CN112420945B - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

一种显示面板，包括一像素定义层及设置于像素定义层上的至少一支撑柱，显示面板还包括：至少一辅助封装件，每一辅助封装件设置于一支撑柱上并延伸至像素定义层表面及像素定义层内部中的至少一种，辅助封装件包覆支撑柱的外表面并覆盖像素定义层的部分。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展，柔性显示器件(AMOLED)因其重量轻、广视角、可弯曲、高对比度等优点受到了越来越多的关注。而有机发光(OLED)材料对水氧敏感，少量的水氧入侵即可造成有机发光(OLED)器件的快速衰减，影响有机发光器件的寿命。为了保证显示器件的使用寿命，封装技术尤为重要。
现有的有机发光器件的薄膜封装设计，一般采用有机/无机膜层堆叠结构，其中无机膜的主要作用是隔绝水氧，有机膜主要起包裹颗粒、缓解应力的作用。
请参见图1a和图1b，图1a为常规显示面板的结构示意图，图1b为图1a中常规显示面板的俯视图。如图1a所示的，常规显示面板包括一柔性基底
(Substrate)100、设置于所述柔性基板100上的一薄膜晶体管(TFT)层200、设置于所述薄膜晶体管层200上的一像素定义层(PDL)300、设置于所述像素定义层300上的一支撑柱(PS)400、复数个有机发光器件(EL)500及一封装层600，所述封装层600包括层叠设置的一第一层封装层601、一第二层封装层602以及一第三层封装层603。以及如图1b所示的，在所述显示面板上，所述显示面板的显示区10内具有多个子像素区(pixel)11，所述子像素区11包括多个红色子像素区111、多个绿色子像素区112以及多个蓝色子像素区113，其中，所述支撑柱400位于任意相邻的所述子像素区11之间的区域。其中，所述有机发光器件500的有机材料在蒸镀时会使用掩膜版(mask)，所述支撑柱400起支撑所述掩膜版、防止所述子像素区11发生刮伤的作用。
OLED发光材料常因所述掩膜版刮伤导致封装失效，所述掩膜版在对位时与所述支撑柱400接触，尽管所述支撑柱400可以防止所述掩膜版刮伤所述子像素区11，但所述掩膜版表面的异物、划痕等势必会对所述支撑柱400造成形貌各异的刮伤；而现有的封装无机膜没有较好的台阶覆盖性，不能很好地在所述支撑柱400上成膜，这就会形成水氧入侵通道，导致封装失效。事实上，如果能保证所述支撑柱400的表面的平整性，使得封装层600的一第一层封装层601即无机层能很好地镀覆所述支撑柱400，那么即可保证所述封装层600的封装效果，在一定程度上提升了封装层600的封装性能。
因此为了避免因所述掩膜版刮伤导致的封装失效，需要提供一种新的显示面板及其制备方法、显示装置。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板，在每一支撑柱上设置一辅助封装件，且辅助封装件延伸至像素定义层的表面或的内部以包覆支撑柱的外表面并覆盖像素定义层的部分。利用辅助封装件的有机覆盖平坦化作用，来平整支撑柱表面的刮伤，使得封装层的无机层能更好地覆盖在支撑柱上，避免了因掩膜版刮伤而导致的封装失效，提升了封装层的封装性能。
本申请提供一种显示面板，所述显示面板包括一像素定义层及设置于所述像素定义层上的至少一支撑柱，所述显示面板还包括：至少一辅助封装件，每一所述辅助封装件设置于一所述支撑柱上并延伸至所述像素定义层表面及所述像素定义层内部中的至少一种，所述辅助封装件包覆所述支撑柱的外表面并覆盖所述像素定义层的部分。
在一些实施例中，所述辅助封装件的材料为亚克力系、环氧类、硅氧烷类聚合物中的至少一种。
在一些实施例中，所述像素定义层在接触所述支撑柱的一侧上设置有至少一开槽，且所述开槽环绕所述支撑柱与所述像素定义层的接触面的外围区域设置，所述辅助封装件从所述支撑柱的一侧延伸至所述开槽内部。
