CN112363344B - 显示基板及显示面板 - Google Patents
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Abstract
本公开实施例提供了一种显示基板及显示面板，包括：衬底基板，衬底基板包括多个相互独立的子像素区；色转换层，位于衬底基板之上；色转换层包括：位于各子像素区的色转换结构和光线调控结构，其中，色转换结构用于将入射光转换为所在子像素区对应颜色的光，光线调控结构用于增大色转换结构对入射光的吸收转换率且不影响金属线栅的偏振度控制入射光的偏振度与经色转换层出射光的偏振度相同；金属线栅，位于色转换层背离衬底基板的一侧，金属线栅用于为色转换层提供入射光。
Description
技术领域
本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及显示面板。
背景技术
随着显示技术的蓬勃发展，显示产品以迅雷不及掩耳之势入侵了我们的生活。显示产品的广色域意味着显示画面具有更加丰富的色彩，具有更强的色彩展现能力，已经成为一个重要发展方向。在广色域的实现方式中，量子点发光光谱窄，色纯度高，显示出独特的优势。
发明内容
一方面，本公开实施例提供了一种显示基板，包括：
衬底基板，所述衬底基板包括多个相互独立的子像素区；
色转换层，位于所述衬底基板之上；所述色转换层包括：位于各所述子像素区的色转换结构和光线调控结构，其中，所述色转换结构用于将入射光转换为所在所述子像素区对应颜色的光，所述光线调控结构用于增大所述色转换结构对所述入射光的吸收转换率且控制所述入射光的偏振度与经所述色转换层出射光的偏振度相同；
金属线栅，位于所述色转换层背离所述衬底基板的一侧，所述金属线栅用于为所述色转换层提供所述入射光。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，所述光线调控结构包括层叠设置的聚乙烯咔唑层和醋酸纤维素层；所述色转换结构分散于所述聚乙烯咔唑层内。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，所述光线调控结构包括同层且平行设置的多个线栅结构；所述色转换结构位于所述多个线栅结构背离所述衬底基板的一侧且填充于相邻所述线栅结构之间的间隙处。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，所述光线调控结构包括三维网络聚合物层；所述色转换结构分散于所述三维网络聚合物层内。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，所述光线调控结构包括具有空气泡的聚合物层；所述色转换结构分散于所述聚合物层内。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，还包括：位于所述衬底基板与所述色转换层之间的色阻层，所述子像素区包括：蓝色子像素区、红色子像素区和绿色子像素区；其中，
所述红色子像素区和所述绿色子像素区的所述色阻层包括黄色彩膜，所述蓝色子像素区的所述色阻层包括蓝色彩膜。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，每一个所述子像素区的所述色阻层包括层叠设置且折射率不同的第一折射层和第二折射层，且所述层叠设置的第一折射层和第二折射层透过所在所述子像素区对应颜色的光。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，还包括：位于所述色阻层与所述衬底基板之间的遮光层，所述遮光层在所述衬底基板上的正投影边界与所述色阻层在所述衬底基板上的正投影边界相互重合，所述遮光层为黑矩阵、黄色彩膜、蓝色彩膜或层叠设置的黄色彩膜和蓝色彩膜。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，还包括：位于所述色转换层与所述金属线栅之间的下转换材料层，所述下转换材料层用于增加所述入射光的波长，其中，所述入射光的波长在增加前和增加后均位于蓝光波段。
