CN112193380A - 一种水上浮台用稳定装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种水上浮台用稳定装置，包括主矩形外壳，所述主矩形外壳的一侧安装有主安装板，所述主矩形外壳在与主安装板对立侧面的中部设有一主部件安装凹槽，所述主矩形外壳在位于所述主部件安装凹槽的上下表面通过轴承安装两主旋转轴。本发明安装在水上浮台侧面，当浪潮发生时，浪潮会带动水面液体移动，该移动直接作用在旋转板表面，此时，旋转板会朝向浪潮移动方向旋转，该旋转会使得环形斜面机构旋转，在斜面的限位作用下，使得旋转方位的液体上移，逆向旋转方向部位的液体下移，液体会发生相对于浪潮方向的逆向旋转，使得位于浪潮撞击部位的液体量加大，从而加重水上浮台在该部位的重力，提高其抗击效果，增加水上浮台的稳定性。

Description

一种水上浮台用稳定装置
技术领域
本发明涉及稳定技术领域，具体为一种水上浮台用稳定装置。
背景技术
目前，在水面工作的设备，比如水上浮台或者水上浮力灯塔，都是在漂浮在液面上，提供工作场所，但是由于浪潮或者液面的反复运动，导致其在工作时，会使得水上浮台反复发生倾斜，对限位连接部位产生损伤。
发明内容
本发明的目的在于提供一种水上浮台用稳定装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种水上浮台用稳定装置，包括主矩形外壳，所述主矩形外壳的一侧安装有主安装板，所述主矩形外壳在与主安装板对立侧面的中部设有一主部件安装凹槽，所述主矩形外壳在位于所述主部件安装凹槽的上下表面通过轴承安装两主旋转轴，两所述主旋转轴在对立端安装一主旋转板，所述主旋转板在位于外部空间的侧面安装一旋转立板，所述主旋转板圆周侧面的底部安装一环形斜面机构，所述主矩形外壳设有两第一缓冲外壳和第二缓冲外壳，且所述第一缓冲外壳和第二缓冲外壳的轴心线关于主部件安装凹槽的横向轴心线对称设置，所述第一缓冲外壳和第二缓冲外壳内部中心分别设有第一缓冲空间和第二缓冲空间，所述第一缓冲外壳和第二缓冲外壳侧面的底部之间设有一主流动管道，所述主流动管道的内部设有连通第一缓冲空间侧面顶部和第二缓冲空间侧面顶部的主流动孔，所述第一缓冲空间和第二缓冲空间的内部分别安放有主活塞板和副活塞板的底部中心分别安装一主伸缩杆和副活塞杆，所述主伸缩杆和副活塞杆的底部分别安装一底部为斜面的抵触板，两所述抵触板的底部抵触在环形斜面机构的斜面上。
进一步的，所述环形斜面机构包括环形斜面机构用环形板、环形斜面机构用环形平面台、环形斜面机构用第一斜面结构和环形斜面机构用第二斜面结构。
进一步的，所述环形斜面机构用环形板的中心部位设有环形斜面机构用环形平面台，所述环形斜面机构用环形板在位于所述环形斜面机构用环形平面台的两侧分别设有环形斜面机构用第一斜面结构和环形斜面机构用第二斜面结构。
进一步的，所述环形斜面机构用第一斜面结构和环形斜面机构用第二斜面结构是有环形斜面机构用环形板底表面到环形斜面机构用环形平面台表面过渡连接形成的斜面结构。
进一步的，所述环形斜面机构用环形板的内侧安装在主旋转板圆周侧面的底部，且所述环形斜面机构用第二斜面结构的中心对称部位和旋转立板的平面处于同一直线上。
进一步的，所述环形斜面机构用第一斜面结构和环形斜面机构用第二斜面结构的表面分别抵触一抵触板，且所述环形斜面机构用第一斜面结构和环形斜面机构用第二斜面结构的倾斜角度和抵触板的倾斜角度一致。
进一步的，所述第一缓冲空间内壁、第二缓冲空间内壁、主流动孔、主活塞板和副活塞板上表面之间形成的密封区域内部填充有缓冲液。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明安装在水上浮台侧面，当浪潮发生时，浪潮会带动水面液体移动，该移动直接作用在旋转板表面，此时，旋转板会朝向浪潮移动方向旋转，该旋转会使得环形斜面机构旋转，在斜面的限位作用下，使得旋转方位的液体上移，逆向旋转方向部位的液体下移，液体会发生相对于浪潮方向的逆向旋转，使得位于浪潮撞击部位的液体量加大，从而加重水上浮台在该部位的重力，提高其抗击效果，增加水上浮台的稳定性。
