CN112014919B - 一种显示面板、其制作方法及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板、其制作方法及显示装置，该显示面板，包括：导光板，阵列基板，位于导光板与阵列基板之间的液晶层，位于导光板的出光面一侧的多个取光光栅，以及位于取光光栅所在膜层与导光板之间的透明的保护层；导光板，包括：多个取光口区域，以及除取光口区域以外的透明区域；在每一个取光口区域设有一个取光光栅；至少在透明区域设有用于防止过刻的保护层。通过在取光光栅所在膜层与导光板之间设置保护层，在采用刻蚀工艺形成图形化的取光光栅的过程中，保护层会对导光板起到保护作用，从而可以避免导光板被刻蚀而导致的光能损失，提高显示的对比度，而且，由于保护层为透明的，不会对显示面板的正常出光产生影响。

Description

一种显示面板、其制作方法及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤指一种显示面板、其制作方法及显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展，在液晶显示(Liquid Crystal Display，简称LCD)技术中出现了一种新型的显示装置，该显示装置的背光模组通过取光光栅将导光板中的光线取出，从而为显示面板提供背光源。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板、其制作方法及显示装置，用以解决现有技术中存在的显示装置的对比度较低的问题。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：导光板，与所述导光板相对设置的阵列基板，位于所述导光板与所述阵列基板之间的液晶层，位于所述导光板的出光面一侧的多个取光光栅，以及位于所述取光光栅所在膜层与所述导光板之间的透明的保护层；
所述导光板，包括：多个取光口区域，以及除各所述取光口区域以外的透明区域；
在每一个所述取光口区域设有一个所述取光光栅，所述取光光栅用于将所述导光板内的光线取出；所述透明区域用于使所述导光板内的光线全反射传输；
至少在所述透明区域设有用于防止过刻的所述保护层。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，所述保护层为刻蚀阻挡层，所述刻蚀阻挡层的刻蚀选择比大于所述取光光栅的刻蚀选择比。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，还包括：覆盖各所述取光光栅和所述取光光栅之外的区域的平坦层，所述平坦层为树脂层；
所述保护层的折射率大于所述导光板的折射率；所述平坦层的折射率小于所述导光板的折射率。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，所述保护层的厚度在0～400nm的范围内。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，所述保护层的厚度在0～60nm的范围内。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，所述保护层为树脂层；还包括：覆盖各所述取光光栅和各所述取光光栅之外的区域的平坦层；
所述平坦层的折射率小于所述导光板的折射率；
所述保护层的折射率与所述平坦层的折射率相同。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，所述保护层的材料与所述平坦层的材料相同。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，所述保护层的折射率在1.2～1.3的范围内。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，所述保护层的厚度在0～10nm的范围内。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，还包括：遮光层；
所述遮光层位于所述阵列基板上靠近所述液晶层的一侧；
所述遮光层，包括：多个遮光单元；
所述遮光单元与所述取光光栅一一对应，用于在所述液晶层未施加电压时遮挡所述取光光栅在出光面出射的光线。
第二方面，本发明实施例提供了一种上述显示面板的制作方法，包括：
提供一导光板；所述导光板，包括：多个取光口区域，以及除各所述取光口区域以外的透明区域；
