CN112305647B - 封装的漫射器 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及封装的漫射器。一种光学器件(诸如漫射器)可以包括衬底；以及漫射器表面，其中，漫射器表面具有大于约1.8的折射率。还公开了制造和使用光学器件的方法。
Description
相关申请
本申请要求享有于2019年7月29日提交的第62/879,860号美国临时专利申请的优先权，该美国临时专利申请的全部公开内容特此通过引用被并入。
技术领域
本公开总体上涉及一种光学器件(诸如漫射器)，该光学器件包括衬底；以及漫射器表面；其中，漫射器表面具有大于约1.8的折射率，例如从约1.8至约4.5。本文公开了制造和使用光学器件的方法。
背景技术
漫射器可以采取各种形式，诸如衍射漫射器和高斯漫射器。微透镜阵列也可以用于漫射目的。
典型的光学漫射器10包括衬底14和漫射器表面12。漫射器表面12包含漫射器图案本身。如图1所示，操作模式是这样的：入射光束照射漫射器表面12，漫射器表面12随后根据漫射器10的属性而将光束从衬底14一侧扩散开。
存在一些应用(诸如与三维(3D)成像、感测和手势识别相关的应用)，在这些应用中，漫射器用于扩散导向用户的激光束，该用户有时正直接看着源/漫射器。通常，定向激光的高功率密度可能会对用户的眼睛造成损伤。然而，处于激光的路径中的漫射器将光束扩展成明显更宽的角展度(angular spread)，这将到达用户眼睛的辐射量降低到不会造成任何损伤的程度。当然，这一点只要在漫射器表面不存在损坏或污染的情况下就是正确的，对漫射器表面的损坏或污染允许集中辐射的很大一部分不受阻碍地透射穿过漫射器(也称为“热点(hot spot)”)。
可以导致热点的两个主要损坏来源是物理损坏和污染。物理损坏意为漫射器表面的直接损坏，其中，漫射器结构被直接损坏或变形到已产生一个或更多个热点的程度。污染可以采取几种形式。最严重和显著的形式发生在当外来材料与漫射器表面接触并保持存在足够长的时间以在容纳漫射器的器件使用时产生热点从而对眼睛安全构成威胁的时候。这里起作用的主要机制是折射率匹配(index-matching)之一。如果某种外来材料与漫射器接触，该外来材料具有接近漫射器表面折射率的折射率，那么，实际上，不存在漫射器表面，并且输入光束基本上不受阻碍地传播，这导致了热点。这种类型污染的典型示例包括将漫射器浸入流体(诸如水或油)中。普通流体的折射率经常在1.3至1.7的范围内，而典型的漫射器材料的折射率在1.45至1.6的范围内，因此，在接触的情况下，折射率匹配的可能性可能很大。
所需要的是一种光学器件(诸如漫射器)，其包括不太可能由于物理损坏和/或污染而产生热点的材料。
发明内容
在一个方面，公开了一种光学器件(诸如漫射器)，其包括衬底；和漫射器表面；其中，漫射器表面具有大于约1.8的折射率。
在一些实施例中，所述漫射器表面具有从约1.8到约4.5的折射率。
在一些实施例中，所述漫射器表面包括漫射器图案。
在一些实施例中，所述衬底和所述漫射器表面由包括硅或锗的单片材料制成。
在一些实施例中，所述衬底和所述漫射器表面各自独立地由选自塑料、玻璃、金刚石、熔融石英和非晶硅的透明材料制成。
在一些实施例中，所述漫射器表面包括氢化硅和选自氮、氧、氢氧化硅、五氧化二铌(Nb2O5)、铌钛氧化物(NbTiOx)以及SiC:H的一种或更多种其他材料，其中，x是1至6的整数。
在一些实施例中，所述光学器件具有折射率对比度Δ>0.25。
在一些实施例中，所述漫射器表面包括第一漫射器表面和第二漫射器表面。
在一些实施例中，所述第一漫射器表面和所述第二漫射器表面是各自独立地封装的。
在一些实施例中，所述漫射器表面是周期性或随机的微结构。
在另一方面，公开了一种制造光学器件的方法，该方法包括提供衬底；以及在衬底上提供漫射器表面；其中，漫射器表面具有大于约1.8的折射率。
在另一方面，公开了一种使用光学器件的方法，该方法包括用输入照明来照射光学器件，其中，光学器件包括衬底；以及漫射器表面；其中，漫射器表面具有大于约1.8的折射率。
各种实施例的额外的特征和优点将部分地在接下来的描述中被阐述，并且从描述中将是部分地明显的，或者可以通过各种实施例的实践而被获悉。将借助于在本文的描述中特别指出的元件和组合来实现和获得各种实施例的目的和其他优点。
附图说明
本公开的特征仅是以示例的方式示出的，并不限于下图，其中相同的数字指示相同的元件，其中：
图1是根据现有技术的光学器件的示意图；
图2是根据本发明的一个方面的光学器件的示意图；
图3是根据本发明的另一方面的光学器件的示意图；
图4是根据本发明的另一方面的光学器件的示意图；
图5是根据本发明的另一方面的光学器件的示意图；
图6是根据本发明的另一方面的光学器件的示意图；
图7是根据本发明的另一方面的光学器件的示意图；
图8是根据本发明的另一方面的光学器件的示意图；以及
图9是根据本发明的另一方面的光学器件的示意图。
