CN112116591B - 一种用于检测蚀刻电路通断路的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于检测蚀刻电路通断路的方法,步骤如下:S1:采集蚀刻电路的原始图像;S2:预处理,基于原始图像确定蚀刻电路的待测目标区域;S3:特征提取,提取目标区域的骨架及其接合点和端点,S4:连通性判断,根据接合点和端点的对应情况判断该处是否为缺陷,统计缺陷个数;S5:结果判断,根据缺陷个数判断该蚀刻电路是否NG。本发明相比传统技术对于产品制造工艺要求相对较低,对于图片质量要求也相对宽松,能够提取目标骨架即可;传统技术的适用性相对较低,而本发明则只需调整提取目标区域的方法,后续步骤可延用;检测电路有分支但未发生短路的情况,可根据骨架端点和连接点的关系判断,准确率高。

Description

一种用于检测蚀刻电路通断路的方法
技术领域
本发明涉及一种机器视觉检测算法开发领域,具体一种检测蚀刻电路的通断路的方法。该检测算法利用图像的骨架对蚀刻电路的连通性进行判断,完成蚀刻电路的通断路检测。
背景技术
印刷电路板(Print Circuit Board,PCB)是电子产品的主要基础零部件,享有“电子产品之母”的美誉。近年来,随着电子工业的迅猛发展,PCB制造行业的发展也非常迅速。在PCB制造的众多工序中,刻蚀是最为重要的工序之一。刻蚀工序在PCB制造过程中非常重要,控制好所蚀刻过程质量是保证质量和性能的关键。基于上述现状,检测刻蚀电路的质量尤为重要。
现有技术中对蚀刻电路的检测方法中需要首先选取合适的产品制作模板,保存模板后才可以进行检测,检测中首先需读取模板,然后提取蚀刻电路与模板作差来判断检测产品的缺陷。传统技术需选取合适的产品制作模板,对产品的生产工艺及精度要求较高;传统技术的适用性相对较低,因传统技术涉及制作模板,故当产品型号更换时,需重新调整提取目标区域的方法,重新制作模板,亦需重新调整作差后的筛选条件,成本较高;此外传统技术对于电路有分支,但并未发生短路的情况会造成误检。
发明内容
针对上述现有技术的缺陷,本发明提供了一种用于检测蚀刻电路通断路的方法,检测算法步骤如下:
S1:采集蚀刻电路的原始图像;
S2:预处理,基于原始图像确定蚀刻电路的待测目标区域;
S3:特征提取,提取目标区域的骨架及其接合点和端点,所述骨架是指目标区域的中心轴,接合点即骨架分支的起始点;
S4:连通性判断,根据接合点和端点的对应情况判断该处是否为缺陷,统计缺陷个数;
S5:结果判断,根据缺陷个数判断该蚀刻电路是否NG。
进一步地,所述步骤S2包括:通过全局阈值分割、动态阈值分割、形态学开闭操作,确定原始图像中蚀刻电路的待测目标区域。
进一步地,动态阈值分割用于提取原始图像中的蚀刻电路部分,全局阈值分割、形态学开闭操作用于去除原始图像中背景部分的干扰,所述背景部分是原始图像中除去蚀刻电路部分的部分。以上阈值分割及形态学开闭操作均是采用图像处理软件现有的封装函数。
进一步地,求取目标区域的所有最大内接圆,将各圆心连接而成的区域提取为骨架。
进一步地,根据目标区域内的8邻域像素存在情况提取骨架接合点和端点;骨架提取及接合点、端点的提取亦是利用图像处理软件本身封装的函数完成。
进一步地,所述步骤S4包括:
(1)将S3中提取到端点中距离目标区域边缘20个像素内的端点去除;
(2)将S3中提取到结合点中的距离目标区域边缘20个像素内的接合点去除;
(3)将距离接合点10个像素内的端点去除;
(4)去除以上情况包含的接合点与端点后,剩下的端点即为目标缺陷。
进一步地,所述S5要包括:根据S4得到的缺陷个数判断蚀刻电路是否NG,若缺陷个数大于0,则该蚀刻电路NG;若缺陷个数为0,则该蚀刻电路OK,最后,将检测结果及蚀刻电路NG或蚀刻电路OK及缺陷位置输出,指导人工进行重新蚀刻,或重新补充导电银浆。
本发明相比传统方法具有以下优点:
(1)传统技术需选取合适的产品制作模板,对产品的生产工艺及精度要求较高。本发明对于产品制造工艺要求相对较低,对于图片质量要求也相对宽松,能够提取目标骨架即可;
(2)传统技术的适用性相对较低,因传统技术涉及制作模板,故当产品型号更换时,需重新调整提取目标区域的方法,重新制作模板,亦需重新调整作差后的筛选条件。而本发明则只需调整提取目标区域的方法,后续步骤可延用;
(3)传统技术对于电路有分支,但并未发生短路的情况会造成误检。本发明则可根据骨架端点和连接点的关系解决此类情况的发生,提高准确率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为传统的方法步骤。
图2为本发明的方法步骤。
图3为蚀刻电路断路缺陷的示意图。
图4为短路缺陷示意图。
图5为骨架示意图。
图6为接合点示意图。
图7为实施例一:短路缺陷图。
图8为黑色蚀刻电路区域骨架示意图。
图9为黑色蚀刻电路骨架端点示意图。
图10为实施例二:断路缺陷图。
图11为断路缺陷中黑色蚀刻电路区域示意图。
图12为断路缺陷图像中白色银浆区域示意图。
图13为白色银浆区域骨架示意图。
图14为白色银浆区域骨架端点示意图。
具体实施方式
为了使本申请所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本申请进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。
如图1所示,为现有技术中对蚀刻电路的检测方法,需要首先选取合适的产品制作模板,保存模板后才可以进行检测,检测中首先需读取模板,然后提取蚀刻电路与模板作差来判断检测产品的缺陷。
如图2所示,为本发明的检测蚀刻电路通断路的方法流程示意图,
S1:采集蚀刻电路的原始图像;
S2:预处理,基于原始图像确定蚀刻电路的待测目标区域;
S3:特征提取,提取目标区域的骨架及其接合点和端点,所述骨架是指目标区域的中心轴,接合点即骨架分支的起始点;
S4:连通性判断,根据接合点和端点的对应情况判断该处是否为缺陷,统计缺陷个数;
S5:结果判断,根据缺陷个数判断该蚀刻电路是否NG。
所述步骤S2即提取刻蚀电路,其包括:全局阈值分割、动态阈值分割、形态学开闭操作。全局阈值分割、形态学开闭操作用于去除原始图像中背景部分的干扰,所述背景部分是原始图像中除去蚀刻电路部分的部分。以上阈值分割及形态学开闭操作均是采用图像处理软件现有的封装函数。
所述步骤S3包括:骨架及其接合点、端点的提取;骨架即目标区域的中心轴,接合点即骨架分支的起始点。骨架的提取方法是求取目标区域的所有最大内接圆,各圆心连接而成的区域即为该区域的骨架。骨架中接合点和端点的提取则是根据当前像素点的8邻域像素存在情况进行判断;骨架提取及接合点、端点的提取亦是利用图像处理软件本身封装的函数完成。
所述步骤S4包括:
(1)将S3中提取到的端点中距离目标区域边缘20个像素内的端点去除;
(2)将S3中提取到的接合点中距离目标区域边缘20个像素内的接合点去除;
(3)将距离接合点10个像素内的端点去除;
(4)去除以上情况包含的接合点与端点后,剩下的端点即为目标缺陷。
所述S5要包括:根据S4得到的缺陷个数判断蚀刻电路是否NG,若缺陷个数大于0,则蚀刻电路NG;若缺陷个数为0,则蚀刻电路OK,最后,将检测结果及缺陷位置输出,指导人工进行重新蚀刻,或重新补充导电银浆。
如图3所示为蚀刻电路断路缺陷示意图。
如图4所示,方框内为短路缺陷示意图。
如图5所示,箭头所指的横向线为骨架,骨架为目标区域的中心轴区域。
如图6所示,方框内为接合点,接合点为骨架分支的起始点。
实施例一:短路缺陷
以下结合附图7-9对本发明中的短路缺陷检测做进一步说明。
S1:图像采集;
S2:预处理:通过全局阈值分割,再利用面积参数,将图片上方与下方不参与检测的区域去除;
S3:特征提取:利用大小为25的滤波核对图片进行均值滤波,然后利用动态阈值分割方法,结合面积、宽度和高度三个筛选参数,分割出黑色线路区域,如图8所示。最后提取黑色区域骨架,及骨架的端点、接合点,如图9所示;
S4:连通性判断:图9所示两点为骨架两个端点,距离图像边缘超过20个像素,故该两点并不处于图像的目标区域边缘,属于缺陷。
实施例二:断路缺陷
以下结合10-14本发明中的断路缺陷检测做进一步说明。
S1:图像采集;
S2:预处理:通过全局阈值分割,加上面积筛选参数,将图片上方与下方不参与检测的区域去除;
S3:特征提取:利用大小为25的滤波核对图片进行均值滤波,然后利用动态阈值分割方法,结合面积、宽度和高度三个筛选参数,分割出黑色线路区域,如图11所示。然后,将整个区域与提取的黑色蚀刻线路区域作差,得到白色银浆区域,如图12所示。最后,提取白色银浆区域骨架,及骨架的端点、接合点。其中,图13为骨架区域,图14为骨架的端点;
S4:连通性判断:图14所示两点为骨架两个端点,距离图像边缘超过20个像素,故该两点并不处于图像的目标区域边缘,属于缺陷。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种用于检测蚀刻电路通断路的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:采集蚀刻电路的原始图像;
S2:预处理,基于原始图像确定蚀刻电路的待测目标区域;
S3:特征提取,提取目标区域的骨架及其接合点和端点,所述骨架是指目标区域的中心轴,接合点即骨架分支的起始点;
S4:连通性判断,根据接合点和端点的对应情况判断该处是否为缺陷,统计缺陷个数;所述步骤S4包括:(1)将S3中提取到的端点中距离目标区域边缘20个像素内的端点去除;(2)将S3中提取到的接合点中距离目标区域边缘10个像素内的接合点去除;(3)将距离接合点10个像素内端点去除;(4)去除以上情况包含的接合点与端点后,剩下的端点即为目标缺陷;
S5:结果判断,根据缺陷个数判断该蚀刻电路是否NG。
2.根据权利要求1所述的一种用于检测蚀刻电路通断路的方法,其特征在于:所述步骤S2包括:通过全局阈值分割、动态阈值分割、形态学开闭操作,确定原始图像中蚀刻电路的待测目标区域。
3.根据权利要求2所述的一种用于检测蚀刻电路通断路的方法,其特征在于:动态阈值分割用于提取原始图像中的蚀刻电路部分,全局阈值分割、形态学开闭操作用于去除原始图像中背景部分的干扰,所述背景部分是原始图像中除去蚀刻电路部分的部分。
4.根据权利要求1所述的一种用于检测蚀刻电路通断路的方法,其特征在于:通过求取目标区域的所有最大内接圆,将各圆心连接而成的区域提取为骨架。
5.根据权利要求1所述的一种用于检测蚀刻电路通断路的方法,其特征在于:根据目标区域内的8邻域像素存在情况提取骨架接合点和端点。
6.根据权利要求2或3所述的一种用于检测蚀刻电路通断路的方法,其特征在于:所述全局阈值分割、动态阈值分割、形态学开闭操作以及提取目标区域的骨架及其接合点和端点均是采用图像处理软件的封装函数完成。
7.根据权利要求1所述的一种用于检测蚀刻电路通断路的方法,其特征在于:
其中,所述步骤S5包括:根据S4得到的缺陷个数判断蚀刻电路是否NG,若缺陷个数大于0,则蚀刻电路NG;若缺陷个数为0,则蚀刻电路OK,最后,将蚀刻电路NG或蚀刻电路OK及缺陷位置输出。
8.根据权利要求7所述的一种用于检测蚀刻电路通断路的方法,其特征在于:所述步骤S5还包括将检测结果及缺陷位置输出后,指导人工进行重新蚀刻,或重新补充导电银浆。
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