在一些实施例中，所述像素定义层与所述支撑柱相接触一侧的端面边缘至所述像素定义层与所述支撑柱的接触面边缘的最小距离大于所述开槽的最大宽度。
在一些实施例中，在从所述像素定义层至所述支撑柱的延伸方向上，所述开槽的最大深度小于所述像素定义层相对于所述支撑柱方向上的厚度。
在一些实施例中，所述支撑柱在所述像素定义层上的正投影、所述支撑柱与所述像素定义层的接触面在所述像素定义层上的正投影完全落入所述像素定义与所述支撑柱相接触一侧的端面区域在所述像素定义层上的正投影区域内。
在一些实施例中，所述显示面板还包括一衬底、设置于所述衬底上的一阵列驱动层，所述像素定义层设置于所述阵列驱动层上。
在一些实施例中，所述显示面板还包括设置于所述像素定义层上的复数个有机发光器件以及一封装层，其中，所述封装层包括一第一无机层，所述第一无机层设置于所述辅助封装件上并覆盖所述辅助封装件、所述像素定义层以及所述复数个有机发光器件。
本申请还提出一种显示面板的制备方法，所述制备方法包括：
提供一阵列驱动层并在所述阵列驱动层上依次形成一像素定义层及至少一支撑柱；
蒸镀形成复数个有机发光器件；
在每一支撑柱上形成一辅助封装件，所述辅助封装层延伸至像素定义层的表面或内部以包覆所述支撑柱的外表面并覆盖所述像素定义层的部分。
本申请还提出一种显示装置，所述显示装置包括如上所述的显示面板。
本申请所述的显示面板及其制备方法、显示装置，通过在每一支撑柱上设置一辅助封装件，且所述辅助封装件延伸至像素定义层的表面或的内部以包覆所述支撑柱的外表面并覆盖所述像素定义层的部分。所述辅助封装件相当于一层有机覆盖层，所述辅助封装件具有良好的平坦化作用，所述辅助封装件用于平坦掩膜版的刮伤，将所述支撑柱的表面平整化，使得所述封装层的所述无机层能够更好地覆盖在所述支撑柱上，避免了因掩膜版刮伤而导致的失效问题，提升了所述封装层的封装效果。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1a为常规显示面板的结构示意图。
图1b为图1a中常规显示面板的俯视图。
图2a为本申请一种优选实施例中显示面板的结构示意图。
图2b为本申请另一种优选实施例中显示面板的结构示意图。
图2c为本申请图2b中所述显示面板的俯视图。
图3a至图3d为本申请一种显示面板的制备过程中的结构示意图。
图4a为图2b中所述显示面板的局部放大示意图。
图4b为图4a的俯视图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
请参见图2a及图2b。图2a为本申请一种优选实施例中显示面板的结构示意图。图2b为本申请另一种优选实施例中显示面板的结构示意图。在一种优选实施例中，提供一种显示面板，所述显示面板包括一像素定义层3及设置于所述像素定义层3上的至少一支撑柱4，所述显示面板还包括至少一辅助封装件6，每一所述辅助封装件6设置于一所述支撑柱4上并延伸至所述像素定义层3的表面或所述像素定义层3的内部中的至少一种，且所述辅助封装层6用于包覆所述支撑柱4的外表面并覆盖所述像素定义层3的部分。
作为优选实施方式，所述辅助封装件6的材料为亚克力系、环氧类、硅氧烷类聚合物中的至少一种。
以及如图2a及图2b所示的，所述显示面板还包括一衬底1、设置于所述衬底1上的一阵列驱动层2、设置于所述阵列驱动层2上的所述像素定义层3，设置于所述像素定义层3上的复数个有机发光器件5以及一封装层7，所述封装层7包括至少一第一无机层71，所述第一无机层71设置于所述辅助封装件6上并覆盖所述辅助封装件6、所述像素定义层3以及所述复数个有机发光器件5。
请参见图2c。图2c为本申请图2b中所述显示面板的俯视图。所述显示面板具有一显示区101，在所述显示区101内具有复数个子像素区(pixel)10，所述子像素区10包括多个红色子像素区11、多个绿色子像素区12以及多个蓝色子像素区13。其中，所述显示面板还包括设置于所述像素定义层3上的复数个有机发光器件5，每一所述有机发光器件5包括所述红色子像素区11、所述绿色子像素区12及所述蓝色子像素区13中的任一种。以及，所述支撑柱4设置于任意相邻的所述子像素区10之间的区域。