具体实施方式
为了简单和说明的目的，通过主要参考本公开的示例来描述本公开。在下面的描述中，阐述了许多具体细节以便提供对本公开的透彻理解。然而，将明显的是，本公开可以在不限制这些具体细节的情况下实施。在其他情况下，尚未详细描述一些方法和结构，以免不必要地使本公开模糊。
另外，附图中描绘的元件可以包括附加组件，并且在不脱离本公开的范围的情况下，可以移除和/或修改那些附图中描述的一些组件。此外，附图中描绘的元件可能不是按比例绘制的，因此，元件可能具有不同于附图中所示的尺寸和/或配置。
应理解，前述一般描述和下面的详细描述都仅仅是示例性的和解释性的，并且意欲提供本教导的各种实施例的解释。在其广泛和变化的实施例中，本文公开了光学器件；以及制造和使用光学器件的方法。
本发明公开了一种光学器件(诸如漫射器)，其可以被配置成通过仔细选择光学器件的漫射器表面的材料或封装，来有助于使损坏和/或污染的可能性最小化。以这种方式，漫射器表面可以与环境隔离，从而降低光学器件可变得受损坏或受污染的可能性。这种概念在需要将损坏或污染的可能性降至最低的应用中可以是非常有用的。具体来说，通过禁止直接接触光学器件的漫射器表面，可以使损坏和/或污染最小化和/或消除。
如图2所示，光学器件100(诸如漫射器)可以包括衬底140；以及漫射器表面120；其中，漫射器表面具有大于约1.8的折射率，例如从约1.8至约4.5。在一个方面，为了减轻由折射率匹配引起的污染的影响，光学器件100的漫射器表面120可以包括具有高折射率的材料，使得通过与流体(诸如水或油)接触引起的污染不会导致热点。光学器件100的漫射器表面120的折射率应该高于污染材料的折射率。典型的污染材料所具有的折射率可以在约1.3至约1.7的范围内。所公开的漫射器表面120所具有的折射率可以大于约1.8(例如从约1.8到约4.5)，以避免与污染材料的折射率匹配。光学器件的折射率范围可以从约1.8到约4.3，例如从约2.0到约4.1，并且作为另一个示例，从约2.2到约4.0。
光学器件100可以由对输入照明透明的任何材料制成。衬底140和漫射器表面120可以各自独立地由透明材料制成。透明材料的非限制性示例包括塑料、玻璃、金刚石、熔融石英和非晶硅。
光学器件100可以是单片的，即，衬底140和漫射器表面120(在其表面上创建漫射器图案)由相同的材料制成。可以通过诸如压花、模制或反应离子蚀刻的方法来创建漫射器表面120。单片材料的非限制性示例包括硅和锗。
光学器件100可以由不同的材料形成。具体来说，漫射器表面120和衬底140可以包括不同的材料。在衬底140和漫射器表面120由不同材料构成的情况下，漫射器表面120一般可以通过复制方法来产生。
漫射器表面120可以具有大于0nm的物理厚度，即，它不仅仅是衬底140的平坦表面。例如，漫射器表面120可以具有足以包括微结构深度的物理厚度。漫射器表面120可以具有从约1nm至约300nm(例如从约3nm至250nm，并且作为另一示例，从约10nm至约200nm，包括在此之间的所有范围和子范围)的物理厚度。
漫射器表面120可以包括高折射率材料，例如，具有大于约1.8的折射率。高折射率材料可以是氢化物、氮化物、碳化物或金属氧化物。高折射率材料的非限制性示例包括硫化锌(ZnS)、氧化锌(ZnO)、氧化锆(ZrO2)、二氧化钛(TiO2)、碳(C)、氧化铟(In2O3)、氧化铟锡(ITO)、五氧化二钽(Ta2O5)、氧化铈(CeO2)、氧化钇(Y2O3)、氧化铕(EU2O3)、铁氧化物例如氧化铁(II、III)(Fe3O4)和氧化铁(Fe2O3)、氮化铪(HfN)、碳化铪(HfC)、氧化铪(HfO2)、氧化镧(La2O3)、氧化镁(MgO)、氧化钕(Nd2O3)、氧化镨(Pr6O11)、氧化钐(Sm2O3)、三氧化二锑(Sb2O3)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si3N4)、一氧化硅(SiO)、氢化硅(SiH)、三氧化二硒(Se2O3)、氧化锡(SnO2)、三氧化钨(WO3)、它们的组合等。在一个方面，漫射器表面120可以包括氢化硅。
漫射器表面120可以包括高折射率材料和一种或更多种其他材料。高折射率材料可以以主要量的方式——即，相对于漫射器表面120的总量在50％或以上——存在于漫射器表面120中。其他材料可以以少量的方式——即，相对于漫射器表面120的总量在50％以下——存在于漫射器表面120中。在一个方面，漫射器表面120可以包括高折射率材料和痕量的各种元素和/或化合物。作为示例，漫射器表面120可以包括氢化硅和选自氮、氧、氢氧化硅、五氧化二铌(Nb2O5)、铌钛氧化物(NbTiOx(其中x是从1至6的整数))和SiC:H的一种或更多种其他材料。具体来说，漫射器表面120可以包括氢化硅、氮和氧。漫射器表面120可以包括氢化硅和痕量的选自氮、氧、氢氧化硅和掺氢碳化硅(SiC:H)的一种或更多种其他材料。
