CN112420958B - 显示面板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种显示面板及其制备方法。本申请实施例提供一种显示面板,其包括:阵列基板;发光器件层,设置于阵列基板,发光器件层包括呈阵列分布且相互间隔设置的多个发光单元;黑矩阵层,设置于发光器件层背向阵列基板的一侧,黑矩阵层具有相背的第一表面和第二表面、以及贯穿第一表面和第二表面的多个通孔,第二表面朝向发光器件层,发光单元在阵列基板的正投影位于通孔在阵列基板的正投影之内;覆膜层,覆膜层包括覆盖于第一表面的第一部分和覆盖于通孔的孔壁的第二部分,其中,第一部分和第二部分绝缘设置,第一部分的电导率大于黑矩阵层的电导率,第二部分的反射率大于黑矩阵层的反射率;滤光单元,滤光单元设置于通孔。
Description
技术领域
本申请涉及显示领域,具体涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)显示面板具有自发光、超薄、反应速度快、对比度高、视角广等诸多优点,是目前受到广泛关注的一种显示面板。目前OLED显示面板为了消除阴极反射自然光而引起的对比度降低问题,都需要贴偏光片,偏光片透过率通常低于50%,因此从OLED器件发出的光经过偏光片后会有较大损失。
申请内容
本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法,其能增大出光量,提高显示面板的亮度。
本申请实施例提供一种显示面板,其包括:阵列基板;发光器件层,设置于阵列基板,发光器件层包括呈阵列分布且相互间隔设置的多个发光单元;黑矩阵层,设置于发光器件层背向阵列基板的一侧,黑矩阵层具有相背的第一表面和第二表面、以及贯穿第一表面和第二表面的多个通孔,第二表面朝向发光器件层,发光单元在阵列基板的正投影位于通孔在阵列基板的正投影之内;覆膜层,覆膜层包括覆盖于第一表面的第一部分和覆盖于通孔的孔壁的第二部分,其中,第一部分和第二部分绝缘设置,第一部分的电导率大于黑矩阵层的电导率,第二部分的反射率大于黑矩阵层的反射率;滤光单元,滤光单元设置于通孔。
根据本申请实施例的显示面板,发光单元产生的光线经由对应的滤光单元发出,黑矩阵层能够将滤光单元间隔开,避免穿过不同滤光单元的光线串色。同时,滤光单元能够对出射的光线进行过滤处理,提高出射光线的色纯度;另一方面,滤光单元能够对外界光线起到过滤作用,可以减少进入显示面板内的环境光,进而减少显示面板对环境光的反射,提高用户体验;与偏光片相比,能够增大出光量,提高显示面板的亮度。第一部分可以作为触控电极层,实现显示面板的触控功能;第二部分能够反射照射在其上的光线,从而减少被黑矩阵层吸收的大视角的光线,降低发光单元产生的光线的损失。
根据本申请实施例的一个方面,覆膜层的第一部分为触控电极层,第一部分在阵列基板上的正投影位于黑矩阵层在阵列基板上的正投影之内。这样可以避免第一部分阻挡发光单元产生的光线。
根据本申请实施例的一个方面,覆膜层的第一部分包括相互绝缘的第一电极层和第二电极层。
根据本申请实施例的一个方面,第一电极层设置于黑矩阵层的第一表面,第二电极层的至少部分设置于第一电极层的背向第一表面的一侧。第一部分还包括绝缘层,设置于第一电极层和第二电极层之间。
根据本申请实施例的一个方面,第一电极层设置于黑矩阵层的第一表面并与第二部分相互间隔设置。可选地,第一电极层和第二部分的材质相同,两者可以在同一个工序中完成。可选地,第二部分为Ti/Al/Ti复合层或ITO/Ag/ITO复合层,这些复合层具有良好的反光效果,将照射到其上的光线较多地反射出去。
根据本申请实施例的一个方面,沿远离发光器件层的方向,通孔的孔径逐渐增大。这样,发光单元可以发出更大视角的光线,从而提高显示效果。
根据本申请实施例的一个方面,第二部分完全覆盖通孔的孔壁,以尽量减少被黑矩阵层吸收的大视角的光线,降低发光单元产生的光线的损失。可选地,滤光单元完全覆盖第二部分,滤光单元可以将第二部分与第一部分隔开,降低第一部分与第二部分导通的风险。
根据本申请实施例的一个方面,发光单元在阵列基板的正投影不与覆膜层在阵列基板的正投影重叠,这样可以减小减少被所述黑矩阵层和所述覆膜层所阻挡的光线。
本申请实施例提供一种显示面板的制备方法,其包括:提供阵列基板和设置于阵列基板上的发光器件层,发光器件层包括呈阵列分布且相互间隔设置的多个发光单元;在发光器件层背向阵列基板的一侧形成黑矩阵层,黑矩阵层具有相背的第一表面和第二表面、以及贯穿第一表面和第二表面的多个通孔,第二表面朝向发光器件层,发光单元在阵列基板的正投影位于通孔在阵列基板的正投影之内;在黑矩阵层上形成覆膜层,覆膜层包括覆盖于第一表面的第一部分和覆盖于通孔的孔壁的第二部分,其中,第一部分和第二部分绝缘设置,第一部分的电导率大于黑矩阵层的电导率,第二部分的反射率大于黑矩阵层的反射率;在通孔中形成滤光单元。
