CN112186001A - 显示面板以及包括该显示面板的显示设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种显示面板以及包括该显示面板的显示设备。该显示面板包括:基板,包括主显示区域和辅助显示区域,该辅助显示区域包括第一像素区域、第二像素区域和透射区域;第一像素,位于第一像素区域中并且包括第一像素电极、第一对电极以及位于第一像素电极与第一对电极之间的第一中间层;第二像素,位于第二像素区域中并且包括第二像素电极、第二对电极以及位于第二像素电极与第二对电极之间的第二中间层;像素限定层,位于第一像素电极和第二像素电极上并且具有第一开口和第二开口,第一像素电极和第二像素电极的中央分别通过第一开口和第二开口被暴露;以及第一阻挡壁,位于像素限定层上。
Description
技术领域
一些示例实施例的各方面涉及显示面板以及包括该显示面板的显示设备。
背景技术
近年来,显示设备的各种使用或应用已经变得多样化。另外,随着显示设备的厚度和重量减小,其使用范围增加。
由于以各种方式利用显示设备,因此可能存在设计显示设备的形状的各种方法。另外,增加了将显示设备与另一显示设备组合/连接的功能。
在该背景技术部分中公开的以上信息仅用于增强对背景技术的理解,并且因此,在该背景技术部分中讨论的信息不一定构成现有技术。
发明内容
一些示例实施例的各方面涉及一种显示面板和包括该显示面板的显示设备,并且例如,涉及一种具有改善的质量的显示面板和包括该显示面板的显示设备。
一个或多个示例实施例包括具有辅助显示区域的显示设备,在辅助显示区域中可以在显示区域内放置传感器等,使得可以增加将显示设备与另一显示设备组合/连接的功能。然而,该特性仅是示例,并且根据本公开的实施例的范围不限于此。
另外的方面将部分地在下面的描述中阐述,并且部分地根据描述将变得更加明显,或者可以通过本公开的所提供的示例实施例的实践而获知。
根据一个或多个示例实施例,显示面板包括基板,该基板包括主显示区域和辅助显示区域,该辅助显示区域包括第一像素区域、第二像素区域和透射区域;第一像素,位于第一像素区域中,并且包括第一像素电极、第一对电极以及位于第一像素电极与第一对电极之间的第一中间层;第二像素,位于第二像素区域中,并且包括第二像素电极、第二对电极以及位于第二像素电极与第二对电极之间的第二中间层;像素限定层,位于第一像素电极和第二像素电极上并且具有第一开口和第二开口,第一像素电极和第二像素电极的中央分别通过第一开口和第二开口被暴露;以及第一阻挡壁,位于第一像素与第二像素之间的像素限定层上并且具有顶表面,第一对电极和第二对电极在该顶表面上彼此重叠。
根据一些示例实施例,显示面板可以进一步包括位于第一像素区域中的第三像素,其中第三像素包括第三像素电极、位于第三像素电极上的第三中间层以及位于第一像素区域中的与第三中间层相对应的第一对电极。
根据一些示例实施例,显示面板可以进一步包括位于第一像素与第三像素之间的像素限定层上的第二阻挡壁。
根据一些示例实施例,第一对电极可以位于第二阻挡壁的顶表面上。
根据一些示例实施例,显示面板可进一步包括位于第二像素区域中的第四像素,其中第四像素包括第四像素电极、位于第四像素电极上的第四中间层以及位于第二像素区域中的与第四中间层相对应的第二对电极。
根据一些示例实施例,显示面板可以进一步包括位于第二像素与第四像素之间的像素限定层上的第三阻挡壁。
根据一些示例实施例,第二对电极可以位于第三阻挡壁的顶表面上。
根据一些示例实施例,在第一阻挡壁上彼此重叠的第一对电极的远端和第二对电极的远端可以位于第一阻挡壁上。
根据一些示例实施例,第一对电极和第二对电极可以具有重叠区域,第一对电极的至少一部分和第二对电极的至少一部分在重叠区域中彼此重叠,并且该重叠区域可以具有第一反射率,并且除重叠区域之外的第一像素区域和第二像素区域可具有与第一反射率不同的第二反射率。
根据一些示例实施例,第一对电极可以位于至少一个第一像素区域中。
根据一些示例实施例,第二对电极可以位于至少一个第二像素区域中。
根据一些示例实施例,第一对电极的顶表面和第二对电极的底表面可以在第一阻挡壁上彼此表面接触并且可以彼此电接触。
根据一些示例实施例,第一像素区域、第二像素区域和透射区域可以交替布置并且可以呈网格布置。
根据一些示例实施例,第一对电极可以具有在第一方向上具有第一宽度的第一矩形形状,并且第二对电极可以具有在第一方向上具有第二宽度的第二矩形形状,并且第一宽度的尺寸可以与第二宽度的尺寸相同。
根据一些示例实施例,多个第一像素区域、多个第二像素区域和多个透射区域可以位于辅助显示区域中,并且多个第一像素区域和多个第二像素区域可以交替布置在第三方向上,并且多个透射区域可以布置在第三方向上。
根据一个或多个示例实施例,一种显示设备包括:显示面板,包括基板,该基板包括主显示区域和辅助显示区域,该辅助显示区域包括像素区域和透射区域,该像素区域包括第一像素区域和第二像素区域;第一像素,位于第一像素区域中并且包括第一像素电极、第一对电极以及位于第一像素电极与第一对电极之间的第一中间层;第二像素,位于第二像素区域中并且包括第二像素电极、第二对电极以及位于第二像素电极与第二对电极之间的第二中间层;像素限定层,位于第一像素电极和第二像素电极上并且具有第一开口和第二开口,第一像素电极和第二像素电极的中央分别通过第一开口和第二开口被暴露;和第一阻挡壁,位于第一像素与第二像素之间的像素限定层上并且具有顶表面,第一对电极和第二对电极在该顶表面上彼此重叠;以及部件,在辅助显示区域处或对应于辅助显示区域位于基板下方,并且包括被配置成发射或接收信号(例如,光或声音)的电子元件。
根据一些示例实施例,从辅助显示区域提供的图像的分辨率可以低于从主显示区域提供的图像的分辨率。
根据一些示例实施例,第一对电极和第二对电极可以具有重叠区域,其中在重叠区域中第一对电极的至少一部分和第二对电极的至少一部分彼此重叠,并且该重叠区域可以具有第一反射率,并且除重叠区域之外的第一像素区域和第二像素区域可具有与第一反射率不同的第二反射率。
根据一些示例实施例,第一对电极的顶表面和第二对电极的底表面可以在第一阻挡壁上彼此表面接触并且可以彼此电接触。
根据一些示例实施例,第一像素区域、第二像素区域和透射区域可以交替布置并且可以呈网格布置。
附图说明
根据以下结合附图进行的描述,本公开的某些示例实施例的上述以及其他方面、特征和特性将变得更加明显,其中:
图1是示意性地图示出根据一些示例实施例的显示设备的透视图;
图2是示意性地图示出根据一些示例实施例的显示设备的截面图;
图3是示意性地图示出根据一些示例实施例的显示面板的平面图;
图4是图示出图3的辅助显示区域的示例的放大平面图;
图5和图6是根据一些示例实施例的可以包括在显示面板中的主像素和/或辅助像素的等效电路图;
图7是示意性地图示出根据一些示例实施例的可以包括在显示面板中的主像素和/或辅助像素的堆叠结构的截面图;
图8和图9是图示出根据一些示例实施例的辅助显示区域的一部分的平面图;
图10是图示出根据一些示例实施例的辅助显示区域的一部分的平面图;
图11是图示出根据一些示例实施例的辅助显示区域的一部分的平面图;
图12和图13是示意性地图示出根据一些示例实施例的制造显示面板的工艺的一部分的截面图;
图14是示意性地图示出沿图11的线B-B’截取的辅助显示区域的截面的截面图;
图15是示意性地图示出沿图11的线C-C’截取的辅助显示区域的截面的截面图;