漫射器表面120可以包含漫射器图案本身。在一个方面，漫射器表面120可以受到蚀刻。衬底140可以不发挥光学功能，并且可以主要用于向光学器件100提供机械支撑。
图3图示了光学器件200(诸如漫射器)，其包括衬底240；漫射器表面220；以及封装漫射器表面220的封装层230。光学器件200可以具有大于约2.2的折射率。衬底240和封装层230可以各自独立地包括平坦的外表面。可以执行平坦化(planarization)步骤以获得平坦的外表面。以这种方式，光学器件200可以不受污染材料的折射率匹配的影响。另外，漫射器表面220不暴露于环境，从而抑制直接的物理损坏。明确地说，衬底240和封装层230的平坦外表面可能物理上受到损坏，但是该物理损坏不会影响光学器件200的性能。
光学器件200可以具有一折射率对比度(index contrast)Δ>0.25，例如从约0.25到约500，并且作为另一示例，从约0.5到约450，并且作为另一示例，从约0.75到约400。如果光学器件200的折射率由nD表示，并且封装层230由nC表示，那么光学器件200正常操作的基本要求是折射率对比度Δ＝nD-nC足够大。对比度的确切大小取决于特定光学器件200的要求。在许多情况下，折射率对比度Δ>0.25可足以满足支持各种范围的光学器件要求。
用于封装层230的材料可以与用于漫射器表面220和/或衬底240的材料相同或不同。在一个方面，用于封装层230的材料可以是透明材料，诸如玻璃、聚合物等。材料可被选择为提供必要的折射率对比度。例如，光学器件200(其漫射器表面220由折射率约为2.4的金刚石组成)可以具有由折射率约为1.56的聚合物组成的封装层230。在这种情况下，折射率对比度约为0.8，很容易超过最小值0.25。
图4图示了光学器件300(诸如漫射器)，其包括衬底340；漫射器表面320；以及覆盖层350。覆盖层350也可以包括平坦的外表面。覆盖层350可以保护封装层330。覆盖层350可以是任何透明材料，诸如玻璃。覆盖层350可以改善对环境变化(诸如湿度和/或温度的变化)的可靠性。用于衬底340、漫射器表面320、封装层330和覆盖层350的材料与上面关于衬底140和漫射器表面120讨论的材料相同。
图5图示了光学器件400(诸如漫射器)，其包括衬底440；第一漫射器表面420；以及第二漫射器表面460。光学器件400可以包括封装层430和覆盖层450。覆盖层450也可以包括外部平坦表面。覆盖层450可以保护封装层430。第一漫射器表面420和第二漫射器表面460中的每一个可以被独立地封装。在一个方面，具有多个漫射器表面的光学器件400可以用于提供用单个漫射器表面不能实现的额外的均匀化或增加的扩散角。用于衬底440、第一漫射器表面420、第二漫射器表面460、封装层430和覆盖层450的材料与上面关于衬底140和漫射器表面120讨论的材料相同。
图6、图7和图8图示了具有多个漫射器表面的光学器件。在图6、图7和图8中，漫射器表面(例如第一漫射器表面520和第二漫射器表面560)可以采取周期性或随机微结构(诸如多个微透镜)的形式，或者包括周期性或随机微结构。第一漫射器表面520可以是第二漫射器表面560相对于穿过光学器件500中间的假想平面的镜像(mirror image)。在图6的情况下，微结构是周期性凸起的微透镜，并且可以被封装。在图7的情况下，微结构是周期性凹的微透镜，并且可以被封装。在图8的情况下，微结构随机分布在每个漫射器表面(第一漫射器表面520和第二漫射器表面560)内，但是仍然是彼此的镜像并且可以被封装。在该配置的又一特定情况下，周期性或随机的微结构使得来自光学器件500一侧的微透镜聚焦到光学器件500另一侧上的对应微透镜上。
通过光学器件的光透射会受到在各种界面处反射损耗的限制。为了改善透射，可以将至少一个抗反射层570添加到前述各种配置中的任何一种中的各种界面。例如，图9图示了已经添加到图5的光学器件的抗反射层570。在另一方面，可以将抗反射层570直接添加到漫射器表面520(和第二漫射器表面560)上，以使透射的能量最大化。图6至图9中还示出了封装层530、衬底540和覆盖层550。
还公开了一种制造光学器件的方法，该方法包括提供衬底；以及在衬底上提供漫射器表面，其中，漫射器表面具有大于约1.8的折射率。衬底和漫射器表面如以上关于光学器件所述。
还有一种使用光学器件的方法，该方法包括用输入照明来照射光学器件，其中，光学器件可以包括衬底；以及漫射器表面，其中，漫射器表面具有的折射率大于约1.8。衬底和漫射器表面如以上关于光学器件所述。
从前面的描述中，本领域中的技术人员可以认识到当前的教导可以以各种形式实现。因此，虽然这些教导关于其特定的实施例和示例被描述，但本教导的真实范围不应被如此限制。在不偏离本文教导的范围的情况下，可以进行各种变化和修改。