另一方面，本公开实施例提供了一种显示面板，包括：驱动背板和显示基板，其中，所述显示基板为上述显示基板，所述驱动背板为阵列基板或有机电致发光显示模组。
附图说明
图1为本公开实施例提供的显示基板的一种结构示意图；
图2为本公开实施例提供的显示基板的又一种结构示意图；
图3为本公开实施例提供的显示基板的又一种结构示意图；
图4为本公开实施例提供的显示基板的又一种结构示意图；
图5为本公开实施例提供的显示基板的又一种结构示意图；
图6为本公开实施例提供的显示基板的又一种结构示意图；
图7为本公开实施例提供的显示基板的又一种结构示意图；
图8为本公开实施例提供的显示基板的又一种结构示意图；
图9为本公开实施例提供的垂直型的光子晶体的结构示意图；
图10为本公开实施例提供的水平型的光子晶体的结构示意图；
图11为本公开实施例提供的具有空气泡的聚合物层的图片；
图12为本公开实施例提供的黄色彩膜与相关技术中红色彩膜、绿色彩膜的光线透过率示意图；
图13为本公开实施例提供的第一折射层和第二折射层所形成色阻层的结构示意图；
图14为本公开实施例提供的第一折射层和第二折射层所形成色阻层透过红光的示意图；
图15为本公开实施例提供的第一折射层和第二折射层所形成色阻层透过绿光的示意图；
图16为本公开实施例提供的第一折射层和第二折射层所形成色阻层透过蓝光的示意图；
图17为本公开实施例提供的第一折射层和第二折射层所形成透过红光的色阻层、透过绿光的色阻层、相关技术中的红色彩膜、绿色彩膜的光线透过率示意图；
图18为本公开实施例提供的遮光层的结构示意图；
图19为本公开实施例提供图1所示显示基板的制作流程图；
图20为本公开实施例提供的图2所示显示基板的制作流程图；
图21为本公开实施例提供的图3所示显示基板的制作流程图；
图22为本公开实施例提供的图4所示显示基板的制作流程图；
图23为本公开实施例提供的图5所示显示基板的制作流程图；
图24为本公开实施例提供的图6所示显示基板的制作流程图；
图25为本公开实施例提供的图7所示显示基板的制作流程图；
图26为本公开实施例提供的图8所示显示基板的制作流程图；
图27为本公开实施例提供的显示面板的一种结构示意图；
图28为本公开实施例提供的显示面板的又一种结构示意图。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。需要注意的是，附图中各图形的尺寸和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本公开内容。并且自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“内”、“外”、“上”、“下”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
量子点彩膜(Quantum Dot Color Filter，QDCF)作为光致发光量子点的其中一种应用近几年被广泛研究。将量子点材料做成光刻胶，形成具有像素级别图案的量子点膜层，该量子点膜层可以针对性的将蓝光转换为红光或绿光来实现全彩显示。
相关技术中，为了提高量子点对蓝光的吸收率，会在量子点膜层中添加散射粒子。作为偏光片的内置金属线栅(WGP)的偏振度理论值可达到99.99％，因此理论上在暗态下仅具有极轻微的漏光现象。然而由于量子点膜层位于金属线栅的出光侧，量子点膜层中所含散射粒子对光线具有较强的散射作用，导致金属线栅的轻微漏光经散射粒子作用后的偏振度仅有97％的水平，从而会导致明显的暗态漏光，严重影响了显示产品的对比度。
针对相关技术中存在的上述问题，本公开实施例提供了一种显示基板，如图1至图8所示，包括：
第一衬底基板101，该第一衬底基板101包括多个相互独立的子像素区；