图16是图示出根据一些示例实施例的辅助显示区域的一部分的平面图;
图17是示意性地图示出沿图16的线D-D’截取的辅助显示区域的截面的截面图;以及
图18是示意性地图示出沿图16的线E-E’截取的辅助显示区域的截面的截面图。
具体实施方式
现在将更详细地参考在附图中图示出的示例实施例,其中相同的附图标记始终指代相同的元件。在这方面,本实施例可以具有不同的形式,并且不应该被解释为限于本文所阐述的描述。因此,下面仅通过参考附图描述实施例,以解释本说明书的各方面。如本文所使用的,术语“和/或”包括相关联的所列项目中的一个或多个的任何和所有组合。诸如“中的至少一个”的表述当在一列元件之后时,修饰整列元件,而不修饰该列中的个别元件。
由于本公开允许各种改变和许多实施例,因此将在附图中图示出并且在书面描述中更详细地描述特定实施例。通过参考稍后将参考附图更详细描述的示例实施例,本公开的一些示例实施例的特性和特征以及实现它们的方式将变得更加明显。然而,根据本公开的实施例不限于以下示例实施例,而是可以以各种形式体现。
在下文中,将在下面参考附图更详细地描述本公开的示例实施例。相同或对应的那些部件与附图编号无关地被赋予相同的附图标记,并且省略了对其的多余描述。
将理解的是,尽管在本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种部件,但是这些部件不应受到这些术语的限制。这些部件仅用于将一个部件与另一个部件区分开。如本文所使用的,单数形式“一”和“该(所述)”旨在包括复数形式,除非上下文清楚地另外指示。
将进一步理解的是,本文中使用的术语“包括”和/或“包含”指定存在所陈述的特征或部件,但是不排除一个或多个其他特征或部件的存在或添加。将理解的是,当层、区域或部件被称为“形成在”另一层、区域或部件上时,它可以直接或间接地形成在另一层、区域或部件上。即,例如,可以存在中间层、区域或部件。
为了便于说明,附图中的元件的尺寸可能被放大。换句话说,由于为了便于说明而任意地图示出了附图中的部件的尺寸和厚度,因此以下实施例不限于此。
x轴、y轴和z轴不限于直角坐标系的三个轴,并且可以以更广泛的意义来解释。例如,x轴、y轴和z轴可以彼此垂直,或者可以表示彼此不垂直的不同方向。
当可以不同地实现某个实施例时,可以与所描述的顺序不同地执行特定的工艺。例如,两个连续描述的工艺可以基本上同时执行或以与所描述的顺序相反的顺序执行。
图1是示意性地图示出根据一些示例实施例的显示设备1的透视图。
参考图1,显示设备1包括实现图像的显示区域(DA和SA)以及不实现图像的非显示区域NDA。即,显示设备1被配置成在显示区域(DA和SA)显示图像,并且图像不显示在非显示区域NDA。显示区域包括主显示区域DA以及在主显示区域DA内部的辅助显示区域SA。显示设备1可以使用从主显示区域DA中的多个主像素PXm发射的光来提供主图像。
显示设备1进一步包括在主显示区域DA内部的辅助显示区域SA。如稍后将参考图2更详细地描述的,辅助显示区域SA可以是在其下方设置有诸如使用红外光线(IR)、可见光线或声音的传感器的部件的区域。辅助显示区域SA可以包括透射区域TA,从部件输出或从外部朝向部件行进的光或/和声音可以透过该透射区域TA。根据一些示例实施例,当IR透过辅助显示区域SA时,透光率可以是大约10%或更高,更具体地,大约20%或更高、大约25%或更高、大约50%或更高、大约85%或更高、或者大约90%或更高。
根据一些示例实施例,多个辅助像素PXa可以位于辅助显示区域SA中,并且可以使用从多个辅助像素PXa发射的光从辅助显示区域SA提供特定图像。从辅助显示区域SA提供的图像可以是辅助图像,并且可以具有比从主显示区域DA提供的图像的分辨率低的分辨率。即,因为辅助显示区域SA包括光或/和声音可以透过的透射区域TA,所以每单位面积可设置的辅助像素PXa的数量可以小于在主显示区域DA中每单位面积设置的主像素PXm的数量。
根据一些示例实施例,辅助显示区域SA可以在主显示区域DA的一侧。根据一些示例实施例,图1图示出了辅助显示区域SA在主显示区域DA的上侧并且在非显示区域NDA与主显示区域DA之间。
在下文中,根据一些示例实施例,显示设备1被描述为有机发光二极管(OLED)显示设备。然而,根据本公开的实施例的显示设备不限于此。根据一些示例实施例,可以使用各种类型的显示设备,例如无机电致发光(EL)显示设备、量子点发光显示设备等。
在图1中,辅助显示区域SA在具有矩形形状的主显示区域DA的上侧。然而,实施例不限于此。主显示区域DA的形状可以是圆形、椭圆形或多边形(例如三角形或五边形),并且辅助显示区域SA的位置和数量可以以各种方式修改。
因此,如图1中所图示,根据本发明的实施例包括显示设备1,该显示设备1具有显示区域(DA和SA)以及围绕显示区域的非显示区域NDA。显示区域可以包括具有多个主像素PXm的主显示区域DA以及位于主显示区域DA内的具有多个辅助像素PXa的一个或多个辅助显示区域SA。例如传感器、或声音或光发射器(例如,扬声器)的一个或多个部件(下面将更详细地描述)可以另外位于辅助显示区域SA处。辅助显示区域SA处的辅助像素PXa的密度可以小于主显示区域DA处的主像素PXm的密度,以便容纳一个或多个透射区域TA,以允许(由一个或多个部件发射或接收的)光或声音穿过透射区域TA。
图2是示意性图示出根据一些示例实施例的显示设备1的截面图。图2可以与沿图1的线A-A’截取的截面相对应。
参考图2,显示设备1可以包括显示面板10和部件20,显示面板10包括显示元件,部件20位于显示面板10下方并且与辅助显示区域SA相对应。在图2中,部件20与一个像素区域PA和一个透射区域TA相对应。然而,实施例不限于此,并且部件20可以与多个像素区域PA和多个透射区域TA相对应。
显示面板10可以包括基板100、位于基板100上的显示元件层200以及作为密封显示元件层200的密封构件的薄膜封装层300。另外,显示面板10可以进一步包括在基板100下方的下保护膜175。
基板100可以包括玻璃或聚合物树脂。聚合物树脂可以包括聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)或醋酸丙酸纤维素(CAP)。包括聚合物树脂的基板100可以是柔性的、可卷曲的或可弯曲的。基板100可以具有多层结构,该多层结构包括包含上述聚合物树脂的层和无机层。
显示元件层200可以包括电路层,该电路层包括薄膜晶体管TFT、作为显示元件的有机发光二极管OLED以及在它们之间的绝缘层IL。
包括薄膜晶体管TFT以及连接至薄膜晶体管TFT的有机发光二极管OLED的主像素PXm可以位于主显示区域DA中,包括薄膜晶体管TFT以及连接至薄膜晶体管TFT的有机发光二极管OLED的辅助像素PXa以及布线可以位于辅助显示区域SA中。
另外,不放置显示元件和薄膜晶体管TFT的透射区域TA可以位于辅助显示区域SA中。透射区域TA可以是从部件20发射的光或信号或入射在部件20上的光或信号可以穿过或透过的区域。
部件20可以放置在辅助显示区域SA中。部件20可以包括使用光或声音的电子元件。例如,部件20可以包括接收和使用光的传感器(例如IR传感器)、输出和检测光或声音以便测量距离或识别指纹的传感器、输出光的小灯、输出声音的扬声器或摄像头传感器。然而,本公开的实施例不限于以上列出的部件,并且可以包括任何其他合适的部件,例如,被配置成发送或接收信号(例如,光、无线电波、IR、声音等)的部件。在使用光的电子元件的情况下,可以使用具有各种波长的光,例如可见光线、IR和紫外(UV)光线。可以存在位于辅助显示区域SA中的多个部件20。例如,可以在一个辅助显示区域SA中提供发光器件和光接收器件作为部件20。可替代地,可以在一个部件20中同时提供发光部分和光接收部分。