根据本申请实施例的一个方面,在黑矩阵层上形成覆膜层,覆膜层包括覆盖于第一表面的第一部分和覆盖于通孔的孔壁的第二部分的步骤包括:通过沉积在第一表面、通孔的孔壁以及发光器件层的经由通孔露出的表面上形成一体的材料覆层;去除部分的材料覆层,以形成位于通孔的孔壁上的第二部分、位于第一表面上第一电极层和第一导电层,第一电极层、第一导电层以及第二部分相互间隔设置;在第一电极层上形成绝缘层,在绝缘层的远离第一电极层的一侧形成连接于第一导电层的第二导电层,第一导电层和第二导电层形成第二电极层,第一电极层、绝缘层和第二电极层形成第一部分。
附图说明
通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述,本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显,其中,相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征,附图并未按照实际的比例绘制。
图1示出根据本申请实施例提供的显示面板的一剖视示意图;
图2示出图1的显示面板在圆框A部分的放大图;
图3示出根据本申请实施例提供的显示面板的一俯视示意图;
图4至图10示出根据本申请实施例提供的显示面板在制备过程中的示意图。
标记说明:
1、阵列基板;
2、发光器件层;21、发光单元;211、红色发光单元;212、绿色发光单元;213、蓝色发光单元;22、界定层;23、封装层;
3、黑矩阵层;31、第一表面;32、第二表面;33、通孔;
4、覆膜层;41、第一部分;411、第一电极层;412、第二电极层;413、绝缘层;42、第二部分;
5、滤光单元;51、红色滤光单元;52、绿色滤光单元;53、蓝色滤光单元;
6、材料覆层;
7、第一导电层;
8、第二导电层。
具体实施方式
下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例,为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体实施例,对本申请进行进一步详细描述。应理解,此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本申请,并不被配置为限定本申请。对于本领域技术人员来说,本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
应当理解,在描述部件的结构时,当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时,可以指直接位于另一层、另一个区域上面,或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且,如果将部件翻转,该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。
参照图1至图3,本申请实施例提供一种显示面板,其包括阵列基板1、发光器件层2、黑矩阵层3、覆膜层4和滤光单元5。
阵列基板1可以为TFT基板,其具体结构没有特殊要求,本领域技术人员可以根据实际生产要求灵活设计阵列基板的具体结构。在一些实施例中,阵列基板包括:衬底;设置在衬底表面上的缓冲层;设置在缓冲层远离衬底表面上的有源层;设置在缓冲层远离衬底表面上的栅绝缘层,且栅绝缘层覆盖有源层;设置在栅绝缘层远离衬底表面上的栅极;设置在栅绝缘层远离衬底表面上且覆盖栅极的层间介质层;设置在层间介质层远离衬底表面上的源极和漏极,且源极和漏极分别通过过孔与有源层电连接;设置在层间介质层远离衬底表面上且覆盖源极和漏极的平坦层。
发光器件层2设置于阵列基板1,且发光器件层2包括呈阵列分布且相互间隔设置的多个发光单元21。在一些实施例中,发光器件层2为OLED发光器件。多个发光单元21包括红色发光单元211、绿色发光单元212和蓝色发光单元213。
在一些实施例中,发光器件层2包括图案化的界定层22,界定层22包括多个呈阵列分布的开口,各发光单元21分别位于对应的开口内。在一些示例中,各发光单元21包括设置在开口并依次层叠的阳极、HTL(空穴传输层)、发光层、ETL(电子传输层)和阴极。
