CN112166494A - 基材载体及基材载体堆叠 - Google Patents

Abstract

一种基材载体堆叠，其包括：基材载体，所述基材载体彼此堆叠或可堆叠并且将基材承载在基材载体堆叠的内容纳空间内。基材载体堆叠包括至少一个第一吹扫通道和至少一个第二吹扫通道，它们在内容纳空间的相对侧处竖直地平行于内容纳空间延伸；以及吹扫结构，其允许在基材载体堆叠内通过由基材载体保持的基材之间的空间的水平吹扫流。基材载体各包括外载体框架，外载体框架设有座以承载基材，其中外载体框架围绕第一和第二吹扫通道以及内容纳空间延伸。

Description

基材载体及基材载体堆叠

相关申请的交叉引用

本申请要求2018年6月27日提交的德国专利申请No.20 2018 103 662.9、2018年11月9日提交的美国专利申请No.16/185,541以及2019年3月29日提交的德国专利申请No.20 2019 101 794.5的优先权。这些申请中的每个的全部内容由此通过引用并入本文。

技术领域

本公开总体上涉及在半导体生产中基材的搬运、存储、处理和加工。具体地，本公开涉及未经加工的或预加工的或已加工的半导体晶圆形式的基材的搬运、存储、处理和加工。然而，待搬运或存储的基材也可以是掩膜版(mask)或光罩(reticle)或类似物，其含有例如在半导体或半导体电路的制造中在半导体晶圆上形成图案所需的图案信息。

由于300mm晶圆半导体材料的引人，前开式晶圆传送盒或“FOUP”已变成基材及类似材料的标准存储及运输方法。FOUP已被用来隔离和保持在半导体生产中使用的硅晶圆。在数字电路、微处理器和晶体管的设计中是基本的半导体要求这些晶圆保持在尽可能接近如存储单元允许的无暇状况。因此，FOUP允许晶圆在晶圆的加工及测量中使用的其它机器之间转移。

背景技术

先前的FOUP大体上用来将晶圆从周围洁净室环境保存。在常规的半导体项目中，FOUP允许晶圆经由装载端口和前开门进入设备。通常，机器人搬运机构可以将晶圆放置到FOUP中，在FOUP中晶圆被鳍片夹持就位且被保持以供后续使用。但常规的FOUP受到作为各种各样的构造的结果而可能污染其内容物、擦伤晶圆以及延迟基材晶圆内容物的装载和卸载的方法和系统的妨碍。从而，存在对于更有效地和精确地完成FOUP的所期望的任务的需要。

长期以来已知道的是，至少在某些工艺中，在加工相对长的时间后半导体基材脱气(outgas)。由该加工所得的气态成分被排放到环境中。这些气体可能与环境空气(特别是与氧气和/或氢气，如包含在具有空气湿度的水中)形成化合物，该化合物然后作为杂质或者甚至作为表面层再次沉淀在基材的表面上。二者都是杂质，其要求后加工以去除这些污染物，否则会使基材对于生产中的进一步使用完全不可用(也被称为“产量损失”)。因此使半导体晶圆经受吹扫处理是长期的实践，即在加工或相应的加工步骤之后将半导体晶圆浸在吹扫气体流(例如，氮气气体流或干燥洁净的空气流)中。该吹扫气体流通过气体的运动来去除固体和气态杂质，并且取决于所使用的吹扫气体，可以避免脱气与环境空气的反应。为此，氮气作为吹扫气体是优选的，因为那样在基材周围的大气仅具有较小比例的氧气和氢气。氮气常规上从存储在工厂中的气体容器取出并且在相应的加工步骤之后以及在半导体晶圆被递送至下一个加工步骤之前被送到半导体晶圆被存储其中的存储装置中。

然而，长期以来已知道的是，尽管有这些措施，但先前描述的所不期望的反应及其在基材表面上的沉淀物到目前为止仍无法被可靠地和充分地防止。因此，在电子部件的生产中仍是通常的实践是基材被规律地移除为报废物或必须以时间和成本密集的方式使其不含这种杂质或这种不希望的层。该工艺可能影响到已加工的晶圆中的很大一部分，造成显著的成本。

用于半导体晶圆的形式的基材的存储、搬运、处理和运输的新型装置由TEC-SEMAG，Tagerwilen(CH)提出。

源自TEC-SEM AG且在2014年7月17日公布的公开公布文本WO 2014/107818 A2提出一种基材载体及由多个基材载体构成的基材载体堆叠。所提出的基材载体堆叠包括多个基材载体，这些基材载体在竖直方向上被堆叠，使得对于基材载体堆叠中的每对竖直相邻的基材载体，相应的下基材载体支撑相应的上基材载体，其中每个基材载体具有外载体框架，该外载体框架在水平框架平面中围绕包括内开口的内区域延伸，并且设有基材座用于将板状基材容纳并承载在基材载体堆叠的内容纳空间内，其中内容纳空间或其部分由基材载体堆叠的基材载体的内开口限定。

所提出的基材载体堆叠的每个基材载体在其外载体框架处具有至少一上支撑形成构造和至少一下支撑形成构造，使得基材载体堆叠的相应一对竖直相邻的基材载体中的下基材载体用其至少一个上支撑形成构造在该对竖直相邻的基材载体中的上基材载体的至少一下支撑形成构造处支撑该上基材载体。

所提出的基材载体堆叠的每个基材载体进一步包括以下特征：

外载体框架包括沿着第一框架腹板轴线延伸的第一框架腹板、沿着第二框架腹板轴线延伸的第二框架腹板、沿着第三框架腹板轴线延伸的第三框架腹板以及及沿着第四框架腹板轴线延伸的第四框架腹板，

第一框架腹板轴线与第四框架腹板轴线在第一顶点以及外载体框架的第一框架顶点区域处以直角相交，该第一顶点与第一框架腹板和第四框架腹板相关联，第一框架腹板和第四框架腹板在该第一框架顶点区域处被一体地连接，

第一框架腹板轴线与第二框架腹板轴线在第二顶点以及外载体框架的第二框架顶点区域处以直角相交，该第二顶点与第一框架腹板和第二框架腹板相关联，第一框架腹板和第二框架腹板在该第二框架顶点区域处被一体地连接，

第三框架腹板轴线与第四框架腹板轴线在第四顶点以及外载体框架的第四框架顶点区域处以直角相交，该第四顶点与第三框架腹板和第四框架腹板相关联，第三框架腹板和第四框架腹板在该第四框架顶点区域处被一体地连接，

第三框架腹板轴线与第二框架腹板轴线在第三顶点以及外载体框架的第三框架顶点区域处相交，该第三顶点与第三框架腹板和第二框架腹板相关联，第三框架腹板和第二框架腹板在该第三框架顶点区域处被一体地连接，

多个基材保持臂从外载体框架向内且向上地延伸，其与内区域重叠并形成基材座，该基材座定位在载体框架的竖直延伸之上一定距离处并且适于承载板状基材，该板状基材具有圆形周边和一直径，该直径对应于预定的可允许直径或在由预定的可允许最小直径和预定的可允许最大直径给定的预定的可允许直径范围内，

基材座限定水平承载平面，该水平承载平面在以下情况下与板状基材的下表面共面：具有圆形周边和与预定的可允许直径或预定的可允许最大直径对应的直径的板状基材被基材座水平地承载并保持。

因此，鉴于以上描述的框架腹板和框架轴线的布置，基材载体的外载体框架具有大体上或至少粗略的正方形或矩形形状。

WO 2014/107818 A2的公开内容通过引用以其整体并入本文。

也源自TEC-SEM AG且在2017年12月28日公布的公开公布文本US 2017/0372930Al公开了这种基材载体及具有额外表征特征的这种基材载体堆叠。如在US2017/0372930Al中提出的，所提出的基材载体堆叠的每个基材载体除了以上提到的特征之外还包括以下特征：

多个分隔腹板从外载体框架延伸穿过内区域，其限定内区域的内开口以及至少两个辅助开口，其中内开口和基材座被布置和定尺寸为使得板状基材不与分隔腹板的任何部分重叠，该板状基材被基材座承载并且具有圆形周边和一直径，该直径对应于预定直径或在预定直径范围内，

分隔腹板的至少一个第一弓形部在第四框架腹板与内开口之间的空间中延伸，限定出至少一个第一辅助开口，

分隔腹板的至少一个第二弓形部在第二框架腹板与内开口之间的空间中延伸，限定出至少一个第二辅助开口，

弓形部具有适应于预定直径或预定直径范围的曲率半径；

其中基材载体堆叠的基材载体的分隔腹板的弓形部至少在平行于载体堆叠的第一水平轴线(其平行于基材载体的第一和第三腹板框架轴线)的方向上限制基材载体堆叠的内容纳空间；

其中基材载体堆叠的基材载体的内区域的第一辅助开口和第二辅助开口形成基材载体堆叠的至少一个第一吹扫通道和至少一个第二吹扫通道，这些吹扫通道在内容纳空间的相对侧处竖直地平行于内容纳空间延伸：以及

其中基材载体堆叠设有吹扫结构，该吹扫结构允许基材载体堆叠内通过由基材载体的基材座保持的各基材之间的空间的水平吹扫流。

代替如根据WO 2014/107818 A2提出的在外载体框架的相对的框架腹板中提供开口用来形成延伸穿过框架腹板的竖直吹扫通道，根据US 2017/0372930 Al的实质上改进的方案提供在内区域内由分隔腹板限定的吹扫通道。这允许竖直吹扫通道的更大的开口横截面，其用来提供基材载体堆叠内通过由基材载体的基材座保持的各基材之间的空间的水平吹扫流。为了让竖直吹扫通道之间的水平吹扫流成为可能，即，使竖直吹扫通道中的一个出来并进入竖直吹扫通道中的另一个中，基材载体堆叠优选地具有与竖直吹扫通道协作的合适的吹扫结构。

根据US 2017/0372930 Al提出的基材载体具有两个第一定位形成构造和两个第二定位形成构造，它们以两个突出部和两个凹部或开口的形式被提供。第一对突出部和相邻的凹部以及第二对突出部和相邻的凹部被布置在外载体框架的直径相对的框架顶点区域处。相应的突出部可以突出到堆叠内的相应基材载体上方或下方的下一个基材载体的对应凹部中。因此，对于每对竖直相邻的基材载体，该对竖直相邻的基材载体中的下基材载体的两个第一定位形成构造与该对竖直相邻的基材载体中的上基材载体的两个第二定位形成构造中相关联的特定一个结合或与之可接合。这确保或有助于该对竖直相邻的基材载体的两个基材载体的适当的相对定位。

根据US 2017/0372930 Al的公开内容，即鉴于在US 2017/0372930 Al的图中所示的基材载体上的突出部和凹部的相对布置，需要这些基材载体的两个子类型，两个子类型的基材载体在基材载体堆叠中交替地彼此堆叠，以允许一个基材载体的相应的突出部可以突出到另一个基材载体的相应的凹部中，该另一个基材载体是定位在基材载体堆叠中的上方或下方的竖直相邻的基材载体。

本文中，已公开在US 2017/0372930 Al中的基材载体和基材载体堆叠的结构细节以及由TEC-SEM AG开发的基材载体和基材载体堆叠的一些附加结构细节并且进一步还有由TEC-SEM AG开发的改良型的这种基材载体和这种基材载体堆叠都被详细地公开和描述。US 2017/0372930 Al的公开内容通过引用以其整体并入本文。

具有大体上或粗略的圆形形状的旧型基材载体及包括这种具有大体上或粗略的圆形形状的基材载体的基材载体堆叠以及相关联的存储和开启器装置从也源自TEC-SEMAG的WO 2005/006407 Al和WO 2007/006166 A2已知。WO 2005/006407 Al或对应的公布US2006/0151404 Al以及WO 2007/006166 A2或对应的公布US 2010/0179681 Al的公开内容通过引用以其整体并入本文。

发明内容

本发明的优选实施例提供了基材载体和包括这种基材载体的基材载体堆叠，其能够有利地用于半导体制造或类似工艺中的基材搬运、基材存储、基材处理和基材加工。

本发明的优选实施例还提供了基材载体和包括这种基材载体的基材载体堆叠，其能够有利地用于使基材经受吹扫处理。

本发明的优选实施例进一步提供了基材载体和包括这种基材载体的基材载体堆叠，其包括确保或有助于基材载体在基材载体堆叠内的适当相对定位的结构。

本发明的优选实施例提供了基材载体和包括这种基材载体的基材载体堆叠，其基于基材载体在基材载体堆叠内的适当相对定位，实现在基材载体堆叠及其基材载体的搬运、基材存储、基材处理和基材加工中的至少一个中的进一步优点。

本发明的优选实施例提供了一种包括多个基材载体的基材载体堆叠，所述多个基材载体在竖直方向上堆叠，使得对于基材载体堆叠的每对竖直相邻的基材载体，相应的下基材载体支撑相应的上基材载体，其中所述多个基材载体中的每个包括外载体框架，该外载体框架在水平框架平面中围绕包括内开口的内区域延伸并且设有基材座，该基材座将板状基材容纳并承载在基材载体堆叠的内容纳空间内，其中内容纳空间或其部分由基材载体堆叠的各基材载体的内开口限定。

每个基材载体在其外载体框架处包括至少一个上支撑形成构造和至少一个下支撑形成构造，使得基材载体堆叠的相应的一对竖直相邻的基材载体中的下基材载体用所述至少一个上支撑形成构造在所述至少一个下支撑形成构造处支撑该对竖直相邻的基材载体中的上基材载体。

基材载体堆叠中的每个基材载体进一步包括以下特征：

外载体框架包括沿着第一框架腹板轴线延伸的第一框架腹板、沿着第二框架腹板轴线延伸的第二框架腹板、沿着第三框架腹板轴线延伸的第三框架腹板以及沿着第四框架腹板轴线延伸的第四框架腹板，

第一框架腹板轴线与第四框架腹板轴线在第一顶点以及外载体框架的第一顶点区域处以直角相交，第一顶点与第一框架腹板和第四框架腹板相关联，第一框架腹板和第四框架腹板在第一框架顶点区域处一体地连接，

第一框架腹板轴线与第二框架腹板轴线在第二顶点以及外载体框架的第二顶点区域处以直角相交，第二顶点与第一框架腹板和第二框架腹板相关联，第一框架腹板和第二框架腹板在第二框架顶点区域处一体地连接，

第三框架腹板轴线与第四框架腹板轴线在第四顶点以及外载体框架的第四顶点区域处以直角相交，第四顶点与第三框架腹板和第四框架腹板相关联，第三框架腹板和第四框架腹板在第四框架顶点区域处一体地连接，

第三框架腹板轴线与第二框架腹板轴线在第三顶点以及外载体框架的第三顶点区域处相交，第三顶点与第三框架腹板和第二框架腹板相关联，第三框架腹板和第二框架腹板在第三框架顶点区域处一体地连接，

多个基材保持臂从外载体框架向内和向上延伸，它们与内区域重叠并形成基材座，基材座定位在载体框架的竖直范围上方一定距离处并且适于承载具有圆形周边和直径的板状基材，该直径对应于预定的可允许直径或在由预定的可允许最小直径和预定的可允许最大直径给定的预定的可允许直径范围内，

基材座限定出水平承载平面，在具有圆形周边和与预定的可允许直径或预定的可允许最大直径对应的直径的板状基材被基材座水平地承载和保持的情况下，该水平承载平面与板状基材的下表面共面，

多个分隔腹板从外载体框架延伸穿过内区域，其限定内区域的内开口和至少两个辅助开口，其中内开口和基材座被布置和定尺寸为使得由基材座承载且具有圆形周边和与预定直径对应或在预定直径范围内的直径的板状基材不与分隔腹板的任何部分重叠，

分隔腹板的至少一个第一弓形部在第四框架腹板与内开口之间的空间中延伸，限定出至少一个第一辅助开口，

分隔腹板的至少一个第二弓形部在第二框架腹板与内开口之间的空间中延伸，限定出至少一个第二辅助开口，并且

弓形部具有适应于预定直径或预定直径范围的曲率半径；

其中基材载体堆叠的各基材载体的分隔腹板的弓形部至少在平行于载体堆叠的第一水平轴线的方向上限制基材载体堆叠的内容纳空间，该第一水平轴线平行于基材载体的第一腹板框架轴线和第三腹板框架轴线。

为了允许使由基材载体保持的基材有利地经受吹扫处理，基材载体堆叠中的各基材载体的内区域的第一辅助开口和第二辅助开口限定出基材载体堆叠的至少一个第一吹扫通道和至少一个第二吹扫通道，所述至少一个第一吹扫通道和至少一个第二吹扫通道在内容纳空间的相对侧处竖直地平行于内容纳空间延伸，其中基材载体堆叠优选地设有吹扫结构，该吹扫结构允许在基材载体堆叠内通过由基材载体的基材座保持的基材之间的空间的水平吹扫流。

实现了对现有技术途径的实质性改进。根据本发明的优选实施例，第一和第二吹扫通道能够具有相当大的开口横截面，这使得能够并有助于在基材载体堆叠内实现层流吹扫气体流，这对于类似半导体晶圆的基材的有效吹扫处理是期望的。