薄膜封装层300可以包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层。在这方面,图2图示出了第一无机封装层310和第二无机封装层330以及在它们之间的有机封装层320。
第一无机封装层310和第二无机封装层330可以包括一种或多种无机绝缘材料,例如氧化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铪、氧化锌、氧化硅、氮化硅以及氧氮化硅。有机封装层320可以包括聚合物类材料。聚合物类材料可以包括PET、PEN、PC、PI、聚醚磺酸盐、聚甲醛、聚丙烯酸酯、六甲基二硅氧烷(HMDSO)、丙烯酸类树脂(例如,聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸等)或其任意组合。
下保护膜175可以附接到基板100的下部分,并且可以支撑和保护基板100。下保护膜175可以包括与辅助显示区域SA相对应的开口175OP。开口175OP可以形成在下保护膜175中,并且因此,可以提高辅助显示区域SA的透光率。下保护膜175可以包括PET或PI。
辅助显示区域SA的面积可以大于部件20所在的区域的面积。在图2中,辅助显示区域SA的面积与下保护膜175的开口175OP的面积相同。然而,形成在下保护膜175中的开口175OP的面积可以与辅助显示区域SA的面积不同。例如,开口175OP的面积可以小于辅助显示区域SA的面积。
另外,多个部件20可以位于辅助显示区域SA中。多个部件20可以具有不同的功能。
根据一些示例实施例,诸如感测触摸输入的输入感测构件、包括偏振器和延迟器或包括滤色器和黑矩阵的抗反射构件以及透明窗口的元件可以进一步位于显示面板10上。
根据一些示例实施例,薄膜封装层300用作用于密封显示元件层200的封装构件。然而,实施例不限于此。例如,使用密封剂或玻璃料与基板100结合的密封基板也可以用作密封显示元件层200的构件。
图3是示意性图示出根据一些示例实施例的显示面板10的平面图,并且图4是图示出图3的辅助显示区域SA的示例的放大平面图。
参考图3,构成显示面板10的各种元件位于基板100上。基板100包括显示区域和围绕该显示区域的非显示区域NDA。显示区域包括显示主图像的主显示区域DA以及其中包括透射区域TA并且显示辅助图像的辅助显示区域SA。
主像素PXm位于主显示区域DA中。主像素PXm中的每一个可以包括显示元件,例如有机发光二极管OLED。主像素PXm中的每一个可以从有机发光二极管OLED发射红光、绿光、蓝光或白光。如上所描述,本说明书中的主像素PXm可以是发射红光、绿光、蓝光和白光中的一种的像素。主显示区域DA可以被参考图2描述的封装构件覆盖,并且可以被保护以免受外部空气或湿气的影响。
辅助显示区域SA可以在主显示区域DA的一侧,并且辅助像素PXa位于辅助显示区域SA中。辅助像素PXa中的每一个可以包括显示元件,例如有机发光二极管OLED。辅助像素PXa中的每一个可以从有机发光二极管OLED发射红光、绿光、蓝光或白光。如上所描述,本说明书中的辅助像素PXa可以是发射红光、绿光、蓝光和白光中的一种的像素。透射区域TA可以提供在辅助显示区域SA中并且在辅助像素PXa之间。至少一个部件20可以被设置成与显示面板10的辅助显示区域SA的下部分相对应。
因为辅助显示区域SA包括透射区域TA,所以辅助显示区域SA的分辨率可以低于主显示区域DA的分辨率。例如,辅助显示区域SA的分辨率可以是主显示区域DA的分辨率的大约1/2。根据一些示例实施例,主显示区域DA的分辨率可以是400ppi或更高,并且辅助显示区域SA的分辨率可以是约200ppi。
将参考图4描述根据一些示例实施例的辅助显示区域SA的更多细节。
辅助显示区域SA可以包括像素区域PA和透射区域TA,像素区域PA包括至少一个辅助像素PXa。像素区域PA和透射区域TA可以在第四方向DR4(参见图8)上交替地提供,例如可以呈网格形式。
像素区域PA可以包括发射红光的辅助像素Pr、发射绿光的辅助像素Pg和发射蓝光的辅助像素Pb。在图4中,示出了Pentile型辅助像素PXa。然而,辅助像素PXa可以以条纹的形式或各种形式提供。另外,在图4中,在一个像素区域PA中提供有四个辅助像素PXa。然而,可以根据辅助显示区域SA的分辨率来修改辅助像素PXa的数量。
根据一些示例实施例,一个主像素PXm的像素电路可以与一个辅助像素PXa的像素电路相同。然而,实施例不限于此。包括在主像素PXm中的像素电路可以与包括在辅助像素PXa中的像素电路不同。
辅助像素PXa可以不位于透射区域TA中。辅助像素PXa没有位于透射区域TA中可以意味着在透射区域TA中可以不包括显示元件,诸如辅助像素PXa的有机发光二极管OLED。即,构成有机发光二极管OLED的像素电极、中间层和对电极以及电连接至有机发光二极管OLED的像素电路可以不位于透射区域TA中。被连接以便将信号供给至位于像素区域PA中的辅助像素PXa的信号线PL、DL、SL和EL的一部分可以与透射区域TA交叉。然而,即使在这种情况下,为了提高透射区域TA的透射率,信号线PL、DL、SL和EL可以绕过透射区域TA的中央。
根据一些示例实施例,导电层也可以位于基板100上,以便与辅助显示区域SA的像素区域PA相对应。导电层可以位于辅助像素PXa的下方,例如,在辅助像素PXa的薄膜晶体管与基板100之间。导电层可以阻挡从部件20发射的外部光入射到辅助像素PXa的像素电路(例如,参见图5中的PC)上,并且可以防止或减小其影响。可以将恒定电压或信号施加到导电层,使得可以防止或减少由于静电放电对像素电路PC造成的损坏。可以在辅助显示区域SA中提供多个导电层。可以根据情况将不同的电压供给至多个导电层。
返回参考图3,主像素PXm和辅助像素PXa中的每一个可以电连接到位于非显示区域NDA中的外部电路。第一扫描驱动电路110、第二扫描驱动电路120、端子140、数据驱动电路150、第一电源线160和第二电源线170可以位于非显示区域NDA中。
第一扫描驱动电路110可以经由扫描线SL向主像素PXm和辅助像素PXa中的每一个提供扫描信号。第一扫描驱动电路110可以经由发射控制线EL向每个像素提供发射控制信号。第二扫描驱动电路120可以与第一扫描驱动电路110平行地设置,其中主显示区域DA在第二扫描驱动电路120与第一扫描驱动电路110之间。主像素PXm和辅助像素PXa中的一些像素可以电连接至第一扫描驱动电路110,并且主像素PXm和辅助像素PXa中的其他像素可以连接至第二扫描驱动电路120。根据一些示例实施例,可以省略第二扫描驱动电路120。
端子140可以位于基板100的一侧。端子140可以不被绝缘层覆盖,而是可以被暴露并且电连接至印刷电路板(PCB)。PCB的PCB-P可以电连接至显示面板10的端子140。PCB将控制器的信号或电力传送至显示面板10。由控制器产生的控制信号可以经由PCB被传送至第一扫描驱动电路110和第二扫描驱动电路120中的每一个。控制器可以经由第一连接布线161和第二连接布线171向第一电源线160和第二电源线170提供第一电源电压和第二电源电压(参见下面将描述的图5和图6的ELVDD和ELVSS)。第一电源电压ELVDD可以经由连接至第一电源线160的驱动电压线PL被提供至主像素PXm和辅助像素PXa中的每一个,并且第二电源电压ELVSS可以被提供至连接到第二电源线170的主像素PXm和辅助像素PXa中的每一个的对电极。
