CN112387646A - 一种防溢出硅片清洗设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种防溢出硅片清洗设备，包括：清洗池和两平行设置的端板，分别与两端板固定连接的三个齿杆和三个支撑杆，硅片能够插到相邻两夹紧齿之间，两端板之间还转动连接有一安装板，安装板能够盖合在各硅片上，清洗池的两侧短边内侧壁分别具有一溢流腔体，清洗池的内侧壁开设有上溢流孔，清洗池的外侧壁底部开设有下溢流孔，下溢流孔与溢流腔体连通，清洗池内清洗液通过上溢流孔进入溢流腔体后，能够从下溢流孔排出；以及上溢流孔的位置处设置有清洗部，清洗部与上溢流孔的内侧壁贴合，且清洗部与安装板联动，其中安装板盖合时，安装板能够联动清洗部清洗上溢流孔，通过在下溢流孔处收集清洗液，避免清洗液溢出的情况，以保证使用安全性。

Description

一种防溢出硅片清洗设备

技术领域

本发明涉及硅片清洗的技术领域，尤其涉及一种防溢出硅片清洗设备。

背景技术

中国专利申请号为CN201922014310.X，申请日为2019.11.20，公开号为CN210628335U，授权公告日为2020.05.26，提供了一种硅片清洗设备，包括：框架组件；工艺机构，设于框架组件中，数量为至少两个，适于对硅片进行工艺处理；传输组件，与框架组件连接，并适于沿框架组件移动并传输硅片，以使得硅片由任一工艺机构移动至任另一工艺机构；隔离组件，设于框架组件中，通过在开启状态和关闭状态之间切换，以使得任一工艺机构的内部空间与外部空间相互连通或相互分隔；其中，工艺机构包括至少一个的清洗组件和至少一个的烘干组件，清洗组件适于对硅片进行清洗，烘干组件适于对硅片进行烘干，清洗组件中设有鼓泡装置。该发明能够提高硅片的清洗效率和清洗质量。

其中，虽然清洗组件能够对硅片进行清洗，但是在清洗过程中，若清洗液通入过多的话，清洗液会从清洗组件溢出，而清洗液一般采用的是强酸强碱溶液，清洗液溢出的话具有一定的安全隐患。

发明内容

本发明的目的是提供一种防溢出硅片清洗设备。

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种防溢出硅片清洗设备，包括：清洗池和能够沉入所述清洗池的花篮主体；所述花篮主体包括两平行设置的端板，分别与两端板固定连接的三个齿杆，三个齿杆排列成“L”形，所述齿杆上均布有若干夹紧齿；两端板之间还设置有分别与三个齿杆一一对应的三个支撑杆，三个支撑杆排列成与三个齿杆相对的“L”形，硅片能够插到相邻两夹紧齿之间，且分别与三个支撑杆接触，两端板之间还转动连接有一安装板，所述安装板能够盖合在各硅片上，所述安装板上均匀开设有若干落水孔，所述落水孔与各插接在两夹紧齿之间硅片一一对应；所述清洗池的两侧短边内侧壁分别具有一溢流腔体，清洗池的内侧壁开设有上溢流孔，所述上溢流孔与所述安装板盖合时等高，且所述上溢流孔与所述溢流腔体连通，所述清洗池的外侧壁底部开设有下溢流孔，所述下溢流孔与所述溢流腔体连通，所述清洗池内清洗液通过上溢流孔进入溢流腔体后，能够从下溢流孔排出；以及所述上溢流孔的位置处设置有清洗部，所述清洗部与所述上溢流孔的内侧壁贴合，且所述清洗部与所述安装板联动，其中所述安装板盖合时，所述安装板能够联动所述清洗部清洗所述上溢流孔。

进一步地，所述安装板的两侧分别设置有一触发杆，所述触发杆为柔性材料，以及所述清洗部包括转动连接在所述上溢流孔两侧壁的清洗轴，和固定在清洗轴上的清洗轮，且所述清洗轮凸出于所述上溢流孔的端面，所述清洗轮与上溢流孔的内侧壁贴合，其中所述安装板盖合时，所述触发杆能够推动所述清洗轮转动清洗所述上溢流孔。

