CN112397439B - 用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及基台技术领域,且公开了一种用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,包括底座,所述底座的顶部设置有基台主体,基台主体上开设有两个固定孔,两个固定孔内滑动连接有第一挡板和第二挡板,第一挡板和第二挡板的底端均延伸至基台主体的下方并与底座的顶部固定连接,第一挡板和第二挡板的顶端均延伸至基台主体的上方并固定连接有固定块,第一挡板和第二挡板相互靠近的一侧均开设有第一滑槽,两个固定孔相互靠近的一侧内壁上均固定连接有第一滑块。本发明能够快速方便的对基台主体的高度调节和定位,操作简单,方便,方便了加工生产,省时省力,提高了工作效率,满足了使用者的需要。
Description
技术领域
本发明涉及基台技术领域,尤其涉及一种用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台。
背景技术
在ICP用于图形制作工艺时,因GaN与蓝宝石两种材料都难刻蚀,必须用高密度的等离子冲击材料表面,材料的温度不易散发,传统的机器都采用SIC材料制作载片样品盘,因SIC材料导热性好,化学性能温度。
申请号为:201120414928.6公开一种用于感应离子耦合刻蚀机承载被刻蚀外延片的样品台,该样品台包括石英盘,石英盘的周边有一个加强环,石英盘的中心为样品承载区。本发明的优点在于:样品台制作材料使用石英材料替代传统的碳化硅或石墨材料,在优化样品台性能的同时,有效的降低了样品台的材料成本。此环有效的增强了石英样品台的机械强度,方便样品台的安装和卸载,延长样品台的使用寿命。同时此环的横断面设计成各种形状,改善真空腔体内的气流场,提升刻蚀工艺的均匀性。
上述专利在使用时因基台不具备高度调节的功能,所以基台过高或过低不便于对加工,费时费力,影响加工的效率,不能满足使用的需要。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中在使用时因基台不具备高度调节的功能,所以基台过高或过低不便于对加工,费时费力,影响加工的效率,不能满足使用的需要的问题,而提出的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:
用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,包括底座,所述底座的顶部设置有基台主体,基台主体上开设有两个固定孔,两个固定孔内滑动连接有第一挡板和第二挡板,第一挡板和第二挡板的底端均延伸至基台主体的下方并与底座的顶部固定连接,第一挡板和第二挡板的顶端均延伸至基台主体的上方并固定连接有固定块,第一挡板和第二挡板相互靠近的一侧均开设有第一滑槽,两个固定孔相互靠近的一侧内壁上均固定连接有第一滑块,且两个第一滑块分别与相对应的第一滑槽滑动连接,两个第一滑块上均开设有限位孔,两个限位孔内均滑动连接有限位杆,且限位杆的顶端和底端分别与相对应的第一滑槽的顶部内壁和底部内壁固定连接,底座的顶部开设有第二滑槽,第二滑槽内滑动连接有两个第二滑块,两个第二滑块上均转动安装有倾斜对称设置的铰接板,且两个铰接板相铰接,基台主体的底部固定连接有两个铰接座,且两个铰接板远离两个第二滑块的一端分别与相对应的铰接座转动连接,第一挡板靠近第二挡板的一侧开设有转动槽,第二挡板上开设有转动孔,且转动孔和转动槽内转动安装有同一个双向丝杆,第二挡板远离第一挡板的一侧开设有滑动槽,滑动槽内滑动连接有滑动板,滑动板上开设有滑动孔,滑动孔内滑动连接有滑动杆。
优选的,所述滑动槽的一侧内壁上开设有卡槽,且滑动杆的一端与卡槽相卡装,滑动杆的另一端延伸至滑动板的外侧并固定连接有连接杆。
优选的,所述滑动板的底部固定连接有定位板,定位板远离第二挡板的一端开设有定位槽,定位槽内滑动连接有定位杆,定位杆的一端延伸至定位板的外侧并与连接杆固定连接。