如图2a及图2b所示的，所述支撑柱4在所述像素定义层3的正投影完全落入所述像素定义层3与所述支撑柱4相接触一侧的端面区域在所述像素定义层3上的正投影区域内。以及，所述支撑柱4与所述像素定义层3的接触面在所述像素定义层3上的正投影完全落入所述像素定义层3与所述支撑柱4相接触一侧的端面区域在所述像素定义层3上的正投影区域内。
请续见图2b，并请参见图4a及图4b。图4a为图2b中所述显示面板的局部放大示意图。图4b为图4a的俯视图。在一种优选实施例中，所述像素定义层3在接触所述支撑柱4的一侧上设置有至少一开槽301，且所述开槽301环绕所述支撑柱4与所述像素定义层3的接触面的外围区域设置，所述辅助封装件6从所述支撑柱4的一侧延伸至所述像素定义层3的所述开槽301内部并覆盖所述开槽301。在本实施例中，所述开槽301还可以为用于收集所述支撑柱4刮伤异物的容器。
其中，所述开槽310的开设条件需要满足:所述像素定义层3与所述支撑柱4相接触一侧的端面边缘至所述像素定义层3与所述支撑柱4的接触面边缘的最小距离大于所述开槽301的最大宽度，以防影响所述子像素110的成膜区域；以及，在从所述像素定义层3至所述支撑柱4的延伸方向上，所述开槽301的最大深度小于所述像素定义层3相对于所述支撑柱4方向上的厚度，以防影响所述阵列驱动层2的阵列驱动电路。
请参见图3a至图3d，图3a至图3d为本申请一种显示面板的制备过程中的结构示意图。本申请还提供一种如上所述的显示面板的制备方法，以下详细描述一种显示面板的制备方法。所述制备方法包括如下步骤：
步骤S01：提供一阵列驱动层2并在所述阵列驱动层2上依次形成一像素定义层3及至少一支撑柱4；
具体地，如图3a所示的，在一衬底1上形成所述阵列驱动层2，在所述阵列驱动层2背离所述衬底1的一侧形成所述像素定义层3，在所述像素定义层3背离所述衬底1一侧形成至少一支撑柱4。其中，所述像素定义层3包括多个间隔排列的挡墙30和凹槽31，每一所述支撑柱4形成于一所述挡墙30上。其中，所述衬底1优选为柔性衬底。所述阵列驱动层2为薄膜晶体管层，所述支撑柱4起支撑掩膜版、防止刮伤任一所述子像素10的作用。
步骤S02：蒸镀形成复数个有机发光器件5；
如图3b所示的，在所述像素定义层3背离所述衬底1一侧形成复数个有机发光器件5，每一所述有机发光器件5形成于一所述凹槽31内并覆盖暴露的所述阵列驱动层。在所述子像素10的区域蒸镀相应的有机发光材料，这一过程采用传统的蒸镀工艺即可。
步骤S03：在每一支撑柱4上形成一辅助封装件6，所述辅助封装件6延伸至所述像素定义层3的表面或内部以包覆所述支撑柱4的外表面并覆盖所述像素定义层3的部分；
如图3c所示的，在完成所述复数个有机发光器件5的蒸镀后，在每一所述支撑柱4上镀覆一辅助封装件6，所述辅助封装件6的材料优选为亚克力、环氧类以及硅氧烷聚合物中的至少一种，所述辅助封装件6的平坦性较好，所述辅助封装件6可采用喷墨打印(InkJet Printing，IJP)、旋涂，及化学气相沉积(PECVD)工艺中的任一种制备，因只在所述支撑柱4上形成所述辅助封装件6，故可利用成膜设备的定点涂覆功能，也可使用mask技术实现定点涂覆。
在本步骤S03完成之后，所述制备方法还包括一封装层7的制备，如图3d所示的。其中，所述封装层7形成于所述辅助封装层6背离所述阵列驱动层2的一侧上并覆盖所述辅助封装层6、所述像素定义层3的部分以及所述复数个有机发光器件5。所述封装层7包括至少一层无机层和至少一层有机层的层叠结构，所述封装层7用于提高所述显示面板的封装性能。其中，在本实施例中，所述封装层7包括形成于所述辅助封装层6上的一所述第一无机层71、所述封装层7还包括形成于所述第一无机层71上的一有机层72以及形成于所述有机层72上的一第二无机层73。所述封装层7的所述无机层的材料为氮化硅、氮氧化硅、氧化硅、氧化铝以及氧化钛中的至少一种。可以采用化学气相沉积、原子层沉积或物理气相沉积等方式制备所述封装层3的第一无机层71及所述第二无机层73。所述封装层7的无机层具有良好的水汽、氧气阻隔能力；以及可以采用喷墨打印形成所述有机层72，所述有机层72具有一定的平坦性和抗弯折性能。
