CN112538605A - 一种蒸镀设备 - Google Patents
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 118
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims abstract description 118
- 238000007747 plating Methods 0.000 title description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 71
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 50
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 abstract description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
本发明涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种蒸镀设备，包括蒸镀腔本体和换料腔本体，换料腔本体位于蒸镀腔本体的一侧，蒸镀腔本体内腔设有机械手臂机构和三个以上的坩埚位，三个以上的坩埚备用位环绕坩埚蒸镀位设置，三个以上的坩埚备用位分别位于同一个虚拟圆的等分点上，坩埚蒸镀位位于虚拟圆的圆心位置上，在换料腔本体内腔设置旋转轨道，旋转轨道上设有两个以上的坩埚接待位，可在生产作业时同时进行换料或加料的动作，这样不仅对蒸镀腔本体内洁净度起到很好的保持作用，避免空气中的颗粒污染腔体，对产品良率有一定保障；而且还可以大大避免停机开腔换料等作业对产能造成的影响。
Description
技术领域
本发明涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种蒸镀设备。
背景技术
有机发光二极管(英文全称为Organic Light Emitting Diode，英文缩写为OLED)是一种新型显示技术，因其具有自发光、广视角、高亮度、低电压驱动、快速响应等优点，从多角度来看，OLED相比于LCD更具有优势，因此被认为是目前以及未来最具有发展前途的新一代显示技术之一。
OLED中最为关键的一道制程是将有机发光材料填充至TFT基板的像素格中，目前已开发出来的技术有多种，但由于成熟度及良率问题，当前量产应用最广的是真空蒸镀的方式，采用这种技术需要一种用来真空蒸镀有机发光材料的设备：蒸镀机。
现有蒸镀机腔体中坩埚配置一般为线源坩埚或点源坩埚，其都存在无备用坩埚，若材料用完需停机开腔再对坩埚进行加料的工作，此过程不但会影响腔体内环境的洁净度，污染腔体环境，对于点源坩埚来说，因坩埚本身大小限制，需频繁开腔加料，则会对生产节拍或产能造成一定的影响。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是：提供一种蒸镀设备。
为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：
一种蒸镀设备，包括蒸镀腔本体和换料腔本体，所述换料腔本体位于蒸镀腔本体的一侧，所述蒸镀腔本体内腔设有机械手臂机构和三个以上的坩埚位，三个以上的所述坩埚位分别位于同一个虚拟半圆的等分点上，所述机械手臂机构位于虚拟半圆的圆心位置上，所述坩埚位包括坩埚蒸镀位和三个以上的坩埚备用位，三个以上的所述坩埚备用位环绕坩埚蒸镀位设置，三个以上的所述坩埚备用位分别位于同一个虚拟圆的等分点上，所述坩埚蒸镀位位于虚拟圆的圆心位置上；
所述换料腔本体内腔设有旋转轨道，所述旋转轨道上设有两个以上的坩埚接待位；
所述蒸镀腔本体内腔还设有坩埚待料位和滑轨机构，所述坩埚待料位设置在机械手臂机构的一侧，所述滑轨机构的一端朝向坩埚待料位，与所述滑轨机构的一端相对的另一端朝向坩埚接待位，所述滑轨机构被配置为将坩埚待料位上的坩埚传送至坩埚接待位上；
所述机械手臂机构被配置为抓取坩埚备用位上的坩埚放入坩埚蒸镀位中和抓取坩埚蒸镀位中已用完的坩埚放入坩埚待料位中。
本发明的有益效果在于：
通过设计坩埚位备用和换料腔的方案，三个以上的坩埚备用位环绕坩埚蒸镀位设置，三个以上的坩埚备用位分别位于同一个虚拟圆的等分点上，坩埚蒸镀位位于虚拟圆的圆心位置上，在换料腔本体内腔设置旋转轨道，旋转轨道上设有两个以上的坩埚接待位，可在生产作业时同时进行换料或加料的动作，这样不仅对蒸镀腔本体内洁净度起到很好的保持作用，避免空气中的颗粒污染腔体，对产品良率有一定保障；而且还可以大大避免停机开腔换料等作业对产能造成的影响。
