CN111996490B - 一种镀膜掩膜装置 - Google Patents

一种镀膜掩膜装置 Download PDF

Info

Publication number
CN111996490B
CN111996490B CN202010861573.9A CN202010861573A CN111996490B CN 111996490 B CN111996490 B CN 111996490B CN 202010861573 A CN202010861573 A CN 202010861573A CN 111996490 B CN111996490 B CN 111996490B
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask plate
coated
mask
rotating shaft
piece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202010861573.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111996490A (zh
Inventor
冯新凯
梁万国
陈怀熹
张新彬
李广伟
古克义
黄玉宝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujian Institute of Research on the Structure of Matter of CAS
Original Assignee
Fujian Institute of Research on the Structure of Matter of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujian Institute of Research on the Structure of Matter of CAS filed Critical Fujian Institute of Research on the Structure of Matter of CAS
Priority to CN202010861573.9A priority Critical patent/CN111996490B/zh
Publication of CN111996490A publication Critical patent/CN111996490A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111996490B publication Critical patent/CN111996490B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种新型镀膜掩膜装置,属于镀膜掩膜技术领域,能够解决现有镀膜装置结构复杂,制备过程繁琐,导致其成本较高的问题。所述装置包括:支撑件,支撑件用于支撑待镀膜件;掩膜板,掩膜板设置在支撑件上方;掩膜板上设置有开孔,在垂直于掩膜板的方向上,开孔在支撑件上的投影面积覆盖待镀膜件的待镀膜表面的部分区域;驱动结构,用于驱动掩膜板绕掩膜板的中心轴旋转,以使掩膜板每旋转一周,开孔在支撑件上的投影至少覆盖一次待镀膜件的待镀膜表面的全部区域。本发明用于非均匀透射率或非均匀反射率的透镜的镀膜。

