CN112415860B - 一种物件的曝光定位方法 - Google Patents

一种物件的曝光定位方法 Download PDF

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Abstract

本发明揭示了一种物件的曝光定位方法,包括将载有多个曝光物件的物件载台置于测量载台上,物件载台上设置有至少三个标记点,测量载台测量得到每个标记点在测量载台自身的第一坐标系中的第一标记点坐标,及每个曝光物件在第一坐标系中的第一物件坐标;将物件载台移置曝光机载台上,曝光机测量得到每个标记点在曝光机自身的第三坐标系中的第三标记点坐标;根据第一标记点坐标、第一物件坐标和第三标记点坐标,计算得到每个曝光物件在第三坐标系中的第三物件坐标;曝光机根据第三物件坐标对曝光物件进行定位及曝光。本发明提高了曝光机的曝光产能及曝光精度。

Description

一种物件的曝光定位方法
技术领域
本发明涉及一种物件曝光技术,尤其是涉及一种物件的曝光定位方法。
背景技术
现有曝光机工作载台的尺寸约为600×700mm幅面,但是,市场上小于100mm,甚至小于50mm的分立小物体(如玻璃产品:手机盖板、Watch面板等)的曝光定位的需求又相对较多,若将上述小尺寸的分立物体单个进行曝光,则产能比较低。
另外,现有曝光机对分立小物体的曝光定位多采用机械测量方式,精度较低。
因此,针对上述曝光机对分立小物体的曝光定位方式存在的精度低、产能低等问题,有必要进行一些改进。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种物件的曝光定位方法。
为实现上述目的,本发明提出如下技术方案:一种物件的曝光定位方法,包括:
S100,将载有多个曝光物件的物件载台置于测量载台上,所述物件载台上设置有至少三个标记点;
S200,所述测量载台测量得到每个所述标记点在测量载台自身的第一坐标系中的第一标记点坐标,及每个所述曝光物件在所述第一坐标系中的第一物件坐标;
S300,将载有多个曝光物件的物件载台移置曝光机载台上,曝光机测量得到每个所述标记点在曝光机自身的第三坐标系中的第三标记点坐标;
S400,根据所述第一标记点坐标、第一物件坐标和第三标记点坐标,计算得到每个所述曝光物件在所述第三坐标系中的第三物件坐标;
S500,曝光机根据所述第三物件坐标对曝光物件进行定位及曝光。
优选地,S100中,将多个曝光物件按照一物件夹具承载于物件载台上,且在曝光物件承载于物件载台上之后,将物件夹具从物件载台上撤掉。
优选地,所述物件夹具内具有至少一行和/或至少一列物料容纳腔,每行物料容纳腔和每列物料容纳腔均具有至少一个物料容纳腔,每个所述物料容纳腔内容纳一曝光物件。
优选地,所述S200中,所述测量载台经过二次元测量,测量得到所述第一标记点坐标和第一物件坐标。
优选地,所述S400中,根据所述第一标记点坐标和第一物件坐标,得到标记点和曝光物件之间的位置关系,再根据所述第三标记点坐标及所述标记点和曝光物件之间的位置关系,计算得到所述第三物件坐标。
优选地,所述S400中,根据所述第三标记点坐标和第一标记点坐标,得到第三坐标系和第一坐标系之间的坐标转换关系,再根据所述第一物件坐标及所述坐标转换关系,计算得到所述第三物件坐标。
优选地,所述S200和S300之间,还包括:
S600,将物件载台上的其中一标记点作为坐标原点,建立第二坐标系,根据所述第一标记点坐标,得到每个所述标记点相对第二坐标系中的坐标原点的第二标记点坐标;根据所述第一物件坐标,得到每个曝光物件相对第二坐标系中的坐标原点的第二物件坐标。
优选地,所述S400中,根据所述第二标记点坐标和第二物件坐标,得到标记点和曝光物件之间的位置关系,再根据所述第三标记点坐标及所述标记点和曝光物件之间的位置关系,计算得到所述第三物件坐标。
优选地,所述S400中,根据所述第三标记点坐标和第二标记点坐标,得到第三坐标系和第二坐标系之间的坐标转换关系,再根据所述第二物件坐标及所述坐标转换关系,计算得到所述第三物件坐标。
本发明的有益效果是:
1、本发明一次可对多个分立的小物体进行同时曝光,提高曝光机的曝光产能。
2、本发明采用二次元视觉测量方式对分立小物体的曝光定位位置进行测量,相较于传统的机械测量方式,提高了测量精度。
