CN112095067B - 一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法 - Google Patents
一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112095067B CN112095067B CN202010862429.7A CN202010862429A CN112095067B CN 112095067 B CN112095067 B CN 112095067B CN 202010862429 A CN202010862429 A CN 202010862429A CN 112095067 B CN112095067 B CN 112095067B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coating
- ysz
- graphite substrate
- temperature
- infrared low
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/134—Plasma spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/02—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/06—Metallic material
- C23C4/073—Metallic material containing MCrAl or MCrAlY alloys, where M is nickel, cobalt or iron, with or without non-metal elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/10—Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/18—After-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
本发明属于红外隐身技术领域,具体为一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法。本发明方法不需要在涂层中添加粘合剂,在高温下不会恶化发射率;并且制备出来的涂层在2‑14μm法向上是不透的,这样的涂层有利于红外隐身技术。另外,YSZ材料的隔热性能比较好,将其用于低发射率涂层的制备,有利于降低目标表面的温度,这样对降低飞行器的红外辐射强度起到双倍的效果。并且进一步的,为了保证YSZ涂层在其他方向上也是不透的,通过在石墨基底上预先喷涂一层YSZ/NiCoCrAIY的复合涂层,然后再在复合涂层表面进行YSZ涂层的制备和石墨基底剥离。
Description
技术领域
本发明属于红外隐身技术领域,具体为一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法。
背景技术
随着军事技术的快速发展,红外隐身技术变得越来越重要,而红外隐身的关键在于降低目标的红外辐射强度。根据玻尔兹曼定律:红外辐射强度E=εσT4,(其中ε为材料的发射率,T为物体表面的热力学温度,σ为玻尔兹曼常数)要降低红外辐射强度,最主要是降低材料的温度和发射率,所以制备低发射率且隔热性能好的涂层至关重要。
现在主要的低发射率涂层有金属材料和半导体材料,金属材料虽然具有较低的发射率,但是随着飞行器的发展,目标高速飞行使表面温度急剧上升,在高温环境下,金属材料容易氧化裂解,失去了红外隐身的作用。在现有的研究中,由于等离子喷涂具有技术稳定,涂层质量高,喷涂种类多的优点,所以选用等离子喷涂技术制备半导体涂层,但是制备出来的涂层在2-14μm波段都是半透明的,透过率高达20-50%。这样的涂层不适用于红外隐身技术,因为高的透过率导致飞行器向外辐射较多的能量,目标会更容易被探测到。
另外,在目前的研究中用等离子体喷涂制备的涂层在高温下有较高的热导率,隔热性能差,这样的涂层会使飞行器具有较高的温度,不利于降低表面温度,使飞行器向外的辐射强度增大。因此迫切需要一种在高温下具有较低发射率和热导率,并且在2-14μm波段不透的涂层来满足日新月异的武器装备和飞行器的需求。
发明内容
针对现有技术的不足和存在的问题,为了解决目前用等离子喷涂制备出来的涂层在2-14μm波段是半透明的,并且在高温下隔热性能差的问题,本发明提供了一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法,选用了一种在高温下具有良好隔热性能的材料,提供了一种耐高温红外低发射率且在2-14μm波段法向不透的涂层制备方法。
技术方案:
一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法,包括以下步骤:
步骤1、选择纯度大于99.9wt%的YSZ粉体,将粉体进行干燥备用,(如放进90℃的炉子里进行干燥0.5h)。
步骤2、对石墨基底材料进行超声清洗及烘干后。
步骤3、采用等离子体喷涂技术在步骤2所得石墨基底表面进行喷涂步骤1所得YSZ粉体,制备YSZ涂层。
