CN112408512A - 一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置 - Google Patents

一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,涉及新材料制备技术领域。本发明包括一循环水箱,循环水箱内竖直设置隔板一和隔板二,位于隔板一和隔板二之间形成第二储水区;位于隔板一/隔板二的一侧分别与循环水箱的箱体形成第一储水区和第三储水区;第一储水区内设置水泵和第一液位传感器;第二储水区内设置第二液位传感器和电导率测定仪A;第三储水区内设置第三液位传感器和电导率测定仪B;位于第二储水区上方还设置有补水口;第二储水区和第三储水区的底侧面分别设置有排水口一和排水口二。本发明通过两个电导率测定仪的配合设置,实现当循环水电导率过高时,打开第二储水区和第三储水区底部的阀门进行排污。

Description

一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置
技术领域
本发明属于新材料制备技术领域,特别是涉及一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置。
背景技术
现有的很多化纤丝生产企业多有循环水系统、循环水的水质优化提升十分重要,循环水通过循环水泵供给设备在冷却塔喷淋冷却后回流到水池,在这个循环过程中水分蒸发会导致循环水电导率上升;电导率高会对设备造成严重影响,传统的手动排污只是凭感觉排污导致电导率控制不稳定、同时也浪费水源。同时若直接将安装检测水质的检测设备,并用电动阀门替换手动阀门,在实际使用时,存在当循环水电导率上升时,需要进行停机排污后才能进行再次的补水,影响设备的连续运行。
发明内容
本发明的目的在于提供一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,以解决上述提出的问题。
为解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:
本发明为一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,包括一循环水箱,所述循环水箱内竖直设置隔板一和隔板二,位于所述隔板一和隔板二之间形成第二储水区;位于所述隔板一/隔板二的一侧分别与循环水箱的箱体形成第一储水区和第三储水区;其中,所述第一储水区内设置水泵和第一液位传感器;所述第二储水区内设置第二液位传感器和电导率测定仪A;所述第三储水区内设置第三液位传感器和电导率测定仪B;位于所述第二储水区上方还设置有补水口;所述第二储水区和第三储水区的底侧面分别设置有排水口一和排水口二;位于所述第三储水区一侧的循环水箱上设置回水口。
进一步地,所述水泵的一端通过出水管连接有水泵供给设备,所述水泵供给设备通过一循环水管与回水口连通。
进一步地,还包括一处理器,所述处理器的信号输入端连接第一液位传感器、第二液位传感器、电导率测定仪A、第三液位传感器和电导率测定仪B;所述补水口、排水口一和排水口二处分别设置有阀门a、阀门b和阀门c;所述处理器的信号输出端连接阀门a、阀门b和阀门c。
进一步地,所述隔板一的底侧面设置有一通孔并于所述通孔处设置有与处理器信号输出端连接的阀门d。
进一步地,所述循环水箱的深度为H1,所述隔板一和隔板二的高度分别为H2和H3;其中,H2<H3<H1,且H1≥1.2H2、且H≤2H2。
进一步地,所述循环水箱上方还设置有用于对循环水箱内循环水进行了冷却的风扇。
进一步地,基于上述循环冷却水处理装置的循环冷却水处理方法包括:
Stp1、通过电导率测定仪A和电导率测定仪B检测循环水箱内循环水的电导率、并计算平均值P1;待所得平均值P1高出或等于预设值M1时,进入Stp2,反之不进行任何操作;
Stp2、打开排水口一和排水口二底部的阀门b和阀门c、并关闭阀门d;
Stp3、待通过第一液位传感器检测到第一储水区内液面高度低于L1、或通过第二液位传感器检测到第二储水区内液面高度低于L2时,此时关闭阀门b,并打开阀门a;
Stp4、待通过第一液位传感器检测到第一储水区内液面高度低于L3时,此时打开阀门d,则通过通孔将第二储水区内的水排入第一储水区内;
Stp5、待通过电导率测定仪A和电导率测定仪B检测循环水箱内循环水的电导率、并计算平均值P2;待所得平均值P2低于或等于M2时,此时关闭阀门c;
Stp6、待通过第二液位传感器检测到第二储水区内液面高度大于H2、第三液位传感器检测到第三储水区内高度大于H3、且第一液位传感器检测到第一储水区内液面高度大于H2,此时控制关闭阀门a。
进一步地,所述L2>L3,M1>M2,P1>P2。
进一步地,在所述Stp6中,当所述第一液位传感器或第二液位传感器检测到的液面高度高于H3时,此时打开阀门b排水至第一液位传感器或第二液位传感器检测到的液面高度介于H2和H3之间即可。
进一步地,所述第三储水区内还设置搅拌装置和投药装置,所述搅拌装置和投药装置连接处理器;在所述Stp2中,待第三液位传感器检测到第三储水区内高度低于H3时,通过投药装置进行投药并控制搅拌装置搅拌。