附图说明
图1为本发明一种水上浮台用稳定装置的全剖结构示意图；
图2为本发明一种水上浮台用稳定装置的俯视结构示意图；
图3为本发明一种水上浮台用稳定装置中环形斜面机构的结构示意图；
图4为本发明一种水上浮台用稳定装置中环形斜面机构在横向展开时的结构示意图；
图中：1，主矩形外壳、2，主安装板、3，主部件安装凹槽、4，主旋转轴、5，主旋转板、6，旋转立板、7，环形斜面机构、71，环形斜面机构用环形板,72，环形斜面机构用环形平面台,73，环形斜面机构用第一斜面结构,74，环形斜面机构用第二斜面结构、8，第一缓冲外壳、9，第二缓冲外壳、10，第一缓冲空间、11，第二缓冲空间、12，主流动管道、13，主流动孔、14，主活塞板、15，副活塞板、16，主伸缩杆、17，副活塞杆、18，抵触板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1和图2，本发明提供的一种实施例：包括主矩形外壳1，所述主矩形外壳1的一侧安装有主安装板2，所述主矩形外壳1在与主安装板2对立侧面的中部设有一主部件安装凹槽3，所述主矩形外壳1在位于所述主部件安装凹槽3的上下表面通过轴承安装两主旋转轴4，两所述主旋转轴4在对立端安装一主旋转板5，所述主旋转板5在位于外部空间的侧面安装一旋转立板6，所述主旋转板5圆周侧面的底部安装一环形斜面机构7，所述主矩形外壳1设有两第一缓冲外壳8和第二缓冲外壳9，且所述第一缓冲外壳8和第二缓冲外壳9的轴心线关于主部件安装凹槽3的横向轴心线对称设置，所述第一缓冲外壳8和第二缓冲外壳9内部中心分别设有第一缓冲空间10和第二缓冲空间11，所述第一缓冲外壳8和第二缓冲外壳9侧面的底部之间设有一主流动管道12，所述主流动管道12的内部设有连通第一缓冲空间10侧面顶部和第二缓冲空间11侧面顶部的主流动孔13，所述第一缓冲空间10和第二缓冲空间11的内部分别安放有主活塞板14和副活塞板15的底部中心分别安装一主伸缩杆16和副活塞杆17，所述主伸缩杆16和副活塞杆17的底部分别安装一底部为斜面的抵触板18，两所述抵触板18的底部抵触在环形斜面机构7的斜面上。
请参阅图3和图4，所述环形斜面机构7包括环形斜面机构用环形板71、环形斜面机构用环形平面台72、环形斜面机构用第一斜面结构73和环形斜面机构用第二斜面结构74；所述环形斜面机构用环形板71的中心部位设有环形斜面机构用环形平面台72，所述环形斜面机构用环形板71在位于所述环形斜面机构用环形平面台72的两侧分别设有环形斜面机构用第一斜面结构73和环形斜面机构用第二斜面结构74；所述环形斜面机构用第一斜面结构73和环形斜面机构用第二斜面结构74是有环形斜面机构用环形板71底表面到环形斜面机构用环形平面台72表面过渡连接形成的斜面结构；所述环形斜面机构用环形板71的内侧安装在主旋转板5圆周侧面的底部，且所述环形斜面机构用第二斜面结构74的中心对称部位和旋转立板6的平面处于同一直线上；所述环形斜面机构用第一斜面结构73和环形斜面机构用第二斜面结构74的表面分别抵触一抵触板18，且所述环形斜面机构用第一斜面结构73和环形斜面机构用第二斜面结构74的倾斜角度和抵触板18的倾斜角度一致。
所述第一缓冲空间10内壁、第二缓冲空间11内壁、主流动孔13、主活塞板14和副活塞板15上表面之间形成的密封区域内部填充有缓冲液。