步骤4、将步骤3制备好的YSZ涂层在空气中进行退火,退火温度为800-1200℃,时间为1-4h。使石墨基底剥落,得到YSZ涂层。
进一步的,所述步骤1中,YSZ粉末的粒度为10~50μm。
进一步的,所述步骤1中,YSZ粉末中的ZrO2和Y2O3的摩尔比为8:1。
进一步的,所述步骤2具体包括如下步骤:使用丙酮和酒精分别对石墨基底表面进行超声清洗处理,然后用90℃的烘箱烘干石墨基底。
进一步的,所述步骤3制得的YSZ涂层厚度为100-700μm。
进一步的,所述步骤3中,使用的等离子喷涂设备,其所用气体为氩气,氮气,氢气。其气体流量为分别为150SCFH,100SCFH,120SCFH。使用的等离子喷涂设备,其喷涂功率为55-95kw,喷涂距离为90-120mm。
本发明方法不需要在涂层中添加粘合剂,在高温下不会恶化发射率。并且制备出来的涂层在2-14μm法向上是不透的,这样的涂层有利于红外隐身技术。另外,YSZ材料的隔热性能比较好,将其用于低发射率涂层的制备,有利于降低目标表面的温度,这样对降低飞行器的红外辐射强度起到双倍的效果。
进一步的,为了保证YSZ涂层在其他方向上也是不透的,先在所述步骤2的石墨基底上喷涂一层YSZ/NiCoCrAlY的复合涂层,厚度为30-60μm,其中YSZ与NiCoCrAlY的体积比为1:5-1:20,然后再在复合涂层表面进行YSZ涂层的制备和石墨基底剥离。剥离石墨基底后得到改良的涂层(附着有YSZ/NiCoCrAlY复合涂层的YSZ涂层)。
附图说明
图1是实施例1制备涂层2-14μm的法向透过率图谱;
图2是实施例1制备涂层在常温下2-14μm的发射率图谱;
图3是实施例2制备涂层在常温下2-14μm的发射率图谱;
图4是实施例2制备涂层在1200℃下2-14μm的发射率图谱;
图5是实施例3制备涂层在2-14μm的透过率图谱。
具体实施方式
下面结合实施例和附图对本发明做进一步的详细描述,但实施例仅为对本发明的特点和优点做进一步阐述,而不是对本发明的限制。
实施例1:厚度为100μm的YSZ涂层的制备。
(1)选取纯度为99.9wt%的YSZ粉体,放进90℃的炉子里干燥备用。
(2)对石墨基底表面进行预处理,用丙酮和酒精超声清洗基底表面。
(3)用等离子体喷涂技术在步骤2制备的石墨基底上进行喷涂步骤1所得YSZ粉体,制备YSZ涂层,喷涂功率为95KW,喷涂距离为100mm,所用气体为氩气,氮气,氢气。其中氩气流量为150SCFH,氮气流量为100SCFH,氢气流量为120SCFH。制备的YSZ涂层厚度为100μm。
(4)将步骤3等离子喷涂制备的YSZ涂层在空气中进行退火,退火温度为800℃,时间为2h。
实施例1所制备的高温低发射率涂层在2-14μm法向透射率情况如图1所示,从图中可以看出制备出来的YSZ涂层在2-14μm波段法向上是不透的。图2为YSZ涂层在2-14μm的发射率情况。
实施例2:厚度为700μm的YSZ涂层的制备。
(1)选取纯度为99.9wt%的YSZ粉体,放进90℃的炉子里干燥备用。
(2)对石墨基底表面进行预处理,用丙酮和酒精超声清洗基底表面。
(3)用等离子体喷涂技术在步骤2制备的石墨基底上进行喷涂步骤1所得YSZ粉体,制备YSZ涂层,喷涂功率为95KW,喷涂距离为100mm,所用气体为氩气,氮气,氢气。其中氩气流量为150SCFH,氮气流量为100SCFH,氢气流量为120SCFH。制备的YSZ涂层厚度为700μm。
(4)将步骤3等离子喷涂制备的YSZ涂层在空气中进行退火,退火温度为800℃,时间为2h。
实施例2所制备的高温低发射率涂层的发射率情况如图3所示,将测试温度升至1200℃,YSZ涂层的发射率如图4所示,随着测试温度的上升,YSZ涂层的发射率逐渐降低,可以计算3-5μm波段的平均发射率为0.24。
实施例3:
(1)选取纯度为99.9wt%的YSZ粉体和NiCoCrAlY粉体,放进90℃的炉子里干燥备用。
(2)对石墨基底表面进行预处理,用丙酮和酒精超声清洗基底表面。
(3)用等离子体喷涂技术在步骤2制备的石墨基底上进行喷涂步骤1所得YSZ粉体和NiCoCrAlY粉体,制备YSZ/NiCoCrAlY复合涂层,喷涂功率为65KW,喷涂距离为100mm,所用气体为氩气、氮气和氢气。其中氩气流量为170SCFH,氮气流量为80SCFH,氢气流量为75SCFH。制备的YSZ涂层厚度为50μm,YSZ与NiCoCrAlY的体积比为1:14。
(4)用等离子体喷涂技术在步骤3制备的YSZ/NiCoCrAlY复合涂层上进行喷涂步骤1所得YSZ粉体,制备YSZ涂层,喷涂功率为95KW,喷涂距离为100mm,所用气体为氩气、氮气和氢气。其中氩气流量为150SCFH,氮气流量为100SCFH,氢气流量为120SCFH。制备的YSZ涂层厚度为300μm。
(5)将步骤4等离子喷涂制备的涂层在空气中进行退火,退火温度为800℃,时间为2h。
实施例3所制备的附着有YSZ/NiCoCrAlY复合涂层的YSZ涂层在2-14μm透过率情况如图5所示,从图中可以看出制备出来的YSZ涂层2-14μm波段在任何方向都是不透的。
综上所述,本发明所提出的耐高温低发射率并且在2-14μm波段不透的涂层是实际可行的。
Claims (6)
1.一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、选择纯度大于99.9wt%的YSZ粉体,将粉体干燥备用;