该范围公开将被广义地解释。本公开旨在公开实现在本文公开的器件、活动和机械行动的等同物、装置、系统和方法。对于所公开的每个器件、物品、方法、装置、机械元件或机构，本公开旨在也在其公开内容中包括并教导用于实践本文公开的许多方面、机构和器件的等同物、装置、系统和方法。此外，本公开涉及涂层及其许多方面、特征和元件。这种器件在其用途和操作方面可以是动态的，本公开旨在包括使用该器件和/或制造光学器件的等同物、装置、系统和方法，以及其与本文中公开的操作和功能的描述和精神一致的许多方面。本申请的权利要求同样将被广义地解释。在本文中的发明的描述在它们的许多实施例中本质上仅仅是示例性的，且因此不偏离本发明的要旨的变形都旨在处于本发明的范围内。这种变形不应被视为背离本发明的精神和范围。
Claims (10)
1.一种光学器件，包括：
衬底；
漫射器表面，所述漫射器表面设置于所述衬底上，其中，所述漫射器表面具有1.8或者大于1.8的折射率，所述漫射器表面包括第一漫射器表面和第二漫射器表面，所述第一漫射器表面的漫射器图案是所述第二漫射器表面的漫射器图案的镜像；
封装层，所述封装层具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，所述封装层在所述第一漫射器表面和所述第二漫射器表面之间，使得所述封装层的所述第一表面与所述第一漫射器表面的漫射器图案直接接触，并且所述封装层的所述第二表面与所述第二漫射器表面的漫射器图案直接接触；其中，漫射器表面的折射率用nD表示，并且所述封装层的折射率用nC表示，折射率对比度Δ＝nD-nC大于0.25；和
覆盖层，所述覆盖层包括外部平坦表面，所述第一漫射器表面、所述第二漫射器表面和所述封装层在所述衬底和所述覆盖层之间。
2.根据权利要求1所述的光学器件，其中，所述漫射器表面具有从1.8到4.5的折射率。
3.根据权利要求1所述的光学器件，其中，所述衬底和所述漫射器表面由包括锗的单片材料制成。
4.根据权利要求1所述的光学器件，其中，所述漫射器表面包括氢化硅、以及选自氮、氧、氢氧化硅、五氧化二铌(Nb2O5)、铌钛氧化物(NbTiOx)或者SiC:H的一种或更多种，其中，x是1至6的整数。
5.根据权利要求4所述的光学器件，其中，所述衬底由透明材料制成，其中，所述透明材料是塑料、玻璃、金刚石、熔融石英或者非晶硅。
6.根据权利要求1所述的光学器件，其中，所述漫射器表面是周期性或随机的微结构。
7.根据权利要求1所述的光学器件，其中，所述衬底包括平坦的外表面。
8.根据权利要求1所述的光学器件，其中，所述漫射器表面是多个微透镜。
9.根据权利要求1所述的光学器件，其中Δ在从0.5至500的范围内。
10.根据权利要求1所述的光学器件，其中所述第一漫射器表面包括第一微结构，并且所述第二漫射器表面包括面向所述第一微结构的第二微结构。
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|---|---|---|---|---|
| US20220291426A1 (en) * | 2021-03-10 | 2022-09-15 | Viavi Solutions Inc. | Diffusive optical device |
Citations (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1708460A (zh) * | 2002-10-29 | 2005-12-14 | 康宁股份有限公司 | 玻璃光学组件的低温制备 |
| CN1734291A (zh) * | 2004-08-04 | 2006-02-15 | 索尼株式会社 | 光漫射片和生产该光漫射片的方法,以及屏幕 |
| CN1781034A (zh) * | 2003-04-28 | 2006-05-31 | 多喜兰株式会社 | 电磁屏蔽光漫射板 |
| CN1987531A (zh) * | 2004-12-20 | 2007-06-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 塑料片材 |
| CN101874213A (zh) * | 2007-08-15 | 2010-10-27 | 普尔·代普斯有限公司 | 改进的光漫射器 |
| CN102449543A (zh) * | 2009-03-30 | 2012-05-09 | 住友化学株式会社 | 液晶表示装置 |
| CN102449542A (zh) * | 2009-03-30 | 2012-05-09 | 住友化学株式会社 | 液晶显示装置 |
| CN103154780A (zh) * | 2010-10-05 | 2013-06-12 | 日本电石工业株式会社 | 光学片 |
| CN103339535A (zh) * | 2011-02-02 | 2013-10-02 | 日本电石工业株式会社 | 光学复合片 |
| CN104040381A (zh) * | 2012-01-04 | 2014-09-10 | 日本电石工业株式会社 | 光学薄片的制造装置以及光学薄片的制造方法 |
