CN112004303A - 智能等离子装备及其控制方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种智能等离子装备及其控制方法,一种智能等离子装备的控制方法包括:智能等离子装备按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射;获取对待处理物体表面进行等离子发射后形成的图形轨迹;当图形轨迹与预设图形轨迹匹配时,则关闭等离子发射组件;当图形轨迹与预设图形轨迹不匹配时,则筛选出图形轨迹中不匹配轨迹,并重新对不匹配轨迹进行等离子发射。上述方案用于提高经智能等离子装备等离子处理后的产品的合格率。
Description
技术领域
本发明涉及等离子发射器的技术领域,特别涉及智能等离子装备及其控制方法。
背景技术
智能等离子装备的主要工作原理是将低电压通过升压电路升至正高压及负高压,利用正高压及负高压电离空气(主要是氧气)产生大量的正离子及等离子,等离子的数量大于正离子的数量(等离子的数量大约为正离子数量的1.5 倍)。
现有智能等离子装备一般分为冷等离子和热等离子,热等离子通常用于等离子发射、等离子焊接;而冷等离子一般用于表面清洗、医疗美容、化学催化等领域。当智能等离子装备用于需要等离子处理的场合时,容易因为处理路径的差异化导致经智能等离子装备处理后的产品合格率较低。
发明内容
本发明的主要目的是提出一种智能等离子装备,旨在提高经智能等离子装备等离子处理后的产品的合格率。
为实现上述目的,本发明提出一种智能等离子装备的控制方法,所述智能等离子装备的控制方法包括:
智能等离子装备按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射;
获取对待处理物体表面进行等离子发射后形成的图形轨迹;
当所述图形轨迹与预设图形轨迹匹配时,则关闭等离子发射组件;
当所述图形轨迹与预设图形轨迹不匹配时,则筛选出所述图形轨迹中不匹配轨迹,并重新对不匹配轨迹进行等离子发射。
可选地,所述获取对待处理物体表面进行等离子发射后的图形轨迹的步骤包括:
获取对待处理物体表面的多个位置进行等离子发射后形成的对应的多个图形区域,以及在每个位置停留的时间建立所述图形轨迹。
可选地,在所述获取实时处理轨迹图的步骤之前还包括:
等离子设备获取其出射孔与待处理物体表面的实时距离;
获取待处理物体表面的粗糙度;
根据等离子设备的出射孔与待处理物体表面的实时距离以及待处理物体表面的粗糙度建立所述预设图形轨迹。
可选地,所述预设图形轨迹包括运动轨迹和图像灰度,所述图像灰度为等离子设备对当前图像区域进行等离子发射的发射时间,所述发射时间与所述实时距离呈正比。
可选地,所述智能等离子装备按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射时,所述方法还包括步骤:
获取对待处理物体表面的多个位置进行等离子发射时等离子流体的温度,并实时显示;
在智能等离子装备按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射后,根据获取的多个温度对应所述图形轨迹建立等离子流体的温度分布图。
可选地,所述图形轨迹包括运动轨迹和图像灰度。
可选地,所述智能等离子装备的控制方法还包括:
建立图形轨迹中运动轨迹和图像灰度的权重值模型;
根据所述权重值模型确定所述运动轨迹和所述图像灰度的加权平均数值,当所述加权平均数值达到预设加权平均数值时,确定所述图形轨迹与预设图形轨迹匹配;
当所述加权平均数值未达到预设加权平均数值时,确定所述图形轨迹与预设图形轨迹不匹配。
本发明还提出一种智能等离子装备,所述智能等离子装备包括:
存储器;
处理器,存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的智能等离子装备的控制程序,所述智能等离子装备的控制程序被所述处理器执行时实现如上所述的智能等离子装备的控制方法的步骤,并输出第一控制信号和第二控制信号;