数据驱动电路150电连接至数据线DL。可以经由连接至端子140的连接布线151和连接至连接布线151的数据线DL将数据驱动电路150的数据信号提供至主像素PXm和辅助像素PXa中的每一个。图3图示出了位于PCB上的数据驱动电路150。然而,根据一些示例实施例,数据驱动电路150可以位于基板100上。例如,数据驱动电路150可以在端子140与第一电源线160之间。
第一电源线160可以包括第一子线162和第二子线163,第一子线162和第二子线163在x方向上彼此平行地延伸,其中主显示区域DA在第一子线162与第二子线163之间。第二电源线170可以具有带有一个开口侧的环形形状并且可以部分地围绕主显示区域DA。
图5和图6是根据一些示例实施例的可以包括在显示面板10中的主像素PXm和/或辅助像素PXa的等效电路图。
像素电路PC包括驱动薄膜晶体管(TFT)T1、开关TFT T2和存储电容器Cst。开关TFTT2可以连接至扫描线SL和数据线DL,并且可以根据通过扫描线SL输入的扫描信号Sn将通过数据线DL输入的数据信号Dm传送至驱动TFT T1。
存储电容器Cst连接至开关TFT T2和驱动电压线PL,并且存储与从开关TFT T2传送的电压和供给至驱动电压线PL的第一电源电压(或驱动电压)ELVDD之间的差相对应的电压。
驱动TFT T1可以连接至驱动电压线PL和存储电容器Cst,并且可以与存储在存储电容器Cst中的电压值相对应地控制从驱动电压线PL流过有机发光二极管OLED的驱动电流。有机发光二极管OLED可以根据驱动电流发射具有一定亮度的光。
在图5中,像素电路PC包括两个TFT和一个存储电容器。然而,实施例不限于此。如图6中所示,像素电路PC可以包括七个TFT和一个存储电容器。在图6中,像素电路PC包括一个存储电容器。然而,像素电路PC可以包括两个或更多个存储电容器。
参考图6,主像素PXm和辅助像素PXa中的每一个包括像素电路PC以及连接至像素电路PC的有机发光二极管OLED。像素电路PC可以包括存储电容器和多个TFT。存储电容器和多个TFT可以连接至信号线SL、SL-1、EL和DL、初始化电压线VL和驱动电压线PL。
在图6中,主像素PXm和辅助像素PXa中的每一个连接至信号线SL、SL-1、EL和DL、初始化电压线VL和驱动电压线PL。然而,实施例不限于此。根据一些示例实施例,信号线SL、SL-1、EL和DL、初始化电压线VL和驱动电压线PL中的至少一条可以被邻近的像素共享。
信号线可以包括用于传送扫描信号Sn的扫描线SL、用于将先前扫描信号Sn-1传送至第一初始化TFT T4和第二初始化TFT T7的先前扫描线SL-1、用于将发射控制信号En传送至操作控制TFT T5和发射控制TFT T6的发射控制线EL以及与扫描线SL交叉并传送数据信号Dm的数据线DL。驱动电压线PL将驱动电压ELVDD传送至驱动TFT T1,并且初始化电压线VL传送用于初始化驱动TFT T1和有机发光二极管OLED的像素电极的初始化电压Vint。
驱动TFT T1的驱动栅电极G1可以连接至存储电容器Cst的下电极Cst1,并且驱动TFT T1的驱动源电极S1可以经由操作控制TFT T5连接至驱动电压线PL,并且驱动TFT T1的驱动漏电极D1可以经由发射控制TFT T6电连接至有机发光二极管OLED的像素电极。驱动TFT T1可以根据开关TFT T2的开关操作来接收数据信号Dm,并且将驱动电流IOLED供给至有机发光二极管OLED。
开关TFT T2的开关栅电极G2可以连接至扫描线SL,并且开关TFT T2的开关源电极S2可以连接至数据线DL,并且开关TFT T2的开关漏电极D2可以连接至驱动TFT T1的驱动源电极S1,并且可以经由操作控制TFT T5连接至驱动电压线PL。开关TFT T2可以根据经由扫描线SL传送的扫描信号Sn而导通,并且可以执行将经由数据线DL传送的数据信号Dm传送至驱动TFT T1的驱动源电极S1的开关操作。
补偿TFT T3的补偿栅电极G3可以连接至扫描线SL,补偿TFT T3的补偿源电极S3可以连接至驱动TFT T1的驱动漏电极D1,并且可以经由发射控制TFT T6连接至有机发光二极管OLED的像素电极,并且补偿TFT T3的补偿漏电极D3可以连接至存储电容器Cst的下电极Cst1、第一初始化TFT T4的第一初始化漏电极D4和驱动TFT T1的驱动栅电极G1。补偿TFTT3可以根据经由扫描线SL传送的扫描信号Sn而导通,并且可以将驱动TFT T1的驱动栅电极G1电连接至驱动漏电极D1,从而将驱动TFT T1二极管连接。
第一初始化TFT T4的第一初始化栅电极G4可以连接至先前扫描线SL-1,并且第一初始化TFT T4的第一初始化源电极S4可以连接至第二初始化TFT T7的第二初始化漏电极D7和初始化电压线VL,并且第一初始化TFT T4的第一初始化漏电极D4可以连接至存储电容器Cst的下电极Cst1、补偿TFT T3的补偿漏电极D3和驱动TFT T1的驱动栅电极G1。第一初始化TFT T4可以根据经由先前扫描线SL-1传送的先前扫描信号Sn-1而导通,并且可以执行将初始化电压Vint传送至驱动TFT T1的驱动栅电极G1的初始化操作,以便初始化驱动TFT T1的驱动栅电极G1的电压。
操作控制TFT T5的操作控制栅电极G5可以连接至发射控制线EL,并且操作控制TFT T5的操作控制源电极S5可以连接至驱动电压线PL,并且操作控制TFT T5的操作控制漏电极D5可以连接至驱动TFT T1的驱动源电极S1和开关TFT T2的开关漏电极D2。
发射控制TFT T6的发射控制栅电极G6可以连接至发射控制线EL,并且发射控制TFT T6的发射控制源电极S6可以连接到驱动TFT T1的驱动漏电极D1和补偿TFT T3的补偿源电极S3,并且发射控制TFT T6的发射控制漏电极D6可以电连接至第二初始化TFT T7的第二初始化源电极S7和有机发光二极管OLED的像素电极。
操作控制TFT T5和发射控制TFT T6可以根据经由发射控制线EL传送的发射控制信号En而同时导通,并且因此,驱动电压ELVDD可以被传送至有机发光二极管OLED,并且驱动电流IOLED可以流过有机发光二极管OLED。
第二初始化TFT T7的第二初始化栅电极G7可以连接至先前扫描线SL-1,并且第二初始化TFT T7的第二初始化源电极S7可以连接至发射控制TFT T6的发射控制漏电极D6和有机发光二极管OLED的像素电极,并且第二初始化TFT T7的第二初始化漏电极D7可以连接至第一初始化TFT T4的第一初始化源电极S4和初始化电压线VL。第二初始化TFT T7可以根据经由先前扫描线SL-1传送的先前扫描信号Sn-1而导通,并且可以初始化有机发光二极管OLED的像素电极。
在图6中,第一初始化TFT T4和第二初始化TFT T7连接至先前扫描线SL-1。然而,实施例不限于此。根据一些示例实施例,第一初始化TFT T4可以连接至先前扫描线SL-1,并且可以根据先前扫描信号Sn-1被驱动,而第二初始化TFT T7可以连接至附加的信号线,例如随后的扫描线,并且可以根据传送至该信号线的信号被驱动。