优选的,所述连接杆靠近滑动板的一侧固定连接有套设在定位杆外侧的定位弹簧,定位弹簧远离连接杆的一端与定位板固定连接,滑动板的底部固定连接有齿条。
优选的,所述第二挡板远离第一挡板的一侧开设有圆形槽,圆形槽内转动安装有圆形杆,圆形杆的外侧固定套设有齿轮,且齿轮与齿条相啮合。
优选的,所述双向丝杆的外侧固定套设有第一链轮,圆形杆的外侧固定套设有第二链轮,第二链轮上啮合有链条,且第二链轮通过链条与第一链轮传动连接。
优选的,所述转动槽内固定安装有第一轴承的外圈,且双向丝杆与第一轴承的内圈固定连接。
优选的,所述转动孔内固定安装有第二轴承的外圈,且双向丝杆与第二轴承的内圈固定连接。
优选的,所述卡槽的数量为多个,且多个卡槽呈竖直方向等距离分布在滑动槽的一侧内壁上。
与现有技术相比,本发明提供了用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,具备以下有益效果:
1、该用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,通过先拉动连接杆,连接杆拉伸定位弹簧,通过定位弹簧吸能,连接杆带动滑动杆进行移动,使滑动杆移出卡槽内,解除了对滑动板的固定;
2、该用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,通过向下踩动滑动板,滑动板带动齿条进行移动,齿条带动齿轮进行转动,齿轮带动圆形杆进行转动,圆形杆带动第二链轮进行转动,第二链轮通过链条带动第一链轮进行转动,第一链轮带动双向丝杆进行转动,双向丝杆带动两个第二滑块进行移动,两个第二滑块带动两个铰接板进行移动,两个铰接板带动两个铰接座进行移动,两个铰接座带动同一个基台主体进行高度调节;
3、该用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,通过基台主体带动两个第一滑块进行移动,两个限位杆对两个第一滑块进行限位,基台主体调节到合适的高度时,然后松开连接杆,通过定位弹簧的弹簧回弹作用力下,使滑动杆卡入卡槽内,对滑动板进行固定,通过多个卡槽的设置对基台主体进行多高度定位;
而且该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现,本发明能够快速方便的对基台主体的高度调节和定位,操作简单,方便,方便了加工生产,省时省力,提高了工作效率,满足了使用者的需要。
附图说明
图1为本发明提出的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台的主视结构示意图;
图2为本发明提出的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台的A部分结构示意图;
图3为本发明提出的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台的B部分结构示意图;
图4为本发明提出的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台的C部分结构示意图;
图5为本发明提出的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台的D部分结构示意图。
图中:1底座、2基台主体、3固定孔、4第一挡板、5第二挡板、6固定块、7第一滑槽、8第一滑块、9限位孔、10限位杆、11第二滑槽、12第二滑块、13铰接板、14铰接座、15转动槽、16转动孔、17双向丝杆、18滑动槽、19滑动板、20滑动孔、21滑动杆、22卡槽、23连接杆、24定位板、25定位槽、26定位杆、27定位弹簧、28齿条、29圆形槽、30圆形杆、31齿轮、32第一链轮、33第二链轮、34链条。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