在导光板的出光面一侧形成一层至少覆盖所述透明区域的保护层；
在所述保护层背离所述导光板的一面的所述取光口区域和所述透明区域形成光栅膜层；
对所述光栅膜层进行图形化，去除位于所述透明区域的所述光栅膜层，保留仅位于所述取光口区域的所述光栅膜层作为取光光栅。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述保护层为刻蚀阻挡层；
所述在导光板的出光面一侧形成一层至少覆盖所述透明区域的保护层，包括：
采用刻蚀选择比大于所述取光光栅的材料，在所述导光板的出光面一侧形成至少覆盖所述透明区域的刻蚀阻挡层；
在所述保护层背离所述导光板的一面的所述取光口区域和所述透明区域形成光栅膜层，包括：
在所述刻蚀阻挡层背离所述导光板的一面的所述取光口区域和所述透明区域形成光栅膜层；
对所述光栅膜层进行图形化，去除位于所述透明区域的所述光栅膜层，保留仅位于所述取光口区域的所述光栅膜层作为取光光栅，包括：
采用掩膜版遮挡位于取光口区域的所述光栅膜层，采用刻蚀工艺去除位于所述透明区域的所述光栅膜层；
在所述对所述光栅膜层进行图形化之后，还包括：
采用树脂材料，形成覆盖所述透明区域的所述刻蚀阻挡层和各取光光栅的平坦层。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述保护层为树脂层；
所述在导光板的出光面一侧形成一层至少覆盖所述透明区域的保护层，包括：
采用树脂材料，在所述导光板的出光面一侧形成一层至少覆盖所述透明区域的树脂层；
所述在所述保护层背离所述导光板的一面的所述取光口区域和所述透明区域形成光栅膜层，包括：
在所述树脂层背离所述导光板的一面的所述取光口区域和所述透明区域形成光栅膜层；
所述对所述光栅膜层进行图形化，去除位于所述透明区域的所述光栅膜层，保留仅位于所述取光口区域的所述光栅膜层作为取光光栅，包括：
采用掩膜版遮挡位于取光口的所述光栅膜层，采用刻蚀工艺去除位于所述透明区域的所述光栅膜层，并在刻蚀工艺过程中在所述树脂层的表面形成多个凹槽；
在所述对所述光栅膜层进行图形化之后，还包括：
采用与所述树脂层折射率相同的材料，在所述取光光栅背离所述导光板的一侧形成平坦层，以填充各所述凹槽。
第三方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括：上述显示面板。
本发明有益效果如下：
本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置，该显示面板，包括：导光板，与导光板相对设置的阵列基板，位于导光板与阵列基板之间的液晶层，位于导光板的出光面一侧的多个取光光栅，以及位于取光光栅所在膜层与导光板之间的透明的保护层；导光板，包括：多个取光口区域，以及除各取光口区域外的透明区域；在每一个取光口区域设有一个取光光栅，取光光栅用于将导光板内的光线取出；透明区域用于使导光板内的光线全反射传输；至少在透明区域设有用于防止光刻的保护层。本发明实施例提供的显示面板中，通过在取光光栅所在膜层与导光板之间设置保护层，在采用刻蚀工艺形成图形化的取光光栅的过程中，保护层会对导光板起到保护作用，从而可以避免导光板被刻蚀而导致的光能损失，提高显示的对比度，而且，由于保护层为透明的，不会对显示面板的正常出光产生影响。
附图说明
图1a和图1b为一种取光光栅制作过程中对应的显示面板的局部示意图；
图1c为显示对比度CR与凹坑T的刻蚀深度h的关系曲线示意图；
图2a为本发明实施例提供的显示面板的示意图之一；
图2b为本发明实施例提供的显示面板的示意图之二；
图3为本发明实施例提供的显示面板的示意图之三；
图4为显示面板的亮度变化比例与保护层203a的厚度H1的关系曲线示意图；
图5为本发明实施例提供的显示面板的示意图之四；
图6为显示面板的亮度变化比例与保护层203b的厚度H2的关系曲线示意图；
图7为本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法流程图；
图8a至图8d为对应于方式一的制作方法中各步骤的结构示意图；
图9a至图9d为对应于方式二的制作方法中各步骤的结构示意图。
具体实施方式
一种取光光栅的制作过程中，是先在导光板101上形成整面的光栅膜层102，如图1a所示，然后采用掩膜版遮挡取光口区域P，通过刻蚀工艺将光栅膜层102位于透明区域Q内的部分刻蚀掉，从而将光栅膜层102图形化，如图1b所示，在取光口区域P中形成取光光栅103。由于光栅制备工艺原因，在形成光栅膜层102的过程中，或者在光栅膜层102图形化的过程中，不可避免的导致透明区域Q内的导光板101被刻蚀，如图1b所示，在透明区域Q内的导光板101会被刻蚀出多个凹坑T，从而导致导光板101内的部分光线会在透明区域Q处射出，直接导致显示装置的显示对比度降低。