发光器件层2还包括封装层23,封装层23设置发光单元21的远离阵列基板1的一侧并覆盖发光单元21和界定层22。封装层23主要是将发光单元21与外界环境隔离,以防水分、有害气体、尘埃及射线的侵入并防止外力损伤,稳定器件的各项参数,进而提高显示面板的使用寿命。
黑矩阵层3设置于发光器件层2背向阵列基板1的一侧,黑矩阵层3具有相背的第一表面31和第二表面32、以及贯穿第一表面31和第二表面32的多个通孔33,第二表面32朝向发光器件层2。在一些示例中,黑矩阵层3形成在封装层23的表面,第二表面32与封装层23贴合。
至少部分通孔33与发光单元21对应设置,发光单元21发射的光线能够经由对应的通孔33射出。在一些实施例中,通孔33的数量与发光单元21的数量相同且一一对应设置。发光单元21在阵列基板1的正投影位于通孔33在阵列基板1的正投影之内。在此补充的是,“通孔33在阵列基板1的正投影”指的是通孔33的孔壁在阵列基板1的投影所围成的区域。各通孔的尺寸大于或等于发光单元21的尺寸,各发光单元21在阵列基板1的正投影位于对应的通孔33在阵列基板1的正投影之内。此时,本申请实施例可以减少被黑矩阵层3所阻挡的光线。
滤光单元5设置于通孔33。在一些实施例中,滤光单元5为多个,各滤光单元5设置于对应地一个通孔33并连接到发光器件层2的经由通孔33露出的表面。多个滤光单元5包括红色滤光单元51、绿色滤光单元52和蓝色滤光单元53,一些实施例中,红色滤光单元51对应红色发光单元211设置、绿色滤光单元52对应绿色发光单元212设置和蓝色滤光单元53对应蓝色发光单元213设置。
在本申请实施例的显示面板中,发光单元21产生的光线经由对应的滤光单元5发出,黑矩阵层3能够将滤光单元5间隔开,避免穿过不同滤光单元5的光线串色。同时,滤光单元5能够对出射的光线进行过滤处理,提高出射光线的色纯度;另一方面,滤光单元5能够对外界光线起到过滤作用,可以减少进入显示面板内的环境光,进而减少显示面板对环境光的反射,提高用户体验;与偏光片相比,能够增大出光量,提高显示面板的亮度。
覆膜层4设置于黑矩阵层3并至少覆盖黑矩阵层3的一部分。
在一些实施例中,覆膜层4包括覆盖于第一表面31的第一部分41,第一部分41的电导率大于黑矩阵层3的电导率,第一部分41具有较好的导电率,可以作为触控电极层,实现显示面板的触控功能;当然,第一部分41也可以作为其它需要具有导电能力的结构。
在另一些实施例中,覆膜层4包括覆盖于通孔33的孔壁的第二部分42,第二部分42的反射率大于黑矩阵层3的反射率。黑矩阵层3会挡住和吸收大视角光线(例如,大视角的光线照射到通孔33的孔壁,很容易被黑矩阵层3吸收),导致光衰减很快,损失一部分的发光单元21产生的光线。本申请实施例的第二部分42的反射率大于黑矩阵层3的反射率,所以覆盖于通孔33的孔壁的第二部分42能够反射照射在其上的光线,从而减少被黑矩阵层3吸收的大视角的光线,降低发光单元21产生的光线的损失,增加显示面板的出光量,提高显示面板的亮度。
在又一些实施例中,覆膜层4同时包括覆盖于第一表面31的第一部分41和覆盖于通孔33的孔壁的第二部分42,第一部分41和第二部分42绝缘设置,第一部分41的电导率大于黑矩阵层3的电导率,第二部分42的反射率大于黑矩阵层3的反射率。第一部分41可以作为触控电极层,实现显示面板的触控功能;第二部分42能够反射照射在其上的光线,从而减少被黑矩阵层3吸收的大视角的光线,降低发光单元21产生的光线的损失。
在本申请实施例的显示面板中,覆膜层4的第一部分41可为触控电极层。触控电极层用于实现显示面板的触控功能,使得显示面板的功能更加丰富,应用范围更加广泛。触控电极层通过触控信号线连接于控制芯片,触控信号线用于将控制芯片发出的触控驱动信号发送至触控电极层,并通过触控信号线将触控电极层产生的触控感应信号传输回控制芯片。
在一些实施例中,第一部分41在阵列基板1上的正投影位于黑矩阵层3在阵列基板1上的正投影之内。第一部分41整体位于黑矩阵层3的第一表面上,可以避免第一部分41阻挡发光单元21产生的光线。
第一部分41包括相互绝缘的第一电极层411和第二电极层412。在一些实施例中,第一电极层411与“地”构成电容,第二电极层412与“地”构成电容;在另一些实施例中,第一电极层411和第二电极层412交叉设置,两者相交叉的地方会形成电容。当触摸显示面板时,触摸的位置的电容会发生改变,根据触摸前后电容的变化,计算出触摸点的坐标。
在一些实施例中,第一电极层411设置于黑矩阵层3的第一表面31,第二电极层412至少部分设置于第一电极层411的背向第一表面31的一侧。可选地,参照图3,第一电极层411包括多个沿纵向延伸的第一子电极层,且多个第一子电极层沿横向间隔设置;第二电极层412包括多个沿横向延伸的第二子电极层,且多个第二子电极层沿纵向间隔设置。多个第一子电极层和多个第二子电极层交叉重叠,在交叉的地方会形成电容。当触摸显示面板时,触摸的位置的电容会发生改变,根据触摸前后电容的变化,计算出触摸点的坐标。