参照图1-5,用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,包括底座1,底座1的顶部设置有基台主体2,基台主体2上开设有两个固定孔3,两个固定孔3内滑动连接有第一挡板4和第二挡板5,第一挡板4和第二挡板5的底端均延伸至基台主体2的下方并与底座1的顶部固定连接,第一挡板4和第二挡板5的顶端均延伸至基台主体2的上方并固定连接有固定块6,第一挡板4和第二挡板5相互靠近的一侧均开设有第一滑槽7,两个固定孔3相互靠近的一侧内壁上均固定连接有第一滑块8,且两个第一滑块8分别与相对应的第一滑槽7滑动连接,两个第一滑块8上均开设有限位孔9,两个限位孔9内均滑动连接有限位杆10,且限位杆10的顶端和底端分别与相对应的第一滑槽7的顶部内壁和底部内壁固定连接,底座1的顶部开设有第二滑槽11,第二滑槽11内滑动连接有两个第二滑块12,两个第二滑块12上均转动安装有倾斜对称设置的铰接板13,且两个铰接板13相铰接,基台主体2的底部固定连接有两个铰接座14,且两个铰接板13远离两个第二滑块12的一端分别与相对应的铰接座14转动连接,第一挡板4靠近第二挡板5的一侧开设有转动槽15,第二挡板5上开设有转动孔16,且转动孔16和转动槽15内转动安装有同一个双向丝杆17,第二挡板5远离第一挡板4的一侧开设有滑动槽18,滑动槽18内滑动连接有滑动板19,滑动板19上开设有滑动孔20,滑动孔20内滑动连接有滑动杆21。
本发明中,滑动槽18的一侧内壁上开设有卡槽22,且滑动杆21的一端与卡槽22相卡装,滑动杆21的另一端延伸至滑动板19的外侧并固定连接有连接杆23。
本发明中,滑动板19的底部固定连接有定位板24,定位板24远离第二挡板5的一端开设有定位槽25,定位槽25内滑动连接有定位杆26,定位杆26的一端延伸至定位板24的外侧并与连接杆23固定连接。
本发明中,连接杆23靠近滑动板19的一侧固定连接有套设在定位杆26外侧的定位弹簧27,定位弹簧27远离连接杆23的一端与定位板24固定连接,滑动板19的底部固定连接有齿条28。
本发明中,第二挡板5远离第一挡板4的一侧开设有圆形槽29,圆形槽29内转动安装有圆形杆30,圆形杆30的外侧固定套设有齿轮31,且齿轮31与齿条28相啮合。
本发明中,双向丝杆17的外侧固定套设有第一链轮32,圆形杆3的外侧固定套设有第二链轮33,第二链轮33上啮合有链条34,且第二链轮33通过链条34与第一链轮32传动连接。
本发明中,转动槽15内固定安装有第一轴承的外圈,且双向丝杆17与第一轴承的内圈固定连接。
本发明中,转动孔16内固定安装有第二轴承的外圈,且双向丝杆17与第二轴承的内圈固定连接。
本发明中,卡槽22的数量为多个,且多个卡槽22呈竖直方向等距离分布在滑动槽18的一侧内壁上。
本发明中,使用时,先拉动连接杆23,连接杆23拉伸定位弹簧27,通过定位弹簧27吸能,同时,连接杆23带动定位杆26进行移动,定位杆26对连接杆23进行限位,同时,连接杆23带动滑动杆21进行移动,使滑动杆21移出卡槽22内,解除了对滑动板19的固定,然后向下踩动滑动板19,滑动板19带动齿条28进行移动,齿条28带动齿轮31进行转动,齿轮31带动圆形杆30进行转动,圆形杆30带动第二链轮33进行转动,第二链轮33通过链条34带动第一链轮32进行转动,第一链轮32带动双向丝杆17进行转动,双向丝杆17带动两个第二滑块12进行移动,两个第二滑块12带动两个铰接板13进行移动,两个铰接板13带动两个铰接座14进行移动,两个铰接座14带动同一个基台主体2进行高度调节,同时,基台主体2带动两个第一滑块8进行移动,两个限位杆10对两个第一滑块8进行限位,基台主体2调节到合适的高度时,然后松开连接杆23,通过定位弹簧27的弹簧回弹作用力下,使滑动杆21卡入卡槽22内,对滑动板19进行固定,通过多个卡槽22的设置对基台主体2进行多高度定位,从而能够快速方便的对基台主体2的高度调节和定位,操作简单,方便,方便了加工生产,省时省力,提高了工作效率,满足了使用者的需要。