并且，导光板101在透明区域Q被刻蚀出的凹坑T的深度值h越大，显示装置的显示对比度越低，图1c为显示对比度CR与凹坑T的刻蚀深度h的关系曲线，同时参照1c，可以明显看出，凹坑T的深度值h在0～5nm的范围内时，显示对比度CR迅速下降，凹坑T的深度值h超过5nm后，显示对比度CR降低至1左右。因此，导光板101在透明区域Q被刻蚀出的凹坑T对显示对比度CR影响很大。
基于此上述方案存在的显示装置的对比度较低的问题，本发明实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置。
下面结合附图，对本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，图2a为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图，图2b为图2a的局部示意图，如图2a和图2b所示，包括：导光板201，与导光板201相对设置的阵列基板402，位于导光板201与阵列基板402之间的液晶层403，位于导光板201的出光面(图中以上侧为出光面为例)一侧的多个取光光栅202，以及位于取光光栅202所在膜层与导光板201之间的透明的保护层203；
导光板201，包括：多个取光口区域P，以及除各取光口区域P以外的透明区域Q；
在每一个取光口区域P设有一个取光光栅202，取光光栅202用于将导光板201内的光线取出；透明区域Q用于使导光板内的光线全反射传输；
至少在透明区域Q设有用于防止过刻的保护层203。
本发明实施例提供的显示面板中，通过在取光光栅所在膜层与导光板之间设置保护层，在采用刻蚀工艺形成图形(pattern)化的取光光栅的过程中，保护层会对导光板起到保护作用，从而可以避免导光板被刻蚀而导致的光能损失，提高显示的对比度，而且，由于保护层为透明的，不会对显示面板的正常出光产生影响。
在具体实施时，还可以在导光板201的侧面(相对于朝向阵列基板的出光面的端面)设置光源205，光源205可以为导光板201提供一定角度的光线。具体地，光源205可以为单色发光二极管(Light Emitting Diode，LED)，为了使光源205具有较高的准直度，可以采用尺寸较小的LED，例如可以采用micro-LED或micro-OLED，或者也可以采用激光光源，此处不对光源的类型进行限定。在导光板201的侧面处还可以设置反射罩206，且该反射罩206设置于对应于光源205的位置处，反射罩206可以将光源205出射的光线耦合到导光板201内。
导光板201为全反射传导结构，满足全反射条件的光线可以在导光板201内全反射传播，可以通过设置光源205向导光板201提供的光线的入射角度，使射入到导光板201的大部分光线能够满足全反射条件。此外，为了保证显示面板的透光率，需要导光板201具有较高的透明度，而且，为了防止光线被散射或者吸收，需要导光板201具有较低的雾度，同时还需要保证导光板201上下表面的平整度，例如导光板可以采用玻璃材料制作。
通过在导光板201的出光面一侧设置取光光栅202，导光板201内全反射传播的光线射向取光光栅202时，能够在取光光栅202处以特定角度衍射取出，光线在除取光口区域P以外的区域(即透明区域Q)内，仍能够全反射传输。多个取光光栅202分别位于各取光口区域P的位置处，且多个取光光栅202呈点阵排布，从而在导光板201的出光面一侧以点阵形式出光。在具体实施时，可以通过设置取光光栅202的光学参数来调节在取光口区域P处出射的光线的出射角度，例如可以通过设置取光光栅202的光栅参数，使光线在取光光栅202处准直出射。具体地，取光光栅202可以采用透明材料制作，例如可以采用折射率较高的材料。
在本发明实施例中，通过在取光光栅202所在膜层与导光板201之间设置保护层203，从而可以避免导光板201在刻蚀工艺过程中被刻蚀，至少在透明区域Q内设有用于防止过刻的保护层203，在具体实施时，在不影响取光口区域P的取光性能的情况下，也可以将保护层203制作为整层设置，从而节省对保护层203进行图形化的工艺，节约成本，在本发明实施例中均以保护层203为整层设置为例进行说明。具体地，保护层203可以采用多种方式实现，只要能够保护导光板201不被刻蚀即可。
以下结合附图，对其中两种方式进行详细说明。
方式一：