Description

一种镀膜掩膜装置
技术领域
本发明涉及镀膜掩膜装置,属于镀膜掩膜技术领域。
背景技术
变反射率镜因为抗干扰性好,稳定性强等优点在很多方面具有重要的用途。例如用于激光非稳腔内,提高光束质量。然而在现有技术中,变反射率镜在进行制备时,需要在镜片上镀膜,而现有的镀膜装置结构比较复杂,制备过程比较麻烦,导致其成本偏高。
发明内容
本发明提供了一种镀膜掩膜装置,能够解决现有镀膜装置结构复杂,制备过程繁琐,导致其成本较高的问题。
本发明提供了一种镀膜掩膜装置,包括:支撑件,所述支撑件用于支撑待镀膜件;掩膜板,所述掩膜板设置在所述支撑件上方;所述掩膜板上设置有开孔,在垂直于所述掩膜板的方向上,所述开孔在所述支撑件上的投影面积覆盖所述待镀膜件的待镀膜表面的部分区域;驱动结构,用于驱动所述掩膜板绕所述掩膜板的中心轴旋转,以使所述掩膜板每旋转一周,所述开孔在所述支撑件上的投影至少覆盖一次所述待镀膜件的待镀膜表面的全部区域。
可选的,所述驱动结构包括转动轴和套设在所述转动轴上的套管;所述转动轴可相对于所述套管转动;所述套管穿过所述支撑件和所述掩膜板的中心,且所述支撑件与所述套管连接,所述掩膜板与所述转动轴连接,所述转动轴可带动所述掩膜板旋转。
可选的,所述装置还包括限位结构,所述限位结构用于限制所述掩膜板在所述转动轴的延伸方向上移动。
可选的,所述限位结构包括连接件和与所述连接件连接的多个凸轮;所述连接件与所述套管连接;多个所述凸轮位于所述掩膜板的相对两个表面上,用于限制所述掩膜板在所述转动轴的延伸方向上移动;所述凸轮可随所述掩膜板的旋转而转动。
可选的,所述连接件包括连接段和卡接段;所述连接段用于连接所述套管和所述卡接段;所述卡接段为C形或匡字形,设置在所述掩膜板的边缘,用于固定所述凸轮。
可选的,所述支撑件为圆形夹具;所述圆形夹具的表面设置有凹槽;所述凹槽用于放置所述待镀膜件。
可选的,所述凹槽为多个;多个所述凹槽呈多层圆环状分布;所述开孔为多个;每个所述凹槽和每个所述开孔对应。
可选的,所述凹槽为圆形或矩形。
可选的,所述开孔为扇形孔;在垂直于所述掩膜板的方向上,所述扇形孔的顶点在所述圆形夹具上的投影位于与所述扇形孔对应的凹槽的中心上。
可选的,所述扇形孔的顶角为360°/Ni;其中,Ni为第i层圆环上所述凹槽的设置数量。
本发明能产生的有益效果包括:
本发明提供的镀膜掩膜装置,通过利用驱动结构驱动支撑件上方的掩膜板旋转,以使镀膜材料从掩膜板上的开孔漏出后,逐步覆盖支撑件上的待镀膜件的待镀膜表面,从而制备出非均匀透射率或非均匀反射率的透镜;该镀膜装置结构简单、操作方便,且成本较低。
附图说明
图1为本发明实施例提供的镀膜掩膜装置结构示意图;
图2为本发明实施例提供的支撑件结构示意图;
图3为本发明实施例提供的掩膜板结构示意图;
图4为本发明实施例提供的限位结构中卡接段和凸轮结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例详述本发明,但本发明并不局限于这些实施例。
本发明实施例提供了一种镀膜掩膜装置,如图1至图4所示,包括:支撑件11,支撑件11用于支撑待镀膜件;掩膜板12,掩膜板12设置在支撑件11上方;掩膜板12上设置有开孔13,在垂直于掩膜板12的方向上,开孔13在支撑件11上的投影面积覆盖待镀膜件的待镀膜表面的部分区域;驱动结构,用于驱动掩膜板12绕掩膜板12的中心轴旋转,以使掩膜板12每旋转一周,开孔13在支撑件11上的投影至少覆盖一次待镀膜件的待镀膜表面的全部区域。
参考图1和图2所示,支撑件11可以为圆形夹具;圆形夹具的表面还可以设置有凹槽17;凹槽17用于放置待镀膜件。本发明实施例对于凹槽17的形状、设置数量等不做限定。在实际应用中,凹槽17可以设计为圆形或矩形;凹槽17可以为多个;多个凹槽17可以如图2所示呈多层圆环状分布;相应的,参考图3所示,掩膜板上的开孔13也为多个;每个凹槽17和每个开孔13一一对应。
在本发明实施例中,开孔13的形状可以为多种,示例的,开孔13可以是扇形、三角形或者矩形等。当开孔13为扇形孔时,在垂直于掩膜板12的方向上,扇形孔的顶点在圆形夹具上的投影位于与扇形孔对应的凹槽17的中心上,且扇形孔的顶角为360°/Ni;其中,Ni为第i层圆环上凹槽17的设置数量。
本发明提供的镀膜掩膜装置,通过利用驱动结构驱动支撑件11上方的掩膜板12旋转,以使镀膜材料从掩膜板12上的开孔13漏出后,逐步覆盖支撑件11上的待镀膜件的待镀膜表面,从而制备出非均匀透射率或非均匀反射率的透镜;该镀膜装置结构简单、操作方便,且成本较低。
进一步的,驱动结构包括转动轴14和套设在转动轴14上的套管;转动轴14可相对于套管转动;套管穿过支撑件11和掩膜板12的中心,且支撑件11与套管连接,支撑件11不随转动轴14的转动而转动;掩膜板12与转动轴14连接,转动轴14可带动掩膜板12旋转。支撑件11与掩膜板12的中心轴重合。
参考图1和图4所示,所述装置还包括限位结构,限位结构用于限制掩膜板12在转动轴14的延伸方向上移动。
具体的,限位结构包括连接件15和与连接件15连接的多个凸轮16;连接件15与套管连接;多个凸轮16位于掩膜板12的相对两个表面上,用于限制掩膜板12在转动轴14的延伸方向上移动;凸轮16可随掩膜板12的旋转而转动。
其中,连接件15包括连接段和卡接段151;连接段用于连接套管和卡接段151;卡接段151为C形或匡字形,设置在掩膜板12的边缘,用于固定凸轮16。
由于掩膜板12的上下表面均设置有凸轮16,掩膜板12在上下凸轮16间转动,凸轮16也可随掩膜板12的转动而转动,但在转动轴14的延伸方向上,上下凸轮16可对掩膜板12起到定位作用。
以上所述,仅是本申请的几个实施例,并非对本申请做任何形式的限制,虽然本申请以较佳实施例揭示如上,然而并非用以限制本申请,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本申请技术方案的范围内,利用上述揭示的技术内容做出些许的变动或修饰均等同于等效实施案例,均属于技术方案范围内。

Claims (7)