第一壳体,具有进气口、等离子发射口和与所述等离子发射口连通的第一通道;
物质源动力组件,具有用于进气的进气口,设于所述第一壳体,用于根据所述第二控制信号驱动所述第一通道内的气体以第一预设速度值向所述等离子发射口运动;
等离子发射组件,设于所述第一壳体,并与所述处理器电连接,用于根据所述第一控制信号电离所述第一通道内的气体并使得所述气体以第二预设速度值运动;
电离后的所述气体以所述第二预设速度值从所述等离子发射口释放。
可选地,所述物质源动力组件包括风机,所述风机设于所述第一壳体中,用于将所述第一通道内的气体流速提升至到第三预设速度值。
可选地,
可选地,所述风机为扇叶风机,所述扇叶风机设于所述第一通道内;或者
所述风机为无叶风机,所述无叶风机设于所述第一通道内。
可选地,所述物质源动力组件还包括气体引射器,设于所述第一壳体中,用于用于连通所述进气口与所述第一通道,并将所述第一通道内的气体流速提升至到第四预设速度值。
可选地,所述气体引射器包括:
第二壳体,具有喷嘴、吸入腔、稳定腔以及扩散腔;所述喷嘴、吸入腔、稳定腔、扩散腔以及所述等离子发射口依次连通;
所述喷嘴,用于将气体直径缩小至第一直径数值并赋予气体初始速度;
所述吸入腔,用于供气体进入;
所述稳定腔,用于限定气体的输入输出方向;
所述扩散腔,用于将所述气体输出并将具有初始速度的所述气体的以第二直径数值输出。
可选地,所述等离子发射组件包括电源模块和发射器,所述发射器与所述电源模块连接;
所述发射器,用于在所述述电源模块提供工作电源时工作,并电离气体。
可选地,所述发射器为裸露平板电极、裸露同轴电极、DBD平板电极、 DBD同轴电极中的一种或者多种。
可选地,所述电源为交流电源、低频电源、高频(射频)电源、微波电源中的一种或者多种。
可选地,所述第一壳体可以为直筒壳体、圆弧壳体、折角壳体、手枪壳体中的任一种。
可选地,所述智能等离子装备还包括可拆卸风嘴,所述可拆卸风嘴与所述第一壳体可拆卸连接。
本发明的技术方案智能等离子装备的控制方法包括:首先,智能等离子装备按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射,随后,获取对待处理物体表面进行等离子发射后形成的图形轨迹。当所述图形轨迹与预设图形轨迹匹配时,则关闭等离子发射组件。当所述图形轨迹与预设图形轨迹不匹配时,则筛选出所述图形轨迹中不匹配轨迹,并重新对不匹配轨迹进行等离子发射。本申请的技术方案通过实时获取等离子对待处理物体表面进行等离子发射后形成的图形轨迹,将其与预设图形轨迹匹配判断是否合格,在不合格时筛选出不合格的轨迹再次进行等离子发射,从而可以提高经智能等离子装备等离子处理后的产品的合格率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明智能等离子装备的控制方法一实施例的流程示意图;
图2为本发明智能等离子装备一实施例的结构示意图;
图3为本发明智能等离子装备的控制方法一实施例的流程示意图;
图4为本发明智能等离子装备的控制方法一实施例的流程示意图;
图5为本发明智能等离子装备一实施例的结构示意图;
图6为本发明智能等离子装备一实施例的结构示意图;
图7为本发明智能等离子装备一实施例的结构示意图;
图8为本发明智能等离子装备的可拆卸风嘴一实施例的结构示意图;
图9为本发明智能等离子装备的可拆卸风嘴一实施例的结构示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,若本发明实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述,则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。
本发明提出一种智能等离子装备的控制方法,旨在提高经智能等离子装备等离子处理后的产品的合格率。
在一实施例中,如图1所示,智能等离子装备的控制方法包括:
S1、智能等离子装备按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射;
其中,智能等离子装备可应用于多种应用场合,小型的为手持式设备,大型的为工厂设备,而在应用的过程中,手持式设备处理待处理物体表面的过程虽然可以由使用者控制更改等离子的大小以及对应待处理物体表面,但是其效果由处理的人不同所造成的差异化处理结果非常大,例如,时间的控制、等离子发射位置的控制,对单一物体进行处理,其处理效果由于手持的不稳定性导致处理过程难以控制,若是进行大量物体的处理,则很可能导致难以挽回的经济损失。而工厂的大型设备一般是固定在某一位置进行等离子发射,这样虽然实现了等离子发射位置和等离子发射时间的控制,但是如果产品的等离子发射轨迹如果是不规则形状的话就很难实现精确地控制,从而导致产品的不良率增加,因此,按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射可以实现对等离子发射轨迹的可控。
可选地,智能等离子装备可以预先检测待处理物体表面的表面粗糙度,根据预先检测的表面粗糙度确定预设图形轨迹,通过实时检测待处理物体表面的粗糙度,然后结合其实时处理的时间,则可以建立实时处理的图形轨迹,将两者对比,则可以准确确定智能等离子装备是否按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射,若不是,则可以通过挪动智能等离子装备的实时位置来寻找确定轨迹。
可选地,在智能等离子装备根据预设图形轨迹进行等离子发射时,由于此时的智能等离子装备为手持设备,因此很难去确定轨迹是否预设图形轨迹实现,因此,此处可以增设实时的粗糙度检测,根据粗糙度定位此时智能等离子装备的处理位置,并辅助以语音提醒、亮灯或者震动提醒用户应该拿着手持设备往哪个方向处理待处理设备,从而保证准确的等离子发射处理。因为此时的粗糙度是根据三个维度上的参数具体得出,因此,可以根据其定位待处理物体表面的三维位置,且具备单一性。
可选地,基于小型设备以及工厂的大型设备,如图2所示,可以通过增设辅助架的方式实现,增设活动横轴701以及活动纵轴702,智能等离子装备安装于活动部703上,所述活动部703设有供所述活动横轴701穿过的第一通孔以及供所述活动纵轴702穿过的第二通孔,从而可以使得活动部703的位置上与活动横轴701以及活动纵轴702的交点位置重合,以在通过驱动件分别控制活动横轴以及活动纵轴的运动时,实现活动部703以及智能等离子装备在平面上按照预设轨迹活动,同理,如图3所示,若需实现三维轨迹的等离子发射,只需要在多个面均设置有活动横轴701以及活动纵轴703以实现智能等离子装备按照三维预设轨迹活动,此时可以在每个面均设置有智能等离子装备。
S2、获取对待处理物体表面进行等离子发射后形成的图形轨迹;
其中,由于智能等离子装备的工作状态会因为工作电压、结构以及诸多外部因素的影响,其实时图形轨迹会与预设图形轨迹存在差别,因此需要采集实时的图形轨迹。
S3、当所述图形轨迹与预设图形轨迹匹配时,则关闭等离子发射组件;
S4、当所述图形轨迹与预设图形轨迹不匹配时,则筛选出所述图形轨迹中不匹配轨迹,并重新对不匹配轨迹进行等离子发射。
基于上述实施方案,通过将实时获取等离子对待处理物体表面进行等离子发射后形成的图形轨迹,将其与预设图形轨迹匹配判断是否合格,在不合格时筛选出不合格的轨迹再次进行等离子发射,从而可以在未到达质检步骤之前就可以筛选出由于加工过程的误差存在的不合格产品,对其进行再次加工以使其符合合格要求,从而可以提高经智能等离子装备等离子处理后的产品的合格率,也即提升质检过程中的产品的合格率。
在一实施例中,所述获取对待处理物体表面进行等离子发射后的图形轨迹的步骤包括:
获取对待处理物体表面的多个位置进行等离子发射后形成的对应的多个图形区域,以及在每个位置停留的时间建立所述图形轨迹。