在图3中以203a表示方式一中的保护层。如图3所示，保护层203a为刻蚀阻挡层，刻蚀阻挡层的刻蚀选择比大于取光光栅202的刻蚀选择比。刻蚀选择比表示在同一刻蚀条件下一种材料与另一种材料相对刻蚀速率快慢，某种材料的刻蚀选择比越高，表示该材料越不容易被刻蚀。因而，采用相对于取光光栅202具有高刻蚀选择比的刻蚀阻挡层，可以在刻蚀过程中，刻蚀阻挡层相比于取光光栅202更不容易被刻蚀，从而起到防止过刻的作用，避免导光板201的透明区域Q被刻蚀，充分保证位于透明区域Q的导光板201的锁光能力。为了保证刻蚀阻挡层不被刻蚀，可以将刻蚀阻挡层的刻蚀选择比设置为远大于取光光栅202的刻蚀选择比，例如取光光栅202可以采用氮化硅(SiNx)材料，刻蚀阻挡层可以采用氧化铟锡(Indium tin oxide，ITO)，铟镓锌氧化物(indium gallium zinc oxide，IGZO)等材料。
可选地，本发明实施例提供的上述显示面板中，如图3所示，还可以包括：覆盖各取光光栅202和取光光栅202之外的区域的平坦层204，平坦层204为树脂层；
保护层203a的折射率大于导光板201的折射率；平坦层204的折射率小于导光板201的折射率。
采用具有高刻蚀选择比的高折射率材料作为保护层203a，能够进一步保证保护层203a不被刻蚀。此外，平坦层204的折射率小于导光板201的折射率，能够保证从导光板201向外传输的光线能够满足光密到光疏的全反射传输条件，使光线能够在保护层203a与平坦层204之间的界面处发生全反射。
在具体实施时，为了不影响显示面板的取光效果，保护层203a可以采用透明材料，例如可以为氧化铟锡(Indium tin oxide，ITO)等透明金属氧化物材料。
具体地，平坦层204位于取光光栅202背离导光板201的一侧，可以覆盖各取光光栅202，并填充除各取光光栅202以外的区域，可以填充各透明区域Q，以及取光口区域P内取光光栅202的透光区域，从而实现对取光光栅202所在膜层的平坦化。
在具体实施时，为了不影响显示面板的取光效果，保护层203a的厚度不能太大，保护层203a的厚度可以在0～400nm的范围内。
图4为显示面板的亮度变化比例与保护层203a的厚度H1的关系曲线，从图4可以明显看出，不同厚度的保护层203a对取光口区域的取光效果的影响，具体地，保护层203a的厚度可以在0～60nm范围内，对取光口区域的亮度没有影响，且保护层203a的厚度大于60nm时，取光口区域的亮度下降程度较小，从而证明了方案一的可行性，即通过在导光板201与取光光栅202所在膜层之间设置保护层203a，可以在不影响取光效果的基础上，对导光板201起到保护作用，使非取光口区域Q的导光板201不被刻蚀。
方式二：
为了与方式一中的保护层进行区分，在图5中以203b表示方式二中的保护层。如图5所示，本发明实施例提供的上述显示面板中，保护层203b为树脂层；上述显示面板，还可以包括：覆盖各取光光栅202和取光光栅202之外的区域的平坦层204；
平坦层204的折射率小于导光板201的折射率；
保护层203b的折射率与平坦层204的折射率相同。
平坦层204的折射率小于导光板201的折射率，能够保证从导光板201向外传输的光线能够满足光密到光疏的全反射传输条件。而且，平坦层204位于取光光栅202背离导光板201的一侧，可以覆盖各取光光栅202，并填充除各取光光栅202以外的区域，可以填充各透明区域Q，以及取光口区域P内取光光栅202的透光区域，从而实现对取光光栅202所在膜层的平坦化。
采用与平坦层204折射率相同的保护层203b，采用刻蚀工艺形成各取光光栅202后，位于透明区域Q的保护层203b可能被刻蚀出一些凹槽，在形成平坦层204时，平坦层204填充保护层203b上的凹槽，使保护层203b的表面再次平坦，从而保证透明区域Q的锁光能力。
具体地，保护层203b的材料与平坦层204的材料可以相同。此外，保护层203b可以与平坦层204折射率相同且材料不同，例如保护层203b和平坦层204可以采用有机硅氧烷等有机材料，此处不对保护层203b的材料进行限定。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示面板中，保护层203b的折射率可以在1.2～1.3的范围内，导光板201的折射率可以在1.5～2.0的范围内。
为了保证取光口区域P处的取光亮度不降低，保证显示面板的整体出光亮度，导光板201与取光光栅202所在膜层之间的保护层203b需要很薄，具体地，保护层203b的厚度在0～10nm的范围内。