存储电容器Cst的上电极Cst2可以连接至驱动电压线PL,并且有机发光二极管OLED的对电极可以连接至被提供第二电源电压ELVSS的线。因此,有机发光二极管OLED可以从驱动TFT T1接收驱动电流IOLED并且可以发光,从而显示图像。
在图6中,补偿TFT T3和第一初始化TFT T4具有双栅电极。然而,补偿TFT T3和第一初始化TFT T4可以具有一个栅电极。
图7是示意性地图示出根据一些示例实施例的可以包括在显示面板10中的主像素PXm和/或辅助像素PXa的堆叠结构的截面图。
在下文中,将参考图7描述根据一些示例实施例的一个像素的堆叠结构。
基板100可以包括玻璃或聚合物树脂。聚合物树脂可以包括PES、聚丙烯酸酯、PEI、PEN、PET、PPS、聚芳酯、PI、PC或CAP。包括聚合物树脂的基板100可以是柔性的、可卷曲的或可弯曲的。基板100可以具有多层结构,该多层结构包括包含上述聚合物树脂的层和无机层。
缓冲层111可以位于基板100上,可以减少或防止异物、湿气和/或外部空气从基板100下方渗透,并且可以为基板100提供平坦的表面。缓冲层111可以包括诸如氧化物或氮化物的无机材料、有机材料或有机/无机化合物,并且可以具有包括无机材料和有机材料的单层或多层结构。在基板100与缓冲层111之间可以进一步包括用于防止或减少外部空气渗透的阻挡层。
栅电极G1和G6位于半导体层A1和A6上,其中第一栅绝缘层112位于栅电极G1和G6与半导体层A1和A6之间。栅电极G1和G6可以包括钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)和钛(Ti)等,并且可以具有单层或多层结构。在示例中,栅电极G1和G6可以具有Mo的单层结构。扫描线SL、先前扫描线SL-1和发射控制线EL可以与栅电极G1和G6形成在同一层上。即,栅电极G1和G6、扫描线SL、先前扫描线SL-1和发射控制线EL可以位于第一栅绝缘层112上。
第一栅绝缘层112可以包括氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNX)、氧氮化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或氧化锌(ZnO2)。
可以提供第二栅绝缘层113以覆盖栅电极G1和G6。第二栅绝缘层113可以包括氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNX)、氧氮化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或氧化锌(ZnO2)。
存储电容器Cst的下电极Cst1可以与驱动TFT T1的栅电极G1形成为一体。例如,驱动TFT T1的栅电极G1可以用作存储电容器Cst的下电极Cst1。
存储电容器Cst的上电极Cst2与下电极Cst1重叠,其中第二栅绝缘层113在存储电容器Cst的上电极Cst2与下电极Cst1之间。在这种情况下,第二栅绝缘层113可以用作存储电容器Cst的介电层。上电极Cst2可以包括包含Mo、Al、Cu和Ti的导电材料,并且可以具有包括上述材料的多层或单层结构。在示例中,上电极Cst2可以具有Mo的单层结构或Mo/Al/Mo的多层结构。
在图7中,存储电容器Cst与驱动TFT T1重叠。然而,实施例不限于此。可以以其中存储电容器Cst可以不与驱动TFT T1重叠的各种方式修改存储电容器Cst。
上电极Cst2可以用作电极电压线HL。例如,电极电压线HL的一部分可以是存储电容器Cst的上电极Cst2。
可以提供层间绝缘层115以覆盖上电极Cst2。层间绝缘层115可以包括氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNX)、氧氮化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或氧化锌(ZnO2)。在图7中,层间绝缘层115具有单层结构。根据一些示例实施例,层间绝缘层115也可以具有多层结构。
数据线DL、驱动电压线PL和接触金属1175可以位于层间绝缘层115上。数据线DL、驱动电压线PL和接触金属1175可以包括包含Mo、Al、Cu和Ti的导电材料,并且可以具有包括上述材料的多层或单层结构。在示例中,数据线DL、驱动电压线PL和接触金属1175可以具有Ti/Al/Ti的多层结构。
存储电容器Cst的上电极Cst2可以经由在层间绝缘层115中限定的接触孔CNT与驱动电压线PL接触。这可意味着电极电压线HL经由接触孔CNT与驱动电压线PL接触。因此,电极电压线HL可以具有与驱动电压线PL的电压电平相同的电压电平(恒定电压)。
接触金属1175经由穿过层间绝缘层115、第二栅绝缘层113和第一栅绝缘层112的接触孔1153与发射控制TFT T6的半导体层A6接触。发射控制TFT T6可以经由接触金属1175电连接至有机发光二极管OLED的像素电极210。
平坦化层117位于数据线DL、驱动电压线PL和接触金属1175上。有机发光二极管OLED可以位于平坦化层117上。
平坦化层117可以具有平坦的顶表面,像素电极210可以在该平坦的顶表面上平坦地形成。平坦化层117可以具有由有机材料形成的单层或多层结构。平坦化层117可以包括通用聚合物(例如苯并环丁烯(BCB)、PI、六甲基二硅氧烷(HMDSO)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚苯乙烯(PS))、具有苯酚类基团的聚合物衍生物、丙烯类聚合物、酰亚胺类聚合物、芳醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯醇类聚合物和/或其共混物。平坦化层117可以包括无机材料。平坦化层117可包括氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNx)、氧氮化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)或氧化锌(ZnO2)。当平坦化层117包括无机材料时,可以根据情况进行化学平坦化抛光。平坦化层117可以包括有机材料和无机材料两者。
像素电极210可以包括(半)透光电极或反射电极。在一些实施例中,像素电极210可以包括由Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr和/或其化合物形成的反射层以及形成在反射层上的透明或半透明电极层。透明或半透明电极层可以包括从由氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌、氧化铟、氧化铟镓(IGO)和氧化铝锌(AZO)组成的组中选择的至少一种。根据一些示例实施例,像素电极210可以具有ITO/Ag/ITO的堆叠结构。
像素限定层118可以位于平坦化层117上。像素限定层118可以具有暴露像素电极210的中央的开口118OP,从而限定像素的发射区域。另外,像素限定层118可以增加像素电极210的边缘与位于像素电极210的上部分处的对电极230之间的距离,从而防止或减少在像素电极210的边缘中发生电弧的情况。像素限定层118可以使用旋涂由诸如PI、聚酰胺、丙烯酸树脂、BCB、HMDSO和酚醛树脂的有机绝缘材料形成。