第一部分41还包括绝缘层413,设置于第一电极层411和第二电极层412之间。绝缘层413将第一电极层411和第二电极层412绝缘隔开。可选地,绝缘层413形成在第一子电极层和第二子电极层交叉重叠的位置。
覆膜层4的第一部分41包括相互绝缘的第一电极层411和第二电极层412,第一电极层411设置于黑矩阵层3的第一表面31。第二部分42和第一电极层411同层设置,如果第二部分42与第一电极层411相连,那么第二部分42会将第一电极层411的多个第一子电极层导通,当触摸显示面板时,会错误地计算出触摸点的坐标。因此,第一电极层411与第二部分42相互间隔设置。
在一些实施例中,第一电极层411和第二电极层412可同时形成于黑矩阵层3的第一表面31,此时,第一电极层411、第二电极层412以及第二部分42三者彼此绝缘隔开。在第一子电极层和第二子电极层交叉的位置,第二子电极层的另一部分从第一子电极层上跨过,绝缘层413将第一子电极层和第二子电极层隔开。
在一些实施例中,第一电极层411和第二部分42的材质相同。第一电极层411和第二部分42都是形成于黑矩阵层3上,采用相同的材质,第一电极层411和第二部分42可以在同一个工序中完成。
在一些实施例中,第一电极层411、第二电极层412和第二部分42均为金属材质。可选地,第二部分42为Ti/Al/Ti复合层或ITO/Ag/ITO复合层,这些复合层具有良好的反光效果,将照射到其上的光线较多地反射出去。
在一些实施例中,参照图2,沿远离发光器件层2的方向,通孔33的孔径逐渐增大。这样,发光单元21可以发出更大视角的光线,从而提高显示效果。
在一些实施例中,参照图2,第二部分42完全覆盖通孔33的孔壁。这样可以尽量减少被黑矩阵层3吸收的大视角的光线,降低发光单元21产生的光线的损失。
在一些实施例中,滤光单元5完全覆盖第二部分42,这样,滤光单元5可以将第二部分42与第一部分41隔开,降低第一部分41与第二部分42导通的风险。
在一些实施例中,参照图1,发光单元21在阵列基板1的正投影不与覆膜层4在阵列基板1的正投影重叠。此时,在垂直于阵列基板1的方向上,覆膜层4不会阻挡发光单元21发射的光线,从而减少光损失。
图4至图10示出根据本申请实施例提供的显示面板在制备过程中的示意图。其中,图8为图7所示的部件的俯视图。
参照图4至图10,本申请实施例还提供一种显示面板的制备方法。所述制备方法包括:
S110:参照图4,提供阵列基板1和设置于阵列基板1上的发光器件层2,发光器件层2包括呈阵列分布且相互间隔设置的多个发光单元21。
S120:参照图5,在发光器件层2背向阵列基板1的一侧形成黑矩阵层3,黑矩阵层3具有相背的第一表面31和第二表面32、以及贯穿第一表面31和第二表面32的多个通孔33,第二表面32朝向发光器件层2,发光单元21在阵列基板1的正投影位于通孔33在阵列基板1的正投影之内;
S130:参照图6-9,在黑矩阵层3上形成覆膜层4,覆膜层4包括覆盖于第一表面31的第一部分41和覆盖于通孔33的孔壁的第二部分42,其中,第一部分41和第二部分42绝缘设置,第一部分41的电导率大于黑矩阵层3的电导率,第二部分42的反射率大于黑矩阵层3的反射率;
S140:参照图10,在通孔33中形成滤光单元5。
根据本申请实施例的制备方法所制备的显示面板中,发光单元21产生的光线经由对应的滤光单元5发出,黑矩阵层3能够将滤光单元5间隔开,避免穿过不同滤光单元5的光线串色。同时,滤光单元5能够对出射的光线进行过滤处理,提高出射光线的色纯度;另一方面,滤光单元5能够对外界光线起到过滤作用,可以减少进入显示面板内的环境光,进而减少显示面板对环境光的反射,提高用户体验。覆膜层4的第一部分41可以作为触控电极层,实现显示面板的触控功能;第二部分42能够反射照射在其上的光线,从而减少被黑矩阵层3吸收的大视角的光线,降低发光单元21产生的光线的损失。
参照图4,多个发光单元21包括红色发光单元211、绿色发光单元212和蓝色发光单元213。参照图10,多个滤光单元5包括红色滤光单元51、绿色滤光单元52和蓝色滤光单元53。红色滤光单元51与红色发光单元211对应设置,绿色滤光单元52和绿色发光单元212对应设置,蓝色滤光单元53和蓝色发光单元213对应设置。
参照图5,在步骤S120中,黑矩阵层3采用预设掩膜板,通过构图工艺形成。其中,构图工艺包括:涂覆、曝光、显影、刻蚀和剥离等工艺。