此外，本申请还提供一种显示装置,所述显示装置包括如上所述的显示面板。
本申请所述的显示面板及其制备方法、显示装置，通过在每一支撑柱4上设置一辅助封装件6，且所述辅助封装件6延伸至像素定义层3的表面或的内部以包覆所述支撑柱4的外表面并覆盖所述像素定义层3的部分。所述辅助封装件6相当于一层有机覆盖层，所述辅助封装件6具有良好的平坦化作用，所述辅助封装件6用于平坦掩膜版的刮伤，将所述支撑柱4的表面平整化，使得所述封装层7的所述无机层71能够更好地覆盖在所述支撑柱4上，避免了因掩膜版刮伤而导致的失效问题，提升了所述封装层7的封装效果。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制备方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (8)

1.一种显示面板，所述显示面板包括一像素定义层及设置于所述像素定义层上的至少一支撑柱，其特征在于，所述显示面板还包括：
至少一辅助封装件，每一所述辅助封装件设置于一所述支撑柱上并延伸至所述像素定义层表面及所述像素定义层内部中的至少一种，所述辅助封装件包覆所述支撑柱的外表面并覆盖所述像素定义层的部分；
所述辅助封装件的材料为亚克力系、环氧类、硅氧烷类聚合物中的至少一种；
所述像素定义层在接触所述支撑柱的一侧上设置有至少一开槽，且所述开槽环绕所述支撑柱与所述像素定义层的接触面的外围区域设置，所述辅助封装件从所述支撑柱的一侧延伸至所述开槽内部。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层与所述支撑柱相接触一侧的端面边缘至所述像素定义层与所述支撑柱的接触面边缘的最小距离大于所述开槽的最大宽度。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，在从所述像素定义层至所述支撑柱的延伸方向上，所述开槽的最大深度小于所述像素定义层相对于所述支撑柱方向上的厚度。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述支撑柱在所述像素定义层上的正投影、所述支撑柱与所述像素定义层的接触面在所述像素定义层上的正投影完全落入所述像素定义与所述支撑柱相接触一侧的端面区域在所述像素定义层上的正投影区域内。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括一衬底、设置于所述衬底上的一阵列驱动层，所述像素定义层设置于所述阵列驱动层上。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述像素定义层上的复数个有机发光器件以及一封装层，其中，所述封装层包括一第一无机层，所述第一无机层设置于所述辅助封装件上并覆盖所述辅助封装件、所述像素定义层以及所述复数个有机发光器件。
7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
提供一阵列驱动层并在所述阵列驱动层上依次形成一像素定义层及至少一支撑柱；
蒸镀形成复数个有机发光器件；
在每一支撑柱上形成一辅助封装件，所述辅助封装件延伸至像素定义层的表面或内部以包覆所述支撑柱的外表面并覆盖所述像素定义层的部分；所述像素定义层在接触所述支撑柱的一侧上设置有至少一开槽，且所述开槽环绕所述支撑柱与所述像素定义层的接触面的外围区域设置，所述辅助封装件从所述支撑柱的一侧延伸至所述开槽内部。
8.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1-6任一项所述的显示面板。
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