进一步地，所述清洗池的两长边内侧壁倾斜设置有若干喷头，各喷头形成喷淋区域，且喷淋区域高于所述端板在所述清洗池内滑动时的顶面，其中所述喷头能够冲洗硅片的侧壁。

进一步地，两端板的相对侧壁分别对应设置有一转轴，所述转轴位于顶部的支撑杆上方，且所述转轴能够插接转动一联动片，所述联动片能够延伸至顶部的支撑杆两侧；两端板的相对侧壁分别对应设置有一第一限位块，所述第一限位块与所述转轴等高；两端板的相对侧壁还分别对应设置一第二限位块，所述第二限位块位于所述转轴的斜上方，且所述转轴位于所述第一限位块和所述第二限位块之间；安装板与所述联动片固定连接，且所述联动片插入所述转轴后，所述安装板能够倚靠在所述第二限位块上；其中所述端板能够带动支撑杆推动所述联动片带动所述安装板翻转至与所述第一限位块接触；所述端板退出时，所述支撑杆能够推动所述联动片带动所述安装板翻转至倚靠在所述第二限位块上。

进一步地，所述联动片包括一扇形的插接片和固定在所述插接片两端的挡板，所述插接片的弧心角大于180°，所述插接片与所述转轴相适配，且两挡板延伸至顶部的支撑杆两侧；所述安装板与所述插接片固定连接，其中所述支撑杆能够推动右侧的挡板带动所述安装板落至所述第一限位块上；所述支撑杆能够推动左侧的挡板带动所述安装板转动至倚靠在所述第二限位块上。

进一步地，所述安装板的底部排列有若干等间距分布的刮板，所述刮板与所述落水孔一一对应，且所述刮板的宽度等于相邻两硅片之间的距离，所述刮板与所述安装板之间通过恢复弹簧连接，所述刮板的顶壁开设有集水槽；所述支撑杆滑动时能够联动所述安装板转动至与硅片垂直，所述喷淋区域高于该状态时所述安装板的高度，且所述喷头喷出的冲洗水能够收集在所述集水槽内；其中冲洗水能够压迫所述刮板贴合相邻两硅片滑动并清洗硅片；排出所述集水槽内的冲洗水后，所述刮板回弹并贴合相邻两硅片表面刮除水渍。

进一步地，所述刮板的顶部镜像设置有两刮条，且所述刮板的底部镜像设置有两刷头；其中所述刮板下降时，所述刷头能够贴合硅片表面并刷除硅片表面的污渍；所述刮板上升时，所述刮条能够贴合硅片表面并刮除硅片表面的水渍。

进一步地，所述集水槽的底部开设有一贯穿所述刮板的溢水孔，所述溢水孔倾斜设置，且相邻两溢水孔倾斜方向相反；其中所述集水槽内的清洗液穿过所述溢水孔后能够冲洗两侧的硅片，并由所述刷头刷除硅片表面的污渍；所述集水槽内的清洗液通过所述溢水孔流光后，所述刮条能够贴合硅片回弹并刮除硅片表面的水渍。

进一步地，所述刮板的顶壁镜像开设有两疏水槽，且所述疏水槽位于所述刮条与所述集水槽之间；其中被所述刮条刮除的水导入所述疏水槽内，并从所述刮板的两侧排出。

本发明的有益效果是，本发明的一种防溢出硅片清洗设备，所述清洗池内清洗液通过上溢流孔进入溢流腔体后，能够从下溢流孔排出，通过在下溢流孔处收集清洗液，避免清洗液溢出的情况，以保证使用安全性。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1是本发明的一种防溢出硅片清洗设备的优选实施例的立体图；