色转换层102，位于第一衬底基板101之上；色转换层102包括：位于各子像素区的色转换结构和光线调控结构，其中，色转换结构用于将入射光转换为所在子像素区对应颜色的光，光线调控结构用于增大色转换结构对入射光的吸收转换率且控制入射光的偏振度与经色转换层102出射光的偏振度相同；
金属线栅103，位于色转换层102背离第一衬底基板101的一侧，金属线栅103用于为色转换层102提供入射光。
在本公开实施例提供的上述显示基板中，色转换层102所含光线调控结构一方面可以增大色转换结构对入射光的吸收转换率，起到了与相关技术中的散射粒子相同的作用；另一方面，光线调控结构还可以维持经色转换层102出射光的偏振度与金属线栅103所提供入射光的偏振度相同，换言之，光线调控结构不影响金属线栅103的偏振度，从而有效改善了暗态漏光，提高了显示产品的对比度。
需要说明的是，在本公开中金属线栅103所提供入射光的偏振度与经色转换层102出射光的偏振度相同，具体可以理解为二者的偏振度等同或大致相同，例如偏振度变化不大于1％。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，光线调控结构具有以下四种可能的实现方式，具体而言：
第一种可能的实现方式，如图9所示，光线调控结构包括层叠设置的聚乙烯咔唑层1021和醋酸纤维素层1022；色转换结构分散于聚乙烯咔唑层1021内。层叠设置的聚乙烯咔唑层1021和醋酸纤维素层1022是一种垂直型的光子晶体，当入射光的波长处于垂直型的光子晶体的光子带边附近时，会出现强色散现象，这会导致光群速的减慢，当入射光的波长刚好位于光子带边时，光的理论群速减少为零，这个独特的现象可以被用来通过垂直型的光子晶体来减慢入射光在色转换层中传播的速度，以增加入射光与色转换结构(例如量子点或有机荧光染料)之间的相互作用时长，从而提升色转换结构对入射光的吸收转换率。可选地，为有效提升色转换结构对入射光的吸收转换率，交替设置的聚乙烯咔唑层1021和醋酸纤维素层1022的层数可以均为15±10层。
第二种可能的实现方式，如图10所示，光线调控结构包括同层且平行设置的多个线栅结构1023；色转换结构1024位于多个线栅结构1023背离第一衬底基板101的一侧且填充于相邻线栅结构1023之间的间隙处。同层且平行设置的多个线栅结构1023是一种水平型的光子晶体，同样，当入射光的波长处于水平型的光子晶体的光子带边附近时，会出现强色散现象，这会导致光群速的减慢，当入射光的波长刚好位于光子带边时，光的理论群速减少为零，这个独特的现象可以被用来通过水平型的光子晶体来减慢入射光在色转换层中传播的速度，以增加入射光与色转换结构(例如量子点或有机荧光染料)之间的相互作用时长，从而提升色转换结构对入射光的吸收转换率。可选地，为有效提升色转换结构对入射光的吸收转换率，线栅结构1023的间距Λ可以为300nm，深度h可以为90nm。
第三种可能的实现方式，光线调控结构包括三维网络聚合物层；色转换结构分散于三维网络聚合物层内。具体地，入射光在三维网络聚合物层所含网孔处发生多次折射，使得入射光在色转换层102内的传播路径增长，如此则入射光可以与更多的色转换结构充分接触，从而显著提升了色转换结构对入射光的吸收转换率。
第四种可能的实现方式，如图11所示，光线调控结构包括具有空气泡的聚合物层；色转换结构分散于聚合物层内。具体地，入射光在具有空气泡的聚合物层所含空气泡处发生多次折射，使得入射光在色转换层102内的传播路径增长，如此则入射光可以与更多的色转换结构充分接触，从而显著提升了色转换结构对入射光的吸收转换率。
由上述四种可能的实现方式可见，可通过减缓入射光的传播速度或增大入射光的传播路径来提高色转换结构对入射光的吸收转换率。并且，相关技术中散射粒子的存在会影响金属线栅103的偏振度，而本公开中采用光子晶体、三维网络聚合物层和含空气泡的聚合物层替换散射粒子，从而不会影响金属线栅103的偏振度。因此上述四种实现方式均可以保证显示产品的高对比度。