具体使用方式：本发明工作中，将多个该装置分别安装在主安装板2安水上浮台的各个侧面，并且使得旋转立板6高度的3/4浸入到水面以下，当浪潮发生时，浪潮会带动水面液体移动，该移动直接作用在旋转立板6表面，此时，旋转立板6会朝向浪潮移动方向旋转，该旋转会使得环形斜面机构7旋转，在斜面的限位作用下，使得旋转方位的液体上移，逆向旋转方向部位的液体下移，液体会发生相对于浪潮方向的逆向旋转，使得位于浪潮撞击部位的液体量加大，从而加重水上浮台在该部位的重力，提高其抗击效果。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (7)

1.一种水上浮台用稳定装置，包括主矩形外壳(1)，其特征在于：所述主矩形外壳(1)的一侧安装有主安装板(2)，所述主矩形外壳(1)在与主安装板(2)对立侧面的中部设有一主部件安装凹槽(3)，所述主矩形外壳(1)在位于所述主部件安装凹槽(3)的上下表面通过轴承安装两主旋转轴(4)，两所述主旋转轴(4)在对立端安装一主旋转板(5)，所述主旋转板(5)在位于外部空间的侧面安装一旋转立板(6)，所述主旋转板(5)圆周侧面的底部安装一环形斜面机构(7)，所述主矩形外壳(1)设有两第一缓冲外壳(8)和第二缓冲外壳(9)，且所述第一缓冲外壳(8)和第二缓冲外壳(9)的轴心线关于主部件安装凹槽(3)的横向轴心线对称设置，所述第一缓冲外壳(8)和第二缓冲外壳(9)内部中心分别设有第一缓冲空间(10)和第二缓冲空间(11)，所述第一缓冲外壳(8)和第二缓冲外壳(9)侧面的底部之间设有一主流动管道(12)，所述主流动管道(12)的内部设有连通第一缓冲空间(10)侧面顶部和第二缓冲空间(11)侧面顶部的主流动孔(13)，所述第一缓冲空间(10)和第二缓冲空间(11)的内部分别安放有主活塞板(14)和副活塞板(15)的底部中心分别安装一主伸缩杆(16)和副活塞杆(17)，所述主伸缩杆(16)和副活塞杆(17)的底部分别安装一底部为斜面的抵触板(18)，两所述抵触板(18)的底部抵触在环形斜面机构(7)的斜面上。
2.根据权利要求1所述的一种水上浮台用稳定装置，其特征在于：所述环形斜面机构(7)包括环形斜面机构用环形板(71)、环形斜面机构用环形平面台(72)、环形斜面机构用第一斜面结构(73)和环形斜面机构用第二斜面结构(74)。
3.根据权利要求2所述的一种水上浮台用稳定装置，其特征在于：所述环形斜面机构用环形板(71)的中心部位设有环形斜面机构用环形平面台(72)，所述环形斜面机构用环形板(71)在位于所述环形斜面机构用环形平面台(72)的两侧分别设有环形斜面机构用第一斜面结构(73)和环形斜面机构用第二斜面结构(74)。
4.根据权利要求3所述的一种水上浮台用稳定装置，其特征在于：所述环形斜面机构用第一斜面结构(73)和环形斜面机构用第二斜面结构(74)是有环形斜面机构用环形板(71)底表面到环形斜面机构用环形平面台(72)表面过渡连接形成的斜面结构。
5.根据权利要求3所述的一种水上浮台用稳定装置，其特征在于：所述环形斜面机构用环形板(71)的内侧安装在主旋转板(5)圆周侧面的底部，且所述环形斜面机构用第二斜面结构(74)的中心对称部位和旋转立板(6)的平面处于同一直线上。
6.根据权利要求3所述的一种水上浮台用稳定装置，其特征在于：所述环形斜面机构用第一斜面结构(73)和环形斜面机构用第二斜面结构(74)的表面分别抵触一抵触板(18)，且所述环形斜面机构用第一斜面结构(73)和环形斜面机构用第二斜面结构(74)的倾斜角度和抵触板(18)的倾斜角度一致。
7.根据权利要求1所述的一种水上浮台用稳定装置，其特征在于：所述第一缓冲空间(10)内壁、第二缓冲空间(11)内壁、主流动孔(13)、主活塞板(14)和副活塞板(15)上表面之间形成的密封区域内部填充有缓冲液。
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