其中,智能等离子装备在对待处理物体表面的多个位置进行等离子发射后会形成的对应的多个图形区域,图形轨迹则是根据这些图形区域以及在每个位置(图形区域)停留的时间建立所述图形轨迹,从而实时获取到实时的图形轨迹。此时建立的图形轨迹由于以实时处理的图形区域以及停留时间做参数,不光可以反映智能等离子装备的运动轨迹,还能反映智能等离子装备对待处理物体的每个图形区域的处理程度。
在一实施例中,如图3所示,在所述获取实时处理轨迹图的步骤之前还包括:
S5、等离子设备获取其出射孔与待处理物体表面的实时距离;
此时可以通过搭载各种测距仪获取实时距离。
S6、获取待处理物体表面的粗糙度;
通过光纤表面粗糙度测量仪获得待处理物体表面的粗糙度。
S7、根据等离子设备的出射孔与待处理物体表面的实时距离以及待处理物体表面的粗糙度建立所述预设图形轨迹。
可选地,所述预设图形轨迹包括运动轨迹和图像灰度,所述图像灰度为等离子设备对当前图像区域进行等离子发射的发射时间,所述发射时间与所述实时距离呈正比。
在智能等离子装备使用过程中,等离子设备会一直检测出射孔与待处理物体表面的实时距离,根据实时距离实时调整图形轨迹中的图像灰度,以保证对待处理物体表面进行等离子发射的效果不会因为实际变化的实时距离而影响,以进一步提升等离子设备的处理效果。
在一实施例中,所述智能等离子装备按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射时,所述方法还包括步骤:
获取对待处理物体表面的多个位置进行等离子发射时等离子流体的温度,并实时显示;
在智能等离子装备按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射后,根据获取的多个温度对应所述图形轨迹建立等离子流体的温度分布图。
通过上述过程,可以实时显示智能等离子装备的等离子发射状态,方便用户或者智能等离子装备调整预设图形轨迹以实现更好的等离子发射效果。
在一实施例中,所述图形轨迹包括运动轨迹和图像灰度。
其中,运动轨迹为多个图形区域组成,图像灰度为智能等离子装备在对应的图形区域停留的时间,时间越长,灰度越高,或者是时间越短,灰度越高,从而可以直观的反映智能等离子装备对待处理物体的处理区域以及处理程度。
在一实施例中,如图4所示,所述智能等离子装备的控制方法还包括:
S8、建立图形轨迹中运动轨迹和图像灰度的权重值模型;
其中,运动轨迹的权重值用第一预设权重值A表示,图像灰度的权重值用B表示,具体的值可在实际应用中根据实验测得值确定。
S9、根据所述权重值模型确定所述运动轨迹和所述图像灰度的加权平均数值,当所述加权平均数值达到预设加权平均数值时,确定所述图形轨迹与预设图形轨迹匹配;
将加权平均数值记为Z,运动轨迹符合程度记为X,图像灰度符合程度记为Y,则Z=(A X+BY)/(A+B)。此时的运动轨迹符合程度以及图像灰度符合程度的判断为将每一区域分成小块后通过计算机匹配轨迹和灰度的图得到。
S10、当所述加权平均数值未达到预设加权平均数值时,确定所述图形轨迹与预设图形轨迹不匹配。
根据上述确定方法,可以更为准确地判定智能等离子装备对待处理物体的处理程度是否符合要求,简单方便,而且更为直观。
在一实施例中,建立图形轨迹中等离子设备的出射孔与待处理物体表面的实时距离和图像灰度的处理程度模型;
其中,等离子设备的出射孔与待处理物体表面的实时距离用d表示,图像灰度用f表示,具体的值可在实际应用中根据实验测得值确定。
根据所述处理程度模型确定实时处理程度值;
将实时处理程度值记为g,g=k1*(f/d2),k1为一固定系数;
值得注意的是,由于在本申请方案中,灰度用来表征处理时间,时间越长,灰度越大,因此,这里可以直接代入处理时间的数值来进行处理程度模型的建立。即此时的图像灰度=处理时长=f。
当所述实时处理程度值达到预设处理程度值时,确定所述图形轨迹与预设图形轨迹匹配;当所述实时处理程度值未达到预设处理程度值时,确定所述图形轨迹与预设图形轨迹不匹配。
其中,预设处理程度值由预设图形轨迹时检测的等离子设备的出射孔与待处理物体表面的距离D以及预设图像灰度F确定。特别得,将预设处理程度值记为G,G=k1*(F/D2);,k1为一固定系数。