在本发明的优选实施例所提供的基材载体堆叠的上述讨论中，假定基材载体堆叠在水平支撑件或类似物(或总体上水平参考平面)上的适当水平定位。这是这样的定位，当基材载体堆叠被用于由相应的基材载体保持的基材(例如半导体晶圆)的存储、运输、搬运和处理的目的时，其将典型地或优选地被应用。如果基材载体堆叠不同地定位，例如定位在倾斜平面上或甚至旋转大约例如90度，则相应基材载体的外载体框架的框架平面在严格意义上会不是“水平”平面，并且与诸如“水平”或“水平地”以及“竖直”或“竖直地”的术语相关的一些其它指示在严格意义上也会不适用。鉴于这些考虑，这些指示应被理解为隐含地与基材载体堆叠的固有笛卡尔坐标系有关，其具有一个竖直轴线和两个水平轴线，而与基材载体堆叠相对于水平参考平面的实际定向无关。

关于框架腹板轴线和顶点，应当注意，框架轴线优选地被假定为至少部分地在相应的相关联的框架腹板内延伸，但这不是强制性的。此外，非强制性的是相应顶点被假定为位于相应框架顶点区域内。这种假定是否有意义以及在何种程度上有意义将取决于框架腹板和框架顶点区域以及随之外载体框架的精确几何形状，例如，该外载体框架应当具有粗略的正方形或矩形的形状。大体上，可以假定框架腹板轴线与相应框架腹板的直的质心线重合。取决于框架腹板的形状和它们在竖直方向上的范围，该假定可能具有顶点位于外框架腹板的相应的相关联框架顶点区域上方的后果。

根据本发明的优选实施例，框架顶点区域彼此竖直地对齐并且与相应的基材载体的最下面的部分重合。在这种情况下，假定顶点位于相应的相关联的框架顶点区域内，例如与框架顶点区域的质心点重合，这替代地会是有意义的。根据该优选实施例，框架腹板会从相关联的框架顶点区域向上延伸。在这种情况下，优选地，框架腹板在距相关联的框架腹板轴线一定距离处沿着框架顶点区域之间的距离的大部分延伸。为此，框架腹板能够有利地在底侧或底边缘处具有凸形形状。

根据优选实施例，基材载体的外载体框架的框架顶点区域各自包括平面或大致上平面的外顶点部以及弯曲或倾斜的内顶点部，内顶点部与外顶点部一体地连接并且从外顶点部向上且朝向内区域延伸而竖立。平面或大致上平面的外顶点部彼此竖直地对齐，并与相应的基材载体的最下面的部分重合。基材载体的外载体框架的框架腹板各自包括相应的弯曲或倾斜的腹板部，该腹板部沿着相应的框架腹板延伸，并且从相应的外顶点部或相应的下腹板边缘或至少部分地沿着相应的框架腹板延伸的大致上平面的外腹板部向上且朝向内区域延伸而竖立。各自在相应的一对内顶点部之间延伸并且合并到相应的该对内顶点部中的弯曲或倾斜的腹板部以及内顶点部以这样的方式成形：提供连续的载体框架框架轮廓以围绕内区域延伸并且包括限定内区域的上边缘和内边缘。根据该优选实施例的有利变型，框架腹板在下腹板边缘处具有凸形形状，使得在相关联的框架顶点部之间的距离的大部分之上在外顶点区域的竖直水平与在其间延伸的相应的框架腹板的下腹板边缘之间存在竖直间隙。

如以上讨论的，第一和第二吹扫通道以及吹扫结构允许在相应的加工步骤之后对半导体晶圆形式的基材的吹扫处理。这种吹扫处理是半导体晶圆的加工中以及半导体器件的制造中的重要步骤。根据本发明的优选实施例的基材载体和基材载体堆叠能够有利地被用于使保持在基材载体的座中的晶圆经受适当的吹扫处理，在吹扫处理中晶圆被浸在吹扫气体流中，例如，氮气流或干燥清洁空气流，使得气态和固体污染物(特别是由先前加工步骤导致的来自晶圆的脱气)从基材载体堆叠吹扫出。

优选地，基材载体设有吹扫结构，该吹扫结构允许在基材载体堆叠内通过由基材载体的基材座保持的基材之间的空间的水平吹扫流。随之能够避免包括到基材承载堆中以实现水平吹扫流的附加元件。

根据本发明的优选实施例，每个基材载体包括第一分隔腹板，该第一分隔腹板在第一框架腹板与第三框架腹板之间延伸并且包括一个第一弓形部，该第一弓形部在第四框架腹板与内开口之间的空间中延伸并且桥接第一框架腹板与第三框架腹板之间的距离的大部分，优选地绝大部分，并且每个基材载体包括第二分隔腹板，该第二分隔腹板在第一框架腹板与第三框架腹板之间延伸并且包括一个第二弓形部，该第二弓形部在第二框架腹板与内开口之间的空间中延伸并且桥接第一框架腹板与第三框架腹板之间的距离的大部分，优选地绝大部分。

优选地，第一分隔腹板包括第一连接部和第二连接部，第一连接部在一端处合并到第一弓形部中并且在另一端处合并到相应的基材载体的第一框架腹板靠近第一框架顶点区域中，第二连接部在一端处合并到第一弓形部中并且在另一端处合并到相应的基材载体的第三框架腹板靠近第四框架顶点区域中，并且第二分隔腹板包括第一连接部和第二连接部，第一连接部在一端处合并到第二弓形部中并且在另一端处合并到相应的基材载体的第一框架腹板靠近第二框架顶点区域中，第二连接部在一端处合并到第二弓形部中并且在另一端处合并到相应的基材载体的第三框架腹板靠近第三框架顶点区域中。此外，第一分隔腹板能够进一步包括第三连接区域，其将第一弓形部与第四框架腹板连接，并且由此限定相应基材载体的相似或相同尺寸的两个第一辅助开口，并且第二分隔腹板能够包括第三连接区域，其将第二弓形部与第二框架腹板连接，并且由此限定相应基材载体的相似或相同尺寸的两个第二辅助开口。

根据本发明的优选实施例，基材载体堆叠进一步包括盖，该盖被堆叠在多个基材载体上，使得基材载体中的最上面的基材载体支撑盖。这优选地是针对基材载体堆叠内的基材的吹扫处理的情况，然而，对于所有可行的使用场景，可能不需要盖。

根据本发明的优选实施例，基材载体堆叠进一步包括基部，多个基材载体被堆叠在该基部上，使得基部支撑基材载体中的最下面的基材载体。这优选地是针对基材载体堆叠内的基材的吹扫处理的情况，然而，对于所有可行的使用场景，可能不需要基部。

根据在此使用的术语，盖(如果提供的话)和基部(如果提供的话)属于基材载体堆叠。包括盖和基部的基材载体堆叠优选地能够作为一个一体单元或单一结构被共同地搬运，其能够用于存储、运输、搬运和处理由相应的基材载体保持的基材的目的。因此，该单元或该基材载体堆叠也能够被表示为模块化的基材保持器、基材存储和运输装置或基材处理装置，因为其包括单独的模块，即基材载体和(如果提供的话)盖以及(如果提供的话)基部。为了接近相应的基材载体的座以将相应的基材装载在基材座上或从基材座卸载相应的基材，能够使用开启器设备，该开启器设备包括移动机构，该移动机构使基材载体堆叠的相应的一对竖直相邻的基材载体中的上基材载体和下基材载体竖直地相对移动，使得上基材载体与下基材载体之间的间隙被打开，使得能够从水平方向接近下基材载体的基材座以例如通过机械臂进行装载或卸载。在这方面，常规的开启器设备，例如在WO 2014/107818A2中描述的开启器设备，可以容易地适于在如由本发明的优选实施例提供的种类的基材载体堆叠上操作。

提出以吹扫通路的形式提供吹扫结构，其中基材载体堆叠的每对相应的竖直相邻的基材载体设有吹扫通路，该吹扫通路穿过该对竖直相邻的基材载体的各基材载体的分隔腹板的弓形部，使得内容纳空间的相应部分通过至少一个第一吹扫通路与相应的第一吹扫通道连接，以允许吹扫气体从第一吹扫通道到内容纳空间的该部分中的流动，或反之亦然，并且通过至少一个第二吹扫通路与相应的第二吹扫通道连接，以允许吹扫气体从内容纳空间的该部分到第二吹扫通道中的流动，或反之亦然。

所述至少一个第一吹扫通道和至少一个第一吹扫通路能够被用作供应吹扫通道以及用作供应吹扫通路，并且所述至少一个第二吹扫通道和至少一个第二吹扫通路能够被用作排放吹扫通道以及用作排放吹扫通路。可替代地，所述至少一个第二吹扫通道和至少一个第二吹扫通路能够被用作供应吹扫通道以及用作供应吹扫通路，并且所述至少一个第一吹扫通道和至少一个第一吹扫通路能够被用作排放吹扫通道以及用作排放吹扫通路。适当地，该布置能够使得被供应到至少一个供应吹扫通道中的吹扫气体能够经由至少一个供应吹扫通路被供应到相应对相邻基材(即由上基材载体的基材座承载的基材和由下基材载体的基材座承载的基材)之间的间隙空间中，并且能够从该间隙空间经由至少一个排放吹扫通路被排放到所述至少一个排放吹扫通道中，其经由所述至少一个排放吹扫通道排放吹扫气体。对于基材载体堆叠的大多数基材载体，所提出的穿过相应的一对竖直相邻的基材载体的弓形部的吹扫通路适合于用作供应吹扫通路以及用作排放吹扫通路，并且能够足以实现适当的吹扫气体流。在此优选地假定所有基材载体承载相应的基材(可能不总是这种情况)，并且基材与基材载体和基材载体堆叠被设计所针对的预定可允许的基材厚度或基材厚度范围一致，使得在相应对相邻基材之间存在适当的间隙空间。

基材载体堆叠能够设有至少一个供应端口，该至少一个供应端口与所述至少一个供应吹扫通道连接，以将吹扫气体从外部吹扫气体源供应到基材载体堆叠中，并且能够设有至少一个排放端口，该至少一个排放端口与所述至少一个排放通道连接，以将吹扫气体从基材载体堆叠排放至外部吹扫气体排出装置。

优选地，吹扫通路由相应的一对竖直相邻的基材载体中的下基材载体的分隔腹板的相应弓形部的上表面区域以及相应的该对竖直相邻的基材载体中的上基材载体的分隔腹板的相应弓形部的相应下表面区域限定。

优选地，相应的第一吹扫通路完全沿着第一和第二弓形部中的相应的一个以及第一和第二分隔腹板中的相应一个的第一和第二连接部的至少相当大的部分延伸，其由相应的一对竖直相邻的基材载体中的下基材载体的相应的分隔腹板的上表面以及相应的该对竖直相邻的基材载体中的上基材载体的相应的分隔腹板的下表面限定，其中相应的第二吹扫通路完全沿着第二和第一弓形部中的相应的一个以及第二和第一分隔腹板中的相应的一个的第一和第二连接部的至少相当大的部分延伸，其由相应的一对竖直相邻的基材载体中的下基材载体的相应的分隔腹板的上表面以及相应的该对竖直相邻的基材载体中的上基材载体的相应的分隔腹板的下表面限定，并且其中第一和第二吹扫通路定位在内容纳空间的相对侧处。

优选地，吹扫通路是细长喷嘴开口，其包括朝向内容纳空间的相应部分渐缩的在竖直方向上的开口宽度。这优选地实现了水平吹扫气体流的加速，这有助于实现基材的有效吹扫处理。

根据本发明的优选实施例，大多数吹扫通路将内容纳空间的相应部分与相应的第一通道或与相应的第二通道连接，该内容纳空间的相应部分位于由另一对竖直相邻的基材载体中的上基材载体的基材座限定的上承载平面与由该另一对竖直相邻的基材载体中的下基材载体的基材座限定的下承载平面之间。将内容纳空间的在相应的上承载平面与相应的下承载平面之间的相应部分与相应的第一通道或与相应的第二通道连接的吹扫通路优选地形成为相应的细长弯曲吹扫通路，该细长弯曲吹扫通路在距下承载平面一定竖直距离(其超过基材载体堆叠被设计所针对的板状基材的预定可允许厚度或厚度范围)处以及在距上承载平面一定竖直距离处围绕内容纳空间的相应部分周向地延伸。

根据本发明的优选实施例，基材载体堆叠的大部分基材载体包括其相应的弓形部，该弓形部相对于一个特定的相关联的下基材载体定位，该下基材载体以如下方式位于基材载体堆叠中的相应基材载体下方：使得基材载体堆叠的该相关联的下基材载体的基材座的承载平面与大多数基材载体的相应基材载体的弓形部相交。

大体上，除了基材载体堆叠中的一个最下面的基材载体或优选地预定数量的最下面的基材载体之外，基材载体堆叠中的所有基材载体将包括它们的相应的弓形部，所述弓形部以所提及的方式相对于基材载体堆叠的一个特定的相关联的下基材载体定位并且将内容纳空间的相应部分与相应的第一通道以及与相应的第二通道连接。

基材载体堆叠中的最下面的基材载体或预定数量的最下面的基材载体能够包括它们相应的弓形部，所述弓形部定位在基部的圆柱形突出部的竖直延伸范围内，该圆柱形突出部向上延伸到内容纳空间中。圆柱形突出部能够包括平面上表面和与基材的预定可允许直径相对应或在基材的预定可允许直径范围内的直径。优选地，平面上表面以一定竖直距离定位在基材载体堆叠中的最下面的基材载体的承载平面下方，该竖直距离与由相应的一对竖直相邻的基材载体的基材座限定的承载平面之间的距离属于相同的量级。优选地，该竖直距离对应于由这样的一对竖直相邻的基材载体中的上基材载体的基材座承载的上基材的下表面与由下基材载体的基材座承载的下基材的上表面之间的竖直距离。

对于基材载体堆叠的大多数基材载体，由相应的基材座限定的承载平面能够定位在吹扫通路下方，吹扫通路穿过位于基材载体堆叠中的相应基材载体上方的一对竖直相邻的基材载体的各基材载体的分隔腹板的弓形部。

大体上，除了基材载体堆叠中一个最上面的基材载体或优选地预定数量的最上面的基材载体之外，基材载体堆叠中的所有基材载体将具有由它们相应的基材座限定的承载平面，该基材座定位在由位于基材载体堆叠中的相应基材载体上方的基材载体提供的这种吹扫通路的下方。

提出以上提到的盖包括吹扫形成构造，该吹扫形成构造与至少一个第一吹扫通道和至少一个第二吹扫通道协作，并且其提供与最上面的基材载体的基材座关联或者与预定数量的最上面的基材载体的相应基材载体的基材座关联的吹扫通路，其中由吹扫形成构造提供的吹扫通路将与相应基材座相关联的内容纳空间的相应部分直接或间接地与相应的第一吹扫通道和相应的第二吹扫通道连接。优选地，由吹扫形成构造提供的吹扫通路将盖的平面下表面区域与由最上面的基材载体的座限定的承载平面之间或者由相应的一对竖直相邻的基材载体的座限定的相应的上承载平面与相应的下承载平面之间的内容纳空间的相应部分与相应的第一吹扫通道或与相应的第二吹扫通道连接，其中由吹扫形成构造提供的吹扫通路优选地是相应的细长弯曲吹扫通路，该细长弯曲吹扫通路分别在距下承载平面超过基材载体堆叠针对其设计的板状基材的预定可允许厚度或厚度范围的一定竖直距离处以及在距上承载平面或平面表面区域一定竖直距离处围绕内容纳空间的相应部分周向地延伸。

吹扫形成构造能够包括第一分隔脊和第二分隔脊，第一分隔脊包括第一弓形区域，第二分隔脊包括第二弓形区域，第一分隔脊和第二分隔脊与基材载体的第一和第二分隔腹板的第一和第二弓形部中的相应一个对齐地延伸，其中第一分隔脊优选地包括在一个相应端部处合并到第一弓形部中的第一延伸部和第二延伸部，并且第二分隔脊优选地包括在一个相应端部处合并到第二弓形部中的第一延伸部和第二延伸部，其中第一和第二延伸部与基材载体的第一和第二分隔腹板的第一和第二连接部中的相应的一个对齐地延伸，其中由吹扫形成构造提供的吹扫通路包括用于将内部容纳空间的每个部分与相应的吹扫通道连接的延伸穿过第一分隔脊的相应的第一吹扫通路以及延伸穿过第二分隔脊的相应的第二吹扫通路。

优选地，由吹扫形成构造提供的第一和第二吹扫通路与由相应的一对竖直相邻的基材载体中的下基材载体的第一和第二分隔腹板的上表面以及相应的该对竖直相邻的基材载体中的上基材载体的第一和第二分隔腹板的下表面限定的第一和第二吹扫通路对齐地延伸。

优选的是，吹扫通路以竖直交错的方式以所限定的等距竖直位置设置在基材载体堆叠内，使得吹扫通路定位在(a)盖的平面下表面区域与由最上面的基材载体的基材座承载的基材的上表面之间的竖直距离的大约一半处，或者(b)由一对竖直相邻的基材载体中的上基材载体的基材座承载的基材的下表面与由该对竖直相邻的基材载体中的下基材载体的基材座承载的基材的上表面之间的竖直距离的大约一半处，或者(c)由最下面的基材载体的基材座承载的基材的下表面与基部的圆柱形突出部的平面上表面之间的竖直距离的大约一半处，如果所有基材座都承载相应的板状基材，该板状基材具有预定基材厚度并且具有圆形周边，该圆形周边具有基材载体堆叠针对其设计的预定基材直径，或者(d)在基部的圆柱形突出部的竖直延伸范围内。