本发明具有以下有益效果:
本发明通过两个电导率测定仪的配合设置,实现当循环水电导率过高时,打开第二储水区和第三储水区底部的阀门进行排污,电导率监测仪能够使该循环水自动排污装置达到精确控制循环水电导率的效果,从而能够保证循环水达到标准要求;同时通过液位传感器的设置,实现当循环水箱低于预设值时进行补水,从而做到不停机的补水排污操作。
当然,实施本发明的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明循环冷却水处理装置结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“开孔”、“上”、“下”、“厚度”、“顶”、“中”、“长度”、“内”、“四周”等指示方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位,以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
请参阅图1所示,本发明为一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,包括一循环水箱1,循环水箱1内竖直设置隔板一2和隔板二3,位于隔板一2和隔板二3之间形成第二储水区20;位于隔板一2/隔板二3的一侧分别与循环水箱1的箱体形成第一储水区10和第三储水区30;
其中,第一储水区10内设置水泵4和第一液位传感器11;第二储水区 20内设置第二液位传感器12和电导率测定仪A14;第三储水区30内设置第三液位传感器13和电导率测定仪B15;位于第二储水区20上方还设置有补水口16;第二储水区20和第三储水区30的底侧面分别设置有排水口一 22和排水口二32;位于第三储水区30一侧的循环水箱1上设置回水口31。
优选地,水泵4的一端通过出水管连接有水泵供给设备,水泵供给设备通过一循环水管与回水口31连通。
优选地,还包括一处理器,处理器的信号输入端连接第一液位传感器 11、第二液位传感器12、电导率测定仪A14、第三液位传感器13和电导率测定仪B15;补水口16、排水口一22和排水口二32处分别设置有阀门a、阀门b和阀门c;处理器的信号输出端连接阀门a、阀门b和阀门c。
优选地,隔板一2的底侧面设置有一通孔21并于通孔21处设置有与处理器信号输出端连接的阀门d。
优选地,循环水箱1的深度为H1,隔板一2和隔板二3的高度分别为 H2和H3;其中,H2<H3<H1,且H1≥1.2H2、且H≤2H2。
优选地,循环水箱1上方还设置有用于对循环水箱1内循环水进行了冷却的风扇。
优选地,基于上述循环冷却水处理装置的循环冷却水处理方法包括:
Stp1、通过电导率测定仪A14和电导率测定仪B15检测循环水箱1内循环水的电导率、并计算平均值P1;待所得平均值P1高出或等于预设值M1时,进入Stp2,反之不进行任何操作;
Stp2、打开排水口一22和排水口二32底部的阀门b和阀门c、并关闭阀门d;
Stp3、待通过第一液位传感器11检测到第一储水区10内液面高度低于L1、或通过第二液位传感器12检测到第二储水区20内液面高度低于L2 时,此时关闭阀门b,并打开阀门a;
Stp4、待通过第一液位传感器11检测到第一储水区10内液面高度低于L3时,此时打开阀门d,则通过通孔21将第二储水区20内的水排入第一储水区10内;
Stp5、待通过电导率测定仪A14和电导率测定仪B15检测循环水箱1 内循环水的电导率、并计算平均值P2;待所得平均值P2低于或等于M2 时,此时关闭阀门c;
Stp6、待通过第二液位传感器12检测到第二储水区20内液面高度大于H2、第三液位传感器13检测到第三储水区30内高度大于H3、且第一液位传感器11检测到第一储水区10内液面高度大于H2,此时控制关闭阀门 a。
优选地,L2>L3,M1>M2,P1>P2。
优选地,在Stp6中,当第一液位传感器11或第二液位传感器12检测到的液面高度高于H3时,此时打开阀门b排水至第一液位传感器11或第二液位传感器12检测到的液面高度介于H2和H3之间即可。
优选地,第三储水区30内还设置搅拌装置和投药装置,搅拌装置和投药装置连接处理器;在Stp2中,待第三液位传感器13检测到第三储水区30内高度低于H3时,通过投药装置进行投药并控制搅拌装置搅拌。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上公开的本发明优选实施例只是用于帮助阐述本发明。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为所述的具体实施方式。显然,根据本说明书的内容,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本发明。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (10)