当然，以上仅是对光线调控结构的具体实现方式进行了举例性说明，在具体实施时，只要可增加色转换结构对入射光的吸收转换率且不影响金属线栅的偏振度的实现方式均在本公开的保护范围内，在此不做限定。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，可以采用蓝光作为光源来实现全彩显示，此时，如图1至图8所示，子像素区可以包括：蓝色子像素区B、红色子像素区R和绿色子像素区G；
色转换结构具体可以位于红色子像素区R和绿色子像素区G，包括：位于红色子像素区R的红色转换结构和位于绿色子像素区G的绿色转换结构；
光线调控结构具体可以位于红色子像素区R、绿色子像素区G和蓝色子像素区B。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，如图1至图8所示，还可以包括：位于第一衬底基板101与色转换层102之间的色阻层104，其中，色阻层104在各子像素区的正投影位于色转换层102在各子像素区的正投影内。
采用色阻层104在各子像素区的正投影位于光控制层102在各子像素区的正投影内的设计，可将蓝色子像素区B的蓝光、红色子像素区R的红色转换结构所转换成的红光、以及绿色子像素区G的绿色转换结构所转换成的绿光有效出射，进而满足全彩显示需求。
具体地，该色阻层104可以为彩色滤光片，彩色滤光片一般包括位于红色子像素区R的红色彩膜R-CF、位于绿色子像素区G的绿色彩膜G-CF和位于蓝色子像素区B的蓝色彩膜B-CF。然而，现有彩色滤光片在低波段有些许漏光，故存在环境中的蓝光经彩色滤光片透射至色转换层102而对色转换结构进行激发，导致红色子像素区R和绿色子像素区G的反射率偏高而出现色偏问题。
基于此，在本公开实施例提供的上述显示基板中，为了解决色偏问题，如图1、图2、图5和图6所示，可以设置红色子像素区R和绿色子像素区G的色阻层104包括黄色彩膜Y-CF，蓝色子像素区B的色阻层104包括蓝色彩膜B-CF。具体地，如图12所示，黄色彩膜Y-CF可以有效透过绿光和红光而吸收蓝光，因此有效避免了环境中的蓝光对色转换结构的激发，从而避免了色偏问题。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，为了解决色偏问题，如图3、图4、图7、图8所示和图13所示，还可以设置每一个子像素区的色阻层104包括层叠设置的第一折射层(例如二氧化钛层，TiO2)1041和第二折射层(例如二氧化硅层，SiO2)1042，且层叠设置的第一折射层1041和第二折射层1042可选择性透过所在子像素区对应颜色的光。采用折射率不同的第一折射层1041和第二折射层1042构成的叠层，可以基于薄膜干涉原理实现对不同颜色光的选择性透过，从而有效避免了环境中的蓝光在红色子像素区R和绿色子像素区G对色转换结构的激发，进而避免了色偏问题。
具体地，以第一折射层1041为二氧化钛层，第二折射层1042为二氧化硅层为例，在红色子像素区R、绿色子像素区G和蓝色子像素区B的第一折射层1041和第二折射层1042的叠层厚度参数如表1所示。具体地，由图14可见，表1所示红色子像素区R的第一折射层1041和第二折射层1042的叠层可选择性透过红光；由图15可见，表1所示绿色子像素区G的第一折射层1041和第二折射层1042的叠层可选择性透过绿光；由图16可见，表1所示蓝色子像素区G的第一折射层1041和第二折射层1042的叠层可选择性透过蓝光。另外，由图17可见，相较于相关技术中的红色彩膜R-CF，红色子像素区R的第一折射层1041和第二折射层1042的叠层R-Si/Ti的发射光谱较窄，相较于相关技术中的绿色彩膜G-CF，绿色子像素区G的第一折射层1041和第二折射层1042的叠层G-Si/Ti的发射光谱也较窄，从而可有效提高显示色纯度。此外，由图17可以看出，通过合理设计不同层数、厚度的第一折射层1041和第二折射层1042，可对透过光的中心进行调节，使得其可选择性透过红光或绿光。
表1