有利地，相应的基材载体的上支撑形成构造和下支撑形成构造能够以上密封形成构造和下密封形成构造的形式提供，密封形成构造中的一个优选地包括围绕内区域连续地延伸的至少一个连续密封唇或密封脊，并且密封形成构造中的另一个优选地包括围绕内区域连续地延伸的至少一个连续密封表面带，其中，对于基材载体堆叠的每对相应的竖直相邻的基材载体，相应的上基材载体的下密封形成构造与相应的下基材载体的相关联的上密封形成构造接合或与之可接合，用于将内区域以及随之内容纳空间与基材载体堆叠的周围环境密封。根据上述优选实施例，通过内区域的所提出的密封，至少一个第一吹扫通道和至少一个第二吹扫通道也能够与基材载体堆叠的周围环境密封。最上面的基材载体的上密封形成构造能够与盖的相关联的密封形成构造接合或与之可接合，并且最下面的基材载体的下密封形成构造能够与基部的相关联的密封形成构造接合或与之可接合，以将内容纳空间、所述至少一个第一吹扫通道和所述至少一个第二吹扫通道与基材载体堆叠的周围环境密封。盖能够被设计成具有这样的重量，使得盖的重量实现或有助于彼此相关联的密封形成构造之间的充分密封接合。

提出盖和基部中的一个包括与第一吹扫通道连通的第一端口，并且盖和基部中的一个包括与第二吹扫通道连通的第二端口，使得吹扫气体能够经由第一端口和第二端口中的限定并起作用为供应端口的一个被供应到基材载体堆叠中，并且能够经由第一端口和第二端口中的用作排放端口的另一个从基材载体堆叠排放，以实现经由该第一和第二吹扫通道和吹扫通路的通过内容纳空间的吹扫气体流。特别地，例如，盖和基部中的一个能够包括第一端口并且盖和基部中的另一个能够包括第二端口。然而，可替代地，盖和基部中的一个也能够包括第一端口和第二端口。例如，使基部包括第一端口和第二端口对于例如用于将端口与用于吹扫气体的供应管线和返回管线连接的某些接口布置可能是有利的。对于其它接口布置，如果盖包括第一和第二端口，可能是有利的。

第一端口能够经由分别集成到盖或基部中的第一层流化器(laminarisator)与第一吹扫通道连通，以实现或有助于通过第一吹扫通道的大致上层流吹扫气体流。另外地或可替代地，第二端口能够经由分别集成到盖或基部中的第二层流化器与第二吹扫通道连通，以实现或有助于通过第二吹扫通道的大致上层流吹扫气体流。第一层流化器和第二层流化器中的至少一个包括气体过滤介质(例如，层流化织物)和气体分布歧管中的至少一个，气体分布歧管适于减少或防止通过其中的吹扫气体的湍流。

优选地，第一和第二吹扫通道和吹扫通路被定尺寸和定位为实现或有助于通过内容纳空间的大致上层流吹扫气体流。为此，进一步地，基材载体的座的承载平面之间的竖直距离优选地被定尺寸为实现或有助于通过内容纳空间的大致上层流吹扫气体流。

根据本发明的优选实施例，基材载体的外载体框架的框架顶点区域各包括大致上平面的外顶点部和弯曲或倾斜的内顶点部，该内顶点部与外顶点部一体地连接并且从外顶点部向上且朝向内区域延伸地竖立，其中基材载体的外载体框架的框架腹板各包括相应的弯曲或倾斜的腹板部，该腹板部沿着相应的框架腹板延伸并且从相应的外顶点部或相应的下腹板边缘或至少部分地沿着相应的框架腹板延伸的大致上平面的外腹板部向上且朝向内区域延伸地竖立，其中弯曲或倾斜的腹板部各在相应的一对内顶点部之间延伸并且合并到相应的一对内顶点部中，并且内顶点部以这样的方式成形：提供连续的载体框架轮廓并且围绕内区域延伸并且包括限定内区域的上边缘和内边缘。

在这种情况下，相应的基材载体的上密封形成构造能够有利地由连续载体框架轮廓的连续表面部提供，其中该连续表面部围绕内区域与内区域紧密接近地沿着连续载体框架轮廓的上侧延伸，并且限定和起作用为连续密封表面带。

优选地，相应的基材载体的下密封形成构造以连续密封唇或密封脊的形式提供，其围绕内区域与内区域紧密接近地沿着连续载体框架轮廓的下侧延伸。

根据本发明的优选实施例，基材载体堆叠的所有基材载体能够属于相同类型。

优选地，对于基材载体堆叠的每对竖直相邻的基材载体，基材载体能够彼此堆叠，使得下基材载体的第一框架腹板支撑上基材载体的第三框架腹板，下基材载体的第二框架腹板支撑上基材载体的第四框架腹板，下基材载体的第三框架腹板支撑上基材载体的第一框架腹板，并且下基材载体的第四框架腹板支撑上基材载体的第二框架腹板，使得基材载体的外载体框架的相应的第一和第三框架顶点区域在基材载体堆叠的第一竖直边缘区域处重叠，基材载体的外载体框架的相应的第一和第三框架顶点区域在基材载体堆叠的第三竖直边缘区域处重叠，基材载体的外载体框架的相应的第二和第四框架顶点区域在基材载体堆叠的第二竖直边缘区域处重叠，并且基材载体的外载体框架的相应的第二和第四框架顶点区域在基材载体堆叠的第四竖直边缘区域处重叠。

换句话说，基材载体堆叠的每对竖直相邻的基材载体的两个基材载体能够相对于彼此围绕竖直旋转轴线旋转180度以提供基材载体堆叠。优选地，基材载体的某些特征具有相对于绕竖直旋转轴线的旋转的二级旋转对称性并且基材载体的某些特征具有相对于绕竖直旋转轴线的旋转的一级旋转对称性，使得相应基材载体的框架腹板能够彼此区分。

优选地，基材载体堆叠的每个基材载体包括至少一个第一定位形成构造和至少一个第二定位形成构造，其中对于每对竖直相邻的基材载体，该对竖直相邻的基材载体中的下基材载体的所述至少一个第一定位形成构造与该对竖直相邻的基材载体中的上基材载体的所述至少一个第二定位形成构造接合或与之可接合，以确保或有助于该对竖直相邻的基材载体的两个基材载体的适当的相对定位。

优选地，第一和第二定位形成构造被布置和构造成使得一个基材载体的相应的第一定位形成构造(例如突出部和开口和凹部中的一个)能够与另一基材载体的相应的第二定位(例如突出部和开口或凹部中的另一个)接合，该另一基材载体是位于基材载体堆叠中的上方或下方的竖直相邻的基材载体，即使基材载体堆叠仅包括与第一和第二定位形成构造相同地设置的基材载体。

特别地，基材载体堆叠的每个基材载体能够同样地设有至少一个第一定位形成构造和至少一个第二定位形成构造，所述至少一个第一定位形成构造和至少一个第二定位形成构造被布置在外载体框架的直径上相对的部分处，使得如果相应的一对竖直相邻的基材载体的两个基材载体彼此堆叠，使得下基材载体的第一框架腹板支撑上基材载体的第三框架腹板，下基材载体的第二框架腹板支撑上基材载体的第四框架腹板，下基材载体的第三框架腹板支撑上基材载体的第一框架腹板，并且下基材载体的第四框架腹板支撑上基材载体的第二框架腹板，则相应的该对竖直相邻的基材载体中的下基材载体的至少一个第一定位形成构造与该对相应的竖直相邻的基材载体中的上基材载体的至少一个第二定位形成构造可接合。

换句话说，定位形成构造能够被布置成使得当基材载体堆叠由与定位形成构造相同地提供的一定数量的独立的基材载体组装时，基材载体堆叠的每对相应的竖直相邻的基材载体的相应的两个基材载体必须已经围绕竖直旋转轴线相对于彼此旋转180度。否则，第一和第二定位形成构造不会彼此接合。如果基材载体堆叠包括基部和盖，如下面所考虑的，则基部能够包括至少一个第一定位形成构造，其与基材载体堆叠的最下面的基材载体的至少一个第二定位形成构造接合或与之可接合，并且盖能够包括至少一个第二定位形成构造，其与基材载体堆叠的最上面的基材载体的至少一个第一定位形成构造接合或与之可接合，使得促进或甚至确保基部和盖相对于基材载体的适当定位。所描述的解决方案确保基材载体堆叠中的基材载体的特定竖直顺序，这能够是基材载体堆叠的特定的进一步的发明特征的基础，以实现如本文中描述的相对于现有技术解决方案的进一步的优点和改进。

参考上面提出的基材载体堆叠中的相邻基材载体的特定相对布置，应注意，竖直相邻的基材载体的该相对布置具有的后果是彼此堆叠的基材载体的相应第一和第二辅助开口形成至少一个第一吹扫通道，并且彼此堆叠的基材载体的相应的第一和第二辅助开口限定至少一个第二吹扫通道。为此，优选地以互补的方式设置分隔腹板，并且特别是分隔腹板的弓形部，使得每个第一弓形部能够与竖直相邻的基材载体或多个基材载体的相关联的第二弓形部或多个相关联的第二弓形部协作，并且每个第二弓形部能够与竖直相邻的基材载体或多个基材载体的相关联的第一弓形部或多个相关联的第一弓形部协作。根据前文中参考的优选实施例，其包括在每个基材载体的内区域中的两个第一辅助开口和两个第二辅助开口，在基材载体堆叠中获得两个第一吹扫通道和两个第二吹扫通道。

优选地，基材载体的外载体框架的框架顶点区域能够各包括平面或大致上平面的外顶点部，其中第一和第二定位形成构造能够被设置在相应的平面或大致上平面的外顶点部处。

优选地，每个基材载体设有作为第一和第二定位形成构造中的一个的至少一个竖直突出部，并且设有作为第一和第二定位形成构造中的另一个的至少一个凹部或开口。

根据本发明的优选实施例，相应的基材载体的多个基材保持臂中的每个基材保持臂在与相应的框架腹板相关联的两个框架顶点区域之间的区域中被设置在相关联的框架腹板处，其中，基材保持臂在距与相应的框架腹板相关联的两个框架顶点区域中的相应的最近的框架顶点区域变化的距离处被设置在相应的框架腹板处。优选地，相应基材载体的各对基材保持臂(其被设置在包括平行的框架腹板轴线的两个框架腹板的直径相对的框架腹板部处)具有距相应的最近框架顶点区域的不同距离。

有利地，基材保持臂能够以至少四组竖直交错的基材保持臂布置在基材载体堆叠中，其中相应的组的竖直直接相邻的基材保持臂相对于彼此水平地偏移布置，使得属于相应的一对竖直相邻的基材载体的这些相邻的基材保持臂至少在其上座元件处不竖直地重叠，该上座元件与相应的基材载体的其它基材保持臂的对应的上座元件一起限定基材座。

相应基材载体的多个基材保持臂优选地包括第一基材保持臂和第二基材保持臂以及第三基材保持臂和第四基材保持臂，第一基材保持臂和第二基材保持臂被设置在框架腹板中的第一框架腹板和第二框架腹板中的一个处，第三基材保持臂和第四基材保持臂被设置在框架腹板中的第三框架腹板和第四框架腹板中的其框架腹板轴线平行于或大致上平行于设置第一基材保持臂和第二基材保持臂的框架腹板的框架腹板轴线延伸的那个框架腹板处。

第一基材保持臂的该第一基材保持臂合并到相应的框架腹板中的位置处的连接点以及第四基材保持臂的该第四基材保持臂合并到相应的框架腹板中的位置处的连接点能够具有距相应的最近框架顶点区域相同的距离，并且第二基材保持臂的该第二基材保持臂合并到相应的框架腹板中的位置处的连接点以及第三基材保持臂的该第三基材保持臂合并到相应的框架腹板中的位置处的连接点能够具有距相应的最近框架顶点区域相同的距离。然而，第一基材保持臂和第四基材保持臂的连接点距相应的最近框架顶点区域的距离能够与第二基材保持臂和第三基材保持臂的连接点距相应的最近框架顶点区域的距离不同。

上面讨论的基材保持臂的所提出的布置允许或造成基材载体堆叠内的竖直相邻基材载体的竖直相邻的邻近基材保持臂不竖直地重叠，使得能够提供相对小的间距，即基材载体堆叠内的基材座之间的较小竖直距离，导致对于基材载体堆叠内的基材的高存储密度。

根据本发明的优选实施例，基材载体各设有一组接口元件，该组接口元件被布置在外载体框架的外周边处，在该处，有可能独立地地且直接地与相应的基材载体相互作用，而不必直接地与基材载体堆叠的其它基材载体相互作用。

接口元件能够是从相应的外载体框架的外周边附近水平地突出的突起，使得突起能够从下方接合以独立地支撑相应的基材载体并且相对于基材载体堆叠中定位在相应的基材载体下方的至少一个其它基材载体竖直地相对地移动相应的基材载体。

该布置使得搬运或开启器设备能够以技术上简单的方式与相应的基材载体相互作用，使得相应的基材载体能够相对于位于基材载体堆叠中的相应基材载体下方的至少一个其它基材载体被独立地支撑或移动，例如，以接近基材载体的基材座以供基材的装载和卸载。

优选地，每个基材载体包括在共同水平方向上突出的一对突起以及在相反的共同水平方向上突出的另一对突起，其中各突起被设置在各框架顶点区域中的相应框架顶点区域处，优选地被设置在相应框架顶点区域的平面或大致上平面的外顶点部处，或着被设置在靠近相应框架顶点区域的相应框架腹板处，使得突起以四组竖直交错的突起布置在基材载体堆叠处。

优选地，第一突起被设置在第一框架顶点区域处或第四框架腹板靠近第一框架顶点区域处，并且第四突起被设置在第四框架顶点区域处或第四框架腹板靠近第四框架顶点区域处，第一突起和第四突起在相同水平方向上突出，并且第二突起被设置在第二框架顶点区域处或第二框架腹板靠近第二框架顶点区域处，以及第三突起被设置在第三框架顶点区域处或第二框架腹板靠近第三框架顶点区域处，第二突起和第三突起在相同方向上突出，该方向与第一突起和第四突起突出的水平方向相反。

可替代地，第一突起被设置在第一框架顶点区域处或第一框架腹板靠近第一框架顶点区域处，并且第二突起被设置在第二框架顶点区域处或第一框架腹板靠近第二框架顶点区域处，第一突起和第二突起在相同水平方向上突出，并且第三突起被设置在第三框架顶点区域处或第三框架腹板靠近第三框架顶点区域处，以及第四突起被设置在第四框架顶点区域处或第三框架腹板靠近第四框架顶点区域处，第三突起和第四突起在相同方向上突出，该方向与第一突起和第四突起突出的水平方向相反的方向。

根据本发明的优选实施例，第一和第四突起或者第一和第二突起是第一类型的突起，并且第二和第三突起或者第三和第四突起是第二类型的突起，其中第一类型的突起和第二类型的突起具有不同的形状或者/和不同地定位在相应的框架顶点区域处或者相对于相应的框架顶点区域不同地定位。这通过例如外部搬运或移动装置的合适的接口形成构造简化与选定的基材载体的单独相互作用。

各突起能够以多组竖直交错的突起被布置在基材载体堆叠处，其中相应组的突起被布置成使得竖直直接相邻的突起不竖直地重叠或不完全竖直地重叠。获得了竖直对齐的突起之间的放大的竖直距离，所述突起优选地是相同类型的突起。

根据本发明的优选实施例，基材载体堆叠的基材载体相同地设有突起。

优选地，基材载体由塑料材料一体地模制，优选地通过注射模制。基材载体能够由减少静电的塑料材料模制而成。这特别是例如对于洁净室应用被推荐。优选地，基材载体由聚醚醚酮(PEEK)或聚碳酸酯(PC)模制而成。

本发明的优选实施例提供一种基材载体堆叠，其包括多个基材载体，所述多个基材载体彼此堆叠或可堆叠并且在基材载体堆叠的内容纳空间内承载相应的板状基材，其中基材载体堆叠包括：至少一个第一吹扫通道和至少一个第二吹扫通道，所述至少一个第一吹扫通道和至少一个第二吹扫通道在内容纳空间的相对侧处竖直地平行于或大致上平行于内容纳空间延伸；以及吹扫结构，其允许在基材载体堆叠内通过由基材载体保持的基材之间的空间的水平吹扫流，其中基材载体各包括外载体框架，外载体框架设有座以承载相应的基材，并且其中外载体框架围绕第一和第二吹扫通道以及内容纳空间延伸。该基材载体堆叠和包括在其中的基材载体能够由前文中描述的基材载体堆叠和基材载体的进一步特征表征。

本发明的优选实施例提供一种基材载体，其包括外载体框架，该外载体框架在框架平面中围绕包括内开口的内区域的延伸并且限定或设有基材座，该基材座容纳并承载板状基材。该基材载体进一步包括在外载体框架处的至少一个上支撑形成构造和至少一个下支撑形成构造，使得基材载体能够限定并起作用为下基材载体，该下基材载体用其至少一个上支撑形成构造在相同类型的另一个基材载体的至少一个下支撑形成构造处支撑该相同类型的另一个基材载体，该另一个基材载体被堆叠在该基材载体上，并且使得该基材载体能够限定并起作用为上基材载体，该上基材载体在其至少一个下部支撑形成构造处由相同类型的另一个基材载体的至少一个上支撑形成构造支撑，该基材载体被堆叠在该另一个基材载体的所述至少一个上支撑形成构造上。