图2是图1中A部分局部放大图；

图3是本发明的清洗池侧壁的优选实施例的剖视图；

图4是本发明安装板打开状态的最优实施例的结构示意图；

图5是本发明安装板盖合状态的最优实施例的结构示意图；

图6是本发明中B部分局部放大图；

图7是本发明刮板在清洗硅片时的纵剖视图；

图8是本发明支撑杆处于高处时的最优实施例的结构示意图；

图9是本发明支撑杆处于低处时的最优实施例的结构示意图；

图10是图1中C部分局部放大图；

图11是图1中D部分局部放大图。

图中：花篮主体1、端板11、滑动槽111、滑块112、第一限位块113、转轴114、第二限位块115、齿杆12、夹紧齿121、支撑杆13、撑开弹簧14；

硅片2；

清洗池3、推块31、推动面311、滑轨32、燕尾槽321、推动电机33、喷头34、溢流腔体35、上溢流孔36、下溢流孔37、清洗部38、清洗轴381、清洗轮382；

刮板4、集水槽41、刷头42、刮条43、疏水槽44、恢复弹簧45、溢水孔46；

安装板5、落水孔51、触发杆52；

联动片6、插接片61、挡板62。

具体实施方式

现在结合附图对本发明作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本发明的基本结构，因此其仅显示与本发明有关的构成。

如图1至图10所示，在硅片2清洗的时候，一般使用花篮主体1插接硅片2以对硅片2进行固定，具体地，花篮主体1包括两平行的端板11，以及设置在两端板11之间的三个齿杆12和三个支撑杆13，三个齿杆12和三个支撑杆13分别排列成“L”形，两个“L”相对设置，具体地，其中两个齿杆12竖直排列，另一个齿杆12水平排列在下方，两个支撑杆13竖直排列，另一个支撑杆13水平排列在下方，齿杆12与支撑杆13是一一对应的，所述齿杆12上均布有若干夹紧齿121，且竖直排列的两齿杆12上的夹紧齿121水平延伸，水平排列的齿杆12上的夹紧齿121竖直延伸，即夹紧齿121都朝向硅片2插入的方向，硅片2能够插入两夹紧齿121之间并被两夹紧齿121卡紧，同时硅片2的侧壁倚靠在竖直排列的支撑杆13上，硅片2的底壁支撑在水平排列的支撑杆13上，从而完成硅片2的安装，再将安装好硅片2的端板11置入到清洗池3内，通过向清洗池3喷清洗液来对硅片2进行清洗，但是在清洗过程中，若清洗液通入过多的话，清洗液会从清洗池3溢出，而清洗液一般采用的是强酸强碱溶液，清洗液溢出的话具有一定的安全隐患，为了解决上述问题，需要对上述结构做如下改进：

两端板11之间还转动连接有一安装板5，所述安装板5能够盖合在各硅片2上，避免硅片2在清洗过程中从上方脱出的情况，保证了硅片2的安装稳定性，所述安装板5上均匀开设有若干落水孔51，所述落水孔51与各插接在两夹紧齿121之间硅片2一一对应，清洗液能够穿过落水孔51落至硅片2上对硅片2进行清洗，避免设置安装板5后挡住硅片2顶部；在所述清洗池3的两侧短边内侧壁分别开设一溢流腔体35，溢流腔体35位于清洗池3的壁厚内，清洗池3的内侧壁开设有上溢流孔36，所述上溢流孔36与所述安装板5盖合时等高，这样能够保证硅片2都浸没在清洗液内，且所述上溢流孔36与所述溢流腔体35连通，所述清洗池3的外侧壁底部开设有下溢流孔37，所述下溢流孔37与所述溢流腔体35连通，所述清洗池3内清洗液通过上溢流孔36进入溢流腔体35后，能够从下溢流孔37排出，通过在下溢流孔37处收集清洗液，避免清洗液溢出的情况。

需要指出的是，若上溢流孔36处被堵住，则清洗液还是无法被及时排出，则还是存在清洗液溢出的风险，故可以采用如下方案，在所述上溢流孔36的位置处设置有清洗部38，所述清洗部38与所述上溢流孔36的内侧壁贴合，且所述清洗部38与所述安装板联动，其中所述安装板盖合时，所述安装板能够联动所述清洗部38清洗所述上溢流孔36，以避免上溢流孔36堵塞，保证了清洗液不会溢出。