附图说明
图1为根据本发明的一种蒸镀设备的结构示意图；
图2为根据本发明的一种蒸镀设备的结构示意图；
图3为根据本发明的一种蒸镀设备的结构示意图；
图4为根据本发明的一种蒸镀设备的旋转轨道和坩埚接待位的结构示意图；
图5为根据本发明的一种蒸镀设备的旋转轨道和坩埚接待位的结构示意图；
图6为根据本发明的一种蒸镀设备的旋转轨道和坩埚接待位的结构示意图；
图7为根据本发明的一种蒸镀设备的旋转轨道和坩埚接待位的结构示意图；
标号说明：
1、蒸镀腔本体；101、机械手臂机构；102、坩埚位；1021、坩埚蒸镀位；
1022、坩埚备用位；103、坩埚待料位；104、滑轨机构；
2、换料腔本体；201、旋转轨道；202、坩埚接待位；203、PUMP接口。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1，本发明提供的技术方案：
一种蒸镀设备，包括蒸镀腔本体和换料腔本体，所述换料腔本体位于蒸镀腔本体的一侧，所述蒸镀腔本体内腔设有机械手臂机构和三个以上的坩埚位，三个以上的所述坩埚位分别位于同一个虚拟半圆的等分点上，所述机械手臂机构位于虚拟半圆的圆心位置上，所述坩埚位包括坩埚蒸镀位和三个以上的坩埚备用位，三个以上的所述坩埚备用位环绕坩埚蒸镀位设置，三个以上的所述坩埚备用位分别位于同一个虚拟圆的等分点上，所述坩埚蒸镀位位于虚拟圆的圆心位置上；
所述换料腔本体内腔设有旋转轨道，所述旋转轨道上设有两个以上的坩埚接待位；
所述蒸镀腔本体内腔还设有坩埚待料位和滑轨机构，所述坩埚待料位设置在机械手臂机构的一侧，所述滑轨机构的一端朝向坩埚待料位，与所述滑轨机构的一端相对的另一端朝向坩埚接待位，所述滑轨机构被配置为将坩埚待料位上的坩埚传送至坩埚接待位上；
所述机械手臂机构被配置为抓取坩埚备用位上的坩埚放入坩埚蒸镀位中和抓取坩埚蒸镀位中已用完的坩埚放入坩埚待料位中。
从上述描述可知，本发明的有益效果在于：
通过设计坩埚位备用和换料腔的方案，三个以上的坩埚备用位环绕坩埚蒸镀位设置，三个以上的坩埚备用位分别位于同一个虚拟圆的等分点上，坩埚蒸镀位位于虚拟圆的圆心位置上，在换料腔本体内腔设置旋转轨道，旋转轨道上设有两个以上的坩埚接待位，可在生产作业时同时进行换料或加料的动作，这样不仅对蒸镀腔本体内洁净度起到很好的保持作用，避免空气中的颗粒污染腔体，对产品良率有一定保障；而且还可以大大避免停机开腔换料等作业对产能造成的影响。
进一步的，相邻两个所述坩埚位中最接近的两个坩埚备用位之间的距离为20mm-30mm。
由上述描述可知，将相邻两个坩埚位中最接近的两个坩埚备用位之间的距离设为20mm-30mm，能够避免相邻的两个坩埚位中的坩埚备用位互相影响。
进一步的，所述换料腔本体上还设有PUMP接口，所述PUMP接口与外设的真空泵连通。
由上述描述可知，在换料腔本体上设置PUMP接口，PUMP接口与外设的真空泵连通，待所有工位都布满空坩埚后，真空泵向换料腔本体充气，此时可以打开换料腔本体进行统一换料工作；待换料结束后，真空泵抽气，使换料腔本体达到真空环境，恢复待接空坩埚工作状态。
进一步的，所述旋转轨道为圆形旋转轨道，两个以上的所述坩埚接待位等间距设置在圆形旋转轨道上。
进一步的，所述坩埚位的数量范围为3-10个。
进一步的，一个所述坩埚位中的坩埚备用位的数量范围为3-6个。
进一步的，所述蒸镀腔本体内腔还设有蒸发源挡板和驱动机构，所述驱动机构与蒸发源挡板电连接，所述驱动机构被配置为在蒸镀时，驱动蒸发源挡板转向无坩埚位的上方，在蒸镀结束时，驱动蒸发源挡板转向坩埚位的上方。
请参照图1至图7，本发明的实施例一为：
请参照图1，一种蒸镀设备，包括蒸镀腔本体1和换料腔本体2，所述换料腔本体2位于蒸镀腔本体1的一侧，所述蒸镀腔本体1内腔设有机械手臂机构101和三个以上的坩埚位102，三个以上的所述坩埚位102分别位于同一个虚拟半圆的等分点上，所述机械手臂机构101位于虚拟半圆的圆心位置上，所述坩埚位102包括坩埚蒸镀位1021和三个以上的坩埚备用位1022，三个以上的所述坩埚备用位1022环绕坩埚蒸镀位1021设置，三个以上的所述坩埚备用位1022分别位于同一个虚拟圆的等分点上，所述坩埚蒸镀位1021位于虚拟圆的圆心位置上；
请参照图1，所述换料腔本体2内腔设有旋转轨道201，所述旋转轨道201上设有两个以上的坩埚接待位202；