但是，由于保护层203b小于10nm，位于透明区域Q的导光板201与保护层203b之间的界面不具备锁光能力，导光板201内的光线可能会在透明区域Q射出，因此，需要在保护层203b之上形成与保护层203b折射率相同的平坦层204，平坦层204的厚度需大于1μm，以使位于透明区域Q的导光板201与保护层203b之间的界面具备锁光能力，在透明区域Q，光线在导光板201与保护层203b之间的界面处发生全反射而无法射出。因此，方式二中的保护层203b能够在保证取光口区域P的取光亮度，并且能够保证在透明区域的锁光能力的基础上，对导光板201起保护作用，避免导光板201在刻蚀过程中被刻蚀。
图6为显示面板的亮度变化比例与保护层203b的厚度H2的关系曲线，从图6可以明显看出，不同厚度的保护层203b对取光口区域的取光效果的影响，具体地，保护层203b的厚度小于10nm的范围内，取光口区域的亮度变化小于10％，因此，可以证明保护层203b对取光口区域的取光效果的影响较小，从而证明了方式二中保护层203b的可行性。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示面板中，如图2a所示，还包括：遮光层404；
遮光层404位于阵列基板402上靠近液晶层403的一侧；
遮光层404，包括：多个遮光单元4041；
遮光单元4041与取光光栅202一一对应，用于在液晶层403未施加电压时遮挡取光光栅202在出光面出射的光线。
参照图2a，在液晶层403未施加电压时，液晶层403对光线没有偏折作用，射向液晶层403的光线能够沿着原来的方向传输，因而在液晶层403未施加电压时，各取光光栅202出射的光线直接射向对应的遮光单元4041上，光线会被遮光单元4041吸收而无法射出，例如图中左侧和中间的取光光栅202，从而实现零灰阶L0的完全暗态。为了使显示装置的正前方具有足够的亮度，一般会将取光光栅202设置为出射准直光线，为了保证遮光单元4041能够遮挡对应的取光光栅202出射的光线，遮光单元4041在导光板201上的正投影应该能够覆盖取光光栅202的出光口在导光板201上的正投影。
向液晶层403施加驱动电压后，液晶层403中的液晶发生偏转，形成液晶光栅，液晶光栅能够将取光光栅202出射的光线打散，从而使光线能够偏离遮光单元4041而射出，从而实现亮态，如图中右侧的取光光栅202处为灰阶L255的亮态，根据驱动电压的不同，液晶光栅的光效不同，从而使偏离处遮光单元4041的光的能量不同，实现灰阶调制显示。
在具体实施时，可以通过设置像素电极层和公共电极层来向液晶层施加驱动电压，如图2a所示，可以采用高级超维场转换(Advanced Super Dimension Switch，ADS)模式，将像素电极层和公共电极层(如图中电极层401中颜色较深的两层膜层)设置在液晶层403的同一侧，利用边缘场效应实现对液晶光栅的控制，此外，也可以采用其他驱动模式，将像素电极层和公共电极层设置在液晶层的两侧，此处不做限定。另外，为了减小显示装置的厚度，可以直接在平坦层204之上形成像素电极层和公共电极层等膜层。
具体地，为了提高光效，上述液晶层可以采用高折射率差(△n)的液晶构成。上述对向基板402可以采用透明度较高的玻璃基板，要求表面平整性较好。
第二方面，基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种上述显示面板的制作方法。由于该制作方法解决问题的原理与上述显示面板相似，因此该制作方法的实施可以参见上述显示面板的实施，重复之处不再赘述。
如图7所示，本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法，包括：
S300、提供一导光板；导光板，包括：多个取光区域，以及除各取光区域以外的透明区域；
S301、在导光板的出光面一侧形成一层至少覆盖透明区域的保护层；
S302、在保护层背离导光板的一面的取光区域和透明区域形成光栅膜层；
S303、对光栅膜层进行图形化，去除位于透明区域的光栅膜层，保留位于取光区域的光栅膜层作为取光光栅。
本发明实施例提供的上述制作方法中，在对光栅膜层进行图形化之前，在导光板的出光面一侧形成了一层保护层，因而，在对光栅膜层进行图形化的过程中，保护层会对导光板各区域起到保护作用，从而可以避免导光板被刻蚀而导致的光能损失，提高显示的对比度，而且，由于保护层为透明的，不会对显示面板的正常出光产生影响。
以下结合附图，对上述方式一对应的制作方法进行详细说明，也就是对保护层为刻蚀阻挡层对应的制作方法进行说明。