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,包括底座(1),其特征在于,所述底座(1)的顶部设置有基台主体(2),基台主体(2)上开设有两个固定孔(3),两个固定孔(3)内滑动连接有第一挡板(4)和第二挡板(5),第一挡板(4)和第二挡板(5)的底端均延伸至基台主体(2)的下方并与底座(1)的顶部固定连接,第一挡板(4)和第二挡板(5)的顶端均延伸至基台主体(2)的上方并固定连接有固定块(6),第一挡板(4)和第二挡板(5)相互靠近的一侧均开设有第一滑槽(7),两个固定孔(3)相互靠近的一侧内壁上均固定连接有第一滑块(8),且两个第一滑块(8)分别与相对应的第一滑槽(7)滑动连接,两个第一滑块(8)上均开设有限位孔(9),两个限位孔(9)内均滑动连接有限位杆(10),且限位杆(10)的顶端和底端分别与相对应的第一滑槽(7)的顶部内壁和底部内壁固定连接,底座(1)的顶部开设有第二滑槽(11),第二滑槽(11)内滑动连接有两个第二滑块(12),两个第二滑块(12)上均转动安装有倾斜对称设置的铰接板(13),且两个铰接板(13)相铰接,基台主体(2)的底部固定连接有两个铰接座(14),且两个铰接板(13)远离两个第二滑块(12)的一端分别与相对应的铰接座(14)转动连接,第一挡板(4)靠近第二挡板(5)的一侧开设有转动槽(15),第二挡板(5)上开设有转动孔(16),且转动孔(16)和转动槽(15)内转动安装有同一个双向丝杆(17),第二挡板(5)远离第一挡板(4)的一侧开设有滑动槽(18),滑动槽(18)内滑动连接有滑动板(19),滑动板(19)上开设有滑动孔(20),滑动孔(20)内滑动连接有滑动杆(21);所述滑动槽(18)的一侧内壁上开设有卡槽(22),且滑动杆(21)的一端与卡槽(22)相卡装,滑动杆(21)的另一端延伸至滑动板(19)的外侧并固定连接有连接杆(23);所述滑动板(19)的底部固定连接有定位板(24),定位板(24)远离第二挡板(5)的一端开设有定位槽(25),定位槽(25)内滑动连接有定位杆(26),定位杆(26)的一端延伸至定位板(24)的外侧并与连接杆(23)固定连接;所述第二挡板(5)远离第一挡板(4)的一侧开设有圆形槽(29),圆形槽(29)内转动安装有圆形杆(30),圆形杆(30)的外侧固定套设有齿轮(31),且齿轮(31)与齿条(28)相啮合。
2.根据权利要求1所述的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,其特征在于,所述连接杆(23)靠近滑动板(19)的一侧固定连接有套设在定位杆(26)外侧的定位弹簧(27),定位弹簧(27)远离连接杆(23)的一端与定位板(24)固定连接,滑动板(19)的底部固定连接有齿条(28)。
3.根据权利要求1所述的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,其特征在于,所述双向丝杆(17)的外侧固定套设有第一链轮(32),圆形杆(30)的外侧固定套设有第二链轮(33),第二链轮(33)上啮合有链条(34),且第二链轮(33)通过链条(34)与第一链轮(32)传动连接。
4.根据权利要求1所述的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,其特征在于,所述转动槽(15)内固定安装有第一轴承的外圈,且双向丝杆(17)与第一轴承的内圈固定连接。
5.根据权利要求1所述的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,其特征在于,所述转动孔(16)内固定安装有第二轴承的外圈,且双向丝杆(17)与第二轴承的内圈固定连接。
6.根据权利要求1所述的用于感应离子耦合剂刻蚀机承载被刻蚀外延片的基台,其特征在于,所述卡槽(22)的数量为多个,且多个卡槽(22)呈竖直方向等距离分布在滑动槽(18)的一侧内壁上。
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GR01 | Patent grant | ||
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