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，为避免相邻子像素区的光串扰，如图1至图8所示，还可以包括：位于色阻层104与第一衬底基板101之间的遮光层105，遮光层105在第一衬底基板101上的正投影边界与色阻层104在第一衬底基板101上的正投影边界相互重合。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，如图18所示，遮光层105可以为黑矩阵(BM)、黄色彩膜、蓝色彩膜或层叠设置的黄色彩膜和蓝色彩膜。采用黄色彩膜、蓝色彩膜或层叠设置的黄色彩膜和蓝色彩膜来进行遮光，在防止混色的同时，还可以使得红色子像素区R、绿色子像素区G和蓝色子像素区G对环境光的反射率相近，以有效解决三者对环境光的反射率不同导致的暗态色偏问题。
一般地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，如图1至图8所示，还可以包括：位于色转换层102与金属线栅103之间的平坦层106，位于平坦层106与金属线栅103之间的缓冲层107，位于金属线栅103背离缓冲层107一侧的保护层108，以及位于保护层108背离金属线栅103一侧的第一取向层109。
可选地，在本公开实施例提供的上述显示基板中，如图2、图4、图6和图8所示，还可以包括：位于色转换层102与金属线栅103之间的下转换材料层110(具体可以位于色转换层102与平坦层106之间)，下转换材料层110用于增加入射光的波长，其中，入射光的波长在增加前和增加后均位于蓝光波段。即采用下转换材料层110将短波段(例如380nm-420nm)的蓝光转换成长波段(例如415nm-455nm)的蓝光，一方面较长波段的蓝光仍可激发红色转换结构和绿色转换结构得到相应的红光和绿光，另一方面较长波段的蓝光对人眼的伤害较小。
另外，在本公开实施例提供的上述显示基板中，如图5至图8所示，还可以包括：位于相邻子像素区之间的挡墙111，挡墙111的设置能够极大的减少出光损失，同时还能防止相邻间像素之间混色现象。
基于同一发明构思，本公开实施例提供了一种上述显示基板的制作方法，由于该制作方法解决问题的原理与上述显示基板解决问题的原理相似，因此，本公开实施例提供的该制作方法的实施可以参见本公开实施例提供的上述显示基板的实施，重复之处不再赘述。
具体地，本公开实施例提供的一种上述显示基板的制作方法，如图19所示，具体可以包括以下步骤：
第一步：提供一个第一衬底基板101，该第一衬底基板101包括多个相互独立的子像素区；并在第一衬底基板101上依次形成位于子像素区间隙处的遮光层105和位于各子像素区的色阻层104，其中，红色子像素区R和绿色子像素区G的色阻层104包括黄色彩膜Y-CF，蓝色子像素区B的色阻层104包括蓝色彩膜B-CF。
第二步：在色阻层105上形成色转换层102，该色转换层包括：位于各子像素区的色转换结构和光线调控结构，其中，色转换结构用于将入射光转换为所在子像素区对应颜色的光，光线调控结构用于增大色转换结构对入射光的吸收转换率且控制入射光的偏振度与经色转换层102出射光的偏振度相同。具体地，可通过将聚乙烯咔唑和色转换结构混合，并采用混合后的材料与醋酸纤维素在第一衬底基板101上形成交替设置的叠层结构作为色转换层102；或者，还可以在第一衬底基板上101形成多个线栅结构，并在多个线栅结构所在层上形成一层色转换结构；其中多个线栅结构与色转换结构构成色转换层102；或者，还可以通过静电纺丝的方式形成三维网络聚合物；并将色转换结构和三维网络聚合物混合，并采用混合后的材料在第一衬底基板101上形成色转换层102；或者，还可以将聚苯乙烯微球加入纤维素纳米晶的水溶液，并将混合溶液铸造成膜后，选择性溶解聚苯乙烯微球，形成三维网络聚合物；将色转换结构和三维网络聚合物混合，并采用混合后的材料在第一衬底基板101上形成色转换层102。其中，静电纺丝的过程如下：利用高压电源连接在推注器以及收集器两端，在中间形成高压电场，推注器针头出口处的聚合物液滴在电场作用下由球形变成锥形，从圆锥中心拉伸成丝，在下落到收集器过程伴随着溶剂的挥发，最终在收集器上得到三维无序的纳米纤维膜。
