CN112261551B - 发声器件 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种发声器件,其包括盆架、振膜、磁轭,盆架包括第一盆架和第二盆架:第一盆架包括支撑振膜的第一盆架本体、由第一盆架本体一侧凹陷的第一定位槽以及形成于第一定位槽相对两侧的第一工艺缺口;第二盆架包括第二盆架本体、由第二盆架本体一侧凹陷形成的第二定位槽以及形成于第二定位槽的槽底相对两侧的第二工艺缺口;第二盆架本体套设于第一盆架本体,第二定位槽与第一定位槽完全错位设置,并使得第二盆架本体沿垂直于振动方向完全覆盖第一工艺缺口以及使得第一盆架本体沿垂直于振动方向完全覆盖第二工艺缺口。与相关技术相比,本发明的发声器件可靠性好,发声性能优。
Description
【技术领域】
本发明涉及电声转换领域,尤其涉及一种运用于便携式电子产品的发声器件。
【背景技术】
发声器件作为手机等移动终端的主要元器件之一,其主要用于将电信号传换成声音信号。
相关技术的发声器件包括盆架、分别固定于所述盆架的振动系统和具有磁间隙的磁路系统,所述磁路包括固定于所述盆架的磁轭和固定于所述磁轭的并形成所述磁间隙的磁钢单元。所述盆架、所述振动系统及所述磁路系统共同围成发声内腔,为了改善发声器件的声学性能,相关技术的发声器件在磁轭远离振膜的一侧延伸形成后声腔,用以罐装吸音颗粒;而且为进一步大发声器件尺寸不变的前提下增加发声内腔空间,将盆架由金属材料制成,以保护结构强度的同时为发声内腔让位。
相关技术的发声器件中,盆架包括固定振膜的盆架本体、由所述盆架本体远离振膜的一侧凹陷形成的定位槽,所述定位槽用于对磁轭形成定位装配,以提高装配效率和固定强度,但因盆架为金属材料制成,在定位槽成型时,因成型工艺问题会使得定位槽的两侧形成工艺缺口,当磁轭的定位部卡设于定位槽形成定位固定时,当装配后声腔罐装吸音颗粒时,定位槽两侧的工艺缺口使得吸音颗粒由此进入发声内腔,从而影响发声性能。
因此,实有必要提供一种新的发声器件解决上述技术问题。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种可靠性好,发声性能优的发声器件。
为了达到上述目的,本发明提供了一种发声器件,其包括盆架、分别固定于所述盆架的振动系统和驱动所述振动系统振动发声的磁路系统,所述振动系统包括固定于所述盆架的振膜和驱动所述振膜振动发声的音圈,所述磁路系统包括固定于所述盆架远离所述振膜一侧的磁轭和固定于所述磁轭的具有磁间隙的磁钢单元,所述音圈插设于所述磁间隙内,所述盆架、所述振动系统及所述磁路系统共同围成发声内腔,所述盆架包括第一盆架和第二盆架:
所述第一盆架包括支撑固定所述振膜的第一盆架本体以及由所述第一盆架本体靠近所述磁轭的一端凹陷形成的第一定位槽,所述第一定位槽的槽底相对两端向远离所述磁轭的方向凹陷形成第一工艺缺口;
所述第二盆架包括与所述第一盆架本体共同支撑固定所述振膜的第二盆架本体以及由所述第二盆架本体靠近所述磁轭的一端凹陷形成的第二定位槽,所述第二定位槽的槽底相对两端向远离所述磁轭的方向凹陷形成第二工艺缺口;
所述第二盆架本体套设于所述第一盆架本体远离所述磁路系统的一侧,所述第二定位槽与所述第一定位槽沿垂直于所述振膜振动方向完全错位设置,并使得所述第二盆架本体沿垂直于所述振膜的振动方向完全覆盖所述第一工艺缺口以及使得所述第一盆架本体沿垂直于所述振动方向完全覆盖所述第二工艺缺口;
所述磁轭包括磁轭本体以及由所述磁轭本体分别向所述二盆架凸出延伸的第一定位壁和第二定位壁,所述第一定位壁与所述第一定位槽配合且所述第二定位壁与所述第二定位槽配合定位所述盆架与所述磁轭的相对位置。
优选的,所述第一盆架本体靠近所述振膜的一端与所述第二盆架本体靠近所述振膜的一端平齐。
优选的,所述第一盆架本体远离所述振膜的一端对应所述第二定位槽的位置与所述第二定位槽的槽底平齐。
优选的,所述第二盆架本体远离所述振膜的一端对应所述第一定位槽的位置沿垂直于所述振动方向完全覆盖所述第一定位槽。
优选的,所述盆架呈矩形结构,所述第一定位槽包括两个且分别位于所述第一盆架本体的相对两侧,所述第二定位槽包括两个且分别位于所述第二盆架本体的相对两侧,两个所述第一定位槽及两个所述第二定位槽分别位于所述盆架的四边。
优选的,所述第一定位槽的槽底较所述第二定位槽的槽底更靠近所述振膜;所述第二定位壁包括两个且分别由所述磁轭本体的相对两侧沿垂直于所述振动方向延伸形成,所述第一定位壁包括两个且分别由所述磁轭本体的另相对两侧向靠近所述振膜方向弯折形成。
优选的,所述振膜包括呈环状的第一折环部、环绕所述第一折环部并间隔设置的第二折环部以及呈环状的球顶;所述磁钢单元包括固定于所述磁轭的主磁钢、环绕所述主磁钢并与所述主磁钢间隔形成所述磁间隙的副磁钢以及盖设于所述主磁钢且其周缘抵接固定于所述副磁钢的磁碗;所述第二折环部的外周缘固定于所述盆架,所述第一折环部的内周缘固定于所述磁碗远离所述副磁钢的一侧并使得所述磁钢单元部分外露于所述振膜;所述球顶的内周缘与所述第一折环部的外周缘连接,所述球顶的外周缘与所述第二折环的内周缘连接。
优选的,所述振动系统还包括骨架,所述骨架一端连接至所述球顶,其另一端延伸至所述磁间隙内,所述音圈支撑固定于所述骨架。
优选的,所述磁路系统还包括固定环,所述固定环包括套设于所述磁碗周侧的呈环状的环体、由所述环体远离所述磁轭一端向内弯折延伸的卡壁;所述卡壁压设于所述磁碗远离所述磁轭的一侧,所述第一折环的内周缘固定于所述环体,所述盆架、所述振膜、所述固定环、所述磁碗以及所述磁轭共同围成所述发声内腔。
优选的,所述固定环还包括由所述环体靠近所述磁轭的一端延伸的加强壁,所述第一折环的内周缘沿所述加强壁弯折延伸形成延伸壁,所述延伸壁贴合固定于所述加强壁。
与相关技术相比,本发明的发声器件中,将金属材料制成的盆架设计呈双盆架套设结构,第二盆架本体套设于所述第一盆架本体,所述第二定位槽与所述第一定位槽完全错位设置,并使得所述第二盆架本体沿垂直于所述振膜的振动方向完全覆盖所述第一工艺缺口以及使得所述第一盆架本体沿垂直于所述振动方向完全覆盖所述第二工艺缺口,该结构的盆架设计有效的使得因成型工艺造成的工艺缺口被遮挡,且遮挡可靠性好,从而有效避免了发声器件形成后声腔并灌装吸音颗粒时由工艺缺口进入至发声内腔的问题,提高了声学性能及其可靠性。
【附图说明】
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:
图1为本发明发声器件的立体结构示意图;
图2为本发明发声器件的部分立体结构分解图;
图3为本发明发声器件的盆架结构示意图;
图4为本发明发声器件的盆架结构分解图;
图5为沿图1中A-A线的剖示图。
【具体实施方式】
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
请同时参阅图1-5,本发明提供了一种发声器件100,其包括盆架1、振动系统2以及磁路系统3。所述振动系统2和所述磁路系统3分别固定于所述盆架1,所述振动系统2驱动所述磁路系统3振动发声。
本实施方式中,优选所述盆架1由金属材料制成,在同样的外观尺寸的前提下,可有效增加发声器件100的发声内腔10的体积,或在同样发声内腔体积的情况下,可有效缩小外观尺寸。
所述振动系统2包括固定于所述盆架1的振膜21和驱动所述振膜21振动发声的音圈22。
