CN112198766B - 异味去除装置和涂胶显影机台 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种异味去除装置和涂胶显影机台，该装置包括：挡板，其悬挂于涂胶显影机台的背面散发异味的位置；挂钩，其设置于所述挡板上，用于将挡板悬挂在散发异味的位置；出气管，其设置于挡板上，其一端通孔与散发异味的位置连通，其通孔的另一端与排气管的一端连接，排气管的另一端与I线光刻设备所在的厂房的排气系统连接；其中，挡板上设置有通孔，该通孔用于分配挡板内侧的气体压力。本申请该装置通过通孔能够分配挡板内侧气体压力，通过出气管和排气管能够将散发异味的气体输出至排气系统，从而能够较为彻底地去除I线光刻工艺的涂胶显影机台背面散发的异味。

Description

异味去除装置和涂胶显影机台
技术领域
本申请涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种应用于I线光刻工艺的涂胶显影机台上的异味去除装置和涂胶显影机台。
背景技术
I线光刻是曝光波长为365纳米(nm)左右的光刻工艺，由于其具有焦深较之G线光刻(曝光波长为436纳米左右的光刻设备)更深，价格低廉的优势，被广泛应用于半导体制造工艺中。
应用于I线光刻工艺的I线光刻胶由于具有高粘度特性，因此在对其进行烘烤的过程中，I线光刻工艺的涂胶显影机台的背面会散发异味，通过挥发性有机化合物(volatileorganic compounds，VOC)检测仪检测，其背面的VOC浓度的峰值可达到14100微克每立方厘米(μg/cm3)。
鉴于此，相关技术中，针对I线光刻的涂胶显影机台散发异味的问题，可通过改进排气系统、强化设备密封或设置带孔地板进行解决。然而，通过上述方式进行改进后，涂胶显影机台所散发的异味问题依然较为严重，通过VOC检测仪检测，VOC浓度依然维持在数千μg/cm3的水平。
发明内容
本申请提供了一种异味去除装置和涂胶显影机台，可以解决相关技术中I线光刻的涂胶显影机台散发异味的问题。
一方面，本申请实施例提供了一种异味去除装置，所述装置应用于I线光刻工艺的涂胶显影机台上，包括：
挡板，所述挡板悬挂于所述涂胶显影机台的背面散发异味的位置；
挂钩，所述挂钩设置于所述挡板上，用于将所述挡板悬挂在所述散发异味的位置；
出气管，所述出气管设置于所述挡板上，所述出气管的一端通孔与所述散发异味的位置连通，所述出气管的通孔的另一端与排气管的一端连接，所述排气管的另一端与所述I线光刻设备所在的厂房的排气系统连接；
其中，所述挡板上设置有通孔，所述通孔用于分配所述挡板内侧的气体压力。
可选的，所述挡板上设置有多行通孔。
可选的，所述多行通孔中，存在两行通孔的通孔间距不同。
可选的，所述挡板的构成材料包括铝(Al)。
可选的，所述挡板的厚度为0.6毫米(mm)至1.6毫米。
可选的，所述排气系统的压力为250帕(Pa)至500帕。
可选的，所述排气系统的排气流量为1立方米每分钟(cm3/min)至4立方米每分钟。
另一方面，本申请实施例提供了一种涂胶显影机台，所述涂胶显影机台应用于I线光刻工序中，所述机台的背面散发异味的位置设置有如上任一所述的异味去除装置。
本申请技术方案，至少包括如下优点：
通过在I线光刻工艺的涂胶显影机台背面散发异味的位置悬挂异味去除装置，该异味去除装置包括设置有通孔的挡板，与散发异味的位置相通的出气管，分别与挡板上的出气管和排气系统连接的排气管，该装置通过通孔能够分配挡板内侧气体压力，通过出气管和排气管能够将散发异味的气体输出至排气系统，从而能够较为彻底地去除I线光刻工艺的涂胶显影机台背面散发的异味。
附图说明
为了更清楚地说明本申请具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请一个示例性实施例提供的异味去除装置的剖面图；
图2是本申请一个示例性实施例提供的异味去除装置的挡板的正视图；
图3是本申请一个示例性实施例提供的异味去除装置的挡板的俯视图。
具体实施方式
下面将结合附图，对本申请中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在不做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电气连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，还可以是两个元件内部的连通，可以是无线连接，也可以是有线连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
此外，下面所描述的本申请不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
参考图1，其示出了本申请一个示例性实施例提供的异味去除装置的剖面图；参考图2，其示出了本申请一个示例性实施例提供的异味去除装置的挡板的正视图；参考图3，其示出了本申请一个示例性实施例提供的异味去除装置的挡板的俯视图。
如图1至图3所示，该异味去除装置包括：
挡板110，其悬挂于I线光刻工艺的涂胶显影机台200的背面散发异味的位置。挡板110上设置有通孔，该通孔用于分配挡板110内侧的气体压力。
可选的，本申请实施例中，挡板110的构成材料包括铝；可选的，挂钩111和出气管112与挡板110的构成材料相同；可选的，挡板的厚度为0.6毫米至1.6毫米(例如，其可以是1毫米)。
挂钩111，其设置于挡板110上，用于将挡板110悬挂在散发异味的位置。
出气管112，其设置于挡板110上，其通孔1121的一端与散发异味的位置连通，其通孔1121的另一端与排气管120的一端连接，排气管120的另一端与I线光刻设备所在的厂房的排气系统300连接。
可选的，本申请实施例中，排气系统300的压力为250帕至500帕；可选的，排气系统300的排气流量为1立方米每分钟至4立方米每分钟(例如，其可以是2.8立方米每分钟)。排气系统300的参数在上述取值范围下，异味去除装置可以有较佳的异味去除能力。
综上所述，本申请实施例中，通过在I线光刻工艺的涂胶显影机台背面散发异味的位置悬挂异味去除装置，该异味去除装置包括设置有通孔的挡板，与散发异味的位置相通的出气管，分别与挡板上的出气管和排气系统连接的排气管，该装置通过通孔能够分配挡板内侧气体压力，通过出气管和排气管能够将散发异味的气体输出至排气系统，从而能够较为彻底地去除I线光刻工艺的涂胶显影机台背面散发的异味。
在一个可选的实施例中，如图2和图3所示，挡板110上设置有多行通孔(图2中以三行通孔1131、1132和1133进行示例性说明)；可选的，多行通孔中，存在两行通孔的通孔间距不同，例如，图2中，第一行通孔1131和第二行通孔1132的通孔间距不同。
在一个可选的实施例中，涂胶显影机台200的背面存在至少两处散发异味的位置，可在每个散发异味的位置悬挂本申请实施例中任一实施例中提供的异味去除装置。
通过本申请提供的异味去除装置，可将VOC浓度降低到个位数，甚至0μg/cm3的水平。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本申请创造的保护范围之中。