阻挡壁119可以位于像素限定层118上。当形成中间层220时,阻挡壁119可以减小掩模与像素电极210之间的距离,从而防止或减少颜色混合。另外,当形成对电极230时,阻挡壁119可以减小掩模与中间层220之间的距离,从而防止对电极230形成具有大的厚度。阻挡壁119可以包括有机绝缘材料,例如PI、聚酰胺、丙烯酸树脂、BCB、HMDSO和酚醛树脂,并且可以使用诸如旋涂的方法形成。
有机发光二极管OLED的中间层220可以包括有机发射层。有机发射层可以包括有机材料,该有机材料包括发射红光、绿光、蓝光或白光的荧光或磷光材料。有机发射层可以包括小分子量有机材料或聚合物有机材料,并且诸如空穴传输层(HTL)、空穴注入层(HIL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)的功能层可以可选地进一步位于有机发射层下/上。中间层220可以与多个像素电极210中的每一个相对应。然而,实施例不限于此。可以存在各种修改,例如中间层220包括整个位于多个像素电极210上的一体层。
对电极230可以包括透光电极或反射电极。根据一些示例实施例,对电极230可包括透明或半透明电极,并且可以包括具有小的功函数的金属薄层,该金属薄层包括锂(Li)、钙(Ca)、氟化锂(LiF)/Ca、LiF/Al、Al、银(Ag)、镁(Mg)和/或其化合物。另外,例如ITO、IZO、ZnO或In2O3的透明导电氧化物(TCO)层可以进一步位于金属薄层上。
当像素电极210包括反射电极并且对电极230包括透光电极时,从中间层220发射的光可以朝向对电极230发射,并且因此,显示设备1可以是顶(前)发射类型。当像素电极210包括透明或半透明电极并且对电极230包括反射电极时,从中间层220发射的光可以朝向基板100发射,并且因此,显示设备1可以是底(后)发射类型。然而,实施例不限于此。根据一些示例实施例的显示设备1可以是双发射类型,其中光在诸如前方向和后方向的两个方向上发射。
根据一些示例实施例,对电极230可以整个位于主显示区域DA的整个表面上,并且边缘的一部分可以位于非显示区域NDA中。对电极230可以在位于主显示区域DA中的主像素PXm(即,多个有机发光二极管OLED)中由一体形成,并且可以与多个像素电极210相对应。
对电极230提供在位于辅助显示区域SA中的辅助像素PXa中。即,图7的对电极230可以与将在下面更详细描述的图8的第一对电极230a或第二对电极230b相对应。
然而,辅助显示区域SA可以包括透射区域TA以及其中放置有辅助像素PXa的像素区域PA。因此,对电极230的一部分可以不提供在与透射区域TA相对应的部分区域中。在顶(前)发射类型显示设备的情况下,光可以朝向对电极230发射。然而,由于对电极230,顶(前)发射类型显示设备的透射率可能会部分地降低。因此,在与透射区域TA相对应的区域中不提供对电极230,并且因此,可以提高透射区域TA的透射率。
为此,辅助显示区域SA中的对电极230可以根据像素区域PA被图案化。辅助显示区域SA中的对电极230可以通过使用激光剥离去除与透射区域TA相对应的部分区域或者通过精细金属掩模(FMM)图案化来形成。
根据一些示例实施例,对电极230通过FMM图案化形成在主显示区域DA和辅助显示区域SA中。
图8和图9是图示出根据一些示例实施例的辅助显示区域SA的一部分的平面图,并且图10是图示出根据一些示例实施例的辅助显示区域SA的一部分的平面图。图8可以与图3的区域B相对应。
参考图8,可以通过FMM图案化来形成主显示区域DA和辅助显示区域SA中的对电极230,并且辅助显示区域SA可以包括像素区域PA和透射区域TA,并且辅助像素PXa可以位于像素区域PA中。
如图9中所示,像素区域PA可以包括第一像素区域PA1和第二像素区域PA2,并且第一像素PXa1和第五像素PXa5可以位于第一像素区域PA1中,并且第二像素PXa2和第六像素PXa6可以位于第二像素区域PA2中。
第一像素PXa1可以包括第一像素电极210a、第一对电极230a以及在第一像素电极210a与第一对电极230a之间的第一中间层220a(参见图13)。第二像素PXa2可以包括第二像素电极210b、第二对电极230b以及在第二像素电极210b与第二对电极230b之间的第二中间层220b(参见图13)。
根据一些示例实施例,第一对电极230a可以提供在第一像素区域PA1中,并且第二对电极230b可以提供在第二像素区域PA2中。第一对电极230a可以被设置成与第一像素区域PA1相对应,并且第二对电极230b可以被设置成与第二像素区域PA2相对应,并且第一对电极230a和第二对电极230b可以具有重叠区域,在该重叠区域中第一对电极230a和第二对电极230b中的至少一些在放置在像素限定层118上的第一阻挡壁119a上彼此重叠,该第一阻挡壁119a在第一像素PXa1与第二像素PXa2之间。
在这种情况下,在第一阻挡壁119a上彼此重叠的第一对电极230a的远端和第二对电极230b的远端可以位于第一阻挡壁119a上。
如图9中所图示,根据一些示例实施例的阻挡壁119可以具有其中第一阻挡壁119a位于第一像素PXa1与第二像素PXa2之间并且第四阻挡壁119d位于第五像素PXa5与第六像素PXa6之间的结构。可替代地,如图10中所图示,根据一些示例实施例的阻挡壁119可以具有其中第一像素PXa1与第二像素PXa2之间的第一阻挡壁119a在第五像素PXa5与第六像素PXa6之间延伸的结构。
返回参考图8,位于第一像素区域PA1中的第一对电极230a可以在第一方向DR1上具有第一宽度W1,并且可以具有第一矩形的形状,并且第二对电极230b可以具有在第一方向DR1上具有第二宽度W2的第二矩形形状。在这种情况下,第一对电极230a的第一宽度W1和第二对电极230b的第二宽度W2可以基本相同,并且第一对电极230a的第一矩形的形状和第二对电极230b的第二矩形的形状可以基本相同。
其中第一对电极230a的至少一部分和第二对电极230b的至少一部分彼此重叠的重叠区域可以具有第一反射率,并且除了重叠区域之外的第一像素区域PA1和第二像素区域PA2可以具有第二反射率。在这种情况下,因为第一对电极230a和第二对电极230b中的至少一些在重叠区域中彼此重叠,所以重叠区域的第一反射率与除了重叠区域之外的第一像素区域PA1和第二像素区域PA2的第二反射率可以彼此不同。
位于第一像素区域PA1中的辅助像素PXa可以包括作为一体整个形成在至少一个第一像素区域PA1中的第一对电极230a。作为一体整个形成在至少一个第一像素区域PA1中的第一对电极230a可以意味着通过同一掩模工艺形成第一对电极230a。在图9中,第一对电极230a作为一体整个形成在一个第一像素区域PA1中。然而,第一对电极230a可以作为一体整个形成在两个或更多个第一像素区域PA1中。
另外,位于第二像素区域PA2中的辅助像素PXa可以包括作为一体整个形成在至少一个第二像素区域PA2中的第二对电极230b。作为一体整个形成在至少一个第二像素区域PA2中的第二对电极230b可以意味着通过同一掩模工艺形成第二对电极230b。在图9中,第二对电极230b作为一体整个形成在一个第二像素区域PA2中。然而,第二对电极230b可以作为一体整个形成在两个或更多个第二像素区域PA2中。
图11是图示出根据一些示例实施例的辅助显示区域SA的一部分的平面图。