步骤2、对石墨基底材料进行超声清洗及烘干;
步骤3、采用等离子体喷涂技术在步骤2所得石墨基底表面进行喷涂步骤1所得YSZ粉体,制备YSZ涂层;等离子喷涂功率为55-95kw,喷涂距离为90-120mm;
步骤4、将步骤3制备好的YSZ涂层在空气中进行退火,退火温度为800-1200℃,时间为1-4h,使石墨基底剥落,得到YSZ涂层,YSZ涂层在2-14μm法向上不透;
所述步骤2的石墨基底上喷涂一层YSZ/NiCoCrAlY的复合涂层,厚度为30-60μm,其中YSZ与NiCoCrAlY的体积比为1:5-1:20,然后在复合涂层表面进行YSZ涂层的制备和石墨基底剥离,得到附着有YSZ/NiCoCrAlY复合涂层的YSZ涂层,以保证YSZ涂层在其他方向上也不透。
2.如权利要求1所述耐高温红外低发射率涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤1中YSZ粉体的粒度为10~50μm。
3.如权利要求1所述耐高温红外低发射率涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤3制得的YSZ涂层厚度为100-700μm。
4.如权利要求1所述耐高温红外低发射率涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤1中,YSZ粉体中的ZrO2和Y2O3的摩尔比为8:1。
5.如权利要求1所述耐高温红外低发射率涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤2具体为使用丙酮和酒精分别对石墨基底表面进行超声清洗处理,然后用90℃的烘箱烘干石墨基底。
6.如权利要求1所述耐高温红外低发射率涂层的制备方法,其特征在于:所述步骤3中等离子喷涂所用气体为氩气、氮气和氢气,其气体流量依次分别为150SCFH、100SCFH和120SCFH。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010862429.7A CN112095067B (zh) | 2020-08-25 | 2020-08-25 | 一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010862429.7A CN112095067B (zh) | 2020-08-25 | 2020-08-25 | 一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112095067A CN112095067A (zh) | 2020-12-18 |
CN112095067B true CN112095067B (zh) | 2022-05-03 |
Family
ID=73754317
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010862429.7A Active CN112095067B (zh) | 2020-08-25 | 2020-08-25 | 一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112095067B (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113897574B (zh) * | 2021-10-08 | 2023-11-03 | 广东省科学院新材料研究所 | 一种具有红外低发射率的隐身涂层及其制备方法与应用 |
CN114438434B (zh) * | 2022-01-12 | 2023-06-23 | 北京理工大学 | 一种多层高反射率隔热涂层及其制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102080202A (zh) * | 2009-11-26 | 2011-06-01 | 胡明 | 一种喷涂SiC/Al复合材料的制备工艺 |
CN104818482A (zh) * | 2015-04-21 | 2015-08-05 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 耐高温、高结合强度的低红外发射率复合涂层、带涂层的金属合金材料及其制备方法 |
CN107747080A (zh) * | 2017-10-11 | 2018-03-02 | 中国人民解放军国防科技大学 | 一种可耐温600℃雷达/红外兼容隐身涂层及其制备方法 |
CN109457210A (zh) * | 2018-11-27 | 2019-03-12 | 中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司 | 一种耐高温低发射率涂层及其制备方法 |
CN111020453A (zh) * | 2019-12-12 | 2020-04-17 | 电子科技大学 | 一种获得独立的大气等离子喷涂涂层的方法 |
-
2020