K=g/G=(f/d2)/(F/D2)其中,K为匹配程度,其范围为0-1之间的任意数值,其数值越靠近1,则证明所需的匹配程度越高。值得注意的是,由于在本申请方案中,灰度用来表征处理时间,时间越长,灰度越大,因此,这里可以直接代入处理时间的数值来进行处理程度模型的建立。即此时的预设图像灰度=预设处理时长=F。
本发明还提出一种智能等离子装备,如图5、6所示,所述智能等离子装备包括存储器、处理器、第一壳体10、等离子发射组件和物质源动力组件。第一壳体10具有进气口、等离子发射口和与所述等离子发射口401连通的第一通道40。等离子发射组件设于所述第一壳体10,并与所述处理器电连接。物质源动力组件具有用于进气的进气口,设于所述第一壳体10,并与所述处理器电连接。存储器上存储有可在所述处理器上运行的智能等离子装备的控制程序,所述智能等离子装备的控制程序被所述处理器执行时实现上所述的智能等离子装备的控制方法的步骤,并输出第一控制信号和第二控制信号。
其中,等离子发射组件根据所述第一控制信号电离所述第一通道内的气体并使得所述气体以第二预设速度值运动,物质源动力组件驱动所述第一通道内的气体以第一预设速度值向所述等离子发射口运动电离后的所述气体以所述第二预设速度值从所述等离子发射口释放。
上述技术方案中,智能等离子装备通过物质源动力组件以及等离子发射组件提升气体流速,仅仅通过第一壳体、等离子发射组件和物质源动力组件就可以实现等离子气体的产生以及释放,去掉了维持低压环境所需的相关器件,极大程度上减小了智能等离子装备的体积,从而解决智能等离子装备的工作所需条件复杂的技术问题。特别地,还可以使得智能等离子装备的扩散速度经物质源动力组件驱动后显著加快。其中,第一预设速度值以及第二预设速度值根据实际需要进行选择设置。
值得注意的是,因为本发明智能等离子装备包含了上述智能等离子装备的控制方法的全部实施例,因此本发明智能等离子装备具有上述智能等离子装备的控制方法的所有有益效果,此处不再赘述。
可选地,第二预设速度值大于或等于第一预设速度值,通过上述速度值,可以最大程度上提升第一通道102内气体的速度。
在一实施例中,如图5、6所示,物质源动力组件包括风机2021,风机 2021设于第一壳体10中,风机2021产生气流,将第一通道102内的气体流速提升至到第三预设速度值。通过上述方案,风机2021将第一通道102内的气体流速提升至到第三预设速度值,从而可以显著加快智能等离子装备的等离子扩散速度。此处的第三预设速度值根据实际应用场合选取风机的电机以实现第三预设速度值的设定,此处也可设置多个档位,根据用户需求调节风速。当物质源动力组件仅包含风机时,第三预设速度值等于第一预设速度值。
可选地,风机2021为扇叶风机,扇叶风机设于第一通道102第一通道1022 内,当扇叶风机,当选用扇叶风机时,通过将扇叶风机设于第一通道102第一通道1022,即智能等离子装备内,可以显著加快智能等离子装备的等离子扩散速度。值得注意的是,扇叶风机也即通常所说的有叶风扇,包括扇叶以及电机等结构。
可选地,风机2021为无叶风机,无叶风机设于第一通道102第一通道1022 内。
值得注意的是,无叶风机也即通常所说的无叶风扇,包括扇头和气旋加速器,无叶风机将空气吸入风机2021基座内部,经由气旋加速器加速后,空气流通速度被增大,经由无叶风扇扇头环形内唇环绕,其环绕力带动扇头附近的空气随之进入扇头,并以高速度向外吹出。此种结构可以极大程度上避免风机2021对智能等离子装备的结构的干扰,还能减少噪音,在合理的设计下,还能减小智能等离子装备的体积。
可选地,如图5所示,智能等离子装备还设置有风力调节装置2022,风力调节装置2022与风机2021电连接,风力调节装置2022在用户的操作下输出控制信号以对风机2021的转速进行调节,从而可以控制智能等离子装备的扩散速度,更加方便用户使用。值得注意的是,由于风机2021的风力调节装置2022可以采用按键、拉绳、遥控等方式键入用户操作,并输出对应的控制信号,风力调节装置2022的具体电路构成以及工作原理在现有技术中均有说明,因此不再对风力调节装置2022的具体原理进行阐述。