第三步：在色转换层102上形成平坦层106，以降低各子像素区之间的段差，便于后续金属线栅104的制备。之后在平坦层106上形成缓冲层107，以增大对后续金属线栅104的粘附力。
第四步：在缓冲层107上形成金属线栅104，该金属线栅104用于为色转换层102提供入射光。
第五步：在金属线栅104上依次形成保护层108和第一取向层109。
至此，完成了图1所示显示基板的制作。
针对图2所示显示基板，在执行上述第二步之后，且在执行第三步之前，还可以在色转换层102上形成下转换材料层110，其余制作步骤与图1所示显示基板中相同膜层的制作先后顺序相同，如图20所示，在此不再赘述。
针对图3所示显示基板，其与图1所示显示基板的不同之处在于色阻层104，故以下仅对色阻层104的制作进行介绍，其余膜层的制作可参照上文制作图1所示显示基板的过程，在此不做赘述。
具体地，图21示出了图3所示显示基板制作的详细过程，其中可通过以下步骤形成图3所示显示基板的色阻层104：
采用高精度金属掩膜板(FMM)蒸镀的方式或者采用光刻的方式，在遮光层105上的各子像素区交替沉积折射率不同的第一折射层和第二折射层，该层叠设置的第一折射层和第二折射层仅可透过所在子像素区对应颜色的光，并且透过光的波谱宽度和中心值均可调。
针对图4所示显示基板，其与图3所示显示基板的制作过程的不同之处仅在于，还需要在色转换层102上色阻层104之前，形成下转换材料层110，其余制作步骤与图3所示显示基板中相同膜层的制作先后顺序相同，如图22所示，在此不再赘述。
针对图5至图8所示显示基板的制作过程如图23至图26所示，具体可参考图1至图4所示显示基板的制作过程，在此不做赘述。
需要说明的是，在本发明实施例提供的上述制作方法中，形成各层结构涉及到的构图工艺，不仅可以包括沉积、光刻胶涂覆、掩模板掩模、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等部分或全部的工艺过程，还可以包括其他工艺过程，具体以实际制作过程中形成所需构图的图形为准，在此不做限定。例如，在显影之后和刻蚀之前还可以包括后烘工艺。
其中，沉积工艺可以为化学气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积法或物理气相沉积法，在此不做限定；掩膜工艺中所用的掩膜板可以为半色调掩膜板(Half ToneMask)、单缝衍射掩模板(Single Slit Mask)或灰色调掩模板(Gray Tone Mask)，在此不做限定；刻蚀可以为干法刻蚀或者湿法刻蚀，在此不做限定。
基于同一发明构思，本公开实施例提供了一种显示面板，包括驱动背板和显示基板，其中，显示基板为本公开实施例提供的上述显示基板，驱动背板可以为阵列基板或有机电致发光显示模组。由于该显示面板解决问题的原理与上述显示基板解决问题的原理相似，因此，该显示面板的实施可以参见上述显示基板的实施例，重复之处不再赘述。
可选地，在驱动背板为阵列基板时，如图27所示，显示面板具体可以包括：相对而置的显示基板01和阵列基板02，以及位于阵列基板02与显示基板01之间的液晶层03；其中，阵列基板02具体可以包括：偏光片201，第二衬底基板202，依次位于第二衬底基板202背离偏光片201一侧的公共电极203、绝缘层204、第二取向层205和像素电极206。当然阵列基板02还可以包括与像素电极206电连接的开关晶体管等本领域技术人员公知的部分，在此不再一一赘述。
可选地，在驱动背板为有机电致发光显示模组时，如图28所示，显示面板具体可以包括：有机电致发光显示模组04，以及位于有机电致发光显示模组04出光侧的显示基板01；其中，有机电致发光显示模组04具体可以包括：第三衬底基板401，在第三衬底基板401上依次层叠设置的驱动电路层402、像素界定层403、阳极404、发光功能层405、阴极406和封装层407；其中，发光功能层405包括层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光材料层、空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层；封装层407包括层叠设置的第一无机层、有机层和第二无机层。当然有机电致发光显示模组04还可以包括与栅绝缘层等本领域技术人员公知的部分，在此不再一一赘述。