Claims (8)

1.一种异味去除装置，其特征在于，所述装置应用于I线光刻工艺的涂胶显影机台上，包括：
挡板，所述挡板悬挂于所述涂胶显影机台的背面散发异味的位置；
挂钩，所述挂钩设置于所述挡板上，用于将所述挡板悬挂在所述散发异味的位置；
出气管，所述出气管设置于所述挡板上，所述出气管的一端通孔与所述散发异味的位置连通，所述出气管的通孔的另一端与排气管的一端连接，所述排气管的另一端与所述I线光刻设备所在的厂房的排气系统连接；
其中，所述挡板上设置有通孔，所述通孔用于分配所述挡板内侧的气体压力。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述挡板上设置有多行通孔。
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述多行通孔中，存在两行通孔的通孔间距不同。
4.根据权利要求1至3任一所述的装置，其特征在于，所述挡板的构成材料包括铝。
5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述挡板的厚度为0.6毫米至1.6毫米。
6.根据权利要求1至3任一所述的装置，其特征在于，所述排气系统的压力为250帕至500帕。
7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述排气系统的排气流量为1立方米每分钟至4立方米每分钟。
8.一种涂胶显影机台，其特征在于，所述涂胶显影机台应用于I线光刻工艺中，所述机台的背面散发异味的位置设置有如权利要求1至7任一所述的异味去除装置。
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