在一实施例中,物质源动力组件还包括气体引射器,气体引射器设于第一壳体10中。气体引射器输出引气流体,用于将第一通道102内的气体流速提升至到第四预设速度值。通过气体引射器驱动电离后的气体释放,可以在没有电力驱动风扇等带动空气流动的器件时,可以仅仅通过气体引射器的结构就可以实现气体流速的提升,能满足较小的等离子出射的要求。也可在风扇损坏的情况下继续工作,节约能量。第四预设速度值由气体引射器的结构确定。当物质源动力组件仅包含风机时,第四预设速度值等于第一预设速度值。当物质源动力组件仅包含风机时,第四预设速度值加上第三预设速度值等于第一预设速度值。
在一实施例中,如图5所示,气体引射器包括第二壳体、喷嘴2011、吸入腔2012、稳定腔2013以及扩散腔2014;喷嘴2011、吸入腔2012、稳定腔 2013、扩散腔2014及等离子发射口103依次连通。
其中,喷嘴2011将气体直径缩小至第一直径数值并赋予气体初始速度。吸入腔2012供气体进入。稳定腔2013限定气体的输入输出方向。扩散腔2014 将气体输出并将具有初始速度的气体的以第二直径数值输出,喷嘴2011可以实现赋予气体一初始速度,从而显著加快智能等离子装备的电离后的气体的扩散速度。其中,第一直径数值小于第一直径数值。
可选地,当气体引射器与风机2021叠加使用时,不仅可以实现极好的扩散效果,还能使得扩散速度得到一定程度上的控制,方便用户使用。
在一实施例中,等离子发射组件包括电源模块302和发射器301,发射器 301与电源模块302连接。
其中,发射器301在电源模块302提供工作电源时工作,并电离气体。
可选地,发射器301为裸露平板电极、裸露同轴电极、DBD平板电极、 DBD同轴电极中的一种或者多种。
可选地,电源为交流电源、低频电源、高频(射频)电源、微波电源中的一种或者多种,当选用上述电源时,可以结合智能等离子装备的实际应用场合来决定,例如,在家中使用,可以搭载交流电源、高频(射频)电源等使用,为便携式智能等离子装备时,可以搭配低频电源使用,此时,根据实际应用搭配合适的电压转换电路使得发射器301正常工作,从而实现了各种电源与智能等离子装备的匹配,使得本技术方案中的智能等离子装备适用于各种场合。
特别的,当发射器301采用介质阻挡放电以及电晕放电等放电方式时,装备可以在常压也就是大气环境下,进行冷等离子发射,可以应用于医疗美容、表面等离子清洗和化学催化,等离子温度一般在50度以下。通过合理设计,可以大幅度减小智能等离子装备的体积,还能可以实现等离子的快速稳定发生和发射,将其小型化,使其可手持、方便携带。
在一实施例中,参考图5、6或图7,第一壳体10可以为直筒壳体、圆弧壳体、折角壳体、手枪壳体中的任一种,此时,通过将第一壳体10内的等离子发射组件和物质源动力组件改变形状或者在不改变第一通道102第一通道 1022的功能的情况下稍微调整相对位置关系,例如将距离拉近,可以将壳体的形状设置为直筒壳体、圆弧壳体、折角壳体、手枪壳体的任一种,从而使得智能等离子装备具有各种形状,方便设计其外形。
在一实施例中,如图5所示,智能等离子装备还包括可拆卸风嘴40,可拆卸风嘴40与第一壳体可拆卸连接。通过上述可拆卸风嘴40,在可拆卸风嘴 40形状改变时,可以改变电离后的气体的出风方向以及气体体积大小。
可选地,可拆卸风嘴40包括两个具有多个出风孔403的出风构件(401、 402),两个出风构件可旋转设置,通过旋转相对位置,以对出风量进行调节,从而实现智能等离子装备的电离后的气体也即带等离子的气体的出气量的可调,由于此时,同一体积内的气体的等离子流的数量有限,通过调节气体的出气量即可实现等离子流的数量的可调。如图8和图9所示,分别为多出气量和少出气量的状态示意图。