| CN104428694A (zh) * | 2012-07-03 | 2015-03-18 | 3M创新有限公司 | 利用菲涅尔透镜膜的装饰性膜制品 |
| CN105144272A (zh) * | 2013-05-02 | 2015-12-09 | 3M创新有限公司 | 用于印刷图形的自发光的成型和双侧标牌 |
| CN105182455A (zh) * | 2015-07-20 | 2015-12-23 | 苏州环明电子科技有限公司 | 扩散板的生产方法 |
| CN105612436A (zh) * | 2013-10-18 | 2016-05-25 | 高通Mems科技公司 | 嵌入式表面漫射器 |
| CN107003565A (zh) * | 2014-12-10 | 2017-08-01 | 三星电子株式会社 | 光偏转漫射片、堆叠光偏转漫射片、堆叠光学片以及使用上述的液晶显示装置 |
| CN107144896A (zh) * | 2016-04-01 | 2017-09-08 | 江苏集萃智能液晶科技有限公司 | 一种光学膜及其制备方法 |
| CN109071969A (zh) * | 2016-04-21 | 2018-12-21 | 康宁股份有限公司 | 具有光变化特征的涂覆制品及其生产方法 |
| WO2019118736A1 (en) * | 2017-12-14 | 2019-06-20 | Viavi Solutions Inc. | Optical system |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9314604D0 (en) | 1993-07-14 | 1993-08-25 | Dow Deutschland Inc | Light diffuser composition |
| FR2832811B1 (fr) | 2001-11-28 | 2004-01-30 | Saint Gobain | Plaque transparente texturee a forte transmission de lumiere |
| JP3822102B2 (ja) * | 2001-12-27 | 2006-09-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 光拡散フイルム、その製造方法、偏光板および液晶表示装置 |
| KR20060116016A (ko) * | 2004-01-05 | 2006-11-13 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 광확산필름, 면광원장치 및 액정표시장치 |
| KR101009709B1 (ko) | 2008-10-15 | 2011-01-19 | 주식회사 엘엠에스 | 확산비드가 구비된 광학소자, 이를 갖는 백라이트 유닛 및 액정표시장치 |
| US20120328829A1 (en) * | 2010-03-03 | 2012-12-27 | Vang Kalc C | Composite with nano-structured layer |
| US9224983B2 (en) * | 2010-12-20 | 2015-12-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate for surface light emitting device and method of manufacturing the substrate, surface light emitting device, lighting apparatus, and backlight including the same |
| KR20130108027A (ko) * | 2012-03-23 | 2013-10-02 | 주식회사 엘지화학 | 유기전자소자용 기판의 제조방법 |
| ES2695052T3 (es) * | 2013-05-17 | 2018-12-28 | Saint-Gobain Glass France | Sustrato OLED difusor transparente y método para producir tal sustrato |
| US10334184B2 (en) | 2016-09-16 | 2019-06-25 | Apple Inc. | Electronic device with light diffuser |