具体地清洗部38结构如下，清洗部38包括安装在上溢流孔36位置处的清洗轴381，清洗轴381的两端分别与上溢流孔36的短边侧壁转动连接，在清洗轴381的外壁安装有清洗轮382，清洗轮382的直径等于上溢流孔36顶壁与底壁之间的距离，且清洗轮382凸出于上溢流孔36的端面，清洗液流经上溢流孔36的时候，清洗液流动带动清洗轮382转动清洁上溢流孔36，以保证上溢流孔36的畅通。

而仅通过清洗液流动带动清洗轮382转动，清洗轮382转动的幅度比较小，为了进一步提高清洗轮382对上溢流孔36的清洁效果，即需要通过安装板5来联动清洗轮382转动，具体地联动方式，可以在安装板5的两侧分别设置一个触发杆52，所述触发杆52为柔性材料，且触发杆52的两端头之间的距离等于清洗池3的内腔的长，在安装板5盖合时，触发杆52贴合清洗池的内侧壁滑动并能够与清洗轮382接触，并带动清洗轮382转动，在触发杆52与端板11接触后，触发杆52能够折叠以使安装板5能够盖合在硅片2上。

请参阅图4和图5，图4是本发明安装板打开状态的最优实施例的结构示意图；图5是本发明安装板盖合状态的最优实施例的结构示意图；如图1至图10所示，为了安装板5能够盖合在硅片2上，在端板11上位于安装板5的转动处的同一高度设置一第一限位块113，在安装板5转动至抵靠在第一限位块113的时候，安装板5呈水平状态，以提供刮板4的起落点，通过可转动的安装板5的设置，在需要对硅片2进行清洗的时候将安装板5盖合到硅片2上方以便于硅片2的清洗，在需要对硅片2进行上料下料时，能够将安装板5转动并打开，以为硅片2的安装和拆卸提供便利。

优选的，在硅片2需要清洗的时候安装安装板5，在硅片2需要拆装的时候拆掉安装板5，这样能够更好地为硅片2的清洗和拆装提供便利，可以采用如下方案来实现，在端板11上设置有与第一限位块113等高的转轴114，且转轴114位于顶部的支撑杆13的上方，转轴114适配有一联动片6，联动片6的厚度应小于最外侧的硅片2与端板11之间的距离，这样联动片6转动过程中不会被硅片2干涉；联动片6呈“C”形，联动片6具有一开口以便于被转轴114插入，同时，联动片6能够绕转轴114转动，将该联动片6安装在安装板5的两侧，在需要安装安装板5的时候，只要将联动片6插入转轴114就行了，在不需要使用安装板5的时候，可以将联动片6从转轴114拔出就能拆下安装板5，省时省力，为硅片2的清洗和拆装提供便利。

需要指出的是，虽然能够为硅片2的清洗和拆装提供便利，但是对于安装板5盖合到硅片2上方或打开状态的切换还是得依靠人工进行，而硅片2的清洗一般使用的都是强腐蚀溶液，过多的人工介入无疑增加了对工人生命的威胁，为了解决上述问题，可以采用如下方案来实现安装板5的自动切换状态：

在转轴114的右上方固定一第二限位块115，第二限位块115位于转轴114的右上方，使得转轴114位于第一限位块113与第二限位块115之间，通过第二限位块115提供给安装板5打开状态时的倚靠，所述联动片6包括一扇形的插接片61和固定在所述插接片61两端的挡板62，所述安装板5与所述插接片61固定连接，所述插接片61的弧心角大于180°，所述插接片61与所述转轴114相适配，弧心角大于180°的设计保证了转轴114插在插接片61内，以实现转轴114与插接片61之间的转动而不会脱出，弧心角优选为300°，这样插接片61套入转轴114的时候插接片61打开的幅度较小，避免多次插接插接片61时由于插接片61打开幅度过大而断裂的情况；两挡板62延伸至顶部的支撑杆13两侧；在端板11置入清洗池3后，将插接片61插入转轴114以完成安装板5的安装，安装板5抵靠在第二限位块115上，支撑杆13能够推动右侧的挡板62使得插接片61绕转轴114转动，从而安装板5由第二限位块115转动至支撑在第一限位块113上，以实现端板11安装的同时安装板5盖合在硅片2上；在硅片2清洗完成后，支撑杆13能够推动左侧的挡板62使得插接片61绕转轴114转动，从而安装板5从第一限位块113上在惯性的作用下转动至倚靠在第二限位块115上，以实现取出端板11的同时安装板5打开，进而安装板5自动盖合自动打开，减少人工的参与，为工人的生命安全提供保障。