1.一种镀膜掩膜装置,其特征在于,包括:
支撑件,所述支撑件用于支撑待镀膜件;
掩膜板,所述掩膜板设置在所述支撑件上方;所述掩膜板上设置有开孔,在垂直于所述掩膜板的方向上,所述开孔在所述支撑件上的投影面积覆盖所述待镀膜件的待镀膜表面的部分区域;
驱动结构,用于驱动所述掩膜板绕所述掩膜板的中心轴旋转,以使所述掩膜板每旋转一周,所述开孔在所述支撑件上的投影至少覆盖一次所述待镀膜件的待镀膜表面的全部区域;
所述驱动结构包括转动轴和套设在所述转动轴上的套管;所述转动轴可相对于所述套管转动;
所述套管穿过所述支撑件和所述掩膜板的中心,且所述支撑件与所述套管连接,所述掩膜板与所述转动轴连接,所述转动轴可带动所述掩膜板旋转;
所述装置还包括限位结构,所述限位结构用于限制所述掩膜板在所述转动轴的延伸方向上移动;
所述限位结构包括连接件和与所述连接件连接的多个凸轮;
所述连接件与所述套管连接;
多个所述凸轮位于所述掩膜板的相对两个表面上,用于限制所述掩膜板在所述转动轴的延伸方向上移动;所述凸轮可随所述掩膜板的旋转而转动。
2.根据权利要求1所述的镀膜掩膜装置,其特征在于,所述连接件包括连接段和卡接段;
所述连接段用于连接所述套管和所述卡接段;
所述卡接段为C形或匡字形,设置在所述掩膜板的边缘,用于固定所述凸轮。
3.根据权利要求1所述的镀膜掩膜装置,其特征在于,所述支撑件为圆形夹具;
所述圆形夹具的表面设置有凹槽;
所述凹槽用于放置所述待镀膜件。
4.根据权利要求3所述的镀膜掩膜装置,其特征在于,所述凹槽为多个;多个所述凹槽呈多层圆环状分布;
所述开孔为多个;每个所述凹槽和每个所述开孔对应。
5.根据权利要求4所述的镀膜掩膜装置,其特征在于,所述凹槽为圆形或矩形。
6.根据权利要求4所述的镀膜掩膜装置,其特征在于,所述开孔为扇形孔;
在垂直于所述掩膜板的方向上,所述扇形孔的顶点在所述圆形夹具上的投影位于与所述扇形孔对应的凹槽的中心上。
7.根据权利要求6所述的镀膜掩膜装置,其特征在于,所述扇形孔的顶角为360°/Ni;其中,Ni为第i层圆环上所述凹槽的设置数量。
CN202010861573.9A 2020-08-24 2020-08-24 一种镀膜掩膜装置 Active CN111996490B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010861573.9A CN111996490B (zh) 2020-08-24 2020-08-24 一种镀膜掩膜装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010861573.9A CN111996490B (zh) 2020-08-24 2020-08-24 一种镀膜掩膜装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111996490A CN111996490A (zh) 2020-11-27
CN111996490B true CN111996490B (zh) 2021-09-21

Family

ID=73470288

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010861573.9A Active CN111996490B (zh) 2020-08-24 2020-08-24 一种镀膜掩膜装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111996490B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113242646B (zh) * 2021-03-16 2023-03-31 光驰科技(上海)有限公司 一种基板架的安装结构及其安拆方法
CN115449746B (zh) * 2022-09-15 2024-01-26 中国科学院力学研究所 一种具有实现批量镀膜的夹具工装的镀膜装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH032802A (ja) * 1989-05-31 1991-01-09 Minolta Camera Co Ltd 連続干渉フィルターの製造方法
JP2003243289A (ja) * 2002-02-15 2003-08-29 Sumitomo Heavy Ind Ltd 露光装置
JP3787719B2 (ja) * 2002-07-05 2006-06-21 独立行政法人科学技術振興機構 3元系相図薄膜の作製方法及びそれに用いるコンビナトリアル成膜装置用マスキング機構
CN2915882Y (zh) * 2006-05-30 2007-06-27 南昌大学 真空镀膜用旋转掩膜装置
CN104213074B (zh) * 2014-08-21 2016-06-29 宁波英飞迈材料科技有限公司 一种原位掩模转换装置及其使用方法
CN104264110B (zh) * 2014-08-29 2017-09-22 宁波英飞迈材料科技有限公司 一种制备二维组合材料芯片的方法
CN108315721B (zh) * 2018-04-24 2020-04-03 武汉华星光电技术有限公司 成膜机台及成膜制程调整基板偏转量的方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN111996490A (zh) 2020-11-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111996490B (zh) 一种镀膜掩膜装置
US3762821A (en) Lens assembly
CN111408836A (zh) 双摆头激光加工光束指向的高精度调节方法及激光加工系统
US7009788B2 (en) Method of making a rotational optical arrangement, and the optical arrangement made by the method
CN114460560A (zh) 一种贴片式多面转镜扫描系统及其制作方法
KR101040981B1 (ko) 정밀 광학계 정렬용 틸팅장치
TWI664305B (zh) 3d蒸鍍之公自轉鍍鍋結構
CN110423993A (zh) 一种镀膜治具
WO2019075936A1 (zh) 透镜的加工设备及其加工方法
CN209356698U (zh) 光学透镜及具有其的光模块
CN110580058A (zh) 一种回转运动位置反馈装置和反馈方法
CN106017874A (zh) 杂散光自动检测机及其杂散光自动检测方法
CN107632209B (zh) 一种位置姿态调整机构和天线测试的位置姿态调整方法
TWI409504B (zh) 非連續投射角度多面鏡裝置
CN114855251B (zh) 动态阳极遮挡结构
CN220872040U (zh) 调试装置及模组测试设备
US5882156A (en) Method and apparatus for milling a segment of a spherical surface
CN220685229U (zh) 一种用于正多棱柱侧面真空镀膜的治具
US4671656A (en) Adjustment for reflective surfaces in interferometers
CN216404527U (zh) 一种旋转治具
CN217542835U (zh) 一种旋转式可调环形光源及检测设备
CN217111411U (zh) 一种光学测试装置
CN110895386B (zh) 一种光透过率调节装置及照明系统
CN219424807U (zh) 一种直径可调式匀胶机承片盘
CN210568196U (zh) 一种精确定位图案位置的旋转图案盘

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant