CN112259591B - 显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本文公开一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括：对盒设置的第一基板结构层和第二基板结构层；第一基板结构层包括：第一基底、第一驱动结构层和发光结构层；第一驱动结构层包括像素驱动电路，发光结构层包括发光元件，发光元件包括：第一阳极、像素定义层、有机发光层和阴极；发光元件与像素驱动电路连接；第二基板结构层包括：第二基底、第二驱动结构层和调光结构层；调光结构层包括：光阀器件和第二阳极；光阀器件在第二阳极和阴极形成的可控电场的作用下改变透光状态；第二驱动结构层包括为第二阳极提供驱动电压的电极驱动电路。本文能够实现显示基板的双面显示，以及双面显示与单面显示的切换。

Description

显示基板及其制备方法、显示装置

技术领域

本文涉及但不限于显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

透明显示面板是一种能够显示图像的透明面板。透明显示面板关闭时，仿佛一块透明玻璃，用户能够透过透明显示面板看到面板后的物体；透明显示面板开启时，用户不仅能够看到透明显示面板上的显示内容，而且能够透过透明显示面板看到没有被显示内容遮挡的面板后的物体。

随着透明显示面板的兴起，用户对透明显示面板提出了新的需求。

发明内容

本公开实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置。

第一方面，本公开提供了一种显示基板，包括：对盒设置的第一基板结构层和第二基板结构层；

所述第一基板结构层包括：第一基底、设置在第一基底上的第一驱动结构层和设置在第一驱动结构层上的发光结构层；所述第一驱动结构层包括像素驱动电路；所述发光结构层包括发光元件；所述发光元件包括：第一阳极、像素定义层、有机发光层和阴极；所述发光元件与所述像素驱动电路连接；

所述第二基板结构层包括：第二基底、设置在第二基底上的第二驱动结构层和设置在第二驱动结构层上的调光结构层；所述调光结构层包括：光阀器件和第二阳极；所述光阀器件在所述第二阳极和所述阴极形成的可控电场的作用下改变所述光阀器件的透光状态；所述第二驱动结构层包括电极驱动电路；所述电极驱动电路为第二阳极提供驱动电压。

第二方面，本公开提供了一种显示基板的制备方法，包括：

在第一基底上形成第一驱动结构层；在第一驱动结构层上形成发光结构层；所述驱动结构层包括像素驱动电路；所述发光结构层包括发光元件；所述发光元件包括：第一阳极、像素定义层、有机发光层和阴极；所述发光元件与所述像素驱动电路连接；

在第二基底上形成第二驱动结构层；在第二驱动结构层上形成调光结构层；所述调光结构层包括：光阀器件和第二阳极；所述光阀器件在第二阳极和阴极形成的可控电场的作用下改变透光状态；所述第二驱动结构层包括电极驱动电路，所述电极驱动电路为第二阳极提供驱动电压；

对盒所述第一基底上形成的结构层和所述第二基底上形成的结构层。

第三方面，本公开提供了一种显示装置，包括上述显示基板。

本公开实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置，显示基板包括对盒设置的第一基板结构层和第二基板结构层，第一基板结构层包括第一驱动结构层和发光结构层，第二基板结构层包括第二驱动结构层和调光结构层，发光结构层中的阴极和调光结构层中的第二阳极形成可控电场，从而控制调光结构层中的光阀器件改变透光状态，能够实现显示基板的双面显示，以及双面显示与单面显示的切换。

附图说明

附图用来提供对本公开技术方案的理解，并且构成说明书的一部分，与本公开的实施例一起用于解释本公开的技术方案，并不构成对本公开技术方案的限制。

图1为本公开实施例提供的一种显示基板的结构示意图；

图2-1为本公开实施例提供的显示基板的一个像素的像素发光区和像素透光区的示意图(侧视图)；

图2-2为本公开实施例提供的显示基板的一个像素的像素发光区和像素透光区的示意图(俯视图)；

图3-1为本公开实施例提供的双面显示的示意图；

图3-2为本公开实施例提供的单面显示的示意图；

图4-1为本公开实施例提供的一种光阀器件的俯视图(拉伸件沿透光膜短边分布)；

图4-2为本公开实施例提供的一种光阀器件的俯视图(拉伸件沿透光膜长边分布)；

图5为本公开实施例提供的一种第一基板结构层的示意图；

图6为本公开实施例提供的一种第二基板结构层的示意图。

附图标记说明:

1—第一基板结构层；2—第二基板结构层；

10—第一基底；12—第一驱动结构层；13—第一平坦层；

14—发光结构层；

20—第二基底；22—第二驱动结构层；23—第二平坦层；

24—调光结构层；

241—光阀器件；242—第二阳极；

2411—透光膜；2412—拉伸件；

2412a—第一拉伸件；2412b—第二拉伸件；

2412c—第三拉伸件；2412d—第四拉伸件；

101—第一晶体管；102—存储电容；201—第二晶体管；

121—第一绝缘层；122—第二绝缘层；

123—第三绝缘层；124—第四绝缘层；

141—第一阳极；142—像素定义层；143—有机发光层；144—阴极；

221—第五绝缘层；222—第六绝缘层；

223—第七绝缘层；

100—像素发光区；200—像素透光区；

具体实施方式

为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本公开的实施例进行详细说明。注意，实施方式可以以多个不同形式来实施。所属技术领域的普通技术人员可以很容易地理解一个事实，就是方式和内容可以在不脱离本公开的宗旨及其范围的条件下被变换为各种各样的形式。因此，本公开不应该被解释为仅限定在下面的实施方式所记载的内容中。在不冲突的情况下，本公开中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

在附图中，有时为了明确起见，夸大表示了各构成要素的大小、层的厚度或区域。因此，本公开的一个方式并不一定限定于该尺寸，附图中各部件的形状和大小不反映真实比例。此外，附图示意性地示出了理想的例子，本公开的一个方式不局限于附图所示的形状或数值等。

本说明书中的“第一”、“第二”、“第三”等序数词是为了避免构成要素的混同而设置，而不是为了在数量方面上进行限定的。

在本说明书中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如，可以是固定连接，或可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或通过中间件间接相连，或两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。

在本说明书中，晶体管是指至少包括栅电极、漏电极以及源电极这三个端子的元件。晶体管在漏电极(漏电极端子、漏区域或漏电极)与源电极(源电极端子、源区域或源电极)之间具有沟道区域，并且电流能够流过漏电极、沟道区域以及源电极。注意，在本说明书中，沟道区域是指电流主要流过的区域。

在本说明书中，“电连接”包括构成要素通过具有某种电作用的元件连接在一起的情况。“具有某种电作用的元件”只要可以进行连接的构成要素间的电信号的授受，就对其没有特别的限制。“具有某种电作用的元件”的例子不仅包括电极和布线，而且还包括晶体管等开关元件、电阻器、电感器、电容器、其它具有各种功能的元件等。

在本说明书中，“膜”和“层”可以相互调换。例如，有时可以将“导电层”换成为“导电膜”。与此同样，有时可以将“绝缘膜”换成为“绝缘层”。

本公开中的“约”，是指不严格限定界限，允许工艺和测量误差范围内的数值。

此外，在本公开实施例的描述中，术语“第一电平”和“第二电平”仅用于区别两个电平的幅度不同。

本公开实施例提供了一种显示基板，图1为本公开实施例提供的显示基板的结构示意图。如图1所示，本公开实施例提供的显示基板，包括：对盒设置的第一基板结构层1和第二基板结构层2；

所述第一基板结构层1包括：第一基底10、设置在第一基底10上的第一驱动结构层12和设置在第一驱动结构层12上的发光结构层14；

所述第一驱动结构层12包括像素驱动电路；

所述发光结构层14包括发光元件；所述发光元件包括：第一阳极141、像素定义层142、有机发光层143和阴极144；所述发光元件与所述像素驱动电路连接；

所述第二基板结构层2包括：第二基底20、设置在第二基底20上的第二驱动结构层22和设置在第二驱动结构层22上的调光结构层24；

所述调光结构层24包括：光阀器件241和第二阳极242；所述光阀器件241在所述第二阳极242和所述阴极144形成的可控电场的作用下改变所述光阀器件241的透光状态；

所述第二驱动结构层22包括电极驱动电路；所述电极驱动电路为第二阳极242提供驱动电压。

本公开实施例提供的上述显示基板，显示基板包括对盒设置的第一基板结构层和第二基板结构层，第一基板结构层包括第一驱动结构层和发光结构层，第二基板结构层包括第二驱动结构层和调光结构层，发光结构层中的阴极和调光结构层中的第二阳极形成可控电场，从而控制调光结构层中的光阀器件改变透光状态，能够实现显示基板的双面显示，以及双面显示与单面显示的切换。

在一些示例性的实施方式中，所述显示基板的透光膜的状态可以分区域控制；所述区域的大小可以设定。因为所述显示基板的每一个像素的第二阳极都对应各自的电极驱动电路，因此，所述显示基板的透光状态可以达到像素级的控制精度。也即，上述显示基板还可以实现像素级的调光精度。

在一些示例性的实施方式中，所述第一阳极、第二阳极和阴极均为透明电极；所述第一基底和所述第二基底均为透明基底。当第一阳极、第二阳极、阴极均为透明电极时，有机发光层发出的光可以透射至第一基底和第二基底，达到双向出光的效果，从而实现双面显示。当第一基底和第二基底均为透明基底时，显示基板外的自然光可以从第一基底入射进显示基板，也可以从第二基底入射进显示基板，从而使得显示基板具有透明玻璃的效果。

在一些示例性的实施方式中，所述第一基底和第二基底均为柔性基底。

在一些示例性的实施方式中，所述显示基板的任意一个像素包括：像素发光区100和像素透光区200；其中，像素的像素发光区的范围是该像素的有机发光层发出的光在任意一个基底上的正投影的范围；像素的像素透光区的范围是显示基板外部的自然光从一个基底入射，经过该像素的各结构层后投影到另一个基底上的正投影的范围。图2-1是一个像素的像素发光区和像素透光区的侧视图。图2-2是一个像素的像素发光区和像素透光区的俯视图。如图2-2所示，在栅线(Gate)和数据线(Data)形成的网格中，一个像素的像素发光区的范围与发光结构层中有机发光层143的大小相同或相近。

在一些示例性的实施方式中，一个像素的像素发光区和像素透光区的面积比可以是1:4。在其他的实施例中，所述像素发光区和像素透光区的面积比还可以是其他的比例。

图3-1是光阀器件开启(可以是部分开启或全部开启)时，显示基板双面显示的示意图。此时，有机发光层双向出光(向第一基底方向和第二基底方向均出光)，显示基板上下面同时显示图像。并且，在像素透光区，从第一基底入射的显示基板外部的自然光可以透过显示基板的各个结构层从第二基底出射到显示基板外部，从第二基底入射的显示基板外部的自然光可以透过显示基板的各个结构层从第一基底出射到显示基板外部，实现透明玻璃的效果(可以是完全透明或部分透明)。

图3-2是光阀器件完全关闭时，显示基板单面显示的示意图。此时，有机发光层双向出光(向第一基底方向和第二基底方向均出光)，但是只有显示基板的一面(第一基底侧)显示图像，显示基板的另一面(第二基底侧)不显示图像。并且，在像素透光区，从第一基底入射的显示基板外部的自然光由于受到光阀器件的阻挡，无法透射到第二基底，从第二基底入射的显示基板外部的自然光由于受到光阀器件的阻挡，也无法透射到第一基底，实现不透明的效果。

在一些示例性的实施方式中，所述光阀器件241的透光状态包括：不透光状态和透光状态；其中，透光状态包括：部分透光状态和完全透光状态。

在一些示例性的实施方式中，所述光阀器件241包括透光膜2411和至少一对相对设置的拉伸件2412；所述拉伸件2412设置在所述透光膜2411的侧壁上；

所述透光膜2411在拉伸件2412的水平拉伸力作用下改变所述透光膜2411的透光状态；

所述拉伸件2412在可控电场的电压控制下发生水平方向的收缩形变。

在一些示例性的实施方式中，所述透光膜的透光状态至少包括：透明态和非透明态；所述透明态至少包括完全透明状态；所述透明态还可以包括部分透明状态。当透光膜处于未拉伸状态时，光线不能透过透光膜，所述透光膜处于非透明态。当透光膜受到水平方向的拉伸力发生水平方向的拉伸形变时，光线能够透过透光膜，所述透光膜处于透明态。透光膜受到的水平方向的拉伸力越大，光线的透过率越高。

在一些示例性的实施方式中，所述透光膜为PDMS(聚二甲基硅氧烷)薄膜。PDMS(聚二甲基硅氧烷)薄膜是将矩形透明PDMS堆栈薄片与含有黑色微小染料颗粒的溶液混合形成的。当PDMS薄膜处于未拉伸状态时，材料呈模糊状态，光线几乎无法透过薄膜。当PDMS薄膜受力发生拉伸变形时，材料逐渐呈透明态，光线可以透过薄膜。PDMS膜可弯曲，当上下基板为柔性基板时，该方案可适用于柔性透明显示基板。