如图8a所示，上述步骤S301，可以包括：采用刻蚀选择比大于取光光栅的材料，在导光板201的出光面一侧形成至少覆盖透明区域的刻蚀阻挡层203a。
如图8b所示，上述步骤S302，可以包括：在刻蚀阻挡层203a背离导光板201的一面的取光区域和透明区域形成光栅膜层202′。具体地，可以采用纳米压印、刻蚀等多步工艺制作光栅膜层，在制作光栅膜层202′的过程中，由于保护层203a的刻蚀选择比较高，保护层203a不容易被刻蚀，从而可以保持保护层203a的表面平整性较好。
如图8c所示，上述步骤S303，可以包括：采用掩膜版M遮挡位于取光口区域P的光栅膜层202′，采用刻蚀工艺去除位于透明区域Q中的光栅膜层202′。由于保护层203a的刻蚀选择比较高，且保护层203a的折射率较高，在刻蚀过程中保护层203a的表面不容易被刻蚀，从而得到如图8d所示的结构，由于保护层203a的保护作用，使导光板201不会被刻蚀，而且保护层203a在刻蚀过程中也不容易被刻蚀，因而可以使导光板201和保护层203a的表面的平整度较高，光学效果较好。
在上述步骤S303之后，上述制作方法还可以包括：采用树脂材料，形成覆盖透明区域的刻蚀阻挡层和各取光光栅202的平坦层204，即可得到如图3所示的结构。
以下结合附图，对上述方式一对应的制作方法进行详细说明，也就是对保护层为树脂层对应的制作方法进行说明。
如图9a所示，上述步骤S301，可以包括：采用树脂材料，在导光板201的出光面一侧形成一层至少覆盖透明区域的树脂层203b。
如图9b所示，上述步骤S302，可以包括：在树脂层203b背离导光板201的一面的取光区域和透明区域形成光栅膜层202′。具体地，可以采用纳米压印、刻蚀等多步工艺制作光栅膜层，在制作光栅膜层202′的过程中，在光栅膜层202′的光栅条纹之间的间隙处的保护层203b可能会被刻蚀。
如图9c所示，上述步骤S303，可以包括：采用掩膜版M遮挡位于取光区域P的光栅膜层202′，采用刻蚀工艺去除位于透明区域Q的光栅膜层202′，并在树脂层203b的表面形成多个凹槽。如图9d所示，在刻蚀过程中，保护层203b的表面容易被刻蚀，从而在保护层203b的表面形成了多个凹槽U。
在上述步骤S303之后，上述制作方法，还可以包括：
采用与树脂层203b折射率相同的材料，在取光光栅202背离导光板201的一侧形成平坦层204，以填充各凹槽U，以得到如图5所示的结构。
由于平坦层204能够填充保护层203b上的凹槽U，使保护层203b的表面再次平坦，从而保证透明区域Q的锁光能力。此外，为了保证取光口区域P的取光亮度不降低，保护层203需要很薄，但由于保护层203b很薄，又会使透明区域Q的锁光能力较弱，因此，后续形成与保护层203b折射率相同的平坦层204，一方面能够起到平坦化的作用，另一方面还能够提高透明区域Q的导光板201与保护层203b之间的界面具备锁光能力，保证导光板201内的光线无法在透明区域Q射出。
第三方面，基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置可以应用于手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。此外，还可以应用虚拟现实(Virtual Reality，VR)显示、增强现实(Augmented Reality，AR)显示、透明显示、指向式显示以及彩色化显示等领域中。由于该显示装置解决问题的原理与上述显示面板相似，因此该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置中，通过在取光光栅所在膜层与导光板之间设置保护层，在采用刻蚀工艺形成图形化的取光光栅的过程中，保护层会对导光板起到保护作用，从而可以避免导光板被刻蚀而导致的光能损失，提高显示的对比度，而且，由于保护层为透明的，不会对显示面板的正常出光产生影响。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (11)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：导光板，与所述导光板相对设置的阵列基板，位于所述导光板与所述阵列基板之间的液晶层，位于所述导光板的出光面一侧的多个取光光栅，以及位于所述取光光栅所在膜层与所述导光板之间的透明的保护层；
所述导光板，包括：多个取光口区域，以及除各所述取光口区域以外的透明区域；
在每一个所述取光口区域设有一个所述取光光栅，所述取光光栅用于将所述导光板内的光线取出；所述透明区域用于使所述导光板内的光线全反射传输；
至少在所述透明区域设有用于防止过刻的所述保护层；