附图说明
图1是本发明曝光定位方法的流程示意图;
图2是本发明实施例1的曝光定位方法的流程示意图;
图3是本发明实施例2的曝光定位方法的流程示意图;
图4是本发明另一实施例的曝光定位方法的流程示意图;
图5是本发明曝光物件置于物件载台(带有物料夹具)上的结构示意图;
图6是本发明曝光物件置于物件载台(不带有物料夹具)上的结构示意图;
图7是本发明物件载台置于测量载台上的结构示意图;
图8是本发明物件载台置于曝光机载台上的结构示意图。
附图标记:
1、曝光物件,2、物件夹具,21、物料容纳腔,3、物件载台,M1~M4、标记点,4、测量载台,5、曝光机载台。
具体实施方式
下面将结合本发明的附图,对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整的描述。
本发明所揭示的一种物件的曝光定位方法,采用二次元视觉测量对曝光机上物体的曝光定位位置进行测量,且一次性测量多个分立物体,提高了曝光机的曝光产能及曝光精度。
如图1所示,本发明所揭示的一种物件的曝光定位方法,包括以下步骤:
S100,将载有多个曝光物件1的物件载台3置于测量载台4上,物件载台3上设置有至少三个标记点。
具体地,结合图5和图6所示,多个曝光物件1按照一物件夹具2承载于物件载台3上。物件夹具2内具体具有至少一行和/或至少一列物料容纳腔21,每行物料容纳腔和每列物料容纳腔均具有至少一个物料容纳腔21,每个物料容纳腔21内容纳一曝光物件1。本实施例中,物件夹具2内具有两行三列物料容纳腔21,即每个物件夹具2内承载6个曝光物件1,每个物料容纳腔21与曝光物体1的形状、尺寸相对应,本实施例中,物料容纳腔21为矩形。实施时,先将物件夹具2置于物件载台3上,然后再将曝光物体1按照物件夹具2内物料容纳腔21的排布方式依次粘附到物件载台3上。在曝光物体1粘附到物件载台3上之后,将物件夹具2从物件载台3上撤掉,如图6所示。
物件载台3上设置有用于建立第二坐标系的至少三个标记点。本实施例中,物件载台3上设置有四个标记点,分别记为标记点M1、标记点M2、标记点M3、标记点M4,四个标记点分别靠近物件载台3的四个边角设置,且四个标记点相连形成矩形。
本实施例中,物件载台3为玻璃载台,物件夹具2置于物件载台3的中间位置,且位于四个标记点所形成的空间内。在其他实施例中,物件载台3的材质、标记点在物件载台3上的位置及物件夹具2与标记点的相对位置可不限该实施例中所限定的,只要标记点在物件载台3上能建立起直角坐标系即可。
之后,将载有多个曝光物件1的物件载台3置于测量载台4上,如图7所示。
S200,测量载台4测量得到每个标记点在第一坐标系中的第一标记点坐标,及每个曝光物件1在第一坐标系中的第一物件坐标。
具体地,本实施例中,测量载台4为二次元载台,经过二次元测量方式可以测到每个曝光物件1在测量载台4自身的第一坐标系中的第一物件坐标,以及每个标记点在测量载台4自身的第一坐标系中的第一标记点坐标。本实施例中,第一物件坐标表示为(R1[i],T1[i]),其中,R1为曝光物件1在第一坐标系中的旋转角度,T1为曝光物件1相对第一坐标系中的坐标原点的位移,i=1,2,3,……n,n为大于等于1的自然数,也就是说,6个曝光物件的坐标分别为(R1[1],T1[1])、(R1[2],T1[2])、(R1[3],T1[3])、(R1[4],T1[4])、(R1[5],T1[5])、(R1[6],T1[6])。第一标记点坐标分别表示为M1、M2、M3和M4。
S300,将载有多个曝光物件的物件载台3移置曝光机载台5上,曝光机测量得到每个标记点在曝光机自身的第三坐标系中的第三标记点坐标。
具体地,结合图8所示,粘附于物件载台3上的多个曝光物件1在测量载台4上测量完成后,将物件载台3从测量载台4上移送到曝光机(图未示)的曝光机载台5上。
曝光机自身的测量系统对物件载台3上的标记点进行测量,得到每个标记点在曝光机自身的第三坐标系中的第三标记点坐标,四个标记点在第三坐标系中的坐标分别表示为坐标P1′、P2′、P3′、P4′。
S400,根据上述得到的第一标记点坐标、第一物件坐标和第三标记点坐标,计算得到每个曝光物件1在第三坐标系中的第三物件坐标。