本实施方式中,所述振膜21包括呈环状的第一折环部211、环绕所述第一折环部211并间隔设置的第二折环部212以及呈环状的球顶213。所述球顶213的内周缘与所述第一折环部211的外周缘连接,所述球顶213的外周缘与所述第二折环212的内周缘连接。
更优的,本实施方式中,所述振动系统2还包括骨架23,所述骨架23一端连接至所述球顶213,其另一端延伸至所述磁间隙20内,所述音圈22支撑固定于所述骨架23。
所述磁路系统3包括固定于所述盆架1远离所述振膜21一侧的磁轭31和固定于所述磁轭31的具有磁间隙20的磁钢单元32,所述音圈22插设于所述磁间隙20内。所述盆架1、所述振动系统2及所述磁路系统3共同围成发声内腔10。
本实施方式中,盆架1采用金属盆架,包括第一盆架11和第二盆架12。
所述第一盆架11包括支撑固定所述振膜21的第一盆架本体111以及由所述第一盆架本体111靠近所述磁轭31的一端凹陷形成的第一定位槽112,所述第一定位槽112的槽底相对两端向远离所述磁轭31的方向凹陷形成第一工艺缺口113。
所述第二盆架12包括与所述第一盆架本体111共同支撑固定所述振膜21的第二盆架本体121以及由所述第二盆架本体121靠近所述磁轭31的一端凹陷形成的第二定位槽122,所述第二定位槽122的槽底相对两端向远离所述磁轭31的方向凹陷形成第二工艺缺口123。
所述第一定位槽112和所述第二定位槽122的设置用于定位和固定磁轭31,一方面可以快速定位提高装配效率,另一方面可减小发声器件沿振动方向的厚度,有利用发声器件100的薄型化。
所述第一工艺缺口113和所述第二工艺缺口123是因为金属盆架形成第一定位槽112和第二定位槽122时因成型工艺形成。
所述第二盆架本体121套设于所述第一盆架本体111远离所述磁路系统3的一侧,所述第二定位槽122与所述第一定位槽112沿垂直于所述振膜21振动方向完全错位设置,并使得所述第二盆架本体121沿垂直于所述振膜21的振动方向完全覆盖所述第一工艺缺口113,以及使得所述第一盆架本体111沿垂直于所述振动21方向完全覆盖所述第二工艺缺口123。
至此,上述第一盆架11和第二盆架12的结合使得盆架1的第一工艺缺口113被第二盆架本体121遮挡,所述第二工艺缺口123由被第一盆架本体111遮挡,第一盆架11与第二盆架12相互遮挡从而使得盆架1整体上相当于无工艺缺口结构,避免了发声内腔10与外界(特别是发声器件形成的后声腔)被工艺缺口连通的问题,从而避免了后声腔内的吸音颗粒进入发声内腔10,提高了发声器件的声学性能及可靠性。
所述磁轭31包括磁轭本体311以及由所述磁轭本体311分别向盆架1凸出延伸的第一定位壁312和第二定位壁313。所述第一定位壁312与所述第一定位槽112配合且所述第二定位壁313与所述第二定位槽122配合定位所述盆架1与所述磁轭31的相对位置。所述第一定位壁312卡设固定于所述第一定位槽112内,所述第二定位壁313卡设固定于所述第二定位槽122内,从而通过磁轭31将磁路系统3固定于盆架1。
本实施方式中,因第一盆架本体111与第二盆架本体121共同支撑振动系统2和磁路系统3,因此,优选第一盆架本体111靠近所述振膜21的一端与所述第二盆架本体121靠近所述振膜21的一端平齐,则振膜21的固定稳定性和可靠性更好。
具体的,所述第一盆架本体111远离所述振膜21的一端对应所述第二定位槽122的位置与所述第二定位槽122的槽底平齐。即第一盆架本体111远离所述振膜21的一端相较于第二盆架本体121远离所述振膜21的一端更靠近振膜21。因第二工艺缺口123相较于第二定位槽122的槽底更低,则第一盆架本体111平齐于第二定位槽122的槽底时则将第二工艺缺口123完全遮挡。
所述第二盆架本体121远离所述振膜21的一端对应所述第一定位槽112的位置沿垂直于所述振动方向完全覆盖所述第一定位槽112,因第一工艺缺口113相较于第一定位槽112的槽底更低,则第二盆架本体121平齐于第一定位槽112的槽底时则将第一工艺缺口113完全遮挡。
本实施方式中,所述盆架1呈矩形结构,所述第一定位槽112包括两个且分别位于所述第一盆架本体111的相对两侧,所述第二定位槽122包括两个且分别位于所述第二盆架本体121的相对两侧,两个所述第一定位槽112及两个所述第二定位槽122分别位于所述盆架1的四边,以提高磁轭31的稳定性。
所述第一定位槽112的槽底较所述第二定位槽122的槽底更靠近所述振膜21,即第一盆架本体111远离振膜21的一侧较第二盆架本体121远离振膜21的一侧更靠近振膜21,从而第一盆架11相对第二盆架12可减少部分材料,降低生产成本。
因上述第一定位槽112和第二定位槽122的位置不在同一平面,因此,与之匹配的,所述第二定位壁313包括两个且分别由所述磁轭本体311的相对两侧沿垂直于所述振动方向延伸形成,所述第一定位壁312包括两个且分别由所述磁轭本体311的另相对两侧向靠近所述振膜21方向弯折形成。
所述磁钢单元32包括固定于所述磁轭31的主磁钢321、环绕所述主磁钢321并与所述主磁钢321间隔形成所述磁间隙20的副磁钢322以及盖设于所述主磁钢321且其周缘抵接固定于所述副磁钢322的磁碗323。
所述第二折环部212的外周缘固定于所述盆架1,所述第一折环部211的内周缘固定于所述磁碗323远离所述副磁钢322的一侧并使得所述磁钢单元32部分外露于所述振膜323,从而使得磁路系统3的设计更灵活。
更优的,所述磁路系统3还包括固定环33,所述固定环33包括套设于所述磁碗323周侧的呈环状的环体331、由所述环体331远离所述磁轭31一端向内弯折延伸的卡壁332。所述卡壁332压设于所述磁碗323远离所述磁轭31的一侧,所述第一折环211的内周缘固定于所述环体331,从而提高固定环33与磁碗323的固定强度和可靠性。所述盆架1、所述振膜21、所述固定环33、所述磁碗323以及所述磁轭31共同围成所述发声内腔10。
具体的,所述固定环33还包括由所述环体331靠近所述磁轭31的一端延伸的加强壁333,所述第一折环211的内周缘沿所述加强壁333弯折延伸形成延伸壁214,所述延伸壁214贴合固定于所述加强壁333,用以提高振膜21和第一折环211与磁路系统3的结构固定强度和可靠性,提高稳定性。
与相关技术相比,本发明的发声器件中,将金属材料制成的盆架设计呈双盆架套设结构,第二盆架本体套设于所述第一盆架本体,所述第二定位槽与所述第一定位槽完全错位设置,并使得所述第二盆架本体沿垂直于所述振膜的振动方向完全覆盖所述第一工艺缺口以及使得所述第一盆架本体沿垂直于所述振动方向完全覆盖所述第二工艺缺口,该结构的盆架设计有效的使得因成型工艺造成的工艺缺口被遮挡,且遮挡可靠性好,从而有效避免了发声器件形成后声腔并灌装吸音颗粒时由工艺缺口进入至发声内腔的问题,提高了声学性能及其可靠性。
以上所述的仅是本发明的实施方式,在此应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出改进,但这些均属于本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种发声器件,其包括盆架、分别固定于所述盆架的振动系统和驱动所述振动系统振动发声的磁路系统,所述振动系统包括固定于所述盆架的振膜和驱动所述振膜振动发声的音圈,所述磁路系统包括固定于所述盆架远离所述振膜一侧的磁轭和固定于所述磁轭的具有磁间隙的磁钢单元,所述音圈插设于所述磁间隙内,所述盆架、所述振动系统及所述磁路系统共同围成发声内腔,其特征在于,所述盆架包括第一盆架和第二盆架:
所述第一盆架包括支撑固定所述振膜的第一盆架本体以及由所述第一盆架本体靠近所述磁轭的一端凹陷形成的第一定位槽,所述第一定位槽的槽底相对两端向远离所述磁轭的方向凹陷形成第一工艺缺口;
所述第二盆架包括与所述第一盆架本体共同支撑固定所述振膜的第二盆架本体以及由所述第二盆架本体靠近所述磁轭的一端凹陷形成的第二定位槽,所述第二定位槽的槽底相对两端向远离所述磁轭的方向凹陷形成第二工艺缺口;
所述第二盆架本体套设于所述第一盆架本体远离所述磁路系统的一侧,所述第二定位槽与所述第一定位槽沿垂直于所述振膜振动方向完全错位设置,并使得所述第二盆架本体沿垂直于所述振膜的振动方向完全覆盖所述第一工艺缺口以及使得所述第一盆架本体沿垂直于所述振动方向完全覆盖所述第二工艺缺口;
所述磁轭包括磁轭本体以及由所述磁轭本体分别向所述盆架凸出延伸的第一定位壁和第二定位壁,所述第一定位壁与所述第一定位槽配合且所述第二定位壁与所述第二定位槽配合定位所述盆架与所述磁轭的相对位置。
2.根据权利要求1所述的发声器件,其特征在于,所述第一盆架本体靠近所述振膜的一端与所述第二盆架本体靠近所述振膜的一端平齐。
3.根据权利要求1所述的发声器件,其特征在于,所述第一盆架本体远离所述振膜的一端对应所述第二定位槽的位置与所述第二定位槽的槽底平齐。
4.根据权利要求3所述的发声器件,其特征在于,所述第二盆架本体远离所述振膜的一端对应所述第一定位槽的位置沿垂直于所述振动方向完全覆盖所述第一定位槽。
5.根据权利要求4所述的发声器件,其特征在于,所述盆架呈矩形结构,所述第一定位槽包括两个且分别位于所述第一盆架本体的相对两侧,所述第二定位槽包括两个且分别位于所述第二盆架本体的相对两侧,两个所述第一定位槽及两个所述第二定位槽分别位于所述盆架的四边。
6.根据权利要求5所述的发声器件,其特征在于,所述第一定位槽的槽底较所述第二定位槽的槽底更靠近所述振膜;所述第二定位壁包括两个且分别由所述磁轭本体的相对两侧沿垂直于所述振动方向延伸形成,所述第一定位壁包括两个且分别由所述磁轭本体的另相对两侧向靠近所述振膜方向弯折形成。
7.根据权利要求1所述的发声器件,其特征在于,所述振膜包括呈环状的第一折环部、环绕所述第一折环部并间隔设置的第二折环部以及呈环状的球顶;所述磁钢单元包括固定于所述磁轭的主磁钢、环绕所述主磁钢并与所述主磁钢间隔形成所述磁间隙的副磁钢以及盖设于所述主磁钢且其周缘抵接固定于所述副磁钢的磁碗;所述第二折环部的外周缘固定于所述盆架,所述第一折环部的内周缘固定于所述磁碗远离所述副磁钢的一侧并使得所述磁钢单元部分外露于所述振膜;所述球顶的内周缘与所述第一折环部的外周缘连接,所述球顶的外周缘与所述第二折环的内周缘连接。
8.根据权利要求7所述的发声器件,其特征在于,所述振动系统还包括骨架,所述骨架一端连接至所述球顶,其另一端延伸至所述磁间隙内,所述音圈支撑固定于所述骨架。
9.根据权利要求8所述的发声器件,其特征在于,所述磁路系统还包括固定环,所述固定环包括套设于所述磁碗周侧的呈环状的环体、由所述环体远离所述磁轭一端向内弯折延伸的卡壁;所述卡壁压设于所述磁碗远离所述磁轭的一侧,所述第一折环的内周缘固定于所述环体,所述盆架、所述振膜、所述固定环、所述磁碗以及所述磁轭共同围成所述发声内腔。
10.根据权利要求9所述的发声器件,其特征在于,所述固定环还包括由所述环体靠近所述磁轭的一端延伸的加强壁,所述第一折环的内周缘沿所述加强壁弯折延伸形成延伸壁,所述延伸壁贴合固定于所述加强壁。
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