基材载体进一步包括以下特征：

外载体框架包括沿着第一框架腹板轴线延伸的第一框架腹板、沿着第二框架腹板轴线延伸的第二框架腹板、沿着第三框架腹板轴线延伸的第三框架腹板以及沿着第四框架腹板轴线延伸的第四框架腹板，

第一框架腹板轴线与第四框架腹板轴线在第一顶点以及外载体框架的第一顶点区域处以直角相交，第一顶点与第一框架腹板和第四框架腹板相关联，第一框架腹板和第四框架腹板在第一框架顶点区域处一体地连接，

第一框架腹板轴线与第二框架腹板轴线在第二顶点以及外载体框架的第二顶点区域处以直角相交，第二顶点与第一框架腹板和第二框架腹板相关联，第一框架腹板和第二框架腹板在第二框架顶点区域处一体地连接，

第三框架腹板轴线与第四框架腹板轴线在第四顶点以及外载体框架的第四顶点区域处以直角相交，第四顶点与第三框架腹板和第四框架腹板相关联，第三框架腹板和第四框架腹板在第四框架顶点区域处一体地连接，

第三框架腹板轴线与第二框架腹板轴线在第三顶点以及外载体框架的第三顶点区域处相交，第三顶点与第三框架腹板和第二框架腹板相关联，第三框架腹板和第二框架腹板在第三框架顶点区域处一体地连接，

多个基材保持臂从外载体框架向内和向上延伸，它们与内区域重叠并形成基材座，基材座定位在载体框架的竖直范围上方一定距离处并且适于承载具有圆形周边和直径的板状基材，该直径对应于预定的可允许直径或在由预定的可允许最小直径和预定的可允许最大直径给定的预定的可允许直径范围内，

基材座限定出承载平面，在具有圆形周边和与预定的可允许直径或预定的可允许最大直径对应的直径的板状基材被基材座水平地承载和保持的情况下，该承载平面与该板状基材的下表面共面，

多个分隔腹板从外载体框架延伸穿过内区域，其限定内区域的内开口和至少两个辅助开口，其中内开口和基材座被布置和定尺寸为使得由基材座承载且具有圆形周边和与预定直径对应或在预定直径范围内的直径的板状基材不与分隔腹板的任何部分重叠，

分隔腹板的至少一个第一弓形部在第四框架腹板与内开口之间的空间中延伸，限定出至少一个第一辅助开口，

分隔腹板的至少一个第二弓形部在第二框架腹板与内开口之间的空间中延伸，限定出至少一个第二辅助开口，并且

弓形部具有适应于预定直径或预定直径范围的曲率半径。

优选地，通过以下方式，基材载体适于与相同或相似类型的一定数量的其它基材载体组合以提供如上文中描述的根据本发明的优选实施例的基材载体堆叠：将基材载体彼此堆叠，使得：

基材载体堆叠的基材载体的分隔腹板的弓形部至少在平行于或大致上平行于载体堆叠的第一水平轴线的方向上限制基材载体堆叠的内容纳空间，该第一水平轴线平行于或大致上平行于基材载体的第一腹板框架轴线和第三腹板框架轴线，

其中基材载体堆叠的基材载体的内区域的第一辅助开口和第二辅助开口组合以限定基材载体堆叠的至少一个第一吹扫通道和至少一个第二吹扫通道，所述至少一个第一吹扫通道和所述至少一个第二吹扫通道在内容纳空间的相对侧处竖直地平行于内容纳空间延伸。

优选地，基材载体和与其组合的相同或相似类型的其它基材载体的吹扫结构允许在基材载体堆叠内通过由基材载体的基材座保持的基材之间的空间的水平吹扫流。

有利地，基材载体能够由如上文中描述的根据本发明的优选实施例的基材载体堆叠的相应基材载体的一个或多个进一步的特征来表征。

本发明的优选实施例进一步提供一种处理半导体晶圆的方法，包括以下步骤：

将半导体晶圆装载到根据上文中描述的本发明的优选实施例的基材载体堆叠中，使得每个半导体晶圆由基材载体堆叠的相应基材载体的座保持；

通过将吹扫气体供应到基材承载堆叠的第一吹扫通道和第二吹扫通道中的一个中以及从基材载体堆叠的第一吹扫通道和第二吹扫通道中的另一个排放吹扫气体，将半导体浸在通过基材之间的空间的吹扫气体流中，以及

从基材载体堆叠卸载半导体晶圆。

本发明的根据其各种方面的上述和其它特征以及优选实施例将从附图以及从下面的具体实施方式显而易见。

附图说明

图1是根据本发明的第一优选实施例的基材载体堆叠的透视图，其包括多个基材载体、基部和盖。

图2是根据图1的基材载体堆叠的透视图，其中基材被基材载体保持，并且基部和盖被移除。

图3是根据本发明的第二优选实施例的第一子类型的保持基材的基材载体的俯视图，其与包括根据图1和图2的基材载体堆叠的本发明的第一优选实施例的基材载体稍微不同。

图4A是根据图3的基材载体在没有基材的情况下的俯视图，图4B是对应的附图，在图4B中已添加与基材载体的部分相关联的轴线和顶点，以及图4C是根据本发明的第二优选实施例的第二子类型的基材载体的对应附图。

图5是根据本发明的第三优选实施例的在没有基材的情况下的基材载体的透视图，其与本发明的第一和第二优选实施例稍微不同。

图6是基材载体的基材保持臂的特写剖面透视图，该基材载体可以是根据前述各图中的每个的基材载体中的一个。

图7是根据图5的基材保持臂的特写侧视剖面图，其中基材被相应的基材载体保持。

图8A和图8B是根据本发明的第四优选实施例的基材载体堆叠的剖面透视图，其与前述各图的基材载体堆叠和基材载体稍微不同，其中图8B示意地指示在基材载体堆叠内通过被基材载体保持的各基材之间的空间的水平吹扫流。

图9是根据图8A和图8B的基材载体堆叠的又一个剖面透视图。

图10是根据第四优选实施例的基材载体堆叠与开启器设备的移动机构一起的侧剖面透视图，其中基材载体堆叠以开启状态示出，在开启状态下，上部分基材载体堆叠的下基材载体与下部分基材载体堆叠的上基材载体之间存在竖直间隙。

图11A和图11B是根据本发明的第五优选实施例的基材载体的透视图，其中图11A是示出基材载体的上侧的透视图并且图11B是示出基材载体的下侧/底侧的示图。

图12A是本发明的第五优选实施例的基材载体的上侧的俯视图，并且图12B和图12C示出其放大细节。

图13是根据图12A中的剖面线XIII-XIII的基材载体的剖面侧视图。

图14是根据图12A中的观察方向XIV的基材载体的侧视图。

图15是包括根据图12A中的剖面XV-XV的基材载体的基材保持臂的部分的特写侧剖面图。

图16是图13中的细节XVI的特写侧剖面图。

图17A是根据本发明的第五优选实施例的基材载体堆叠的多个基材载体的透视图，其中基材被基材载体堆叠中相应的基材载体保持，并且图17B是根据与图17A中的基材的剖面相对应的剖面的穿过图17A的基材载体以及图17A中的细节B的基材的周边边缘的剖面侧视图。

图18A以俯视图示出本发明的第五优选实施例的被叠加在彼此之上的三个基材载体，用于阐述根据本发明的优选实施例的基材载体相对于基材载体堆叠中的竖直轴线的适当旋转定位，并且图18B是彼此堆叠的基材载体的局部俯视图。

图19是相对于彼此被竖直地移位但具有适当的旋转位置以提供基材载体堆叠的四个这样的基材载体的侧视图。

图20是根据图19的彼此堆叠的四个基材载体的顶点区域的透视图，其具有互相接合的定位形成构造以获得并维持基材载体在基材载体堆叠内的适当相对定位。

图21示出基材载体堆叠，其包括第五优选实施例的彼此堆叠的基材载体与基材载体堆叠的基部和盖一起。

图22A是基材载体堆叠的侧视图，并且图22B是以根据图22A中的细节B的基材载体的突起的形式提供的接口元件的特写侧视图。

图23是根据本发明的第五优选实施例的基材载体堆叠的基部的示例性优选实施例的俯视图。

图24是根据图23中的观察方向XXIV所看到的根据图23的基部的示意侧视图。

图25是具有类似于图17B的图示的基材的四个基材载体与根据图24的基部一起的侧视图。

图26是根据本发明的第五优选实施例的被上下颠倒放置的基材载体堆叠的盖的示例性优选实施例的下侧/底侧的俯视图。

图27是根据图26中的剖面线XXVII-XXVII的向上放置的盖的侧剖面图。

图28是具有以类似于图17B的图式的基材的四个基材载体与根据图27的盖一起的侧剖面图。

图29A、图29B、图29C和图29D各自是根据本发明的优选实施例的基材载体的上侧的示意性俯视图。

图30A、图30B、图30C和图30D各自是根据本发明的优选实施例的基材载体的上侧的示意性俯视图。

具体实施方式

图1是基材载体堆叠10的第一优选实施例的透视图，其包括彼此堆叠的多个基材载体12，其中基材载体被堆叠在基材载体堆叠基部14上并且基材载体堆叠的盖16被堆叠在基材载体上。根据例如US 2017/0372930 Al的术语，基材载体堆叠10可以被表示为“基材保持器”，其包括多个分离的“模块”(即基材载体12)、可以被表示为“顶部模块”或“帽件”或“上帽”或类似物的基部14以及可以被表示为“底部模块”或“底件”或“底帽”或类似物的盖16。在没有基部14和盖16的情况下，被堆叠的基材载体18，即彼此堆叠的多个独立基材载体12可以被表示为“堆叠的模块”。

根据本发明的优选实施例，基部14和盖16能够被视为被包括在基材载体堆叠10中。包括基部14和盖16的该基材载体堆叠也可被表示为“Tec-Cell”。然而应注意的是，提供和使用基部和盖可能不是总是必要的。这将取决于例如基材载体被使用的特定应用。因此，彼此堆叠的多个独立基材载体12(即，没有基部14和盖16的情况下堆叠的基材载体18)能够构成根据本发明的优选实施例的基材载体堆叠。

基材载体中的每个能够保持相应的基材，例如半导体晶圆形式的基材，如将在下文中将变得显而易见的。基材载体堆叠能够包括不相干的基材载体或不同类型的基材载体。优先地，用于处理气体或吹扫气体的充气结构(plenum structures)和用于将基材载体堆叠的内部环境以及随之被基材载体保持的基材与周围环境隔离的密封形成构造被实现。基材载体中的每个、基部以及盖能够包括提供或协作以提供基材载体堆叠的这种充气结构和密封形成构造的结构。

如图1所示，基部14能够包括喷嘴或连接器20，该喷嘴或连接器20能够被连接至气体供应器或返回器，使得气体能够被引入内部环境，使得基材与气体相互作用或被气体处理。气体喷嘴或气体连接器20能够属于任何设计并被不同地布置，例如基部14的任何侧上。多个这种喷嘴或连接器20能被提供。此外，盖16能够替代地或另外地设有一个或多个气体喷嘴或气体连接器，诸如气体喷嘴或气体连接器22。优选地，总体上提供至少两个气体喷嘴或气体连接器，使得能够实现通过基材载体堆叠的内部环境的气体循环。在本发明的优选实施例中，提供两个这样的喷嘴或连接器，使得喷嘴或连接器中的一个能够是气体的进入喷嘴、进入连接器或人口，并且另一个能够是气体的返回或废气喷嘴或者返回或废气连接器或出口。还可指出的是，喷嘴或连接器能够出于任何原因带人任何气体或其它产物(诸如液体)，并且喷嘴或连接器能够被连接至另一装置，该另一装置能够处理、加压或提供气体或其它产物，并且能够处于任何位置。然而，特别相关的应用是使被基材载体保持的基材经受吹扫处理，其涉及提供在基材载体堆叠内通过基材的吹扫气体流，使得喷嘴或连接器将吹扫气体引入基材载体堆叠中以及从基材载体堆叠排放吹扫气体。

图2是堆叠的基材载体18(即，彼此堆叠的多个独立基材载体12而没有基部14和盖16)的透视图。如图2所示，每个基材载体12能够保持相应的基材30。为此，基材载体12各包括多个基材保持臂32，它门共同限定相应的基材载体的基材座。根据本发明的优选实施例，相应的基材载体12包括四个基材保持臂32。

被基材载体堆叠10的基材载体12保持的基材30中的多个34以限定的竖直相邻位置定位，在竖直相邻基材之间具有限定的竖直空间。取决于使用场景，可能不是基材载体堆叠的所有基材载体都将相应的基材保持在其相应的基材座中。如果基材载体堆叠10的所有基材载体12保持相同种类的相应的基材，则优选的是这些基材被基材座定位在等距竖直位置处。

应注意的是，基材载体能够包括任何数量的基材保持臂，以允许被基材保持臂的保持端限定的基材座所保持的基材的适当保持。典型地，每个基材载体包括至少三个基材保持臂是优选的。优选地，如在各图中所示的优选实施例中，每个基材载体提供四个基材保持臂。原则上，基材保持臂能够属于任何设计。

不应被排除的是，在替代的优选实施例中，基材载体堆叠或其基材载体能够设有阻挡件，使得每个基材能够与基材载体堆叠中的上方或下方的基材分离或隔离。优选地不应接触基材的阻挡件能够提供对基材的保护，使得在基材可能被污染的情况下或者其中如果基材破裂或断裂的情况下，来自被污染的或断裂的基材的材料不会落在其它基材上或污染其它基材。这样的阻挡件能够与相应的基材载体一体地形成或者能够是被包括在基材载体堆叠中的分离的元件。

图3是本发明的第二优选实施例的保持基材30的基材载体12的俯视图。由于该第二优选实施例的基材载体与根据图1和图2中所示的第一优选实施例的基材载体堆叠10的基材载体12仅稍微不同，所以相同的附图标记被用于二者优选实施例。图4A是在没有基材的情况下第二优选实施例的基材载体的俯视图。

与第一实施例的基材载体12相似，第二优选实施例的基材载体12包括外载体框架40，该外载体框架40包括四个框架腹板42a、42b、42c和42d，它们在外载体框架的相应框架顶点区域处被成对地一体连接。外载体框架40的四个框架顶点区域由附图标记44a、44b、44c和44d表示。如图4B所示，框架腹板沿着相关联的框架腹板轴线Aa、Ab、Ac和Ad延伸，其在与相应的顶点区域相关联的相应顶点处成对地以直角相交。因此，在如从图3、图4A及其它图显而易见的，在优选实施例示出为大体上正方形或矩形的情况下，外载体框架至少大致上属于正方形或矩形。图4B示出框架腹板轴线Aa、Ab、Ac和Ad以及顶点Va、Vb、Vc和Vd，其可以容易地与图3和图4A的基材载体12的外载体框架40的框架腹板和框架顶点区域相关联。

第二优选实施例的基材载体12与第一优选实施例的基材载体12类似，其包括四个基材保持臂32，它们被指定独立的附图标记32a、32b、32c和32d并且以其相应的自由保持端形成用于基材的基材座。自由保持端也可被表示为相应的基材保持臂的座部。如图4A所示，四个基材保持臂32a、32b、32c和32d在朝向或大致上朝向基材保持器的中央的方向上从外载体框架40向内突出。臂的长度能够是任何长度。例如，臂的长度能够由预期的基材尺寸确定。此外，在本发明的优选实施例中，臂与基材载体在单个模具或件中制成，使得长度是固定的。然而，在本发明的其它优选实施例中，不应排除基材保持臂能够经由悬挂部或延伸部可调节。

可能合适的是，基材载体12包括沿其外部侧、顶侧和底侧的引导件或闩锁或其它形成构造，使得引导件能够与包括基材载体的基材载体堆叠中的下方或上方基材载体相互作用，使得基材载体当被堆叠时被固定或相互作用使得堆叠不会掉落或变得未对齐。此外，这样的一对竖直相邻的基材载体中的两个基材载体的适当和预先限定的相对定位能够通过这样的引导件或闩锁或其它形成构造而被确保或促成，这些引导件或闩锁或其它形成构造能够为任何类型、任何数量以及在模块的任一侧上。根据本发明的优选实施例，一个基材载体的至少一个突出部配合到下方或上方基材载体的开口或凹部中，使得两个基材载体变得能够抵抗侧向移动。此外，这样的一对竖直相邻的基材载体中的各基材载体以及对应地基材载体堆叠的所有基材载体的适当和预先限定的相对定位和定向能够以这种方式被确保或促成。