为了实现硅片2的清洗，

所述清洗池3的两长边内侧壁均匀排列有若干喷头34，具体地，各喷头34横向均匀排列且各排也是均匀分布的，两侧的喷头34一一对应以保证硅片2两侧收到冲洗的清洗液也是均匀的，保证了硅片2的清洗效果，各喷头34形成喷淋区域，喷淋区域高于硅片2安装的高度，以使清洗液从斜上方喷射在硅片2上，即喷淋区域高于所述端板11在所述清洗池3内滑动时的顶面，进而保证了硅片2被冲洗的完整性，提高了硅片2的清洗效果。

请参阅图6和图7，图6是图1中B部分的局部放大图；图7是本发明刮板在清洗硅片时的纵剖视图；如图1至图7所示，为了进一步提高硅片2的清洗效果，在硅片2清洗时，在每相邻两硅片2之间的上方安装有一块水平设置的刮板4，刮板4的宽度等于相邻两硅片2之间的距离，通过刮板4向下滑动来对硅片2进行刷洗，以提高硅片2的清洗效果，具体地，

对于刮板4的下滑，可以在刮板4的顶部开设有集水槽41，喷淋区域的高度高于刮板4的起落点高度，这样喷头34可以向集水槽41内喷水，而集水槽41内不断装水之后整个刮板4的质量不断增大，在重力的作用下刮板4能够实现向下滑动，同时可以在刮板4的底部安装刷头42，该刷头42为双向的，且刷头42的两侧与刮板4的两侧相贴合，刷头42在跟随刮板4下降的同时刷洗硅片2表面的污渍，进而提高硅片2的清洗效果；

进一步地，可以在刮板4的上端面的两侧镜像安装两刮条43，两刮条43分别与两侧的硅片2表面相贴合，刮条43的宽度由刮板4向远离刮板4方向逐渐减小，这样能够保证刮条43的安装稳定性，避免刮条43翻折变形的情况，同时在刮板4的上端面开设两镜像设置的疏水槽44，疏水槽44位于集水槽41与刮条43之间，且刮条43较宽的一端靠近疏水槽44，疏水槽44长度方向贯穿刮板4，在刮板4上升过程中，刮条43能够刮除硅片2表面的水分，进而提高了为硅片2清洗过后的烘干提供便利，减少烘干时间，提高硅片2的清洗效率，同时，刮除的水分在刮条43的导向下回流至疏水槽44内，并从两侧排出，通过疏水槽44的设计，避免刮除的水分回流至集水槽41内而增加刮板4的重量影响刮板4上升，同时为了避免刮除的水分在疏水槽44内滞留，疏水槽44应该设计成中间高两侧低的结构，这样疏水槽44内的水分能够从两侧排出；

为了刮板4的上升，可以在刮板4的上表面两端分别安装恢复弹簧45，在刮板4上的集水槽41装水而变重下滑时，恢复弹簧45被拉伸，而当集水槽41内的清洗液被排空时，恢复弹簧45回弹并带动刮板4上升；