请参照图1，所述蒸镀腔本体1内腔还设有坩埚待料位103和滑轨机构104，所述坩埚待料位103设置在机械手臂机构101的一侧，所述滑轨机构104的一端朝向坩埚待料位103，与所述滑轨机构104的一端相对的另一端朝向坩埚接待位202，所述滑轨机构104被配置为将坩埚待料位103上的坩埚传送至坩埚接待位202上；
所述滑轨机构104可以是由型号为THK的球保持器型直线导轨或微型的SRS型滑块种类WM以及在滑轨的上表面加装一个可以放点源坩埚的承载盘构成。
所述机械手臂机构101被配置为抓取坩埚备用位1022上的坩埚放入坩埚蒸镀位1021中和抓取坩埚蒸镀位1021中已用完的坩埚放入坩埚待料位103中。
所述机械手臂机构101可以为Sankyo Robot SR9143-XXXX系列的机械手臂。
相邻两个所述坩埚位102中最接近的两个坩埚备用位1022之间的距离为20mm-30mm，优选为20mm。
请参照图1，所述换料腔本体2上还设有PUMP接口203，所述PUMP接口203与外设的真空泵连通。
请参照图1，所述旋转轨道201为圆形旋转轨道201，两个以上的所述坩埚接待位202等间距设置在圆形旋转轨道201上。
所述旋转轨道201可以是上海纵苇自动化有限公司的环形电机模块单元系列的轨道，例如型号为sTrak-C180。
所述坩埚位102的数量范围为3-10个。
一个所述坩埚位102中的坩埚备用位1022的数量范围为3-6个。
所述蒸镀腔本体1内腔还设有蒸发源挡板和驱动机构，所述驱动机构可以是马达，马达的正转或者反转控制蒸发源挡板的开启或关闭，所述驱动机构与蒸发源挡板电连接，所述驱动机构被配置为在蒸镀时，驱动蒸发源挡板转向无坩埚位102的上方，在蒸镀结束时，驱动蒸发源挡板转向坩埚位102的上方。
所述驱动机构可以为西门子1LE0001系列的三相异步电动机。
本实施例中，以采用点源装置的蒸镀机为例，现有结构中蒸镀腔本体1内有多个坩埚位102，可对应装填多种材料，用于制备不同器件结构时进行单种材料的蒸镀、单层多材料掺杂混合蒸镀或多层材料的蒸镀。但由于其只有一个坩埚，当此坩埚内材料用完时，需要寻找合适时间进行停机开腔加料的动作，此过程势必对产能造成一定的影响。
请参照图2和图3，本方案设计多种坩埚备用位1022，位于每一坩埚蒸镀位1021四周，坩埚备用位1022围绕坩埚蒸镀位1021环形阵列排布，可以是3个坩埚备用位1022、4个坩埚备用位1022、5个坩埚备用位1022等，数量在3-6为最佳区间，若太多，一方面材料放置太久可能会发生变质等不利因素，另一方面坩埚本身也需要一定成本；此坩埚备用位1022可以都是3个或4个或5个，也可以根据每种材料的加料情况及材料使用情况3个、4个和5个混合，即同一个蒸镀腔本体1内每个坩埚蒸镀位1021四周都是3个坩埚备用位1022或4个坩埚备用位1022或5个坩埚备用位1022，也可以其中一个坩埚蒸镀位1021四周是3个坩埚备用位1022，另一个是4个坩埚备用位1022，再一个是5个坩埚备用位1022。
本方案中每个坩埚蒸镀位1021与其四周的坩埚备用位1022统称为坩埚位102，同一蒸镀腔本体1内的坩埚位102具体数量N可根据实际情况进行设计，可以是3-10个，且这些坩埚位102都位于半圆的同一侧(因蒸镀源挡板是半圆状，开始蒸镀时打开，转向无坩埚位102，蒸镀结束时关闭，转向坩埚位102，遮挡坩埚，避免材料继续蒸镀在基板上)，根据α＝180°/N，每间隔α设计一个坩埚位102。
本方案设计一换料腔本体2，其内有多个坩埚待接位，用于收集蒸镀腔本体1内材料用完的空坩埚；此坩埚待接位可以设计成运动场形(请参照图4)、圆形(请参照图5)、方形(请参照图6)、正多边形(请参照图7)等。其各工位上有可盛装空坩埚的装置(不在图上示出)，以能够固定空坩埚，使其无法歪倒或碰伤为主即可；各工位间的移动通过驱动机构控制滑轨机构104按一定方向运动(瞬时间或逆时针)；此换料腔本体2上还设计有一PUMP接口203，外接真空泵，待所有工位都布满空坩埚后，真空泵向换料腔本体2充气，此时可以打开换料腔本体2进行统一换料工作，待换料结束后，真空泵抽气，使换料腔本体2达到真空环境，恢复待接空坩埚工作状态。
综上所述，本发明提供的一种蒸镀设备，通过设计坩埚位备用和换料腔的方案，三个以上的坩埚备用位环绕坩埚蒸镀位设置，三个以上的坩埚备用位分别位于同一个虚拟圆的等分点上，坩埚蒸镀位位于虚拟圆的圆心位置上，在换料腔本体内腔设置旋转轨道，旋转轨道上设有两个以上的坩埚接待位，可在生产作业时同时进行换料或加料的动作，这样不仅对蒸镀腔本体内洁净度起到很好的保持作用，避免空气中的颗粒污染腔体，对产品良率有一定保障；而且还可以大大避免停机开腔换料等作业对产能造成的影响。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (7)