- 2020-08-25 CN CN202010862429.7A patent/CN112095067B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102080202A (zh) * | 2009-11-26 | 2011-06-01 | 胡明 | 一种喷涂SiC/Al复合材料的制备工艺 |
CN104818482A (zh) * | 2015-04-21 | 2015-08-05 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 耐高温、高结合强度的低红外发射率复合涂层、带涂层的金属合金材料及其制备方法 |
CN107747080A (zh) * | 2017-10-11 | 2018-03-02 | 中国人民解放军国防科技大学 | 一种可耐温600℃雷达/红外兼容隐身涂层及其制备方法 |
CN109457210A (zh) * | 2018-11-27 | 2019-03-12 | 中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司 | 一种耐高温低发射率涂层及其制备方法 |
CN111020453A (zh) * | 2019-12-12 | 2020-04-17 | 电子科技大学 | 一种获得独立的大气等离子喷涂涂层的方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
高温红外低发射率涂层性能研究;张雄等;《信息记录材料》;20190430;第20卷(第4期);第4页左栏第2段至右栏第1段,第5页第2段、图2,第6页结论 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112095067A (zh) | 2020-12-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN112095067B (zh) | 一种耐高温红外低发射率涂层的制备方法 | |
CN113584419B (zh) | 用于TiAl合金表面的热障涂层及其制备方法 | |
CN108218476A (zh) | 一种稀土镥硅酸盐复合环境障涂层及其制备方法 | |
CN105154872A (zh) | 一种在钛合金上制备Ni基合金梯度材料的激光制造工艺 | |
CN113969394B (zh) | 一种铌合金表面耐高温高阻氧隔热涂层及其制备方法 | |
CN109720027A (zh) | 一种基于金属涂层的耐高温结构吸波材料及其制备方法 | |
CN113135775A (zh) | 超高温电磁散射与红外辐射兼容抑制的隐身材料及制备方法 | |
CN112961531A (zh) | 一种功能梯度分布的高温雷达红外兼容隐身涂层及其制备方法 | |
CN113388830A (zh) | 一种耐高温防腐陶瓷涂层的制备方法 | |
CN110452565B (zh) | 一种镍基合金热轧用的耐高温抗氧化涂层及其制备方法 | |
CN104152854B (zh) | 耐高温、抗氧化的低红外发射率复合涂层及其制备方法 | |
CN109338297B (zh) | 一种二硼化铪-二硼化锆基高温太阳能吸收涂层及其制备方法 | |
CN112230321B (zh) | 一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层及其制备方法 | |
CN109341116A (zh) | 一种Cr-Si-N-O太阳能选择性吸收涂层及其制备方法 | |
CN111321382A (zh) | 耐高温、抗氧化红外低发射率复合薄膜及其制备方法 | |
CN102954611B (zh) | 中高温光谱选择性吸收涂层 | |
CN113403594B (zh) | 陶瓷基复合材料用耐高温、抗水氧低红外发射率复合薄膜及制备方法 | |
CN108998789B (zh) | 一种表面包覆Mn-Co尖晶石涂层的合金连接体及其制备方法 | |
CN113981381B (zh) | 一种火灾低空飞行救援无人机机身轻质材料表面涂层及其制备方法 | |
US3496011A (en) | Method of coating thermally emissive surface with a composite radiation control coating and resulting article | |
JPH06256926A (ja) | 遮熱コーティング膜 | |
CN111793781A (zh) | 一种三元硼化物金属陶瓷太阳能选择性吸收复合涂层及其制备方法 | |
CN112341000A (zh) | 基于激光熔覆方法的炭/炭复合材料SiC涂层修复用改性玻璃材料及制备和使用方法 | |
AU2021103558A4 (en) | Extended combustion resistant long-life titanium fire protective coating and preparation method thereof | |
CN111072279A (zh) | 一种镀膜玻璃的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |