CN112111723A - 可翻转承载装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及超高真空成膜设备技术领域,具体为一种可翻转承载装置,该装置包括行星基片架、旋转机构和翻转机构,旋转机构设置在行星基片架上表面,旋转机构的垂直转轴设置于行星基片架中央,垂直转轴上端与伺服电机的转子联动,转子与垂直转轴间设置有电磁离合器;垂直转轴下端与扇形旋转架的圆心角处连接;扇形旋转架弧面上设置轮齿;翻转机构设置在行星基片架开孔处,翻转机构的固定夹为环形,固定夹上设置用于锁定基片的夹具;固定夹两侧设置翻转转轴,行星基片架开孔处设置对应的轴承,一侧翻转转轴上设置翻转齿轮,所述翻转齿轮与扇形旋转架啮合。该装置机械结构简单,后期便于维护,可以得到广泛的应用。
Description
技术领域
本发明涉及超高真空成膜设备技术领域,具体为一种可翻转承载装置。
背景技术
随着光学技术、材料学技术和电学技术等领域的发展,新型显示器的技术不断成熟,使得显示器行业有了长足的进步,特别是相较于传统显示器,新型显示器有着更为优异的性能,这些都使得新型显示器朝着更高分辨率、更长的使用寿命、更稳定的图像显示等方面发展。
在新型显示器镀膜过程中,由于现阶段的超高真空成膜设备中的基片架都采用传统行星结构,基片在整个镀膜过程中都保持空间位置的相对固定,这种传统的基片架结构简单、操作方便、成本低廉且较为可靠,但时难以实现只抽取一次真空得到多组不同工艺要求的产品。因此,如何在生产中节约时间成本、提高产品产量,是目前超高真空成膜设备亟需解决的问题。
发明内容
本发明针对现有技术的不足,提供一种用于超高真空成膜设备上的可翻转承载装置,可以实现单次抽取真空后就能镀制多种工艺要求的产品。
可翻转承载装置,设置于超高真空成膜设备内,该装置包括行星基片架,其特征在于该装置还包括旋转机构和翻转机构,其中:
旋转机构设置在行星基片架上表面,旋转机构包括垂直转轴、伺服电机、电磁离合器以及扇形旋转架,垂直转轴设置于行星基片架中央,垂直转轴上端与伺服电机的转子联动,转子与垂直转轴间设置有电磁离合器;垂直转轴下端与扇形旋转架的圆心角处连接;扇形旋转架弧面上设置轮齿;
翻转机构设置在行星基片架开孔处,翻转机构包括固定夹、翻转转轴和齿轮;固定夹为环形,固定夹上设置用于锁定基片的夹具;固定夹两侧设置翻转转轴,所述行星基片架开孔处设置对应的轴承,一侧翻转转轴上设置翻转齿轮,所述翻转齿轮与扇形旋转架啮合。
具体的,行星基片架上方设置有定位轴承,所述定位轴承与超高真空成膜设备固定连接,所述垂直转轴穿过定位轴承用于限位。
具体的,扇形旋转架悬浮于行星基片架上方,扇形旋转架底部设置滚轮,使扇形旋转架平稳的沿行星基片架中央旋转。
具体的,所述固定夹内环直径大于待镀膜基片的直径。进一步的,所述夹具不少于两组,夹具沿固定夹等距布置;所述夹具采用弹簧压片及扭簧夹的组合。弹簧压片将基片紧压在固定夹上,扭簧夹夹持在基片边缘使基片始终保持在固定夹中央。
需要镀膜的基片放置在基片架于真空镀膜设备中,抽取真空,等待真空度达到工艺要求。确定基片的方向是否是待镀面朝下,转动指定基片时,电磁离合器管壁,扇形旋转架下沉,与基片翻转装置边缘处的锥齿轮啮合,伺服电机控制扇形旋转架转动,使该基片恰好旋转180°;同理,每个独立的基片都可通过上述步骤进行转动,需要镀制的基片朝下,待镀制的基片旋转朝上,镀制完成后再将镀好的基片旋转朝上,将未镀制的基片再次旋转朝下,即可进行后续生产或工艺试验。扇形旋转架调整好每个基片的位置后,位于行星基片架上方的电磁离合器打开,扇形旋转架向上移动,与基片翻转装置分离。待所有工艺完毕后,为保证成膜质量,恢复所有基片的方向使工艺面朝下,待真空镀膜设备冷却后,即可打开充气阀门,使设备恢复大气压后取出完成镀膜的基片。
由于目前的真空镀膜设备抽取工艺真空的速率有限,无法快速抽取,单次镀膜所需要的抽取时间都在60分钟以上,则每蒸镀一种原料都需要重新放置基片后再次抽取工艺真空。借助该技术方案可大大提高产量,减少操作人员的工作量。
利用可翻转承载装置的特性,可以实现独立控制每一个待蒸镀基片的蒸镀面。该装置适用于所有高精度超高真空成膜设备,由于可翻转承载装置机械结构简单,后期便于维护,可以得到广泛的应用。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图2为本发明旋转机构的结构示意图。
图3为本发明翻转机构的结构示意图。
其中,行星基片架1,旋转机构2,垂直转轴2-1,伺服电机2-2,电磁离合器2-3,扇形旋转架2-4,翻转机构3,固定夹3-1,翻转转轴3-2,齿轮3-3。
具体实施方式
实施例1:可翻转承载装置,设置于超高真空成膜设备内,该装置包括行星基片架1,其特征在于该装置还包括旋转机构2和翻转机构3,旋转机构2设置在行星基片架1上表面,旋转机构2包括垂直转轴2-1、伺服电机2-2、电磁离合器2-3以及扇形旋转架2-4,垂直转轴2-1设置于行星基片架1中央,垂直转轴2-1上端与伺服电机2-2的转子联动,转子与垂直转轴2-1间设置有电磁离合器2-3;行星基片架1上方设置有定位轴承,所述定位轴承与超高真空成膜设备固定连接,垂直转轴2-1下端与扇形旋转架2-4的圆心角处连接;扇形旋转架2-4弧面上设置轮齿,扇形旋转架2-4底部设置滚轮,使扇形旋转架2-4平稳的沿行星基片架1中央旋转;翻转机构3设置在行星基片架1开孔处,翻转机构3包括固定夹3-1、翻转转轴3-2和齿轮3-3;固定夹3-1为环形,固定夹3-1上设置四组用于锁定基片的夹具,夹具采用弹簧压片及扭簧夹的组合;固定夹3-1两侧设置翻转转轴3-2,所述行星基片架1开孔处设置对应的轴承,一侧翻转转轴3-2上设置翻转齿轮3-3,所述翻转齿轮3-3与扇形旋转架2-4啮合。
Claims (5)
1.可翻转承载装置,设置于超高真空成膜设备内,该装置包括行星基片架(1),其特征在于该装置还包括旋转机构(2)和翻转机构(3),其中:
旋转机构(2)设置在行星基片架(1)上表面,旋转机构(2)包括垂直转轴(2-1)、伺服电机(2-2)、电磁离合器(2-3)以及扇形旋转架(2-4),垂直转轴(2-1)设置于行星基片架(1)中央,垂直转轴(2-1)上端与伺服电机(2-2)的转子联动,转子与垂直转轴(2-1)间设置有电磁离合器(2-3);垂直转轴(2-1)下端与扇形旋转架(2-4)的圆心角处连接;扇形旋转架(2-4)弧面上设置轮齿;
翻转机构(3)设置在行星基片架(1)开孔处,翻转机构(3)包括固定夹(3-1)、翻转转轴(3-2)和齿轮(3-3);固定夹(3-1)为环形,固定夹(3-1)上设置用于锁定基片的夹具;固定夹(3-1)两侧设置翻转转轴(3-2),所述行星基片架(1)开孔处设置对应的轴承,一侧翻转转轴(3-2)上设置翻转齿轮(3-3),所述翻转齿轮(3-3)与扇形旋转架(2-4)啮合。
2.如权利要求1所述的可翻转承载装置,其特征在于行星基片架(1)上方设置有定位轴承,所述定位轴承与超高真空成膜设备固定连接,所述垂直转轴(2-1)穿过定位轴承。
3.如权利要求1所述的可翻转承载装置,其特征在于扇形旋转架(2-4)悬浮于行星基片架(1)上方,扇形旋转架(2-4)底部设置滚轮。
4.如权利要求1所述的可翻转承载装置,其特征在于固定夹(3-1)内环直径大于待镀膜基片的直径。
5.如权利要求1所述的可翻转承载装置,其特征在于夹具不少于两组,夹具沿固定夹(3-1)等距布置;所述夹具采用弹簧压片及扭簧夹的组合。
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