例如，如各图中所示，基材载体12能够设有突出部50a、50b以及凹部或开口52a、52b。第一对突出部50a和相邻的凹部或开口52a以及第二对突出部50b和相邻的凹部或开口52b被布置在外载体框架40的直径相对的框架顶点区域44a和44c处。每个突出部50a、50b能够突出到堆叠在相应的基材载体上的竖直相邻的上方基材载体的对应的相应开口或凹部中，并且相应的基材载体被堆叠在其上的竖直相邻的下方基材载体的对应的相应突出部能够突出到每个开口或凹部52a、52b中。优选地，如各图中所示，假定向上突出的突出部。然而，可替代地，向下突出的突出部是可能的。在这种情况下，每个突出部能够突出到相应的基材载体被堆叠在其上的竖直相邻的下方基材载体的对应的相应开口或凹部中，并且堆叠在相应基材载体上的竖直相邻的上方基材载体的对应的相应突出部能够突出到每个开口或凹部中。向上和向下突出的突出部的组合也是可能的。

原则上，突出部和凹部或开口能够属于任何数量，并且能够在相应的基材载体上的任何侧或位置。如以上讨论的，这些突出部还能够辅助每个基材载体与下方或上方基材载体的自居中和自对齐能力，以及辅助抵抗侧向移动和失对齐(de-alignment)的能力。

图3、图4A和图4B中所示的突出部50a、50b以及凹部或开口52a、52b的布置使得在包括彼此堆叠的相同基材载体的基材载体堆叠中，所有基材载体的突出部会竖直地对齐并且所有基材载体的凹部或开口会竖直地对齐，使得没有突出部能够与竖直相邻的下方或上方基材载体的相关联的凹部或开口接合。这在以下情况下也适用：基材载体会以对应于绕竖直旋转轴线旋转180度的相对旋转位置交替地彼此堆叠，使得框架顶点区域44a和44c在基材载体堆叠的直径相对的竖直边缘区域处交替地定位在彼此上方。显然，需要至少两个子类型的基材载体，即如图3、图4A和4B中所示的第一子类型的基材载体12以及如图4C中所示的第二子类型的基材载体12'。

第二子类型的基材载体12'包括第一对突出部50a'和相邻的凹部或开口52a'以及第二对突出部50b'和相邻的凹部或开口52b'，它们被布置在外载体框架40的直径相对的框架顶点区域44a和44c处，类似于第一子类型的基材载体12的实现。然而，与第一子类型的基材载体12相比，第二子类型的基材载体12'具有突出部与凹部或开口的互换的位置。在基材载体堆叠中，两个子类型的基材载体12和12'必须彼此交替堆叠，使得每个突出部能够突出到竖直相邻的上方基材载体的相关联的凹部或开口中，并且能够实现以上讨论的优点。除了附图标记12'、50a'、52a'和52b'之外，用于第一子类型的基材载体12的相同附图标记也用于第二子类型的基材载体12'，因为优选地，这两个子类型之间不存在进一步差异。在下面的描述中，当提及基材载体堆叠的“基材载体12”时，附图标记12可以涉及第一子类型的基材载体12以及第二子类型的基材载体12'。

根据两个子类型的基材载体12、12'包括在外载体框架40的外周边处的特定形成构造，在当前情况下是突起54a、54b、54c和54d，这些突起在侧向或水平方向上突起并允许相互作用装置或机构(例如，搬运、支撑或移动装置或机构)与基材载体堆叠中的相应基材载体相互作用。例如，如下面在图10的上下文中示例出的开启器设备的移动机构能够通过与这样的突起接合而与相应的基材载体相互作用。因此，这些形成构造可以总体上被表示为“接口形成构造”，并且在当前情况下被表示为“接口突起”。

在当前情况下，存在四个这样的接口突起54a、54b、54c和54d，它们分别定位在框架顶点区域44a、44b、44c和44d处。这些突起的第一类型(即突起54a和54d)定位在框架顶点区域44a和44d处，并且相对于框架腹板42d在侧向方向上突起，而这些突起的第二类型(即突起54b和54c)定位在框架顶点区域44b和44c处并且相对于框架腹板42b在侧向方向上突起，使得第一类型的突起和第二类型的突起从外载体框架40在相反方向上突起。第二类型的突起54b和54c在相应的框架顶点区域处沿着框架腹板轴线Ab比第一类型的突起54a和54d在相应的框架顶点区域处沿着框架腹板轴线Ad稍微更向内定位。这允许根据两个子类型的基材载体12、12'彼此交替地堆叠以实现水平交错的接口突起，如对于本发明的对应优选实施例的图8A、图8B、图9和图10中所示。为此，两个子类型的基材载体基于围绕竖直轴线180°的旋转而以相对旋转的相对位置彼此堆叠，使得交替的第一类型的接口突起和第二类型的接口突起在侧向方向上从基材载体堆叠突起并且在竖直方向上不重叠或仅稍微重叠。这有利于简化如上文所提及的相互作用装置或机构的接合形成构造与基材载体堆叠的相应基材载体的接合。

如图29A、29B、29C、29D、30A、30B、30C和30D所示，突起54a、54b、54c和54d以及基材保持臂32a、32b、32c和32d能够以各种构造形成。

应注意的是，图1和图2的基材载体堆叠10的基材载体12包括从相应的基材载体的外载体框架在侧向或水平方向上突出的不同种类的接口突起。根据图1和图2中所示的布置，相应的相同类型的接口突起从相应的基材载体的相应框架腹板或相应框架顶点区域突起，并且在竖直方向上完全重叠。可以假定这是图1和图2的优选实施例与图3、图4A、图4B和图4C的优选实施例之间的唯一相关差别，使得根据图3、图4A、图4B和图4C的基材载体12、12'的前述和下面的详细描述可以被理解为也是图1和图2的基材载体堆叠的第一子类型的对应基材载体12和第二子类型的对应基材载体12'的对应细节的描述。

上面讨论的本发明的优选实施例的基材载体设有分隔腹板60a和60b，其将相应基材载体12、12'的内区域62划分成多个开口。外载体框架40围绕内区域延伸，并且分隔腹板60a和60b在框架腹板42a和42c之间延伸并且与这些框架腹板42a和42c一体地连接，使得形成大的内开口64和两对较小的内开口66a、66b以及68a、68b。大的内开口64定位于在框架腹板42d与分隔腹板60a之间延伸的第一对较小的内开口66a、66b与在框架腹板42b与分隔腹板60b之间延伸的第二对较小的内开口68a、68b之间。例如，较小的内开口具有相同或对应的对称形状，如各图中所示。优选地，出于稳定性原因，分隔腹板60a和60b分别在中间区域处与相应的相邻框架腹板42d和42b一体地连接，使得获得相应的一对较小的内开口。替代地，如果在相应的分隔腹板的中间区域处不包括与相邻的框架腹板的这种一体连接，则能够在较大的内开口64的两侧上均提供相应的较大的内开口。

基材载体12、12'的大的内开口64限定包括基材载体12、12'的基材载体堆叠的内容纳空间。在该内容纳空间中，基材或半导体晶圆由相应的基材载体保持，如图2以及还有要在下面讨论的图8A、图8B和图9中所示。基材或晶圆被保持在内容纳空间的内区域中，内容纳空间的内区域在相反的侧向方向上由基材载体堆叠的基材载体12、12'的分隔腹板60a和60b的相应弓形部限定。如图3所示，分隔腹板的弓形部具有与基材或晶圆的直径相对应的曲率半径，使得该弓形部在图3的俯视图中以小的限定的径向距离沿着基材或晶圆的外周边的一部分延伸。该距离能够比该图中所指示的显著地小。

基材载体的较小的内开口66a、66b和68a、68b限定基材载体堆叠的吹扫气体分布通道或吹扫通道70和72，如图3所示。通道70能够包括对应于较小的内开口66a、66b的一对通道70a和70b，并且通道72能够包括对应于较小的内开口68a、68b的一对通道72a和72b，如图4A所示。这些分布通道70和72(或通道对70a、70b和72a、72b)中的一个能够限定并起作用为供应通道(或作为一对供应通道)，并且另一个能够限定并起作用为去除或收集通道(或作为一对去除或收集通道)。

如所示，这些通道或通道对被对角地相对布置或沿相反的侧向方向布置，使得在基材载体堆叠中基材或晶圆被布置在这些通道之间。总体上，设计不限于各图中所示的设计。如所示或如本领域技术人员会预见的，通道能够属于任何数量、尺寸和设计。另外，通道能够以任何方式辅助将气体分布到基材，使得空气或吹扫气体能够以层流(laminar)方式被提供到每个基材，例如图8B中示意性地或象征性地示出的。

特别地，并且参考图1，通道或通道对中的每个能够在基材载体堆叠中与基材载体堆叠的相应喷嘴或连接器连接，所述喷嘴或连接器例如基部14的喷嘴或连接器20以及盖16的对应的进一步的喷嘴或连接器22，使得由基材载体保持的基材能够如以上讨论的经受吹扫处理。吹扫气体经由通道或通道对中的一个被传递到基材，使得吹扫气体在由相应的基材载体保持在基材载体堆叠内的相邻基材之间通过，并且在已经在基材之间通过之后被通道或通道对中的另一个收集，如图8B中示意性地或象征性地示出的。

图5是根据本发明的优选实施例的基材载体的本发明的第三优选实施例的透视图，其在没有由基材保持臂保持的基材的情况下示出。该优选实施例与第一和第二优选实施例仅稍微不同。

与第一和第二优选实施例相似，图5中所示的基材载体12包括四个基材保持臂32a、32b、32c和32d。在透视图中，可以看出存在基材保持臂以及它们如何布置和形成。具体地，可以看出基材保持臂如何从外载体框架40向内和向上延伸，以限定定位在外载体框架40的上边界上方一定竖直距离处的基材座。与US 2017/0372930 A1的术语一致，外载体框架40也可以被表示为“保持器本体”。根据替代术语，术语“基材载体本体”也是合适的。

在该透视图中，可以看出臂32b在点64处向上成弓形，并且在比臂到外载体框架40的连接点高的点处包括自由保持端或座部。可以注意到，弓形和座部相对于外载体框架的角度、长度和程度能够具有任何特征。此外，当被堆叠时，上方或下方的保持器和基材经由臂能够从下方基材偏移，使得基材不会彼此接触或污染，并且使得在基材之间能够保持较小的距离，诸如例如0.5mm。还应注意，弓形允许堆叠的相当大的重量在基材载体堆叠中从基材载体到基材载体传递，而不是通过基材或臂本身传递。

图6是上文中描述的一个或所有优选实施例的基材保持臂(例如，根据图5中所示的优选实施例的基材保持臂32b)的特写剖面图。该优选实施例的其它三个基材保持臂和其它优选实施例的基材保持臂能够在它们的限定相应的基材座的上端部和内端部处类似地成形。

图6显示基材保持臂32b的一个区段。臂的该区段包括上弓形部64和在自由端处的座部66。如图6所示，座部66的上表面能够从向内延伸的上中间线在两个相反的侧向方向上稍微向下成角度。大体上，座部的上表面能够在周边方向(相对于基材的外边缘)或横向方向上弯曲成凸形。原则上，上弓形部64能够具有任何合适的角度、程度或长度，并且座部66能够具有任何合适的长度。上弓形部64与座部66之间的臂区段能够包括稍微的纵向突出部67，该纵向突出部67能够辅助将基材保持在限定的位置搁置在形成的基材座上，阻碍基材被移动、推挤或以其它方式不经意或意外地从坐落在座部66上的其适当位置移除。

图7是图6的基材保持臂32b的特写侧剖面图，其中存在基材30并且该基材30被保持在由相应的基材载体的保持臂和其它基材保持臂的座部66限定的基材座上。如图7所示，座部66能够相对于基材保持臂32的结构的其余部分以及基材30向下向内成角度。与所提到的座部66包括上中间线(座部66的上表面从该上中间线在两个相反的横向方向上稍微向下成角度地延伸)的实施方式一起，这提供在基材30与座部66之间接触点或微小接触片(minute contact patch)69的实现。

总体上，建议将该接触点或接触片69制得尽可能小，以便减少基材上的擦伤和污染，并允许接触点或接触片69定位在基材的最远边缘处，使得基材的下表面在任何其它点处没有或不太可能被基材保持臂污染或与基材保持臂接触。此外，纵向突出部67能够突出为较靠近基材30的外周边以形成止挡件，该止挡件在半径方向上限制所形成的基材座的容纳空间，使得基材达到并维持在基材座上的所限定的位置。

图8A和图8B是包括多个根据本发明的优选实施例的基材载体(或“模块”)的基材载体堆叠(或“基材保持器”)的第四优选实施例的剖面透视图。然而，可以假定基材载体与根据图3、图4A、图4B和图4C的第一子类型的相应基材载体12或第二子类型的相应基材载体12'基本上相同或非常相似，使得可以将图8A和图8b理解为示例出根据第二优选实施例的基材载体堆叠10。该基材载体堆叠10包括堆叠在基材载体12上的盖16。该盖16能够与图1中所示的优选实施例的盖16基本上相同或非常相似。此外，基材载体堆叠10包括基材载体12被堆叠在其上的基部14。该基部14仅被示意性地示出。原则上，基部14能够与图1中所示的优选实施例的基部14基本上相同或非常相似。基部14包括气体喷嘴或气体连接器20并且盖16包括气体喷嘴或气体连接器22。

类似上文中描述的优选实施例，基材载体堆叠10使用基材载体12以有限的空间构造将基材或晶圆保持在基材载体堆叠的内容纳空间内，使得基材载体堆叠能够在有限的空间中存储或容纳许多基材，并且其中各基材和基材载体被居中并对齐。如基于本发明的第二优选实施例所描述的，基材载体能够被设计成使得空气或气体能够流过基材载体堆叠10的内部吹扫气体分布通道，该内部吹扫气体分布通道由开口限定，例如基材载体的开口66和68(或开口对66a、66b和68a、68b)。这些吹扫气体分布通道(其中一个在图8A中被指定附图标记70)能够与基部14的气体喷嘴或气体连接器20以及盖16的气体喷嘴或气体连接器22中的相应的相关联的一个直接或间接地连接。优选地，盖16和基部14设有吹扫气体分布和连接结构以将相应的气体喷嘴或气体连接器与基材载体堆叠10的至少一个相关联的竖直内部吹扫气体分布通道相连接。盖16的这种结构73的内空间能够经由水平气体分布通道74与气体喷嘴或气体连接器22相连接。输入吹扫气体流和输出吹扫气体流在图8B中由箭头76和78象征性地表示，并且所得到的竖直和水平吹扫气体流由进一步的箭头象征性地表示。气体分布和连接结构以及竖直和水平通道能够实现或有助于在保持在基材载体堆叠内的相邻基材之间水平地通过的层流吹扫气体流。

在本优选实施例中，所供应的进入吹扫气体流76能够进入气体入口(或根据上述术语的“气体喷嘴”或“气体连接器”)22，并且然后能够经由气体分布通道74以及经由盖16的结构73的内部空间进入基材载体堆叠的竖直内部吹扫气体分布通道，类似于图8A所示的吹扫气体分布通道70。以这种方式，所供应的吹扫气体能够在侧向和竖直方向上分布，以水平地朝向基材渗透并流动并且通过保持在基材载体堆叠的内容纳空间内的相邻基材之间的空间。优选地，实现跨越由基材载体保持的基材的层流和均匀的吹扫气体流，使得吹扫气体能够与相应的基材相互作用并且执行一个或多个期望的功能，例如清洁处理等。气体流然后能够进入基材载体堆叠的其它竖直内部吹扫气体分布通道70并且能够经由气体流离开凹部或基部14的另一结构朝向气体出口(或根据上述术语的“气体喷嘴”或“气体连接器”)20被进一步排放，以被推入气体出口20，在该气体出口20处，吹扫气体能够作为废气吹扫气体78离开基材载体堆叠10。该排出的气体可能被污染并以可以经受适当的进一步加工、释放、重用、回收及类似处理。

图9是根据图8的基材载体堆叠的又一个剖面透视图。基部14被示意性地示出为包括凹部或腔80，该凹部或腔80能够用作基部的吹扫气体分布和连接结构以排出吹扫气体，或者可替代地，在反向的吹扫气体流过基材载体堆叠的情况下使吹扫气体进入。在进入侧以及在离开侧的这种气体分布和连接结构与所提到的竖直内部吹扫气体分布通道一起能够实现或有助于在保持在基材载体堆叠内的相邻基材之间水平地通过的层流吹扫气体流。附加的或替代的层流化结构优选地能够被设置在基材载体堆叠的进入侧或离开侧处或者在这些侧二者处，优选地分别集成到基部14和/或盖16中。

图10是根据本发明的优选实施例的基材载体堆叠10的剖面透视图，例如，类似于图8A、图8B和图9中所示的优选实施例的基材载体堆叠，其包括多个如以上关于图3、图4A、图4B和图4C描述的两个子类型的基材载体12和12'。在图10中，基材载体堆叠被示出为处于部分未堆叠的打开状态，与开启器设备82的移动机构一起，用来打开两个相邻基材载体之间的装载和卸载间隙，使得相应的基材30能够被装载在两个相邻基材载体中的下面的基材座上，或者使得相应的基材30能够从该基材座被卸载。这种基材座由支撑基材30的基材保持臂32代表。为了卸载或装载基材，能够提供合适的装载和卸载臂布置，例如诸如机械臂装置。