在一些示例性的实施方式中，所述拉伸件采用电致伸缩材料制成。电致伸缩材料是材料长度能够随加载在材料两端电压变化而变化的材料。电致伸缩材料的应变量可以满足以下公式：X＝RE²，其中X为电致伸缩材料在电压/电场作用下电致伸缩材料的应变量，E为加载在电致伸缩材料两端的电压值/电场强度，R为电致伸缩系数。以聚氨酯弹性体材料为例，R值主要与材料中掺杂的粒子浓度和材料厚度等有关。

在一些示例性的实施方式中，所述PDMS薄膜和拉伸件电镀或沉积在所述第二阳极上。

如图4-1所示，在一些示例性的实施方式中，所述相对设置的拉伸件2412包括沿第一方向相对设置的第一拉伸件2412a和第二拉伸件2412b；所述第一方向为透光膜2411底面的短边方向。

如图4-2所示，在一些示例性的实施方式中，所述相对设置的拉伸件2412包括沿第二方向相对设置的第三拉伸件2412c和第四拉伸件2412d；所述第二方向为透光膜2411底面的长边方向。

如图3-1所示，阴极的电压为第一电平(比如0V)，第二阳极的电压为第二电平(比如大于0V且小于或等于10V)，PDMS膜为透明态(可以是部分透明或完全透明)，显示基板的两个基底均可以显示，实现双面显示。此时两个基板侧的自然光均能透过像素，实现透明的效果。

如图3-2所示，阴极的电压为第一电平(比如0V)，第二阳极的电压为第一电平(比如0V)，PDMS膜的拉伸形变最小，材料为模糊态，有机发光层发出的光无法通过PDMS膜，显示基板只有第一基底侧单面显示。此时第二基板侧的自然光无法透过像素，降低了自然光对显示的影响，提升了单面显示效果。特别地，由于PDMS膜可弯曲，当上下基板为柔性基板时，该方案可适用于柔性透明显示基板。

在一些示例性的实施方式中，所述发光结构层为OLED(Organic Light-EmittingDiode，有机发光二极管)。OLED由于具有自发光、尺寸小、重量轻、功耗低等优点，已被广泛采用为显示装置的发光元件。将OLED技术应用于透明显示领域，可以通过技术改进采用透明度高的材料替代或者去除原来不透明显示基板中不透明的部分，从而提高面板的整体透明度以实现透明显示。可以采用透明材料制造OLED的衬底和电极。

在一些示例性的实施方式中，第一驱动结构层包括形成像素驱动电路的多个晶体管和存储电容。图5中以一个第一晶体管101和一个存储电容102为例对第一基板结构层进行示意。第一驱动结构层包括：设置在第一基底10上的第一绝缘层121，设置在第一绝缘层121上的第一有源层，覆盖第一有源层的第二绝缘层122，设置在第二绝缘层122上的第一栅金属层，覆盖第一栅金属层的第三绝缘层123，设置在第三绝缘层123上的第二栅金属层，覆盖第二栅金属层的第四绝缘层124，设置在第四绝缘层124上的第一源漏金属层(SD1)；第一栅金属层至少包括第一栅电极和第一电容电极，第二栅金属层至少包括第二电容电极，第一源漏金属层至少包括的第一源电极和第一漏电极；第一有源层、第一栅电极、第一源电极和第一漏电极组成第一晶体管101；第一电容电极和第二电容电极组成存储电容102。

如图5所示，在一些示例性的实施方式中，第一驱动结构层12上设置有第一平坦层13，发光元件设置在第一平坦层13上。发光元件包括第一阳极141、像素定义层142、有机发光层143和阴极144，第一阳极141通过第一平坦层13上开设的第一过孔与第一晶体管101的第一漏电极连接。

在一些示例性的实施方式中，第二驱动结构层22包括形成电极驱动电路的多个晶体管。图6中以一个第二晶体管201为例对第二基板结构层进行示意。图6中，第二驱动结构层22包括：设置在第二基底20上的第五绝缘层221，设置在第五绝缘层221上的第二有源层，覆盖第二有源层的第六绝缘层222，设置在第六绝缘层222上的第三栅金属层，覆盖第三栅金属层的第七绝缘层223，设置在第七绝缘层223上的第二源漏金属层(SD2)；第三栅金属层至少包括第二栅电极，第二源漏金属层至少包括第二源电极和第二漏电极；第二有源层、第二栅电极、第二源电极和第二漏电极组成第二晶体管201。

如图6所示，在一些示例性的实施方式中，第二驱动结构层22上设置有第二平坦层23，第二阳极242设置在第二平坦层23上。第二阳极242通过第二平坦层23上开设的第二过孔与第二晶体管201的第二漏电极连接。

本公开实施例提供了一种显示基板的制备方法，包括：

在第一基底上形成第一驱动结构层；在第一驱动结构层上形成发光结构层；所述驱动结构层包括像素驱动电路；所述发光结构层包括发光元件；所述发光元件包括：第一阳极、像素定义层、有机发光层和阴极；所述发光元件与所述像素驱动电路连接；

在第二基底上形成第二驱动结构层；在第二驱动结构层上形成调光结构层；所述调光结构层包括：光阀器件和第二阳极；所述光阀器件在第二阳极和阴极形成的可控电场的作用下改变透光状态；所述第二驱动结构层包括电极驱动电路，所述电极驱动电路为第二阳极提供驱动电压；

对盒所述第一基底上形成的结构层和所述第二基底上形成的结构层。

本公开实施例提供的显示基板的制备方法，通过在第一基底上形成第一驱动结构层和发光结构层，在第二基底上形成第二驱动结构层和调光结构层，能够使得发光结构层中的阴极和调光结构层中的第二阳极形成可控电场，从而控制调光结构层中的光阀器件改变透光状态，能够实现显示基板的双面显示，以及双面显示与单面显示的切换。

在一些示例性的实施方式中，在第一基底上形成第一驱动结构层，包括：在第一基底上形成像素驱动电路，所述像素驱动电路包括第一晶体管和存储电容；所述第一晶体管包括第一有源层、第一栅极、第一源电极和第一漏电极；所述存储电容包括：第一电容电极和第二电容电极。

在第一基底上形成第一晶体管和存储电容，包括：在第一基底上形成第一绝缘层，在第一绝缘层上设置第一有源层，在第一绝缘层上形成第二绝缘层，在第二绝缘层上设置第一栅金属层，在第二绝缘层上形成第三绝缘层，在第三绝缘层上设置第二栅金属层，在第三绝缘层上形成第四绝缘层，在第四绝缘成上设置第一源漏金属层。第一栅金属层至少包括第一栅电极和第一电容电极，第二栅金属层至少包括第二电容电极，第一源漏金属层至少包括第一源电极和第一漏电极。

在一些示例性的实施方式中，在第一驱动结构层上形成发光结构层，包括：在第四绝缘层上形成第一平坦层，在第一平坦层上形成发光结构层；所述发光结构层包括发光元件，所述发光元件包括：第一阳极、像素定义层、有机发光层和阴极，第一阳极通过第一平坦层上开设的第一过孔与第一晶体管的第一漏电极连接。

在一些示例性的实施方式中，在第二基底上形成第二驱动结构层，包括：在第二基底上形成电极驱动电路，所述电极驱动电路包括第二晶体管；所述第二晶体管包括第二有源层、第二栅极、第二源电极和第二漏电极。

在第二基底上形成第二晶体管，包括：在第二基底上形成第五绝缘层，在第五绝缘层上设置第二有源层，在第五绝缘层上形成第六绝缘层，在第六绝缘层上设置第三栅金属层，在第六绝缘层上形成第七绝缘层，在第七绝缘成上设置第二源漏金属层。第三栅金属层至少包括第二栅电极，第二源漏金属层至少包括第二源电极和第二漏电极。

在一些示例性的实施方式中，在第二驱动结构层上形成调光结构层，包括：在第二驱动结构层上形成第二平坦层，在第二平坦层上形成调光结构层；所述调光结构层包括光阀器件和第二阳极，第二阳极通过第二平坦层上开设的第二过孔与第二晶体管的第二漏电极连接。其中，在第二驱动结构层上形成第二平坦层可以是在第七绝缘层上形成第二平坦层。

在一些示例性的实施方式中，在第二平坦层上形成调光结构层，包括：在第二平坦层上形成第二阳极，在第二阳极上形成光阀器件。当所述光阀器件包括透光膜和拉伸件时，在所述第二阳极上电镀或沉积所述透光膜和拉伸件。所述透光膜可以是PDMS膜，所述拉伸件可以采用电致伸缩材料制成。

本申请实施例还提供了一种显示装置，包括上述显示基板。

所述显示装置可以为有机发光显示装置。该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。

虽然本申请所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本申请而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (14)

1.一种显示基板，包括：对盒设置的第一基板结构层和第二基板结构层；

所述第一基板结构层包括：第一基底、设置在第一基底上的第一驱动结构层和设置在第一驱动结构层上的发光结构层；

所述第一驱动结构层包括像素驱动电路；

所述发光结构层包括发光元件；所述发光元件包括：第一阳极、像素定义层、有机发光层和阴极；所述发光元件与所述像素驱动电路连接；

所述第二基板结构层包括：第二基底、设置在第二基底上的第二驱动结构层和设置在第二驱动结构层上的调光结构层；

所述调光结构层包括：光阀器件和第二阳极；所述光阀器件在所述第二阳极和所述阴极形成的可控电场的作用下改变所述光阀器件的透光状态；所述光阀器件包括透光膜和至少一对相对设置的拉伸件；所述拉伸件设置在所述透光膜的侧壁上；所述透光膜在拉伸件的水平拉伸力作用下改变所述透光膜的透光状态；所述拉伸件在可控电场的电压控制下发生水平方向的收缩形变；

所述第二驱动结构层包括电极驱动电路；所述电极驱动电路为第二阳极提供驱动电压。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于：

所述相对设置的拉伸件包括沿第一方向相对设置的第一拉伸件和第二拉伸件；所述第一方向为透光膜底面的短边方向；或者

所述相对设置的拉伸件包括沿第二方向相对设置的第三拉伸件和第四拉伸件；所述第二方向为透光膜底面的长边方向。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于：

所述透光膜为聚二甲基硅氧烷薄膜。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于：

所述拉伸件采用电致伸缩材料制成。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的显示基板，其特征在于：

所述第一阳极、第二阳极和阴极均为透明电极；

所述第一基底和所述第二基底均为透明基底。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于：

所述显示基板的任意一个像素包括：像素发光区和像素透光区；

所述显示基板包括阵列排布的多个像素。

7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于：

所述电极驱动电路至少包括：驱动晶体管。

8.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于：

所述光阀器件的透光状态包括：不透光状态和透光状态；

其中，透光状态包括：部分透光状态和全部透光状态。

9.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于：

所述发光元件为有机发光二极管OLED。

10.一种权利要求1-9中任一项所述的显示基板的制备方法，包括：

在第一基底上形成第一驱动结构层；在第一驱动结构层上形成发光结构层；所述驱动结构层包括像素驱动电路；所述发光结构层包括发光元件；所述发光元件包括：第一阳极、像素定义层、有机发光层和阴极；所述发光元件与所述像素驱动电路连接；

在第二基底上形成第二驱动结构层；在第二驱动结构层上形成调光结构层；所述调光结构层包括：光阀器件和第二阳极；所述光阀器件在第二阳极和阴极形成的可控电场的作用下改变透光状态；所述第二驱动结构层包括电极驱动电路，所述电极驱动电路为第二阳极提供驱动电压；

对盒所述第一基底上形成的结构层和所述第二基底上形成的结构层。

11.根据权利要求10所述的显示基板的制备方法，其特征在于：

在第二基底上形成第二驱动结构层，包括：在第二基底上形成电极驱动电路，所述电极驱动电路包括驱动晶体管；所述驱动晶体管包括有源层、栅极、源电极和漏电极。

12.根据权利要求10所述的显示基板的制备方法，其特征在于：

在第二驱动结构层上形成调光结构层，包括：在第二驱动结构层上形成平坦层，在平坦层上形成调光结构层；所述调光结构层包括光阀器件和第二阳极，第二阳极通过平坦层上开设的过孔与驱动晶体管的漏电极连接。

13.根据权利要求12所述的显示基板的制备方法，其特征在于：

在平坦层上形成调光结构层，包括：

在平坦层上形成第二阳极，在所述第二阳极上电镀或沉积光阀器件；所述光阀器件包括：透光膜和拉伸件。

14.一种显示装置，包括：权利要求1-9中任一项所述的显示基板。

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