在一些实施例中,步骤S130包括:
S131:参照图6,通过沉积在第一表面31、通孔33的孔壁以及发光器件层2的经由通孔33露出的表面上形成一体的材料覆层6;
S132:参照图7和图8,去除部分的材料覆层,以形成位于通孔33的孔壁上的第二部分42、位于第一表面31上第一电极层411和第一导电层7,第一电极层411、第一导电层7以及第二部分42相互间隔设置;
S133:参照图9,在第一电极层411上形成绝缘层413,在绝缘层413的远离第一电极层411的一侧形成连接于第一导电层7的第二导电层8,第一导电层7和第二导电层8形成第二电极层412,第一电极层411、绝缘层413和第二电极层412形成第一部分41。
在步骤S131中,材料覆层6可为金属覆层。可选地,材料覆层6为Ti/Al/Ti复合层或ITO/Ag/ITO复合层。在步骤S132中,部分的材料覆层6可通过曝光、显影、刻蚀和剥离等工艺去除。在步骤S133中,形成的第一部分41可作为触控电极层。
在本申请实施例的制备方法中,具有反光特性的第二部分42和能够用于实现触控功能的第一电极层411通过同一工序形成,可以简化显示面板的制备工艺,降低成本。
依照本申请如上文所述的实施例,这些实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该申请仅为所述的具体实施例。显然,根据以上描述,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本申请的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本申请以及在本申请基础上的修改使用。本申请仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
Claims (7)
1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
提供阵列基板和设置于所述阵列基板上的发光器件层,所述发光器件层包括呈阵列分布且相互间隔设置的多个发光单元;
在所述发光器件层背向所述阵列基板的一侧形成黑矩阵层,所述黑矩阵层具有相背的第一表面和第二表面、以及贯穿所述第一表面和第二表面的多个通孔,所述第二表面朝向所述发光器件层,所述发光单元在所述阵列基板的正投影位于所述通孔在所述阵列基板的正投影之内;
在所述第一表面、所述通孔的孔壁以及所述发光器件层的经由所述通孔露出的表面上沉积形成一体的材料覆层;
去除部分的所述材料覆层,以形成位于所述通孔的孔壁上的第二部分、位于所述第一表面上第一电极层和第一导电层,所述第一电极层、所述第一导电层以及所述第二部分相互间隔设置;
在所述第一电极层上形成绝缘层,在所述绝缘层的远离所述第一电极层的一侧形成连接于所述第一导电层的第二导电层,所述第一导电层和所述第二导电层形成第二电极层,所述第一电极层、所述绝缘层和所述第二电极层形成第一部分;
覆膜层包括所述第一部分和所述第二部分,所述第一部分和所述第二部分绝缘设置,所述第一部分的电导率大于所述黑矩阵层的电导率,所述第二部分的反射率大于所述黑矩阵层的反射率;
在所述通孔中形成滤光单元。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述覆膜层的所述第一部分为触控电极层,所述第一部分在所述阵列基板上的正投影位于所述黑矩阵层在所述阵列基板上的正投影之内。
3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,
所述第二部分为Ti/Al/Ti复合层或ITO/Ag/ITO复合层。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的显示面板的制备方法,其特征在于,沿远离所述发光器件层的方向,所述通孔的孔径逐渐增大。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述第二部分完全覆盖所述通孔的孔壁。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述滤光单元完全覆盖所述第二部分。
7.根据权利要求1-3中任一项所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述发光单元在所述阵列基板的正投影不与所述覆膜层在所述阵列基板的正投影重叠。
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