具体地,在其中一实施例1中,首先根据第一标记点坐标和第一物件坐标,得到标记点和曝光物件1之间的位置关系,再根据第三标记点坐标及得到的标记点和曝光物件1之间的位置关系,计算得到第三物件坐标。具体地,在经步骤S200测量得到第一标记点坐标和第一物件坐标后,根据这两个坐标就可以计算得到物件载台3上曝光物件1与标记点之间的位置关系,具体可以只需计算每个曝光物件1与其中一个标记点(如标记点M1)之间的位置关系。本实施例中,每个曝光物件1相对标记点M1的位置关系表示为(R2[i],T2[i]),其中,R2[i]=R1[i],T2[i]=T1[i]-M1。
在曝光机测得每个标记点在第三坐标系中的第三标记点坐标后,因不管是在第一坐标系中,还是在第三坐标系中,物件载台3上的曝光物件1与标记点之间的位置关系是一定的,所以在已知标记点在第三坐标系中的坐标及曝光物件1与标记点之间的位置关系的情况下,根据第三标记点坐标及标记点和曝光物件1之间的位置关系,可以计算得到每个曝光物件1在第三坐标系中的第三物件坐标。
在另一可替换的实施例2中,可以首先根据第三标记点坐标(P1′、P2′、P3′、P4′)和第一标记点坐标(M1、M2、M3、M4),得到第三坐标系和第二坐标系之间的坐标转换关系,再根据第一物件坐标及该坐标转换关系,计算得到第三物件坐标。具体原理为:如设Oxy和O′x′y′是两个坐标系,O′在旧的坐标系Oxy中的坐标为(x0,y0),由x轴到x′轴的角度为t,两个坐标系之间的坐标转换关系表示为:x=x′cost-y′sint+x0,y=x′sint-y′cost+y0,则在已知O′在旧的坐标系Oxy中的坐标,根据Oxy和O′x′y′两个坐标系之间的坐标转换关系,可以计算得到O′在新的坐标系中的坐标。
本发明采用二次元视觉测量方式对分立小物体的曝光定位位置进行测量,相较于传统的机械测量方式,提高了测量精度。
S500,曝光机根据第三物件坐标对曝光物件1进行定位及曝光。
最后,曝光机根据步骤S400中得到的每个曝光物件1在曝光机载台5上具体的曝光定位位置后,对物件载具2内的6个曝光物件1进行同时曝光,相比于对单个曝光物件1进行曝光,提高了曝光产能。
进一步地,为了减少计算难度,在上述步骤S200和S300之间,还可包括:
S600,将物件载台3上的其中一标记点作为坐标原点,建立第二坐标系,根据第一标记点坐标,得到每个标记点相对第二坐标系中的坐标原点的第二标记点坐标;根据第一物件坐标,得到每个曝光物件1相对第二坐标系中的坐标原点的第二物件坐标。
具体地,本实施例中,以标记点M1为坐标原点,标记点M1和标记点M2所在的方向为X轴方向,标记点M1和标记点M4所在的方向为Y轴方向。这样,曝光物件1相对于标记点M1的位置关系(即第二物件坐标)为(R2[i],T2[i]),其中,R2[i]=R1[i],T2[i]=T1[i]-M1。如标记点M1的坐标为(0,0),则6个曝光物件的坐标分别为(R1[1],T1[1]-M1)、(R1[2],T1[2]-M1)、(R1[3],T1[3]-M1)、(R1[4],T1[4]-M1)、(R1[5],T1[5]-M1)、(R1[6],T1[6]-M1)。
每个标记点在第二坐标系中的第二标记点坐标,通过计算每个标记点相对作为坐标原点的标记点M1的坐标得到。具体地,如标记点M1的坐标P1=M1-M1=(0,0),标记点M2的坐标P2=M2-M1,标记点M3的坐标P3=M3-M1,标记点M4的坐标P4=M4-M1。
则在上述S400中的实施例1中,可以根据第二标记点坐标和第二物件坐标,得到标记点和曝光物件1之间的位置关系,再根据第三标记点坐标及所述标记点和曝光物件1之间的位置关系,计算得到第三物件坐标。具体计算原理可参照上述S400中的实施例1的描述。
则在上述S400中的实施例2中,可以根据第三标记点坐标和第二标记点坐标,得到第三坐标系和第二坐标系之间的坐标转换关系,再根据第二物件坐标及坐标转换关系,计算得到第三物件坐标。具体计算原理可参照上述S400中的实施例1的描述。
本发明的技术内容及技术特征已揭示如上,然而熟悉本领域的技术人员仍可能基于本发明的教示及揭示而作种种不背离本发明精神的替换及修饰,因此,本发明保护范围应不限于实施例所揭示的内容,而应包括各种不背离本发明的替换及修饰,并为本专利申请权利要求所涵盖。