为了排空集水槽41内的清洗液，在集水槽41的底部开设有一竖直贯穿所述刮板4的溢水孔46，所述溢水孔46倾斜设置，且相邻两溢水孔46的倾斜方向相反，即相邻两溢水孔46交错设置，在刮板4下降时，集水槽41内的清洗液能够穿过各溢水孔46后冲洗两侧的硅片2，以近距离冲洗硅片2以提高硅片2的清洗效果，集水槽41的积水速度应大于溢水孔46的流水速度，而在喷头34停止喷水后，集水槽41内的清洗液会慢慢从溢水孔46排出，当刮板4整体重量小于恢复弹簧45的弹力时，恢复弹簧45就能回弹带动刮板4上升，疏水槽44的设计能够避免刮板4上升过程中清洗液回流至集水槽41内后通过溢水孔46二次润湿硅片2的情况；

请参阅图8至图11，图8是本发明支撑杆处于高处时的最优实施例的结构示意图；图9是本发明支撑杆处于低处时的最优实施例的结构示意图；图10是图1中C部分局部放大图；图11是图1中D部分局部放大图；如图1至图11所示，为了实现支撑杆13的左移和右移，在端板11位于各支撑杆13的位置处分别开设滑动槽111，滑动槽111向远离齿杆12的方向延伸且向下倾斜，且支撑杆13延伸至两端板11外，在滑动槽111内设置有撑开弹簧14来顶推支撑杆13，使得支撑杆13处于滑动槽111的高处，支撑杆13在受到外力的推动下能够沿滑动槽111滑动并压缩撑开弹簧14，在撤去外力后撑开弹簧14回弹将支撑杆13顶回滑动槽111的高处，在清洗前，在各硅片2依次插入到两夹紧齿121之间后，通过手动掰动支撑杆13压缩撑开弹簧14，使得撑开弹簧14回弹的时候带动支撑杆13同步拍打各硅片2，使得各硅片2排列整齐，进而各松散的硅片2能够被收纳整齐以便于硅片2拆卸。

清洗池3，清洗池3为一长方体，其自上而下开设一个清洗槽，清洗池3用于清洗硅片2，清洗槽的长度等于支撑杆13的长度，在花篮主体1放入清洗池3的时候，支撑杆13沿清洗池3的内壁向下滑，此时支撑杆13能够起到导向作用，保证花篮主体1下滑的直线性，避免硅片2脱出的情况；所述清洗池3的两短边内侧壁分别设置有一推块31，推块31的一侧壁与清洗池3的长边内侧壁相靠，推块31的另一侧壁具有推动面311，具体地，所述推块31为上部宽度大于下部的结构，即所述推动面311为阶梯形，推动面311能够同步与三个支撑杆13接触，在花篮主体1插入清洗池3后，推动面311的横向的一条边与横向排列的支撑杆13处于同一水平面上，向推块31推动端板11使得端板11沿清洗池3池底的滑轨32滑动，推动面311对横向排列的支撑杆13起到限位作用，以便于三个支撑杆13同步被推块31推动，进而支撑杆13沿滑动槽111向下滑动与硅片2脱离并压缩撑开弹簧14，支撑杆13斜下方滑动，使得硅片2在清洗过程中能够滑落并重新与支撑杆13接触，此时硅片2上之前被夹紧齿121的卡紧位置能够露出，进行清洗，从而提高了整个硅片2的清洗效果，在清洗完成后，推块31松开支撑杆13，支撑杆13在撑开弹簧14的回弹力作用下推动硅片2插回至两夹紧齿121之间，并通过回弹力保证各硅片2排列整齐。

在本实施例中，硅片2上之前被夹紧齿121的卡紧位置能够露出，即夹紧齿121更换已经被冲洗过的地方进行夹紧，通过这样的方式使得整个硅片2能够被清洗，而夹紧齿121的结构为横截面面积向远离齿杆12的方向逐渐减小，即使硅片2落在滑动槽111低处的支撑杆13上时硅片2翘起，硅片2的两侧仍旧在两夹紧齿121之间，而不会越过夹紧齿121。

需要指出的是，滑轨32的长度大于端板11的长度，在端板11沿滑轨32滑动的过程中，若端板11与滑轨32脱离，则端板11会翘起而使得硅片2向齿杆12的方向倾斜，从而无法起到完全清洗硅片2的效果，因此，需要在滑轨32开设一个燕尾槽321，同时在端板11的底部设置有与燕尾槽321适配的滑块112，通过燕尾槽321的设计能够保证滑块112滑动的时候不会脱离滑轨32，进而保证了端板11的滑动直线性，在支撑杆13滑动至滑动槽111低处时，能够保证硅片2向支撑杆13的一侧倾斜。