| US11231525B2 (en) * | 2016-11-14 | 2022-01-25 | The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Seed layer for fabrication of antireflective surface structures on optical elements |
-
2020
- 2020-07-28 EP EP20188264.4A patent/EP3771929A1/en active Pending
- 2020-07-28 US US16/940,733 patent/US11327205B2/en active Active
- 2020-07-29 KR KR1020200094814A patent/KR20210014087A/ko active Application Filing
- 2020-07-29 CN CN202010746668.6A patent/CN112305647B/zh active Active
-
2022
- 2022-05-05 US US17/737,198 patent/US20220260762A1/en active Pending
-
2023
- 2023-03-08 KR KR1020230030440A patent/KR20230038677A/ko active IP Right Grant
Patent Citations (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1708460A (zh) * | 2002-10-29 | 2005-12-14 | 康宁股份有限公司 | 玻璃光学组件的低温制备 |
| CN1781034A (zh) * | 2003-04-28 | 2006-05-31 | 多喜兰株式会社 | 电磁屏蔽光漫射板 |
| CN1734291A (zh) * | 2004-08-04 | 2006-02-15 | 索尼株式会社 | 光漫射片和生产该光漫射片的方法,以及屏幕 |
| CN1987531A (zh) * | 2004-12-20 | 2007-06-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 塑料片材 |
| CN101874213A (zh) * | 2007-08-15 | 2010-10-27 | 普尔·代普斯有限公司 | 改进的光漫射器 |
| CN102449543A (zh) * | 2009-03-30 | 2012-05-09 | 住友化学株式会社 | 液晶表示装置 |
| CN102449542A (zh) * | 2009-03-30 | 2012-05-09 | 住友化学株式会社 | 液晶显示装置 |
| CN103154780A (zh) * | 2010-10-05 | 2013-06-12 | 日本电石工业株式会社 | 光学片 |
| CN103339535A (zh) * | 2011-02-02 | 2013-10-02 | 日本电石工业株式会社 | 光学复合片 |
| CN104040381A (zh) * | 2012-01-04 | 2014-09-10 | 日本电石工业株式会社 | 光学薄片的制造装置以及光学薄片的制造方法 |
| CN104428694A (zh) * | 2012-07-03 | 2015-03-18 | 3M创新有限公司 | 利用菲涅尔透镜膜的装饰性膜制品 |
| CN105144272A (zh) * | 2013-05-02 | 2015-12-09 | 3M创新有限公司 | 用于印刷图形的自发光的成型和双侧标牌 |
| CN105612436A (zh) * | 2013-10-18 | 2016-05-25 | 高通Mems科技公司 | 嵌入式表面漫射器 |
| CN107003565A (zh) * | 2014-12-10 | 2017-08-01 | 三星电子株式会社 | 光偏转漫射片、堆叠光偏转漫射片、堆叠光学片以及使用上述的液晶显示装置 |
| CN105182455A (zh) * | 2015-07-20 | 2015-12-23 | 苏州环明电子科技有限公司 | 扩散板的生产方法 |
| CN107144896A (zh) * | 2016-04-01 | 2017-09-08 | 江苏集萃智能液晶科技有限公司 | 一种光学膜及其制备方法 |
| CN109071969A (zh) * | 2016-04-21 | 2018-12-21 | 康宁股份有限公司 | 具有光变化特征的涂覆制品及其生产方法 |
| WO2019118736A1 (en) * | 2017-12-14 | 2019-06-20 | Viavi Solutions Inc. | Optical system |
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