移动机构能够包括定位在基材载体堆叠的不同侧或拐角处的支撑和移动臂84，其能够与基材载体堆叠的相应选择的基材载体相互作用。能够提供多个这样的臂的组，即，例如，由图10中所示的支撑和移动臂84和86代表的两个这样的臂的组。相应的臂能够适于与第一和第二类型的接口突起54a、54b、54c和54d的相关联的特定突起接合，所述第一和第二类型的接口突起54a、54b、54c和54d从基材载体的相应的框架腹板或框架顶点区域在侧向或水平方向上突起。在竖直相邻的臂84和86的情况下，臂中的一个能够适于接合相应的基材载体的第一类型的突起54a并且臂中的另一个能够适于接合相应的基材载体的第二类型的突起54c。

通过提供相应的这些支撑和移动臂的组，两个相邻基材载体之间的装载和卸载间隙能够如所提到的被打开，使得提供下部分基材载体堆叠和上部分基材载体堆叠。因此，如图10所示，相应的臂的组能够承载彼此堆叠的上面的多个基材载体，所述彼此堆叠的上面的多个基材载体处于距彼此堆叠的下面的多个基材载体一定竖直距离处。

应注意，图10的视图仅显示基材载体堆叠10的一个拐角，并且相似的臂和结构能够被设置在基材载体堆叠的另一个拐角处或基材载体堆叠的每个拐角处，如已经提到的。臂能够沿着基材载体堆叠的竖直范围上下行进，例如在气动滑块上，或者例如通过使用传送器或带和齿轮机构，等等。臂能够被操作为呈现接合状态以与基材载体的第一和第二类型的相应突起接合，以及呈现脱离状态以从基材载体的第一和第二类型的相应突起脱离或不接合，使得能够选择并打开基材载体中的期望的一对相邻的基材载体以在它们之间具有装载和卸载间隙。

在下文中，基于图11A、图11B和以下附图描述根据第五优选实施例的基材载体和包括多个该种类的基材载体的基材载体堆叠。图11A和图11B以及图12A、图12B、图12C和图13至图16示出独立的基材载体112及其细节，而图17A和图17B、图18A和图18B、图19和图20示出并描述多个基材载体112和基材130以及它们在基材载体堆叠110内的协作和相互作用。在该描述中，根据对图1至图10的优选实施例的前述描述的附图标记被用于相似或类似元件，分别增加100。如果没有另外说明，则对第一至第四优选实施例的前述描述也适用于第五优选实施例，使得以下描述可以聚焦于第五优选实施例与前述优选实施例的不同之处，并且聚焦于描述进一步的结构细节，该进一步的结构细节也能够适用于前述优选实施例。

与前述优选实施例类似，基材载体112包括外载体框架140。外载体框架140包括第一框架腹板142a、第二框架腹板142b、第三框架腹板142c和第四框架腹板142d，这些框架腹板分别在第一框架顶点区域144a、第二框架顶点区域144b、第三框架顶点区域144c和第四框架顶点区域144d处成对合并，使得形成一体的外载体框架140。此外，与第一框架腹板142a一体形成的第一对基材保持臂132a和132b从该第一框架腹板142a向内突出，并且与第三框架腹板142c一体形成的第二对基材保持臂132c和132d从该第三框架腹板142c向内突出。

所有这些结构细节，包括基材载体112的至少粗略或甚至大体上正方形或至少矩形的形状，对应于前述优选实施例的基材载体的对应结构细节。然而，基材保持臂相对于彼此以及它们沿着相应的框架腹板的定位以特定的对称和非对称布置。基材保持臂132a和基材保持臂132d相对于彼此以及相对于相应的相邻框架顶点区域144a和144d对称地定位，并且基材保持臂132b和基材保持臂132c相对于彼此以及相对于相应的相邻框架顶点区域144b和144c对称地定位，而基材保持臂132a和基材保持臂132b相对于彼此以及相应的相邻框架顶点区域144a和144b非对称地定位，并且基材保持臂132d和基材保持臂132c相对于彼此以及相对于相应的相邻框架顶点区域144d和144c非对称地定位。

更具体地讲，所有四个基材保持臂以对应或类似的方式从外载体框架向内定向到或多或少的直径或对角方向，并且基材保持臂132a和基材保持臂132d在其到相应的框架腹板的相应的合并点处具有距相应的紧邻框架顶点区域144a和144d相同的距离，并且基材保持臂132b和基材保持臂132c在其到相应的框架腹板的相应的合并点处具有距相应的紧邻框架顶点区域144b和144c相同的距离。然而，基材保持臂132a和基材保持臂132b以及类似地基材保持臂132d和基材保持臂132c在其到相应的框架腹板的相应的合并点处具有距相应的紧邻框架顶点区域不同的距离。相对于四个基材保持臂的剖面线XIII-XIII的对应角度位置α和β在图12A中示出，其中角度α小于角度β。这是相对于前述实施例的明显差异。

与先前优选实施例中类似，根据第五优选实施例的基材载体包括第一分隔腹板160a和第二分隔腹板160b，这些分隔腹板将基材载体112的内区域162划分成大的内开口164和第一对较小的内开口166a和166b以及第二对较小的内开口168a和168b。这些分隔腹板与外载体框架140一体地形成，并且第一分隔腹板160a在一端处在第一基材保持臂132a与紧邻框架顶点区域144a之间合并到第一框架腹板142a中，并且在另一端处在第四基材保持臂132d与紧邻框架顶点区域144d之间合并到第三框架腹板142c中。相似地，第二分隔腹板160b在一端处在第二基材保持臂132b与紧邻框架顶点区域144b之间合并到第一框架腹板142a中，并且在另一端处在第三基材保持臂132c与紧邻框架顶点区域144c之间合并到第三框架腹板142c中。

与前述优选实施例相似，第一分隔腹板160a包括第一弓形部202a，并且第二分隔腹板160b包括第二弓形部202b。第一弓形部202a通过第一分隔腹板160a的三个连接部200a与第一框架腹板142a、第三框架腹板142c连接，并且在第一弓形部202a的中间区域中与第四框架腹板142d连接。因此，两个较小的内开口166a和166b被设置在第一分隔腹板160a与第四框架腹板142d之间，而不是仅一个较小的内开口。然而，根据替代优选实施例，后者原则上是可能的。对应地，第二分隔腹板160b的第二弓形部202b经由三个连接部200b与第一框架腹板142a、第三框架腹板142c连接，并且在第二弓形部202b的中间区域处与第二框架腹板142b连接。因此，两个较小的内开口168a和168b被设置在第二分隔腹板160b与第二框架腹板142b之间，而不是仅一个较小的内开口。然而，根据替代优选实施例，后者原则上是可能的。

与前述优选实施例相似，如各图中所示，直径相对的框架顶点区域(即，例如，第一框架顶点区域144a和第三框架顶点区域144c)设有定位形成构造，即，定位突出部和定位凹部或定位开口。在本优选实施例中，第一框架顶点区域144a设有一对突出部150a和开口或凹部152a，在图12A中的细节B以及图12B中示出，并且第三框架顶点区域144c设有一对突出部150b和凹部或开口152b，在图12A中的细节C和图12C中示出。

然而，两个突出部150a和150b定位在直线L的一侧上，该直线L在图12A的绘图平面之上在第一框架顶点区域144a与第三框架顶点区域144c之间直径地延伸，并且开口或凹部152a和152b定位在直线L的另一侧上。该布置使得相应的基材载体112的突出部150a能够突出到以适当的相对旋转位置堆叠在其上的相同类型的另一个基材载体112的开口或凹部152b中，并且突出部150b能够突出到适当地堆叠在其上的该另一个基材载体112的开口或凹部152a中。为了使下基材载体的突出部150a和150b与相同类型的上基材载体的开口或凹部152a和152b之间的该相互接合成为可能，两个基材载体要以对应于绕竖直旋转轴线旋转180°的交替的相对旋转位置彼此堆叠。以该方式，能够通过在基材载体堆叠110中的成对的紧邻基材载体12之间提供这样的交替的相对旋转位置来形成基材载体堆叠。这在下面参考图18、图19和图20进一步解释。因此，基材载体堆叠110能够仅包括一种类型的基材载体112，而不需要提供至少两种子类型的基材载体。

关于确保竖直地紧邻的基材载体112在基材载体堆叠110内的适当相对定位的这些定位形成构造，在包括突出部150a和150b以及开口或凹部152a和152b的当前情况下，优选的是这些定位形成构造被设计成使得由制造公差造成的相同类型的基材载体之间的某些尺寸上的变化以及如果可适用的话可能地由两个基材载体或其部分之间的温度差异导致的基材载体之间的变化的相对尺寸能够被容许。为此，开口或凹部152a和152b能够包括比突出部150a和150b的横向延伸稍大的开口宽度。例如，如果突出部居中地定位在凹部或开口内，则能够在突出部的外周边与开口或凹部的内周边之间提供0.25mm的间隙。为了容许可能在框架腹板的范围之上累积的较大的尺寸偏差，开口或凹部中的至少一个形成为具有沿着对角或直径方向(例如，诸如由图12A中的线L给出的方向)的纵向延伸的形状。如图12B所示，与图12C相比，开口或凹部152a以这种方式被定尺寸。例如，如果下基材载体的突出部150b居中地定位在开口152a内，则在突出部150b与开口或凹部152a的内周边之间的横向方向上的两侧上均能够存在0.25mm的间隙，并且在突出部150b的外周边与纵向延伸的开口152a的内周边之间在对角或直径方向上的两侧上均存在1mm的间隙。仅对于两个开口中的一个具有开口的这种纵向延伸提供以下优点：下基材载体的突出部150a与上基材载体的开口152b之间的接合能够限定并起作用为旋转中心以仅通过使上基材载体相对于下基材载体旋转而将下基材载体的突出部150b带到与上基材载体的开口152a接合。

应注意的是，存在其它可能性以使得相同类型(没有任何子类型)的多个基材载体能够以相应的定位形成构造(例如，突出部和开口或凹部)的相互接合而彼此堆叠，甚至不需要使基材载体以以上解释的方式相对于竖直轴线旋转。例如，定位在基材载体的上侧的某个点处的向上突出部能够伴随在基材载体的下侧处的匹配点处的凹部，使得多个基材载体的这种突出部和相关联的凹部竖直地对齐。原则上不排除这种布置，但是在所描述的意义上提供使基材载体相对于彼此相互旋转的要求的布置导致进一步的优点。例如，一个优点是，基材载体相对于彼此的相互旋转能够补偿或至少减少可能由基材载体的生产不准确性导致的负面效果。否则，影响相应的基材载体在某个点或区域处的竖直范围的生产不准确性可能在基材载体堆叠的相同角度位置处连续地添加，使得可能潜在地导致基材载体堆叠的显著倾斜。基于所提到的基材保持臂的特定布置实现了更重要的优点，因为以这种方式能够避免竖直紧邻的基材保持臂的竖直重叠，如要在下面基于图18A、图18B和图19以更多的细节描述的。这允许保持在紧邻的基材载体的基材座中的基材载体能够以距彼此相当小的竖直距离定位，从而允许对于该种类的基材载体堆叠中的基材的高存储密度。这也通过根据图11A、图13、图14和图15的第五优选实施例的基材保持臂的形状与根据图5、图6和图7的前述优选实施例的基材保持臂的形状相比较来反映。第五优选实施例的基材保持臂比前述实施例的基材保持臂较少地向上延伸，使得与前述优选实施例的基材保持臂的基材座在外载体框架40的上边沿上方的定位相比，基材座定位在外载体框架140的上边沿上方较小高度处。

所描述的内开口164、166a、166b、168a和168b与前述实施例的对应开口类似限定基材载体堆叠110的内容纳空间，该内容纳空间在内容纳空间的基材130所定位的部分的两个相反侧上容纳基材载体堆叠110的基材130和第一内竖直吹扫通道或吹扫气体分布通道170a、170b以及第二内竖直吹扫通道或吹扫气体分布通道170a、170b。在这方面，可以参考基于前述实施例的以上解释。此外，在竖直紧邻的基材载体112的外载体框架140之间、在最下面的基材载体与基部114之间以及在最上面的基材载体与盖116之间适当的密封接合是优选的，使得实现适当的吹扫气体流而没有损失和来自基材载体堆叠110的外部环境的污染。为此，每个基材载体112在外载体框架140的下侧处设有围绕基材载体的内区域162延伸的密封唇或密封脊204。优选的和根据所示优选实施例实现的，密封唇204定位成与外载体框架140的内边缘相邻或在外载体框架140的内边缘处。在所示的优选实施例中，例如在图13、图15、图16和图17B中可以看出，就外载体框架140或相应的框架腹板的横截面形状而言，外载体框架140的界定内空间162的该内边缘也是外载体框架的上边缘。

为了实现密封，每个基材载体112和基部114仅使用密封唇或密封脊204来支撑堆叠在其上的相应基材载体，使得密封脊或密封唇204与基部114或相应的下基材载体112的外载体框架140的相应的相关联的上环形表面部在相对较高的按压力下接合。相应的下元件的该相应的环形表面部与密封唇或密封脊204类似形成该相应元件的支撑形成构造以及密封形成构造。通过将盖设计成具有适当的最小重量，能够实现盖116与最上面的基材载体之间适当的密封接合。

优选地，彼此相关联的定位形成构造之间的接合，在本优选实施例中是突出部150a、150b和开口或凹部152a、152b，以及密封脊或密封唇204与外载体框架140的相关联的上密封环形表面部之间的接合，是在基材载体堆叠112中的竖直紧邻的基材载体112之间接触或至少相互形状配合接合的仅有部分或元件。此外，提出了定位形成构造之间的定位接合是不会造成作用在紧邻的基材载体之间的竖直指向的力的接合。

优选地，对于最上面的基材载体112与盖116之间的接合以及对于基部114与最下面的基材载体112之间的接合，同样如此。竖直力优选地仅经由相应的密封形成构造作用在这两对元件的相应元件之间，所述相应的密封形成构造是基部114的上环形密封表面部和下环密封表面部，或者优选地还有根据本优选实施例的盖116的密封脊或密封唇。

为了对由基材载体112保持在基材载体堆叠110内的的基材130的吹扫处理，在竖直相邻的基材130之间的水平吹扫气体流是优选的，该水平吹扫气体流从第一竖直吹扫通道170a和170b发射并进入第二竖直吹扫通道172a和172b中，或者从第二竖直吹扫通道172a和172b发射并进入第一竖直吹扫通道170a和170b中，第一竖直吹扫通道170a和170b以及第二竖直吹扫通道172a和172b分别由内开口166a和166b以及168a和168b限定。吹扫气体横越基材的任一侧上的分隔腹板160a和160b，特别是至少其第一和第二弓形部202a和202b。在所示的优选实施例中，如上所述，由于紧邻的基材载体的相对旋转定位，内容纳空间的任一侧上的这些分隔腹板交替地包括第一分隔腹板160a和第二分隔腹板160b。这能够通过以下方式以简单的方式实现：将分隔腹板的厚度定尺寸为使得紧邻的分隔腹板之间、特别是至少在其紧邻的弓形部之间存在间隙。

然而，代替地，优选的是提供纵向吹扫喷嘴或管线喷嘴，其能够通过适当地成形相应分隔腹板的上表面和下表面使得获得在在剖面图中在向内方向上渐缩的喷嘴开口而获得，如图17B中所示。优选地，在分隔腹板的内边缘处或非常靠近分隔腹板的内边缘处提供限定喷嘴开口的最小开口宽度。如图17B中所示，使上基材载体的分隔腹板的下表面和下基材载体的分隔腹板的上表面中的仅一个表面适当地成形是足够的。就基材载体的总体形状而言，优选的是上基材载体的下表面被成形为提供例如如图17B中所示的渐缩形状。通过提供这样的纵向吹扫喷嘴或管线喷嘴，从相应的竖直吹扫通道发射的吹扫气体的流动速度在通过分隔腹板的过程中被加速，这有助于实现通过相邻基材之间的空间的层流吹扫气体流。

图17B示出图17A中的细节B的剖面侧视图，即，分隔腹板160a和160b的弓形部202a和202b的中间区域，其具有分隔腹板160a和160b的连接部200a和220b，以及具有存储在对应的基材载体堆叠内的基材载体130的相邻边缘部。如图17B中所示，基材130的一侧上的竖直吹扫通道通过由堆叠的基材载体的相邻连接部200a和200b界定的水平通道水平地连接，使得获得也沿着这些连接部200a和202b的水平范围的紧邻基材之间的水平吹扫气体流。如图17B中所示，对应的管线喷嘴部向内朝向基材载体开口。这些管线喷嘴优选地沿着分隔腹板160a和160b的弓形区段202a和202b的完整范围延伸，并且还在弓形部的两端处的两个连接部200a和200b的大致上或完全范围之上延伸，连接部200a和200b合并到弓形部中并且将弓形部与外载体框架140的相应框架腹板连接。

由于从外载体框架140的上边缘向上和向内延伸的基材保持臂，由相应的基材载体12保持的基材130优选地不定位在该基材载体的分隔腹板160a和160b的弓形部202a和202b以及连接部200b的竖直范围内，而是在相应基材载体112的这些元件上方一定竖直距离处。图17B中所示的基材130的四个相应边缘区段由四个进一步的基材载体中的相应一个保持，所述四个进一步的基材载体在图17B中未示出并且定位在基材载体堆叠中的四个所示基材载体下方。图17A示出八个基材130，即也在图17B中指示的四个基材130以及四个另外的基材130，它们被保持在图17B中以及图17A中所示的四个基材载体的相应基材座中。

保持在基材载体的座中的相应基材与基材载体的外载体框架140的上边缘或边沿之间的竖直距离能够在本发明的优选实施例之间变化。例如，由基材载体堆叠110的相同定尺寸的基材载体112保持的紧邻的晶圆之间的距离优选地在2.4mm至3.4mm的范围内，或更优选地在2.7mm至3.1mm的范围内。在优选实例中，如所示，该距离为约2.9mm。当然，这仅在基材载体堆叠中的所有基材载体都承载这种晶圆形式的相应基材的情况下才适用。如果要搬运和存储另一厚度的基材，则可以适当调整这些参数。

假定0.8mm的典型晶圆厚度，则该典型晶圆厚度的紧邻的基材之间2.9mm的高度优选距离对应于紧邻的水平承载平面之间3.7mm的间距，该水平承载平面由基材载体堆叠110的基材载体112的基材座限定。如果搬运和存储另一厚度的基材，则能够适当地调整该间距。所有这些参数能够取决于基材载体的使用场景和可能适用的偏好而进行适当调整。

所提到的水平承载平面不是基材座的物理元件，而是替代的为假想的、理论的或虚拟的几何构造，其用于描述真实元件以及真实元件之间的位置和其它关系，类似与基材载体的外载体框架关联的水平框架平面、与相应的外载体框架的框架腹板和框架顶点区域关联的框架腹板轴线和顶点以及其它轴线，例如坐标轴及类似轴线。这些水平承载平面被限定为与相应的板状基材的下表面共面的几何平面，该相应的板状基材具有与基材座的预定可允许直径或预定可允许的最大直径对应的直径并且被相应的基材座水平地承载在理想居中的位置。例如，在限定并起作用为限定基材座的座部166的基材保持臂的保持端166会是倾斜的情况下，例如，诸如图7中所示，并且在图13和图15中也可注意到，具有与预定的可允许直径或预定的可允许最大直径不正好一致的直径的基材的下表面会被保持在距由基材座限定的该虚拟水平承载平面一定稍微竖直距离处，但是如果基材在基材座中理想地居中定位，则该下表面会平行于该虚拟水平承载平面。对于在基材座中稍微偏离中心定位的基材，基材的下表面和虚拟水平承载平面可能相对于彼此稍微倾斜地延伸。

此外，即使基材理想居中定位地被放置在基材座内并且具有正好对应于与基材座相关联的预定可允许直径或预定可允许最大直径的直径，由于制造公差，在与该基材座相关联的虚拟水平承载平面与基材的下表面之间可能会有非常小的偏差，该制造公差可能影响基材保持臂的实际布置和形状，使得基材的下表面和虚拟水平承载平面可能没有正好共面，并且可能甚至相对于彼此显示出微小的倾斜。

当然，本文中给出的所有解释、定义和教导必须鉴于可能总是存在由潜在地不可避免的制造公差而造成的与理想定尺寸和理想形状的非常小的偏差的事实而被本领域技术人员理解和解读。这样的制造公差甚至可能对于类似本文中公开的基材载体的装置具有相当强烈的影响，特别是如果这些基材载体由合适的塑料材料通过注射模制来模制，因为这是优选的。可以在可接受的制造公差以允许特定使用场景的情况下有利地进行这种注射模制以生产基材载体，但是要求对用于注射模制的模具和注射模制工艺的适当优化。这样的优化属于对各种形状的结构的注射模制领域中的技术人员的工作。推荐通过在所示基材载体112的底侧处的注射定位标记而提供包括对称定位的注射位置的模具，例如，如图12A所示。另外的和其它注射位置当然可能是适当的，因为图11B中所示的标记仅出于说明目的，并且不旨在对于应通过注射模制制造基材载体的情况给出完整教示。当然，也能够使用其它合适的制造方法。

再次参考图17B，优选的是纵向管线喷嘴定位在基材载体堆叠中的对应于竖直紧邻的上基材130的下表面与竖直紧邻的下基材130的上表面之间的竖直距离的中间的竖直高度处，假定具有特定晶圆厚度(例如，以上提到的典型晶圆厚度)的基材，可以针对该基材特别设计基材载体。当然，在此假定存在这样的紧邻的基材：一个定位在相应的上基材载体的分隔腹板的竖直厚度范围内，并且另一个定位在相应的下基材载体的分隔腹板的竖直厚度范围中，尽管没有必要总是基材载体堆叠的各基材载体的所有基材座都保持相应的基材。

管线喷嘴(或者，如果未设置管线喷嘴，则替代地是紧邻的分隔腹板之间的纵向离开开口)的该提出的布置有助于实现如期望的通过基材之间的空间的层流吹扫气体流，在该提出的布置中，吹扫气体以距上基材的下表面和下表面的上表面大约相等的竖直距离朝向紧邻的基材之间的空间发射。以上对于紧邻的基材之间的距离以及随之对基材座的水平承载平面之间的间距的定尺寸的推荐是基于选定的或典型的晶圆厚度，并且鉴于提供层流水平吹扫气体流以及对于基材相对高的存储密度的总体期望给出。这些推荐可能需要取决于特定的使用场景进行调整，特别是在要处理具有实质不同的厚度基材的情况下关注间距的调整。

如图17B所示，在分隔腹板160a和160b的弓形部202a、202b的外周边与基材130的外周边之间存在径向距离。优选的是管线喷嘴或由分隔腹板限定的大体上管线开口的输出开口定位在基材边缘(晶圆边缘)的径向向外约3mm处。为了在基材之间用层流水平吹扫气体流实现有效的吹扫处理，推荐跨越基材的表面每秒约5mm的吹扫气体流，但是更高或更低的吹扫气体流也可能是合适的。

基材载体112在基材载体堆叠内的交替定位通过在当前情况下由突出部150a、150b和开口或凹部152a、152b提供的定位形成构造来实现和维持，使得基材载体堆叠中的相邻基材载体已经绕竖直旋转轴线旋转180°，如图18A中示出。三个这样的基材载体被示出为具有适当的交替的相对定位，其中在附图平面中三个基材载体的相对位移将象征性地代表它们之间的竖直位移，例如在针对以这种方式相对定位的四个基材载体的图19中所示。在图19中以及在图18A中，指示了如图12A、12B、12C和14中限定和示出的细节C和B的定位。在图19中，可以识别出所示突出部相对于所示基材载体的外载体框架140的斜坡上表面部的位置的较小变化。在这方面，应当注意，图19是对应于图12A中的箭头XIV给出的观察方向或对应于相应的基材载体上的相反观察方向的视图。

图18A和图19示出竖直相邻的基材的基材保持臂的相对布置，如通过所解释的基材保持臂的特定对称和非对称布置所实现的。所实现的是，竖直紧邻的基材保持臂，例如在图19中为基材保持臂132a和132c以及基材保持臂132b和132d，不竖直地重叠并且相对于彼此横向移位地定位。如果所有基材座都容纳相应的基材，则这允许在基材载体堆叠内的基材载体的基材座的水平承载平面的较小间距，并且随之允许保持在基材载体堆叠内的紧邻的基材之间减小的竖直距离。图18A示出两个这样的紧邻的基材保持臂由于它们在对角或直径方向上向内的相似定向而实际上没有重叠。这也在图18B中示出，该图示出具有相邻区段的顶点区域144b和144d，该相邻区段包括适当地彼此堆叠的多个基材载体的基材保持臂132b和132d。

图20示出适当地彼此堆叠的多个基材载体112的框架顶点部144a和144c。具体地，可以看出相应的下基材载体的突出部150a与上基材载体的开口152b的相互接合以及在基材载体堆叠内相邻基材载体的接口突起154a和154c的横向交错布置。这允许外部接口装置(例如移动装置)与基材载体中相应的一个的简化的相互作用，因为在竖直对齐的接口突起之间、即在竖直紧邻的接口突起154a之间以及在竖直紧邻的接口突起154c之间存在相对较大的竖直间隙。

根据所示优选实施例，仅用一种类型的基材载体(没有其子类型)就能够实现在堆叠的基材载体的四个框架顶点区域处的这些接口突起的该横向交错，并且定位形成构造(在当前情况下是突出部150a、150b以及开口或凹部152a、152b)的设置确保这些基材载体112在基材载体堆叠112中以基材载体的所要求的交替相对旋转位置的适当堆叠，使得如以上描述的，竖直相邻的保持臂交替地横向交错，并且竖直相邻的接口突起交替地横向交错。

图21、图22A和图22B示出根据本发明的第五优选实施例的基材载体堆叠110的示例。在当前情况下，远超过二十五个基材载体112(例如，二十七个或二十八个基材载体112)彼此堆叠，其中最下面的基材载体112被堆叠在基部114上，并且盖116被堆叠在最上面的基材载体112上。如从横向交错的接口突起154a和154c以及横向交错的接口突起154b和154d所示，基材载体112以所解释的方式相对于彼此绕竖直轴线旋转180°堆叠，这通过所解释的定位形成构造来确保，在当前情况下定位形成构造是突出部150a、150b以及开口或凹部152a、152b。如该图中所示，对于保持在基材载体堆叠110内在基材载体112的座中的基材获得了高堆叠密度和高存储密度。原则上，这种基材载体堆叠能够包括任何数量的基材载体，例如，实际上还有比所示非限制性示例中多得多的基材载体。能够在这样的基材载体堆叠中设置偶数的基材载体或可替代地非偶数的基材载体。

根据图21的透视图以及图22A和图22B的侧视图，以基部板和盖板的形式提供基部114和盖116。优选地，盖板会在其下侧处设有合适的凹部，该凹部容纳最上面的基材载体的基材保持臂和由其保持的基材。

根据本发明的优选实施例，基部114和盖116设有允许对保持在基材载体堆叠110内的基材130的吹扫处理的结构。优选地，这些吹扫结构包括或具有一体的层流化(laminarisation)结构，例如层流化腔室、层流化歧管和层流化织物中的至少一个，以实现或有助于通过基材载体堆叠内的相邻基材之间的空间的层流吹扫气体。

图23和图24示出对于基部114的优选实施例的示例。图23是基部的上侧的俯视图，并且图24是该基部114的相当示意性的侧视图。

如图24所示，基部能够包括承载板210，该承载板210设有基本上对应于相应的基材载体112的突出部150a和150b的定位突出部150a'和150b'，使得基材载体堆叠110的多个基材载体中的最下面的基材载体112以限定的相对位置堆叠到基部上，即，使得突出部150a'接合到该最下面的基材载体112的开口152b中并且突出部150b'接合到该最下面的基材载体112的开口152a中。承载板210例如能够由金属材料或可替代地由塑料材料制成。

基部114在承载板210的上侧上设有内本体211，该内本体211定位在基材载体堆叠110的内侧并且支撑其最下面的基材载体112。紧固到承载板210的内本体能够被一体地制造或者能够由安装到彼此的多个元件(例如，板状元件)制成。实际上，整个基部114原则上能够例如取决于其选择的结构而被一体地制造。

在当前情况下，内本体211包括用于最下面的基材载体112的支撑基部212，如图24所示，该支撑基部212能够由多个(例如，两个)板状元件212a和212b制成。在支撑基部212的上表面上沿其外边缘延伸的环形表面带213在其密封脊或密封唇204处支撑最下面的基材载体112并形成密封表面。基材载体112和基材载体堆叠210的盖116的重量经由该密封脊或密封唇204被支撑，使得实现密封。

优选地，为了允许对基材载体堆叠110内的基材130的吹扫处理，基部114在承载板210的下侧处设有接口本体216，该接口本体216被安装到承载板210。接口本体包括一体的吹扫气体进入连接器或吹扫气体入口，并且包括一体的吹扫气体返回连接器或吹扫气体出口。这些连接器或入口和出口经由基部114的适当结构连接，该适当结构包括在承载板210中的开口与支撑基部212内的相关联的气体分布结构或吹扫结构。能够包括通道和腔室中的至少一个的这些气体分布结构或吹扫结构经由一对流入开口或流入凹部218a和218b以及一对回流开口或回流凹部220a和220b与基材载体堆叠的相关联的一对竖直气体分布通道或竖直吹扫通道连接，使得吹扫气体进入连接器或吹扫气体入口与这些竖直通道中的一对连接，并且吹扫气体返回连接器或吹扫气体出口被连接到这些竖直通道中的另一对。

如图23所示，向上开口的流入开口或凹部218a和218b能够具有与堆叠在支撑基部212上的最下面的基材载体112的开口168a、168b的形状相当相似的形状以实现或有助于层流吹扫流。然而，对于流入开口或凹部也能够选择其它形状。可以将流入开口或凹部218a和218b以及堆叠在支撑基部212上并且随后彼此堆叠的基材载体112的成对的开口168a、168b和166a、166b以及168a、168b等视为共同属于该对竖直气体分布通道或竖直吹扫通道，吹扫气体通过该对竖直气体分布通道或竖直吹扫通道被供应至由成对的竖直相邻的基材载体112的竖直相邻的分隔腹板限定的所解释的纵向喷嘴或管线喷嘴(或大体上纵向开口)，使得吹扫气体朝向保持在基材载体堆叠的相应基材载体的座中的相邻基材之间的空间水平地发射并进入该空间中。

而且，对于回流开口或回流凹部220a和220b，与堆叠在支撑基部112上的最下面的基材载体212的开口166a、166b的形状相当相似的形状以及偏离图23中所示的这些回流开口或回流凹部220a和220b的形状是可能的。可以将回流开口或凹部220a和220b以及堆叠在支撑基部212上并且随后彼此堆叠基材载体212的进一步的成对的开口166a、166b和168a、168b以及166a、166b等视为共同属于该对竖直气体分布通道或竖直吹扫通道，在已经通过保持在基材载体堆叠的相应基材载体的座中的相邻基材之间的空间之后，吹扫气体经由通过成对的竖直相邻的基材载体112的竖直相邻的分隔腹板限定的所解释的纵向喷嘴或管线喷嘴(或大体上纵向开口)被发射到该对竖直气体分布通道或竖直吹扫通道中。

因此，经由接口本体的吹扫气体进入连接器或吹扫气体入口引入基材载体堆叠中的吹扫气体经由流入开口或凹部218a和218b以及两对竖直吹扫通道中的一对以及第一组纵向喷嘴或管线喷嘴(或大体上纵向开口)被供应到基材，以及经由第二组纵向喷嘴或管线喷嘴(或大体上纵向开口)以及两对竖直吹扫通道中的另一对和回流开口或凹部220a和220b以及最后接口本体的吹扫气体返回连接器或吹扫气体出口返回并从基材载体堆叠排放。

如图24中示意性示出的，以两个板状元件212a和212b的形式实现支撑基部212，使得能够在不太费力的情况下制造具有所需内部结构的支撑基部212。

基部在支撑基部212的顶部上包括具有圆柱横截面的圆柱形突出部214，该圆柱形突出部214能够与支撑基部212或其上板状元件212a一体形成，或者能够是附接到其上的单独元件。该圆柱形突出部延伸到最下面的基材载体212的大开口164中，并且具有与承载在基材载体堆叠内在相应的基材座中的基材130的直径正好或大致上对应的直径。如图25所示，圆柱形突出部214具有一定高度，使得由支撑基部212直接支撑的基材载体堆叠的最下面的基材载体所保持的基材载体堆叠中的最下面的基材130具有与基材载体堆叠内的其它基材载体相似的吹扫条件。为此，如果基材载体的所有座都承载相应的基材130，并且如果基材具有基材载体112以及随之的基材载体堆叠110被优化的厚度，则圆柱形突出部214的上平面表面与该基材130的下表面之间的距离正好或大致上对应于保持在基材载体堆叠内的紧邻的基材的下表面与上表面之间的距离。在所示优选实施例的情况下，最下面的三个基材载体定位成使它们相应的分隔腹板处于圆柱形突出部214的高度范围内，使得紧邻的分隔腹板之间的管线喷嘴或纵向开口不具有发射将通过基材或将在基材之间通过的吹扫气体的目的。

图25应参考图17A和17B来考虑，图17A和17B示出了多个在基材载体堆叠中定位在图25的基材载体上方的基材载体。

应当补充的是，在所示优选实施例的情况下，基部114(优选地其承载板210)能够设有接口突起154a'、154b'、154c'和154d'，与相应的基材载体112的接口突起154a、154b、154c和154d相似，其允许与外部搬运和移动装置及类似装置相互作用。

如上文中已经至少隐含地阐述的，如果层流吹扫气体流已经通过流入开口或凹部218a和218b进入基材载体堆叠的分别由其基材载体112的开口168a、168b以及166a、166b形成的相关联的竖直通道中，则能够实现或有助于提供通过基材载体堆叠中的相邻基材之间的空间的层流吹扫气体流的目的。为此，能够在基部114(特别是其支承基部212)内提供合适的层流化结构，例如至少一个相对较大的层流化腔室，该层流化腔室可能具有气体分布结构，例如在其中的分隔壁。可替代地或附加地，能够提供至少一个层流化织物，吹扫气体通过该流化层织物发射到基材载体堆叠内的竖直供应通道中。

基部114能够由任何适当的材料制成，例如，金属材料和塑料材料中的至少一种，或者包括多个部分，这些部分被组合以形成基部，如对于所示优选实施例所指示的，或者一体地形成。