1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括蒸镀腔本体和换料腔本体，所述换料腔本体位于蒸镀腔本体的一侧，所述蒸镀腔本体内腔设有机械手臂机构和三个以上的坩埚位，三个以上的所述坩埚位分别位于同一个虚拟半圆的等分点上，所述机械手臂机构位于虚拟半圆的圆心位置上，所述坩埚位包括坩埚蒸镀位和三个以上的坩埚备用位，三个以上的所述坩埚备用位环绕坩埚蒸镀位设置，三个以上的所述坩埚备用位分别位于同一个虚拟圆的等分点上，所述坩埚蒸镀位位于虚拟圆的圆心位置上；
所述换料腔本体内腔设有旋转轨道，所述旋转轨道上设有两个以上的坩埚接待位；
所述蒸镀腔本体内腔还设有坩埚待料位和滑轨机构，所述坩埚待料位设置在机械手臂机构的一侧，所述滑轨机构的一端朝向坩埚待料位，与所述滑轨机构的一端相对的另一端朝向坩埚接待位，所述滑轨机构被配置为将坩埚待料位上的坩埚传送至坩埚接待位上；
所述机械手臂机构被配置为抓取坩埚备用位上的坩埚放入坩埚蒸镀位中和抓取坩埚蒸镀位中已用完的坩埚放入坩埚待料位中。
2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，相邻两个所述坩埚位中最接近的两个坩埚备用位之间的距离为20mm-30mm。
3.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述换料腔本体上还设有PUMP接口，所述PUMP接口与外设的真空泵连通。
4.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述旋转轨道为圆形旋转轨道，两个以上的所述坩埚接待位等间距设置在圆形旋转轨道上。
5.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚位的数量范围为3-10个。
6.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，一个所述坩埚位中的坩埚备用位的数量范围为3-6个。
7.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀腔本体内腔还设有蒸发源挡板和驱动机构，所述驱动机构与蒸发源挡板电连接，所述驱动机构被配置为在蒸镀时，驱动蒸发源挡板转向无坩埚位的上方，在蒸镀结束时，驱动蒸发源挡板转向坩埚位的上方。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011406444.7A CN112538605B (zh) | 2020-12-03 | 2020-12-03 | 一种蒸镀设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011406444.7A CN112538605B (zh) | 2020-12-03 | 2020-12-03 | 一种蒸镀设备 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112538605A true CN112538605A (zh) | 2021-03-23 |
| CN112538605B CN112538605B (zh) | 2024-05-14 |
Family
ID=75015893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202011406444.7A Active CN112538605B (zh) | 2020-12-03 | 2020-12-03 | 一种蒸镀设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN112538605B (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
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- 2020-12-03 CN CN202011406444.7A patent/CN112538605B/zh active Active
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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