以上所述仅为本发明的可选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的发明构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种智能等离子装备的控制方法,其特征在于,所述智能等离子装备的控制方法包括:
智能等离子装备按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射;
获取对待处理物体表面进行等离子发射后形成的图形轨迹;
当所述图形轨迹与预设图形轨迹匹配时,则关闭等离子发射组件;
当所述图形轨迹与预设图形轨迹不匹配时,则筛选出所述图形轨迹中不匹配轨迹,并重新对不匹配轨迹进行等离子发射。
2.如权利要求1所述的智能等离子装备的控制方法,其特征在于,所述获取对待处理物体表面进行等离子发射后的图形轨迹的步骤包括:
获取对待处理物体表面的多个位置进行等离子发射后形成的对应的多个图形区域,以及在每个位置停留的时间建立所述图形轨迹。
3.如权利要求1所述的智能等离子装备的控制方法,其特征在于,在所述获取实时处理轨迹图的步骤之前还包括:
等离子设备获取其出射孔与待处理物体表面的实时距离;
获取待处理物体表面的粗糙度;
根据等离子设备的出射孔与待处理物体表面的实时距离以及待处理物体表面的粗糙度建立所述预设图形轨迹。
4.如权利要求3所述的智能等离子装备的控制方法,其特征在于,所述预设图形轨迹包括运动轨迹和图像灰度,所述图像灰度为等离子设备对当前图像区域进行等离子发射的发射时间,所述发射时间与所述实时距离呈正比。
5.如权利要求2或3所述的智能等离子装备的控制方法,其特征在于,所述智能等离子装备按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射时,所述方法还包括步骤:
获取对待处理物体表面的多个位置进行等离子发射时等离子流体的温度,并实时显示;
在智能等离子装备按照预设图形轨迹对待处理物体表面进行等离子发射后,根据获取的多个温度对应所述图形轨迹建立等离子流体的温度分布图。
6.如权利要求1所述的智能等离子装备的控制方法,其特征在于,所述图形轨迹包括运动轨迹和图像灰度。
7.如权利要求6所述的智能等离子装备的控制方法,其特征在于,所述智能等离子装备的控制方法还包括:
建立图形轨迹中等离子设备的出射孔与待处理物体表面的实时距离和图像灰度的处理程度模型;
根据所述处理程度模型确定实时处理程度值;
当所述实时处理程度值达到预设处理程度值时,确定所述图形轨迹与预设图形轨迹匹配;当所述实时处理程度值未达到预设处理程度值时,确定所述图形轨迹与预设图形轨迹不匹配。
8.一种智能等离子装备,其特征在于,所述智能等离子装备包括:
存储器;
处理器,存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的智能等离子装备的控制程序,所述智能等离子装备的控制程序被所述处理器执行时实现如权利要求1至7中任一项所述的智能等离子装备的控制方法的步骤,并输出第一控制信号和第二控制信号;
第一壳体,具有进气口、等离子发射口和与所述等离子发射口连通的第一通道;
物质源动力组件,具有用于进气的进气口,设于所述第一壳体,用于根据所述第二控制信号驱动所述第一通道内的气体以第一预设速度值向所述等离子发射口运动;
等离子发射组件,设于所述第一壳体,并与所述处理器电连接,用于根据所述第一控制信号电离所述第一通道内的气体并使得所述气体以第二预设速度值运动;
电离后的所述气体以所述第二预设速度值从所述等离子发射口释放。
9.如权利要求1所述的智能等离子装备,其特征在于,所述物质源动力组件包括风机,所述风机设于所述第一壳体中,用于将所述第一通道内的气体流速提升至到第三预设速度值。
10.如权利要求8或9所述的智能等离子装备,其特征在于,所述物质源动力组件还包括气体引射器,设于所述第一壳体中,用于连通所述进气口与所述第一通道,并将所述第一通道内的气体流速提升至到第四预设速度值。
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