1.一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,其特征在于:包括一循环水箱(1),所述循环水箱(1)内竖直设置隔板一(2)和隔板二(3),位于所述隔板一(2)和隔板二(3)之间形成第二储水区(20);
位于所述隔板一(2)/隔板二(3)的一侧分别与循环水箱(1)的箱体形成第一储水区(10)和第三储水区(30);
其中,所述第一储水区(10)内设置水泵(4)和第一液位传感器(11);
所述第二储水区(20)内设置第二液位传感器(12)和电导率测定仪A(14);所述第三储水区(30)内设置第三液位传感器(13)和电导率测定仪B(15);
位于所述第二储水区(20)上方还设置有补水口(16);
所述第二储水区(20)和第三储水区(30)的底侧面分别设置有排水口一(22)和排水口二(32);位于所述第三储水区(30)一侧的循环水箱(1)上设置回水口(31)。
2.根据权利要求1所述的一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,其特征在于,所述水泵(4)的一端通过出水管连接有水泵供给设备,所述水泵供给设备通过一循环水管与回水口(31)连通。
3.根据权利要求1所述的一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,其特征在于,还包括
一处理器,所述处理器的信号输入端连接第一液位传感器(11)、第二液位传感器(12)、电导率测定仪A(14)、第三液位传感器(13)和电导率测定仪B(15);
所述补水口(16)、排水口一(22)和排水口二(32)处分别设置有阀门a、阀门b和阀门c;
所述处理器的信号输出端连接阀门a、阀门b和阀门c。
4.根据权利要求3所述的一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,其特征在于,所述隔板一(2)的底侧面设置有一通孔(21)并于所述通孔(21)处设置有与处理器信号输出端连接的阀门d。
5.根据权利要求1或4所述的一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,其特征在于,所述循环水箱(1)的深度为H1,所述隔板一(2)和隔板二(3)的高度分别为H2和H3;
其中,H2<H3<H1,且H1≥1.2H2、且H≤2H2。
6.根据权利要求5所述的一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,其特征在于,所述循环水箱(1)上方还设置有用于对循环水箱(1)内循环水进行了冷却的风扇。
7.根据权利要求6所述的一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,其特征在于,基于上述循环冷却水处理装置的循环冷却水处理方法包括:
Stp1、通过电导率测定仪A(14)和电导率测定仪B(15)检测循环水箱(1)内循环水的电导率、并计算平均值P1;待所得平均值P1高出或等于预设值M1时,进入Stp2,反之不进行任何操作;
Stp2、打开排水口一(22)和排水口二(32)底部的阀门b和阀门c、并关闭阀门d;
Stp3、待通过第一液位传感器(11)检测到第一储水区(10)内液面高度低于L1、或通过第二液位传感器(12)检测到第二储水区(20)内液面高度低于L2时,此时关闭阀门b,并打开阀门a;
Stp4、待通过第一液位传感器(11)检测到第一储水区(10)内液面高度低于L3时,此时打开阀门d,则通过通孔(21)将第二储水区(20)内的水排入第一储水区(10)内;
Stp5、待通过电导率测定仪A(14)和电导率测定仪B(15)检测循环水箱(1)内循环水的电导率、并计算平均值P2;待所得平均值P2低于或等于M2时,此时关闭阀门c;
Stp6、待通过第二液位传感器(12)检测到第二储水区(20)内液面高度大于H2、第三液位传感器(13)检测到第三储水区(30)内高度大于H3、且第一液位传感器(11)检测到第一储水区(10)内液面高度大于H2,此时控制关闭阀门a。
8.根据权利要求6所述的一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,其特征在于,所述L2>L3,M1>M2,P1>P2。
9.根据权利要求6所述的一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,其特征在于,在所述Stp6中,当所述第一液位传感器(11)或第二液位传感器(12)检测到的液面高度高于H3时,此时打开阀门b排水至第一液位传感器(11)或第二液位传感器(12)检测到的液面高度介于H2和H3之间即可。
10.根据权利要求6所述的一种新材料加工领域的循环冷却水处理装置,其特征在于,所述第三储水区(30)内还设置搅拌装置和投药装置,所述搅拌装置和投药装置连接处理器;
在所述Stp2中,待第三液位传感器(13)检测到第三储水区(30)内高度低于H3时,通过投药装置进行投药并控制搅拌装置搅拌。
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