由于在本优选实施例中基部114设有吹扫气体入口以及吹扫气体出口，所以盖116不需要包括这种入口和这种出口。图26示出合适的盖116的下侧的视图，其中根据所示视图，盖116被认为上下颠倒放置。图27是盖116的对应侧视图，然而在所示视图中其下侧向下指向并且其上侧向上指向地定位。

盖116基本上包括对应于相应基材载体112的大的内开口64的大凹部228，以及对应于相应基材载体112的较小的内开口166a、166b和168a、168b的第一对较小的凹部222a和222b以及第二对较小的凹部224a和224b。较小的凹部222a、222b和224a、224b分别通过相应的分隔壁240a和240b与较大的凹部128分离，分隔壁240a和240b对应于相应的基材载体112的分隔腹板160a和160b。如果盖116被堆叠在基材载体堆叠110的最上面的基材载体112上，则第一对较小的凹部222a、222b以及第二对较小的凹部224a、224b延伸由第一对较小的内开口166a和166b以及第二对较小的内开口168a和168b形成的第一对和第二对竖直吹扫气体分布通道或多个竖直吹扫气体分布通道，使得竖直吹扫气体通道沿着基材载体堆叠的内容纳空间的完整竖直范围延伸，由相应基材载体保持的基材能够被定位在该基材载体堆叠中。分隔壁220a和220b，也可以表示为分隔脊，其包括类似于分隔腹板的弓形部202a和202b的弓形部，并且设有相应的一组竖直相邻的纵向开口126，该组竖直相邻的纵向开口126沿着内容纳空间的外周边延伸，类似于由基材载体的紧邻的分隔腹板限定的管线喷嘴或纵向开口，使得水平吹扫气体流能够发射用于也在由基材载体堆叠110的最上面的基材载体112保持的最上面的基材的高度范围内的基材的吹扫处理，如图28以及图17A、17B和25所示。

图28中所示的四个基材载体112定位在基材载体堆叠中在图17B的基材载体上方，并经由它们的定位在盖116的较大凹部228内的基材保持臂保持它们相应的基材130。在分隔壁220a和220b中具有纵向开口或可能地管线喷嘴226的较小的凹部222a、222b和224a、224b提供水平吹扫气体流，其通过紧邻的基材130之间的空间，并且还通过最上面的基材112的上表面与在大凹部228内的盖的下表面之间的空间。

使用基部114和盖116，能够获得对于基材载体堆叠110内的所有基材130的相同或大致上相同的吹扫条件。优选地，以等距竖直距离设置纵向开口或管线喷嘴，水平吹扫气体流从该纵向开口或管线喷嘴朝向基材发射并且吹扫气体流在已经通过基材之后进入该纵向开口或管线喷嘴，其中相应的管线喷嘴或纵向开口优选地定位在上基材130的下表面与下基材130的上表面之间的一半高度处、在凹部128内的盖116的下表面与最上面的基材130的上表面之间以及在最下面的基材112的下表面与基部114的圆柱形突出部214的上表面之间，再次假定基材具有基材载体112和随之的基材载体堆叠110被优化的厚度。然而，基材载体112和基材载体堆叠110也能够被用于具有其它厚度的基材的存储、搬运和处理。

应注意，盖116优选地包括水平延伸的接口突起154a'、154b'、154c'和154d'，这些接口突起由从盖116的框架部227的支撑表面229向下突出的接口区段224a、224b、224c和224d形成。框架部227被支撑在最上面的基材载体112的外载体框架140上。框架部227的围绕大凹部228延伸的下环形表面带和最上面的基材载体112的外载体框架1140的围绕其内区域162延伸的下环形表面带形成相互接合的密封表面，以将吹扫气体限制在基材载体堆叠110内。可替代地，这些表面中的一个能够由密封唇或密封脊代替。优选地，盖116在其框架部227处设有这种密封唇或密封脊，类似于基材载体112的密封唇或密封脊204。

为了实现盖在基材载体堆叠110的最上面的基材载体112上的适当相对定位，一个或多个接口区段224a、224b、224c和224d能够设有类似于基材载体的定位形成构造的定位形成构造。在当前情况下，接口区段224a设有与相应的基材载体112的开口或凹部152b对应的开口或凹部152b'，并且接口区段224c设有与相应的基材载体112的开口或凹部152a类似的纵向延伸的凹部或开口152a'。当盖116被适当地堆叠在基材载体堆叠110的最上面的基材载体112上时，则该基材载体的突出部150b将突出到盖116的开口或凹部152a'中，并且该基材载体的突出部150a将突出到盖116的开口152b'中。

应当补充的是，为基部114提供的接口突起的种类和为基部116提供的接口突起的种类优选地彼此适应，并且无论将在基材载体堆叠110中提供偶数还是奇数个基材载体112。

盖116能够由任何适当的材料制造，例如，金属材料和塑料材料中的至少一种，如可以是所示优选实施例的情况那样是一体的，或者包括多个部分，这些部分被组合以形成盖。

如已经提到的，基材载体12和112优选地一体地制造或以一个相应的部件制造。具体地，基材载体能够由塑料材料一体地模制，优选地通过注射模制。有利地，能够使用包括用于增强的纤维的塑料材料。对于洁净室应用，推荐使用减少静电的塑料材料。因此，基材载体优选地由所谓的ESD材料或电子放电材料模制。例如，塑料材料能够由聚醚醚酮(PEEK)和聚碳酸酯(PC)中的一种制成或包括聚醚醚酮(PEEK)和聚碳酸酯(PC)中的一种。

优选的作为模制材料的是PEEK，特别是从Von Allmen AG，CH-8330

可获得的变体PEEK ESD 101或具有相似特性的类型。这种基材载体具有增强的化学和温度抗性，如果半导体晶圆在被安置在相应基材载体的座中的情况下经受加工或调节步骤，则这是有益的，该基材载体通常将是基材载体堆叠的一部分，用于共同地加工或调节保持在基材载体堆叠中的所有基材，或者该基材载体可以替代地被单独地搬运并且被单独地递送至加工或调节设备。然而，PC也是非常适合的模制材料，特别是对于要被用于存储和缓冲基材载体堆叠中的半导体晶圆的基材载体。例如，推荐具有增加的电导率的变体PC-CF DCL 32或具有相似特性的类型。

应注意，根据本发明的优选实施例的基材载体堆叠能够被提供为对诸如FOUP的现有系统和传送机构的高密度替换或强化，从而提供如上所述的更高的存储密度和改进的以及附加的和增强的能力。这种基材载体堆叠可以被表示为“TecCell”或“Tec-Cell”。

尽管上面已经描述了本发明的优选实施例，但是应当理解，在不脱离本发明的范围和精神的情况下，变型和修改对于本领域技术人员将是明显的。因此，本发明的范围仅由以下权利要求确定。

Claims (20)

1.基材载体堆叠，其包括：

多个基材载体，其在竖直方向上堆叠，使得对于每对竖直相邻的基材载体，下基材载体支撑上基材载体；其中

所述多个基材载体中的每个包括外载体框架，所述外载体框架在水平框架平面中围绕包括内开口的内区域延伸；

所述多个基材载体中的每个包括基材座以将基材容纳并承载在所述基材载体堆叠的内容纳空间内，所述内容纳空间由所述多个基材载体的所述内开口限定；

所述多个基材载体中的每个在所述外载体框架处包括上支撑形成构造和下支撑形成构造，所述下基材载体的所述上支撑形成构造支撑所述上基材载体的所述下支撑形成构造；

所述多个基材载体中的每个的所述外载体框架包括沿着第一框架腹板轴线延伸的第一框架腹板、沿着第二框架腹板轴线延伸的第二框架腹板、沿着第三框架腹板轴线延伸的第三框架腹板以及沿着第四框架腹板轴线延伸的第四框架腹板；

所述第一框架腹板轴线与所述第四框架腹板轴线在所述第一框架腹板和所述第四框架腹板的第一顶点处以直角相交，所述第一框架腹板和所述第四框架腹板在所述外载体框架的第一框架顶点区域处连接；

所述第一框架腹板轴线与所述第二框架腹板轴线在所述第一框架腹板和所述第二框架腹板的第二顶点处以直角相交，所述第一框架腹板和所述第二框架腹板在所述外载体框架的第二框架顶点区域处连接；

所述第三框架腹板轴线与所述第四框架腹板轴线在所述第三框架腹板和所述第四框架腹板的第四顶点处以直角相交，所述第三框架腹板和所述第四框架腹板在所述外载体框架的第四框架顶点区域处连接；

所述第三框架腹板轴线与所述第二框架腹板轴线在所述第三框架腹板和所述第二框架腹板的第三顶点处相交，所述第三框架腹板和所述第二框架腹板在所述外载体框架的第三框架顶点区域处连接；

所述多个基材载体中的每个包括多个基材保持臂，所述多个基材保持臂从所述外载体框架向内和向上延伸，与所述内区域重叠并且限定所述基材座；

所述基材座定位在所述外载体框架在竖直方向上的上方的一定距离处；

所述多个基材载体中的每个包括多个分隔腹板，所述多个分隔腹板从所述外载体框架延伸穿过所述内区域以限定所述内区域的所述内开口以及两个辅助开口；

所述多个分隔腹板的第一弓形部在所述第四框架腹板与所述内开口之间的第一空间中延伸以限定所述两个辅助开口中的第一辅助开口；

所述多个分隔腹板的第二弓形部在所述第二框架腹板与所述内开口之间的第二空间中延伸以限定所述两个辅助开口中的第二辅助开口；

所述多个基材载体的所述内区域的所述第一辅助开口和所述第二辅助开口共同限定第一吹扫通道和第二吹扫通道，所述第一吹扫通道和所述第二吹扫通道在所述内容纳空间的相对侧处竖直地平行于或实质上平行于所述内容纳空间延伸；以及

所述多个基材载体包括吹扫结构，所述吹扫结构在所述基材载体堆叠内创建通过由所述多个基材载体的基材座保持的基材之间的空间的水平吹扫流。

2.根据权利要求1所述的基材载体堆叠，其进一步包括：

盖，所述盖被堆叠在所述多个基材载体上并且由所述多个基材载体中的最上面的基材载体支撑；以及

基部，所述多个基材载体被堆叠在所述基部上，所述基部支撑所述多个基材载体中的最下面的基材载体。

3.根据权利要求2所述的基材载体堆叠，其中

所述上支撑形成构造包括上密封形成构造，并且所述下支撑形成构造包括下密封形成构造；

所述多个基材载体中的最上面的基材载体的所述上密封形成构造与所述盖的密封形成构造接合；以及

所述多个基材载体中的最下面的基材载体的下密封形成构造与所述基部的密封形成构造接合以将所述内容纳空间、所述第一吹扫通道和所述第二吹扫通道与围绕所述基材载体堆叠的区域密封。

4.根据权利要求2或3所述的基材载体堆叠，其中

所述盖和所述基部中的一个包括连接到所述第一吹扫通道的第一端口；

所述盖和所述基部中的一个包括连接到所述第二吹扫通道的第二端口；以及

吹扫气体经由所述第一端口和所述第二端口中的限定出供应端口的那一个被供应至所述基材载体堆叠中，以及经由所述第一端口和所述第二端口中的限定出排放端口的另一个从所述基材载体堆叠被排放，使得吹扫气体经由所述第一吹扫通道、所述第二吹扫通道和由所述吹扫结构限定的吹扫通路流过所述内容纳空间。

5.根据权利要求4所述的基材载体堆叠，其中

所述第一端口经由第一层流化器被连接到所述第一吹扫通道，所述第一层流化器被包括在所述盖和所述基部中的包括所述第一端口的那一个中；

所述第二端口经由第二层流化器被连接到所述第二吹扫通道，所述第二层流化器被包括在所述盖和所述基部中的包括所述第二端口的那一个中；以及

所述第一层流化器和所述第二层流化器中的每个包括气体过滤介质和/或气体分布歧管，所述气体分布歧管抑制通过其中的吹扫气体中的湍流。

6.根据权利要求2所述的基材载体堆叠，其中

所述盖包括吹扫形成构造，所述吹扫形成构造被连接到所述第一吹扫通道和所述第二吹扫通道并且提供吹扫通路，在所述吹扫通路中，吹扫气体流动到所述多个基材载体的所述最上面的基材载体的基材座或预定数量的最上面的基材载体的基材座；以及

由所述吹扫形成构造提供的吹扫通路将所述内容纳空间的一部分与所述第一吹扫通道和所述第二吹扫通道连接。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的基材载体堆叠，其中

所述吹扫结构限定吹扫通路，并且所述每对竖直相邻的基材载体设有通过所述基材载体的所述分隔腹板的所述第一弓形部和所述第二弓形部的所述吹扫通路；

所述内容纳空间的第一部分通过第一吹扫通路与所述第一吹扫通道连接，使得吹扫气体在所述第一吹扫通道与所述内容纳空间的第一部分之间流动；以及

所述内容纳空间的第二部分通过第二吹扫通路与所述第二吹扫通道连接，使得吹扫气体在所述第二吹扫通道与所述内容纳空间的第二部分之间流动。

8.根据权利要求7所述的基材载体堆叠，其中所述吹扫通路由所述下基材载体的所述第一弓形部或所述第二弓形部的上表面以及所述上基材载体的所述第一弓形部或所述第二弓形部的下表面限定。

9.根据权利要求7或8所述的基材载体堆叠，其中所述吹扫通路由细长喷嘴开口限定，所述细长喷嘴开口包括朝向所述内容纳空间渐缩的在竖直方向上的开口宽度。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的基材载体堆叠，其中包括在所述基材载体堆叠中的所述吹扫通路中的每个在所述竖直方向上在等距位置处设置在所述基材载体堆叠内。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的基材载体堆叠，其中

所述上支撑形成构造包括上密封形成构造，并且所述下支撑形成构造包括下密封形成构造；

所述上密封形成构造和所述下密封形成构造中的第一个包括围绕所述内区域连续地延伸的连续密封唇，并且所述上密封形成构造和所述下密封形成构造中的第二个包括围绕所述内区域连续地延伸的连续密封表面带；

对于每对竖直相邻的基材载体，所述上基材载体的下密封形成构造与所述下基材载体的上密封形成构造接合以将所述内容纳空间、所述第一吹扫通道和所述第二吹扫通道与围绕所述基材载体堆叠的区域密封。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的基材载体堆叠，其中

所述多个基材载体中的每个包括第一定位形成构造和第二定位形成构造，使得对于每对竖直相邻的基材载体，所述下基材载体的所述第一定位形成构造与所述上基材载体的所述第二定位形成构造接合；以及

所述多个基材载体中的每个包括限定出所述第一定位形成构造和所述第二定位形成构造中的第一个定位形成构造的竖直突出部以及限定出所述第一定位形成构造和所述第二定位形成构造中的第二个定位形成构造的凹部或开口。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的基材载体堆叠，其中

所述多个基材载体中的所有都具有相同的结构或实质上相同的结构；以及

每对竖直相邻的基材载体中的基材载体被堆叠为使得：

所述下基材载体的所述第一框架腹板支撑所述上基材载体的所述第三框架腹板，所述下基材载体的所述第二框架腹板支撑所述上基材载体的所述第四框架腹板，所述下基材载体的所述第三框架腹板支撑所述上基材载体的所述第一框架腹板，并且所述下基材载体的所述第四框架腹板支撑所述上基材载体的所述第二框架腹板。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的基材载体堆叠，其中所述多个基材载体中的每个包括从所述外载体框架的外周表面水平地突起的突起。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的基材载体堆叠，其中所述多个基材载体中的每个包括第一对突起和第二对突起，所述第一对突起从所述外载体框架的外周表面在第一水平方向上突起，所述第二对突起从所述外载体框架的外周表面在不同于所述第一水平方向的第二水平方向上突起。

16.基材载体堆叠，其包括：

在竖直方向上堆叠的多个基材载体；其中

所述多个基材载体中的每个包括基材座以将基材容纳和承载在所述基材载体堆叠的内容纳空间内；

所述多个基材载体包括第一吹扫通道和第二吹扫通道，所述第一吹扫通道和所述第二吹扫通道在所述内容纳空间的相对侧处竖直地平行于或实质上平行于所述内容纳空间延伸；

所述多个基材载体包括吹扫结构，所述吹扫结构在所述基材载体堆叠内创建水平吹扫流；以及

所述多个基材载体中的每个包括外载体框架，所述外载体框架在水平框架平面中围绕所述第一吹扫通道、所述第二吹扫通道和所述内容纳空间延伸。

17.根据权利要求16所述的基材载体，其中所述多个基材载体中的每个由塑料材料一体地模制。

18.基材载体，其包括：

外载体框架，其在框架平面中围绕包括内开口的内区域延伸；

多个分隔腹板，其从所述外载体框架延伸穿过所述内区域以限定所述内区域的所述内开口以及两个辅助开口；

当所述基材载体为在竖直方向上堆叠的多个基材载体中的一个时，所述两个辅助开口限定第一吹扫通道的一部分和第二吹扫通道的一部分，所述第一吹扫通道的一部分和所述第二吹扫通道的一部分竖直地平行于或实质上平行于所述内区域延伸。

19.根据权利要求18所述的基材载体，其中所述基材载体由塑料材料一体地模制。

20.根据权利要求18或19所述的基材载体，其中所述基材载体由聚醚醚酮或聚碳酸酯一体地模制。

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