在花篮主体1插入清洗池3后，为了实现对端板11的推动，可以采用如下方案：

在所述清洗池3的池底镜像设置有两推动电机33，推动电机33与推块31一一对应，两推动电机33之间的距离等于两端板11之间的距离，以实现两端板11同步移动，同时，可以将推动电机33设置在清洗池3的外部，避免推动电机33受潮损坏的情况；其中所述端板11插入所述清洗池3至与滑轨32贴合后，具体地，所述推动电机33能够推动所述端板11沿滑轨32向推块31方向滑动，端板11滑动带动三个支撑杆13同时与所述推动面311接触，继续推动端板11使得支撑杆13沿滑动槽111压缩撑开弹簧14，使得硅片2能够展开以便于清洁，在所述推动电机33松开所述端板11后，所述撑开弹簧14回弹带动支撑杆13推动硅片2恢复原位。

综上所述，在清洗硅片2时，将端板11置于清洗池3内后，通过推动电机33推动端板11沿滑轨32滑动，使得三个支撑杆13同步与推块31上的推动面311贴合，此时将插接片61插入转轴114，两挡板62分别处于顶部的支撑杆13的两侧，安装板5抵触在第二限位块115上，推动电机33继续推动端板11使得支撑杆13沿滑动槽111向低处滑动，进而支撑杆13推动右侧的挡板62带动插接片61转动，插接片61转动带动安装板5转动至抵靠在第一限位块113上，即盖合在硅片2上，安装板5转动过程中触发杆52拨动清洗轮382进行转动进行清洁。

在硅片2清洗完成后，推动电机33松开端板11，支撑杆13能够沿滑动槽111向高处滑动，进而支撑杆13滑动过程中推动左侧的挡板62带动插接片61转动，插接片61转动带动安装板5转动，安装板5在惯性作用下能转动至抵靠在第二限位块115上，即安装板5打开，安装板5打开过程中触发杆52能再次拨动清洗轮382转动进行清洁。

以上述依据本发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。

Claims (9)

1.一种防溢出硅片清洗设备，其特征在于，包括：

清洗池和能够沉入所述清洗池的花篮主体；

所述花篮主体包括两平行设置的端板，分别与两端板固定连接的三个齿杆，三个齿杆排列成“L”形，所述齿杆上均布有若干夹紧齿；两端板之间还设置有分别与三个齿杆一一对应的三个支撑杆，三个支撑杆排列成与三个齿杆相对的“L”形，硅片能够插到相邻两夹紧齿之间，且分别与三个支撑杆接触，两端板之间还转动连接有一安装板，所述安装板能够盖合在各硅片上，所述安装板上均匀开设有若干落水孔，所述落水孔与各插接在两夹紧齿之间硅片一一对应；

所述清洗池的两侧短边内侧壁分别具有一溢流腔体，清洗池的内侧壁开设有上溢流孔，所述上溢流孔与所述安装板盖合时等高，且所述上溢流孔与所述溢流腔体连通，所述清洗池的外侧壁底部开设有下溢流孔，所述下溢流孔与所述溢流腔体连通，所述清洗池内清洗液通过上溢流孔进入溢流腔体后，能够从下溢流孔排出；以及