本公开实施例提供的上述显示基板及显示面板，包括：衬底基板，衬底基板包括多个相互独立的子像素区；色转换层，位于衬底基板之上；色转换层包括：位于各子像素区的色转换结构和光线调控结构，其中，色转换结构用于将入射光转换为所在子像素区对应颜色的光，光线调控结构用于增大色转换结构对入射光的吸收转换率且控制入射光的偏振度与经色转换层出射光的偏振度相同；金属线栅，位于色转换层背离衬底基板的一侧，金属线栅用于为色转换层提供所述入射光。由于色转换层所含光线调控结构一方面可以增大色转换结构对入射光的吸收转换率，起到了与相关技术中的散射粒子提高色转换层对入射光的吸收转换率这一相同作用；另一方面，光线调控结构还可控制经色转换层出射光的偏振度与金属线栅所提供入射光的偏振度相同，换言之，光线调控结构不影响金属线栅的偏振度，因此有效改善了暗态漏光，提高了显示产品的对比度。
显然，本领域的技术人员可以对本公开实施例进行各种改动和变型而不脱离本公开实施例的精神和范围。这样，倘若本公开实施例的这些修改和变型属于本公开权利要求及其等同技术的范围之内，则本公开也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (6)
1.一种显示基板，其特征在于，包括：
衬底基板，所述衬底基板包括多个相互独立的子像素区；
色转换层，位于所述衬底基板之上；所述色转换层包括：位于各所述子像素区的色转换结构和光线调控结构，其中，所述色转换结构用于将入射光转换为所在所述子像素区对应颜色的光，所述光线调控结构用于增大所述色转换结构对所述入射光的吸收转换率且控制所述入射光的偏振度与经所述色转换层出射光的偏振度相同；
金属线栅，位于所述色转换层背离所述衬底基板的一侧，所述金属线栅用于为所述色转换层提供所述入射光；
其中，所述光线调控结构包括层叠设置的聚乙烯咔唑层和醋酸纤维素层；所述色转换结构分散于所述聚乙烯咔唑层内。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：位于所述衬底基板与所述色转换层之间的色阻层，所述子像素区包括：蓝色子像素区、红色子像素区和绿色子像素区；其中，
所述红色子像素区和所述绿色子像素区的所述色阻层包括黄色彩膜，所述蓝色子像素区的所述色阻层包括蓝色彩膜。
3.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：位于所述衬底基板与所述色转换层之间的色阻层，其中，
每一个所述子像素区的所述色阻层包括层叠设置且折射率不同的第一折射层和第二折射层，且所述层叠设置的第一折射层和第二折射层透过所在所述子像素区对应颜色的光。
4.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，还包括：位于所述衬底基板之上且位于所述子像素区间隙处的遮光层，所述遮光层在所述衬底基板上的正投影边界与所述色阻层在所述衬底基板上的正投影边界相互重合，所述遮光层为黑矩阵、黄色彩膜、蓝色彩膜或层叠设置的黄色彩膜和蓝色彩膜。
5.如权利要求1-4任一项所述的显示基板，其特征在于，还包括：位于所述色转换层与所述金属线栅之间的下转换材料层，所述下转换材料层用于增加所述入射光的波长，其中，所述入射光的波长在增加前和增加后均位于蓝光波段。
6.一种显示面板，其特征在于，包括：驱动背板和显示基板，其中，所述显示基板为如权利要求1-5任一项所述的显示基板，所述驱动背板为阵列基板或有机电致发光显示模组。
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