所述保护层为刻蚀阻挡层，所述刻蚀阻挡层的刻蚀选择比大于所述取光光栅的刻蚀选择比；所述显示面板还包括：覆盖各所述取光光栅和所述取光光栅之外的区域的平坦层，所述平坦层为树脂层；所述保护层的折射率大于所述导光板的折射率；所述平坦层的折射率小于所述导光板的折射率；
或者，所述保护层为树脂层；所述显示面板还包括：覆盖各所述取光光栅和各所述取光光栅之外的区域的平坦层；所述平坦层的折射率小于所述导光板的折射率；所述保护层的折射率与所述平坦层的折射率相同。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述保护层为刻蚀阻挡层时，所述保护层的厚度在0～400nm的范围内。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述保护层的厚度在0～60nm的范围内。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述保护层为树脂层时，所述保护层的材料与所述平坦层的材料相同。
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述保护层为树脂层时，所述保护层的折射率在1.2～1.3的范围内。
6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述保护层为树脂层时，所述保护层的厚度在0～10nm的范围内。
7.如权利要求1～6任一项所述的显示面板，其特征在于，还包括：遮光层；
所述遮光层位于所述阵列基板上靠近所述液晶层的一侧；
所述遮光层，包括：多个遮光单元；
所述遮光单元与所述取光光栅一一对应，用于在所述液晶层未施加电压时遮挡所述取光光栅在出光面出射的光线。
8.一种如权利要求1～7任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一导光板；所述导光板，包括：多个取光口区域，以及除各所述取光口区域以外的透明区域；
在导光板的出光面一侧形成一层至少覆盖所述透明区域的保护层；
在所述保护层背离所述导光板的一面的所述取光口区域和所述透明区域形成光栅膜层；
对所述光栅膜层进行图形化，去除位于所述透明区域的所述光栅膜层，保留仅位于所述取光口区域的所述光栅膜层作为取光光栅。
9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述保护层为刻蚀阻挡层；
所述在导光板的出光面一侧形成一层至少覆盖所述透明区域的保护层，包括：
采用刻蚀选择比大于所述取光光栅的材料，在所述导光板的出光面一侧形成至少覆盖所述透明区域的刻蚀阻挡层；
在所述保护层背离所述导光板的一面的所述取光口区域和所述透明区域形成光栅膜层，包括：
在所述刻蚀阻挡层背离所述导光板的一面的所述取光口区域和所述透明区域形成光栅膜层；
对所述光栅膜层进行图形化，去除位于所述透明区域的所述光栅膜层，保留仅位于所述取光口区域的所述光栅膜层作为取光光栅，包括：
采用掩膜版遮挡位于取光口区域的所述光栅膜层，采用刻蚀工艺去除位于所述透明区域的所述光栅膜层；
在所述对所述光栅膜层进行图形化之后，还包括：
采用树脂材料，形成覆盖所述透明区域的所述刻蚀阻挡层和各取光光栅的平坦层。
10.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述保护层为树脂层；
所述在导光板的出光面一侧形成一层至少覆盖所述透明区域的保护层，包括：
采用树脂材料，在所述导光板的出光面一侧形成一层至少覆盖所述透明区域的树脂层；
所述在所述保护层背离所述导光板的一面的所述取光口区域和所述透明区域形成光栅膜层，包括：
在所述树脂层背离所述导光板的一面的所述取光口区域和所述透明区域形成光栅膜层；
所述对所述光栅膜层进行图形化，去除位于所述透明区域的所述光栅膜层，保留仅位于所述取光口区域的所述光栅膜层作为取光光栅，包括：
采用掩膜版遮挡位于取光口的所述光栅膜层，采用刻蚀工艺去除位于所述透明区域的所述光栅膜层，并在刻蚀工艺过程中在所述树脂层的表面形成多个凹槽；
在所述对所述光栅膜层进行图形化之后，还包括：
采用与所述树脂层折射率相同的材料，在所述取光光栅背离所述导光板的一侧形成平坦层，以填充各所述凹槽。
11.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1～7任一项所述的显示面板。
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