一些实施例中，抗反射层50一体成型于显示元件10上方。抗反射层50包含突出结构52P与具有不同折射率的凹陷结构，使得抗反射层50的有效折射率于深度方向改变。在一些实施例中，抗反射层50的有效折射率于深度方向连续地变化。在一些实施例中，抗反射层50的有效折射率于深度方向不连续地(discretely)变化。据此，可进一步减少入射环境光的反射。抗反射层50与抗反射结构30的设置可进一步促进抑制入射环境光的反射。

图6为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图6所示，相对于图5的显示面板4，显示面板5的抗反射层50可位于吸光层20与显示元件10之间。例如，抗反射层50可位于TFE 22与触控输入元件24之间。抗反射层50与抗反射结构30的设置可进一步促进抑制入射环境光的反射。

图7为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图7所示，相对于图6的显示面板5，显示面板6可另包含两个抗反射层50与60。在一些实施例中，抗反射层50可位于TFE 22与触控输入元件24之间，以及另一抗反射层60可位于线形偏光片36与覆盖层40之间。在一些实施例中，接近显示元件10的抗反射层50可包含如图5A或图5B所示的详细结构。在一些实施例中，抗反射层60的详细结构可如图7A或图7B所示。

图7A为示意图，例示本揭露实施例的抗反射层。如图7与图7A所示，抗反射层60可包含结构层62。在一些实施例中，结构层62包含复数个突出结构62P面向显示元件10。举例而言，突出结构62P可包含蛾眼结构自结构层62向外突出，以及在相邻的蛾眼结构之间可形成凹陷结构，例如凹部。在一些实施例中，突出结构62P与凹陷结构彼此连接，并且在突出结构62P与凹陷结构之间不形成平坦表面。在一些实施例中，结构层62的折射率不同于与结构层62交界的介质的折射率。在一些实施例中，结构层62的折射率大于介质的折射率。举例而言，介质可包含气体介质，例如折射率约为1的空气，以及结构层62可由透明材料形成，例如折射率约为1.5的有机或无机材料，但不以此为限。在一些实施例中，抗反射层60的突出结构62P与抗反射层50的突出结构52P面对面。例如，突出结构62P朝向抗反射层50突出，以及突出结构52P朝向抗反射层60突出。

图7B为示意图，例示本揭露实施例的抗反射层。如图7B所示，抗反射层60可另包含光学层64位于结构层62上方。在一些实施例中，光学层64接触结构层62，以及光学层64的表面64S与结构层62的突出结构62P嵌合。在一些实施例中，结构层62与光学层64是由透明材料制成，例如具有不同折射率的有机或无机材料。在一些实施例中，光学层64的折射率小于结构层62的折射率。举例而言，光学层64的折射率约为1，以及结构层62的折射率约为1.5，但不以此为限。在一些实施例中，突出结构62P与突出结构52P面对面。例如，突出结构62P朝向抗反射层50突出，以及突出结构52P朝向抗反射层60突出。

在一些实施例中，抗反射层60一体成形于显示元件10上方。抗反射层60包含突出结构62P以及具有不同折射率的凹陷结构，使得抗反射层60的有效折射率于深度方向改变。在一些实施例中，抗反射层60的有效折射率于深度方向连续地变化。在一些实施例中，抗反射层60的有效折射率于深度方向不连续地变化。据此，可进一步减少入射环境光的反射。抗反射层50、60与抗反射结构30的设置可进一步抑制入射环境光的反射。

图8A、图8B、图8C、图8D与图8E为示意图，例示本揭露实施例的显示面板的制造方法。如图8A所示，形成显示元件10，例如有机发光二极管(OLED)元件。在一些实施例中，显示元件10包含复数个像素10P，并且各个像素10P包含有机发光层14形成于衬底11上方，以及有机发光层14具有玻璃转化温度。在一些实施例中，这些像素10P各自可另包含阳极12与阴极16，用于驱动有机发光层14。

如图8B所示，可在显示元件10上方形成光敏材料31。在一些实施例中，可藉由涂覆、点胶(dispensing)、或其他合适的方法，于显示元件10上方一体成形光敏材料层31。在一些实施例中，光敏材料层31可由光敏材料形成，例如以聚亚酰胺为基础的材料，但不以此为限。在一些实施例中，在形成光敏材料层31于显示元件10上方之前，可在显示元件10上方选择性形成吸光层20。在一些实施例中，进行热处理，以于硬化温度加热光敏材料层31，以固化光敏材料层31。光敏材料层31的硬化温度低于有机发光层14的玻璃转化温度。在一些实施例中，光敏材料的硬化温度实质低于110℃，例如在约50℃与约80℃之间，但不以此为限。

如图8C所示，以光L照射光敏材料层31，形成光敏配向层32。在一些实施例中，硬化光敏材料层31的光L为线形偏振不可见光，例如线形偏振UV光，波长范围在200nm与400nm之间，但不以此为限。在一些实施例中，在光L照射之后，光敏材料层31的材料可被分解。在一些实施例中，吸光层20经配置以吸收光L，并且防止显示元件10(特别是有机发光层14)受到暴露于光L的破坏。吸光层20使得显示元件10发出的光通过，因而显示元件10的显示影像不会受到影响。在一些实施例中，在照射光敏材料31之前与/或之后，可进行热处理。

如图8D所示，可藉由涂覆、点胶、或其他合适的方法，于光敏配向层32上方一体成形复数个液晶分子34L。这些液晶分子34L可藉由凡得瓦力而键结至光敏材料31的分解的材料，并且藉由光敏配向层32而排列以形成具有相位延迟效果的液晶圆形偏光片34。在一些实施例中，液晶圆形偏光片34具有1/4波长延迟效果，并且经配置成为圆形偏光片。相对于机械配向(mechanical alignment)(例如对于显示元件10或下层造成破坏的摩擦过程)，显示元件10或下层不易在光学配向期间受到破坏，因而可增加显示面板的可信赖度。

如图8E所示，可藉由涂覆、点胶、沉积或其他合适的方法，于液晶圆形偏光片34上方一体成形线形偏光片36。光敏配向层32、液晶圆形偏光片34与线形偏光片36形成抗反射结构30，可抑制入射环境光的反射。在一些实施例中，覆盖层40形成于线形偏光片36上方，以保护线形偏光片36。

在本揭露的一些实施例中，显示面板(例如OLED显示面板)配置一体成形的抗反射结构。一体成形的抗反射结构可直接形成于显示面板的显式表面上，而不破坏显示元件，例如OLED元件，并且不需要额外的黏着层，因而可节省制造成本，并且将显示面板的整体厚度最小化。该一体成形的抗反射结构可抑制来自环境的入射光的反射，因而可增加于户外使用的可见性与对比率。该抗反射结构与其他功能层(例如TFE、吸光层、触控输入元件、抗反射层与覆盖层)可由可伸展的材料形成，并且可直接形成于显示元件上方，不需要额外的黏着层。据此，增进上述这些层的任何两相邻层之间的附着。特别是当显示面板于弯曲或折叠模式操作时，增进的附着会减少显示面板的脱层(delamination)风险。

在不悖离本揭露的精神与范畴的下也可使用其他替代例或实施例。图9为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图9所示，一导光结构70位于像素10P之间，以将自像素10P发出的光束导向显示面板100的显示表面10D。通常，自像素10P发出的光束为多向性且等向性。因此，从像素10P产生的横向光束由于不太可能穿过该显示表面而经常被浪费。导光结构70合并至显示面板100中，以增加朝向该显示元件行进的光束量。自像素10P发出的横向光束可通过导光结构70朝显示表面10D重新导向。

在一些实施例中，导光结构70的折射率小于像素10P的折射率。因此，自像素10P发出的横向光束可在不进入导光结构70的情况下，由导光结构70反射。自像素10P发出的横向光束通过全内反射而重新导向至显示表面10D。在一些实施例中，导光结构70包含一像素定义层(pixel-defining layer，PDL)。尽管图式中未显示，不过显示面板100可在显示元件10与覆盖层40之间另包含一抗反射层50，如图5所示，但不以此为限。

导光结构70可以不同形状形成。如图9内所示，导光结构70的剖面可为矩形。在一些实施例中，导光结构70的剖面可具有弯曲表面。在其他实施例中，导光结构70的形状可为梯形。导光结构70的形状可根据设计或其他考量而改变。

图10为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图10所示，显示面板200的导光结构80包含一像素定义层(pixel-defining layer，PDL)82和一反射膜84。反射膜84位于PDL 82面对像素10P的表面上，以将自像素10P发出的横向光束反射到显示面板200的显示表面10D。在一些实施例中，反射膜84贴附到PDL 82面对像素10P的表面上。反射膜84可包含金属氧化物。在一些实施例中，反射膜84可通过光敏层辅助红色、绿色和蓝色材料的剥离处理。显示面板200可另包含一抗反射层50，如图5所示，但不以此为限。

PDL 82可以不同形状形成。如图10内所示，PDL 82的剖面是矩形。在一些实施例中，PDL 82的剖面可具有弯曲表面。在其他实施例中，PDL 82的形状可为梯形。PDL 82的形状可根据设计或其他考量而改变。

图11为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图11所示，显示面板300的导光结构90包含一像素定义层(pixel-defining layer，PDL)92和分散在PDL 92内的复数个散射粒子94。散射粒子94设置成将自像素10P发出的横向光束散射到显示面板300的显示表面10D。在一些实施例中，散射粒子94随机分散在PDL 92内。横向光束可行进通过导光结构90并遇到散射粒子94。散射粒子94可散射横向光束，使得自像素10P发出的横向光束实质上朝向该显示表面10D。

散射粒子94可包含导电粒子。在一些实施例中，这些导电粒子包含金属氧化物粒子。金属氧化物粒子的尺寸可为纳米等级。金属氧化物粒子可通过散射自像素10P发出的横向光束，来增加光学输出耦合。在一些实施例中，在用于显示面板300的制程中，金属氧化物粒子可在剥离处理中辅助去除光阻剂。在其他实施例中，散射粒子94可包含绝缘粒子。显示面板300可另包含一抗反射层50，如图5所示，但不以此为限。

图12为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。与图11所示的实施例相反，图12中显示面板400的散射粒子94分散在对应于有机发光层14的PDL 92中。散射粒子94掺杂在与有机发光层14的区域相对应的受限区域96中。散射粒子94对应于有机发光层14配置，使得自有机发光层14发出的横向光束可由导光结构90有效地散射。显示面板400可另包含一抗反射层50，如图5所示，但不以此为限。

图13为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图13所示，显示面板500的每个像素10P都包含堆叠在一起的复数个层。在一些实施例中，有机发光层14可包含一第一载体层14H、一发光层14M和一第二载体层14E。第一载体层14H可包含一第一载体注入层和一第一载体传输层。第二载体层14E可包含一第二载体注入层和一第二载体传输层。在一些实施例中，该第一载体为空穴并且该第二载体为电子。

请参考图13，导光结构15和这些复数个层彼此堆叠。导光结构15在第一载体层14H与发光层14M之间。导光结构15可包含用于散射自像素10P发出的光束的复数个散射粒子15P。散射粒子15P可包含导电粒子。在一些实施例中，这些导电粒子包含金属氧化物粒子。金属氧化物粒子可通过散射自像素10P发出的光束，来增加光学输出耦合。具体而言，朝向第一载体层14H行进的光束可由导光结构15中的散射粒子15P散射。因此，光束可重新导向并朝着显示面板500的显示表面10D行进。

图14为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图14所示，显示面板600的导光结构15在第二载体层14E与阴极16之间。导光结构15可包含用于散射自像素10P发出的光束或用于散射入射环境光的复数个散射粒子15P。导光结构15的设置可进一步促进抑制入射环境光的反射，并增加来自像素10P的光学输出耦合。

图15为示意图，例示本揭露实施例的显示面板。如图15所示，显示面板700的阳极12可包含至少两个子层12A和12B。导光结构13在子层12A与子层12B之间。导光结构13可包含用于散射自像素10P发出的光束的复数个散射粒子13P。具体而言，朝向衬底11行进的光束可由导光结构13中的散射粒子13P散射。因此，光束可重新导向并朝着显示面板700的显示表面10D行进。

前述内容概述一些实施方式的特征，因而熟知此技艺的人士可更加理解本揭露之各方面。熟知此技艺之人士应理解可轻易使用本揭露作为基础，用于设计或修饰其他制程与结构而实现与本申请案所述的实施例具有相同目的与/或达到相同优点。熟知此技艺的人士亦应理解此均等架构并不脱离本揭露揭示内容的精神与范围，并且熟知此技艺的人士可进行各种变化、取代与替换，而不脱离本揭露的精神与范围。

符号说明：

1 显示面板

2 显示面板

3 显示面板

4 显示面板

5 显示面板

6 显示面板

10 显示元件

10D 显示表面

10P 像素

11 衬底

12 阳极

12A 子层

12B 子层

13 导光结构

13P 散射粒子

14 有机发光层

14E 第二载体层

14H 第一载体层

14M 发光层

15 导光结构

15P 散射粒子

16 阴极

20 吸光层

22 薄膜封装层

24 触控输入元件

30 抗反射结构

31 光敏材料层

32 光敏配向层

34 液晶圆形偏光片

34L 液晶分子

36 线形偏光片

40 覆盖层

50 抗反射层

52 结构层

54 光学层

52P 突出结构

52S 表面

60 抗反射层

62 结构层

62P 突出结构

64 光学层

64S 表面

70 导光结构

80 导光结构

82 像素定义层

84 反射膜

90 导光结构

92 像素定义层

94 散射粒子

96 区域

100 显示面板

200 显示面板

300 显示面板

400 显示面板

500 显示面板

600 显示面板

700 显示面板

C1 第一圆形偏振光

C2 第二圆形偏振光

L 入射环境光

P1 第一线形偏振光

P2 第二线形偏振光

Claims (20)