参考图11,可以在辅助显示区域SA中提供多个第一像素区域PA1、多个第二像素区域PA2以及多个透射区域TA。多个第一像素区域PA1和多个第二像素区域PA2可以在第三方向DR3上放置,并且多个透射区域TA可以在第三方向DR3上放置。因此,第一像素区域PA1、第二像素区域PA2和透射区域TA可以交替布置并且可以布置成网格结构。
当对电极230通过开口掩模图案化形成在主显示区域DA中并且对电极230通过FMM图案化形成在辅助显示区域SA中时,在主显示区域DA与辅助显示区域SA之间的边界部分中出现阴影,并且对电极230的厚度变化,并且因此,颜色坐标的异常发生。
另外,随着分辨率提高,像素限定层118的位于其邻近开口之间的部分的大小可减小。因此,对电极230可以彼此电接触的重叠部分是不充分的,并且因此可能产生暗布线。由于阴影,可以在有机发光二极管OLED的发射区域中另外地形成不同类型的对电极230,并且最终,对电极230的厚度可能变化并且颜色坐标的异常可能发生。
因此,根据一些示例实施例,当通过FMM图案化在主显示区域DA和辅助显示区域SA中形成对电极230时,阻挡壁119位于像素限定层118上,并且因此,对电极230可以在有机发光二极管OLED的发射区域中形成为相对均匀的厚度。
图12和图13是示意性图示出根据一些示例实施例的制造显示面板10的工艺的一部分的截面图,并且图14是示意性图示出沿图11的线B-B’截取的辅助显示区域SA的截面的截面图,并且图15是示意性图示出沿图11的线C-C’截取的辅助显示区域SA的截面的截面图。
参考图12,在基板100上形成其中放置有像素电路PC的绝缘层IL,并且第一像素电极210a和第二像素电极210b形成为电连接至像素电路PC。第一像素电极210a位于第一像素区域PA1中,并且第二像素电极210b位于第二像素区域PA2中。
在第一像素电极210a和第二像素电极210b上形成具有开口的像素限定层118,并且在像素限定层118上形成第一阻挡壁119a,开口用于暴露第一像素电极210a和第二像素电极210b的中央。在通过像素限定层118的开口暴露的第一像素电极210a上形成第一中间层220a,并且在通过像素限定层118的开口暴露的第二像素电极210b上形成第二中间层220b。第一中间层220a和第二中间层220b可以包括与上述中间层220的材料相同的材料。
随后,第一对电极230a和第二对电极230b可以形成在第一中间层220a和第二中间层220b上。根据一些示例实施例,第一对电极230a和第二对电极230b可以通过FMM工艺形成。
当在第一中间层220a上形成第一对电极230a时,第一掩模M1与第一阻挡壁119a紧密接触,如图12中所示。因此,第一对电极230a的一部分可以形成在第二像素区域PA2中,并且可以防止第一对电极230a形成在第二中间层220b上。
在形成第一对电极230a之后,当在第二中间层220b上形成第二对电极230b时,第二掩模M1’与第一阻挡壁119a和第一对电极230a紧密接触,如图13中所示。因此,第二对电极230b的一部分可以形成在第一像素区域PA1中,并且可以防止第二对电极230b形成在第一中间层220a上。
在这种情况下,第一掩模M1和第二掩模M1’是同一掩模,并且在使用第一掩模M1形成第一对电极230a之后,可以在第三方向DR3上移动第一掩模M1以形成第二对电极230b。
参考图14,第一对电极230a和第二对电极230b的至少一部分彼此重叠的重叠区域ORA可以位于第一阻挡壁119a上。第一对电极230a和第二对电极230b可以通过重叠区域ORA彼此表面接触,并且因此可以彼此电接触。第一对电极230a和第二对电极230b彼此表面接触可以意味着在第一对电极230a与第二对电极230b之间没有层,并且第二对电极230b堆叠在第一对电极230a上,并且因此第一对电极230a的顶表面和第二对电极230b的底表面彼此接触。
在重叠区域ORA中,第二对电极230b可以位于第一对电极230a上。这可能意味着第二对电极230b在比第一对电极230a晚的工艺中形成。第一对电极230a和第二对电极230b彼此表面接触,并且因此,重叠区域ORA可以形成为厚度是其中仅第一对电极230a或第二对电极230b所在的区域的厚度的两倍。因此,重叠区域ORA可以不被放置在第一像素PXa1和第二像素PXa2的发射区域中。在这种情况下,发射区域可以形成在像素限定层118中,并且可以分别限定为第一开口OP1和第二开口OP2,第一像素电极210a和第二像素电极210b的中央分别通过第一开口OP1和第二开口OP2被暴露。
当执行使用FMM的沉积工艺时,位于像素限定层118上的第一阻挡壁119a可以防止在第二中间层220b上形成第一对电极230a,并且可以防止在第一中间层220a上形成第二对电极230b。第一对电极230a和第二对电极230b可以在第一阻挡壁119a上彼此重叠,并且在第一阻挡壁119a上彼此重叠的第一对电极230a的远端和第二对电极230b的远端可以放置在第一阻挡壁119a上。即,可以提供或布置重叠区域ORA,以便不与形成在像素限定层118中的第一开口OP1和第二开口OP2重叠。
参考图11和图15,与第一像素区域PA1相比,透射区域TA可以不包括诸如有机发光二极管OLED的显示元件以及电连接至显示元件的像素电路PC。此外,透射区域TA可以被限定为其中布置在基板100上的层的一部分被去除的区域。如图15中所示,透射区域TA可以被限定为形成在像素限定层118中的开口。根据一些示例实施例,可以根据透射区域TA进一步去除像素限定层118下方的绝缘层IL的一部分。
图16是图示出根据一些示例实施例的辅助显示区域SA的一部分的平面图,图17是示意性图示出沿图16的线D-D’截取的辅助显示区域SA的截面的截面图,并且图18是示意性图示出沿图16的线E-E’截取的辅助显示区域SA的截面的截面图。
参考图16,根据一些示例实施例,阻挡壁119可以在辅助显示区域SA的辅助像素PXa之间。辅助像素PXa之间的阻挡壁119可以防止或减少当在像素电极210上形成中间层220时由于发射材料的混合而导致的颜色混合。在下文中,这将参考图17和图18更详细地被描述。
根据一些示例实施例的显示面板10可以进一步包括被放置在第一像素区域PA1中的第三像素PXa3。参考图17,第三像素PXa3可以包括第三像素电极210c、放置在第三像素电极210c上的第三中间层220c以及放置在第一像素区域PA1中以与第三中间层220c相对应的第一对电极230a,并且可以进一步包括第二阻挡壁119b,该第二阻挡壁119b放置在第一像素PXa1与第三像素PXa3之间的像素限定层118上。
当在第三像素电极210c上形成第三中间层220c时,第二阻挡壁119b使FMM与第二阻挡壁119b紧密接触,从而防止或减少由于用于形成第三中间层220c的有机材料和用于形成第一中间层220a的有机材料的混合而发生颜色混合。
根据一些示例实施例的显示面板10可以进一步包括被放置在第二像素区域PA2中的第四像素PXa4。参考图18,第四像素PXa4可以包括第四像素电极210d、放置在第四像素电极210d上的第四中间层220d以及放置在第二像素区域PA2中以与第四中间层220d相对应的第二对电极230b,并且可以进一步包括第三阻挡壁119c,该第三阻挡壁119c放置在第二像素PXa2与第四像素PXa4之间的像素限定层118上。