Claims (10)

1.一种物件的曝光定位方法,其特征在于,所述方法包括:
S100,将载有多个曝光物件的物件载台置于测量载台上,所述物件载台上设置有至少三个标记点;
S200,所述测量载台测量得到每个所述标记点在测量载台自身的第一坐标系中的第一标记点坐标,及每个所述曝光物件在所述第一坐标系中的第一物件坐标;
S300,将载有多个曝光物件的物件载台移置曝光机载台上,曝光机测量得到每个所述标记点在曝光机自身的第三坐标系中的第三标记点坐标;
S400,根据所述第一标记点坐标、第一物件坐标和第三标记点坐标,计算得到每个所述曝光物件在所述第三坐标系中的第三物件坐标;
S500,曝光机根据所述第三物件坐标对曝光物件进行定位及曝光。
2.根据权利要求1所述的一种物件的曝光定位方法,其特征在于,所述S400中,根据所述第一标记点坐标和第一物件坐标,得到标记点和曝光物件之间的位置关系,再根据所述第三标记点坐标及所述标记点和曝光物件之间的位置关系,计算得到所述第三物件坐标。
3.根据权利要求1所述的一种物件的曝光定位方法,其特征在于,所述S400中,根据所述第三标记点坐标和第一标记点坐标,得到第三坐标系和第一坐标系之间的坐标转换关系,再根据所述第一物件坐标及所述坐标转换关系,计算得到所述第三物件坐标。
4.根据权利要求2所述的一种物件的曝光定位方法,其特征在于,所述S200和S300之间,还包括:
S600,将物件载台上的其中一标记点作为坐标原点,建立第二坐标系,根据所述第一标记点坐标,得到每个所述标记点相对第二坐标系中的坐标原点的第二标记点坐标;根据所述第一物件坐标,得到每个曝光物件相对第二坐标系中的坐标原点的第二物件坐标。
5.根据权利要求4所述的一种物件的曝光定位方法,其特征在于,所述S400中,根据所述第二标记点坐标和第二物件坐标,得到标记点和曝光物件之间的位置关系,再根据所述第三标记点坐标及所述标记点和曝光物件之间的位置关系,计算得到所述第三物件坐标。
6.根据权利要求2所述的一种物件的曝光定位方法,其特征在于,所述S200和S300之间,还包括:
S600,将物件载台上的其中一标记点作为坐标原点,建立第二坐标系,根据所述第一标记点坐标,得到每个所述标记点相对第二坐标系中的坐标原点的第二标记点坐标;根据所述第一物件坐标,得到每个曝光物件相对第二坐标系中的坐标原点的第二物件坐标。
7.根据权利要求6所述的一种物件的曝光定位方法,其特征在于,所述S400中,根据所述第三标记点坐标和第二标记点坐标,得到第三坐标系和第二坐标系之间的坐标转换关系,再根据所述第二物件坐标及所述坐标转换关系,计算得到所述第三物件坐标。
8.根据权利要求1所述的一种物件的曝光定位方法,其特征在于,所述S100中,将多个曝光物件按照一物件夹具承载于物件载台上,且在曝光物件承载于物件载台上之后,将物件夹具从物件载台上撤掉。
9.根据权利要求8所述的一种物件的曝光定位方法,其特征在于,所述物件夹具内具有至少一行和/或至少一列物料容纳腔,每行物料容纳腔和每列物料容纳腔均具有至少一个物料容纳腔,每个所述物料容纳腔内容纳一曝光物件。
10.根据权利要求1所述的一种物件的曝光定位方法,其特征在于,所述S200中,所述测量载台经过二次元测量,测量得到所述第一标记点坐标和第一物件坐标。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007013140A1 (ja) * 2005-07-26 2007-02-01 Fujitsu Limited 位置合わせ方法
US8107051B2 (en) * 2006-12-04 2012-01-31 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus with improved alignment mark position measurement condition setting feature, and device manufacturing method using the same
CN100504616C (zh) * 2007-06-05 2009-06-24 上海微电子装备有限公司 掩模版装载工艺
CN102681369B (zh) * 2012-05-10 2015-02-18 中国科学院光电技术研究所 一种适用于无掩模光刻机的对准方法
CN106019857B (zh) * 2016-07-22 2018-02-02 合肥芯碁微电子装备有限公司 一种基于无掩膜直写系统套刻曝光的定位方法
CN111015654A (zh) * 2019-12-18 2020-04-17 深圳市优必选科技股份有限公司 一种机器人的视觉定位方法、装置、终端设备和存储介质

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