所述上溢流孔的位置处设置有清洗部，所述清洗部与所述上溢流孔的内侧壁贴合，且所述清洗部与所述安装板联动，其中

所述安装板盖合时，所述安装板能够联动所述清洗部清洗所述上溢流孔。

2.如权利要求1所述的一种防溢出硅片清洗设备，其特征在于，

所述安装板的两侧分别设置有一触发杆，所述触发杆为柔性材料，以及

所述清洗部包括转动连接在所述上溢流孔两侧壁的清洗轴，和固定在清洗轴上的清洗轮，且所述清洗轮凸出于所述上溢流孔的端面，所述清洗轮与上溢流孔的内侧壁贴合，其中

所述安装板盖合时，所述触发杆能够推动所述清洗轮转动清洗所述上溢流孔。

3.如权利要求2所述的一种防溢出硅片清洗设备，其特征在于，

所述清洗池的两长边内侧壁倾斜设置有若干喷头，各喷头形成喷淋区域，且喷淋区域高于所述端板在所述清洗池内滑动时的顶面，其中

所述喷头能够冲洗硅片的侧壁。

4.如权利要求3所述的一种防溢出硅片清洗设备，其特征在于，

两端板的相对侧壁分别对应设置有一转轴，所述转轴位于顶部的支撑杆上方，且所述转轴能够插接转动一联动片，所述联动片能够延伸至顶部的支撑杆两侧；

两端板的相对侧壁分别对应设置有一第一限位块，所述第一限位块与所述转轴等高；

两端板的相对侧壁还分别对应设置一第二限位块，所述第二限位块位于所述转轴的斜上方，且所述转轴位于所述第一限位块和所述第二限位块之间；

安装板与所述联动片固定连接，且所述联动片插入所述转轴后，所述安装板能够倚靠在所述第二限位块上；其中

所述端板能够带动支撑杆推动所述联动片带动所述安装板翻转至与所述第一限位块接触；

所述端板退出时，所述支撑杆能够推动所述联动片带动所述安装板翻转至倚靠在所述第二限位块上。

5.如权利要求4所述的一种防溢出硅片清洗设备，其特征在于，

所述联动片包括一扇形的插接片和固定在所述插接片两端的挡板，所述插接片的弧心角大于180°，所述插接片与所述转轴相适配，且两挡板延伸至顶部的支撑杆两侧；

所述安装板与所述插接片固定连接，其中

所述支撑杆能够推动右侧的挡板带动所述安装板落至所述第一限位块上；

所述支撑杆能够推动左侧的挡板带动所述安装板转动至倚靠在所述第二限位块上。

6.如权利要求5所述的一种防溢出硅片清洗设备，其特征在于，

所述安装板的底部排列有若干等间距分布的刮板，所述刮板与所述落水孔一一对应，且所述刮板的宽度等于相邻两硅片之间的距离，所述刮板与所述安装板之间通过恢复弹簧连接，所述刮板的顶壁开设有集水槽；

所述支撑杆滑动时能够联动所述安装板转动至与硅片垂直，所述喷淋区域高于该状态时所述安装板的高度，且所述喷头喷出的冲洗水能够收集在所述集水槽内；其中

冲洗水能够压迫所述刮板贴合相邻两硅片滑动并清洗硅片；

排出所述集水槽内的冲洗水后，所述刮板回弹并贴合相邻两硅片表面刮除水渍。

7.如权利要求6所述的一种防溢出硅片清洗设备，其特征在于，

所述刮板的顶部镜像设置有两刮条，且所述刮板的底部镜像设置有两刷头；其中

所述刮板下降时，所述刷头能够贴合硅片表面并刷除硅片表面的污渍；

所述刮板上升时，所述刮条能够贴合硅片表面并刮除硅片表面的水渍。

8.如权利要求7所述的一种防溢出硅片清洗设备，其特征在于，

所述集水槽的底部开设有一贯穿所述刮板的溢水孔，所述溢水孔倾斜设置，且相邻两溢水孔倾斜方向相反；其中

所述集水槽内的清洗液穿过所述溢水孔后能够冲洗两侧的硅片，并由所述刷头刷除硅片表面的污渍；

所述集水槽内的清洗液通过所述溢水孔流光后，所述刮条能够贴合硅片回弹并刮除硅片表面的水渍。

9.如权利要求8所述的一种防溢出硅片清洗设备，其特征在于，

所述刮板的顶壁镜像开设有两疏水槽，且所述疏水槽位于所述刮条与所述集水槽之间；其中

被所述刮条刮除的水导入所述疏水槽内，并从所述刮板的两侧排出。

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