当在第四像素电极210d上形成第四中间层220d时,第三阻挡壁119c使FMM与第三阻挡壁119c紧密接触,从而防止或减少由于用于形成第四中间层220d的有机材料和用于形成第二中间层220b的有机材料的混合而引起的颜色混合。
辅助显示区域SA的像素区域PA和透射区域TA可以在第二方向DR2上形成。当辅助显示区域SA的像素区域PA和透射区域TA在第二方向DR2上形成时,像素区域PA和透射区域TA可以在第一方向DR1上交替放置。
除了上述实施例中的以外,可以以各种形式提供辅助显示区域SA的像素区域PA和透射区域TA。另外,除了上述实施例中的以外,可以以各种形式提供第一对电极230a和第二对电极230b。
根据一个或多个实施例,为了解决根据现有技术的显示面板和包括该显示面板的显示设备中,在其中放置有部件的辅助显示区域与其中放置有多个像素的主显示区域之间的边界部分中发生颜色坐标异常的问题,在其中布置有部件的辅助显示区域和其中设置有多个主像素的主显示区域中,通过使用阻挡壁形成对电极,使得可以提供具有改善的质量的显示面板和包括该显示面板的显示设备。
到目前为止,仅主要描述了显示面板和包括该显示面板的显示设备。然而,实施例不限于此。例如,用于制造显示设备的方法也属于本公开的范围。
如上所述,在本公开的一个或多个实施例中,在其中布置有部件的辅助显示区域中以及在其中布置有多个主像素的主显示区域中,使用阻挡壁形成对电极,使得可以实现具有改善的质量的显示面板和包括该显示面板的显示设备。本公开的范围不受这些效果的限制。
应当理解,本文描述的实施例应仅以描述性意义来考虑,而不是出于限制的目的。每个实施例中的特征或方面的描述通常应被认为可用于其他实施例中的其他类似特征或方面。尽管已经参考附图描述了一个或多个实施例,但是本领域普通技术人员将理解,在不脱离由所附权利要求及其等同物所限定的精神和范围的情况下,可以在形式和细节上进行各种改变。
Claims (20)
1.一种显示面板,包括:
基板,包括主显示区域和辅助显示区域,所述辅助显示区域包括第一像素区域、第二像素区域和透射区域;
第一像素,位于所述第一像素区域中,并且包括第一像素电极、第一对电极以及位于所述第一像素电极与所述第一对电极之间的第一中间层;
第二像素,位于所述第二像素区域中,并且包括第二像素电极、第二对电极以及位于所述第二像素电极与所述第二对电极之间的第二中间层;
像素限定层,位于所述第一像素电极和所述第二像素电极上,并且具有第一开口和第二开口,所述第一像素电极和所述第二像素电极的中央分别通过所述第一开口和所述第二开口被暴露,以及
第一阻挡壁,位于所述第一像素与所述第二像素之间的所述像素限定层上,并且具有顶表面,所述第一对电极和所述第二对电极在所述顶表面上彼此重叠。
2.根据权利要求1所述的显示面板,进一步包括
第三像素,位于所述第一像素区域中,其中
所述第三像素包括第三像素电极、位于所述第三像素电极上的第三中间层以及位于所述第一像素区域中的与所述第三中间层相对应的所述第一对电极。
3.根据权利要求2所述的显示面板,进一步包括
第二阻挡壁,位于所述第一像素与所述第三像素之间的所述像素限定层上。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其中
所述第一对电极位于所述第二阻挡壁的顶表面上。
5.根据权利要求1所述的显示面板,进一步包括
第四像素,位于所述第二像素区域中,其中
所述第四像素包括第四像素电极、位于所述第四像素电极上的第四中间层以及位于所述第二像素区域中的与所述第四中间层相对应的所述第二对电极。
6.根据权利要求5所述的显示面板,进一步包括
第三阻挡壁,位于所述第二像素与所述第四像素之间的所述像素限定层上。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其中
所述第二对电极位于所述第三阻挡壁的顶表面上。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其中
在所述第一阻挡壁上彼此重叠的所述第一对电极的远端和所述第二对电极的远端位于所述第一阻挡壁上。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其中
所述第一对电极和所述第二对电极具有重叠区域,在所述重叠区域中所述第一对电极的至少一部分和所述第二对电极的至少一部分彼此重叠,并且
所述重叠区域具有第一反射率,并且
除所述重叠区域之外的所述第一像素区域和所述第二像素区域具有与所述第一反射率不同的第二反射率。
10.根据权利要求1所述的显示面板,其中
所述第一对电极位于至少一个第一像素区域中。
11.根据权利要求1所述的显示面板,其中
所述第二对电极位于至少一个第二像素区域中。
12.根据权利要求1所述的显示面板,其中
所述第一对电极的顶表面和所述第二对电极的底表面在所述第一阻挡壁上彼此表面接触并且彼此电接触。
13.根据权利要求1所述的显示面板,其中
所述第一像素区域、所述第二像素区域和所述透射区域交替布置并且呈网格布置。
14.根据权利要求1所述的显示面板,其中
所述第一对电极具有在第一方向上具有第一宽度的第一矩形形状,并且
所述第二对电极具有在所述第一方向上具有第二宽度的第二矩形形状,并且
所述第一宽度的尺寸与所述第二宽度的尺寸相同。
15.根据权利要求1所述的显示面板,其中
多个第一像素区域、多个第二像素区域和多个透射区域被提供在所述辅助显示区域中,并且
所述多个第一像素区域和所述多个第二像素区域交替布置在第三方向上,并且所述多个透射区域布置在所述第三方向上。
16.一种显示设备,包括:
显示面板,包括基板,所述基板包括主显示区域和辅助显示区域,所述辅助显示区域包括像素区域和透射区域,所述像素区域包括第一像素区域和第二像素区域,
第一像素,位于所述第一像素区域中,并且包括第一像素电极、第一对电极以及位于所述第一像素电极与所述第一对电极之间的第一中间层,
第二像素,位于所述第二像素区域中,并且包括第二像素电极、第二对电极以及位于所述第二像素电极与所述第二对电极之间的第二中间层,
像素限定层,位于所述第一像素电极和所述第二像素电极上,并且具有第一开口和第二开口,所述第一像素电极和所述第二像素电极的中央分别通过所述第一开口和所述第二开口被暴露,以及
第一阻挡壁,位于所述第一像素与所述第二像素之间的所述像素限定层上,并且具有顶表面,所述第一对电极和所述第二对电极在所述顶表面上彼此重叠;以及
部件,在所述辅助显示区域处位于所述基板下方,并且包括被配置成发射或接收信号的电子元件。
17.根据权利要求16所述的显示设备,其中
从所述辅助显示区域提供的图像的分辨率低于从所述主显示区域提供的图像的分辨率。
18.根据权利要求16所述的显示设备,其中
所述第一对电极和所述第二对电极具有重叠区域,在所述重叠区域中所述第一对电极的至少一部分和所述第二对电极的至少一部分彼此重叠,并且
所述重叠区域具有第一反射率,并且
除所述重叠区域之外的所述第一像素区域和所述第二像素区域具有与所述第一反射率不同的第二反射率。
19.根据权利要求16所述的显示设备,其中
所述第一对电极的顶表面和所述第二对电极的底表面在所述第一阻挡壁上彼此表面接触并且彼此电接触。
20.根据权利要求16所述的显示设备,其中
所述第一像素区域、所述第二像素区域和所述透射区域交替布置并且呈网格布置。
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