1.一种显示面板，包括：

显示元件，其包括多个像素；

导光结构，其位于所述像素之间，以将自所述像素发出的光束导向显示表面；

吸光层，其位于所述显示元件上方；

抗反射结构，其位于所述显示元件的所述像素上方，其中所述吸光层在所述抗反射结构与所述显示元件之间，并且所述抗反射结构包括：

光敏配向层，其位于所述吸光层上方，其中所述光敏配向层对于一波长范围内的硬化光是敏感的，并且可被所述波长范围内的所述硬化光硬化，并且所述吸光层经配置以吸收穿过所述光敏配向层的所述硬化光；

液晶圆形偏光片，其位于所述光敏配向层上方，其中所述液晶圆形偏光片包括由所述光敏配向层排列的多个液晶分子；以及

线形偏光片，其位于所述液晶圆形偏光片上方；以及

覆盖层，其位于所述抗反射结构上方。

2.如权利要求1的显示面板，其中自所述像素发出的横向光束由所述导光结构朝所述显示表面重新导向。

3.如权利要求2的显示面板，其中所述导光结构包括像素定义层和反射膜，所述反射膜位于所述像素定义层面对所述像素的表面上，以将自所述像素发出的所述横向光束反射到所述显示表面。

4.如权利要求2的显示面板，其中所述导光结构的折射率小于所述像素的折射率，并且自所述像素发出的所述横向光束由全内反射重新导向至所述显示表面。

5.如权利要求4的显示面板，其中所述导光结构包括像素定义层。

6.如权利要求2的显示面板，其中所述导光结构包括像素定义层和多个散射粒子，所述粒子分散在所述像素定义层内，以将自所述像素发出的所述横向光束散射到所述显示表面。

7.一种显示面板，包括：

显示元件，其包括多个像素；

导光结构，其用于实质上将自所述像素发出的横向光束朝向显示表面散射；

抗反射结构，其位于所述显示元件的所述像素上方；

覆盖层，其位于所述抗反射结构上方；以及

至少一抗反射层，其位于所述显示元件与所述覆盖层之间，其中所述抗反射层包括结构层，其包含多个突出结构，以及包括光学层，其与所述结构层接触，所述光学层的表面与所述突出结构嵌合，并且所述光学层的折射率小于所述结构层的折射率。

8.如权利要求7的显示面板，另包括像素定义层。

9.如权利要求8的显示面板，其中所述导光结构包括分散在所述像素定义层内的多个散射粒子。

10.如权利要求9的显示面板，其中所述散射粒子包括金属氧化物粒子。

11.如权利要求8的显示面板，其中所述导光结构包括贴附至所述像素定义层面向所述像素的表面之反射膜。

12.如权利要求7的显示面板，其中所述导光结构的折射率小于所述像素的折射率，并且自所述像素发出的所述横向光束由所述导光结构反射而未进入所述导光结构。

13.一种显示面板，包括：

显示元件，其包括多个像素；

导光结构，其可包括用于散射自所述像素发出的光束的多个散射粒子；

抗反射结构，其位于所述显示元件的所述像素上方；以及

覆盖层，其位于所述抗反射结构上方。

14.如权利要求13的显示面板，其中所述像素每一者都包括多个层，包含：

阳极；

第一载体层；

发光层；

第二载体层；以及

阴极。

15.如权利要求14的显示面板，其中所述导光结构和所述多个层彼此堆叠。

16.如权利要求15的显示面板，其中所述导光结构位于所述第一载体层与所述发光层之间。

17.如权利要求15的显示面板，其中所述导光结构位于所述第二载体层与所述阴极之间。

18.如权利要求15的显示面板，其中所述阳极包括至少两子层，并且所述导光结构位于所述子层之间。

19.如权利要求15的显示面板，另包括像素定义层，其中所述散射粒子分散在对应于所述发光层的所述像素定义层内。

20.如权利要求14的显示面板，另包括至少一抗反射层，其位于所述显示元件与所述覆盖层之间，其中所述抗反射层包括结构层，其包含多个突出结构，以及包括光学层，其与所述结构层接触，所述光学层的表面与所述突出结构嵌合，并且所述光学层的折射率小于所述结构层的折射率。

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