CN111948848A - 显示面板与显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板及显示装置，所述显示面板包括：阵列基板；彩膜基板；以及液晶层，所述彩膜基板下至上依次包括基板，遮光层以及公共电极，其中，所述遮光层设于非像素区，且所述遮光层中包括黑色的导电材料，使得所述遮光层与所述公共电极电性导通。在该彩膜基板中，所述遮光层包括黑色的导电材料，一方面，相当于现有技术中的黑色矩阵层，以实现相邻子像素间的遮光作用，另一方面，由于包含导电材料，相当于一层导电层，与上层的像素电极电性导通，构成并联关系，相当于降低了上层的像素电极的电阻，在受到其他走线信号的耦合作用出现信号扰动时能迅速恢复，从而增加了该公共电极的稳定性，以提升显示面板以及显示装置的显示品质。

Description

显示面板与显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板与显示装置。

背景技术

液晶显示面板经过数十年的发展，已成为目前技术最为成熟，广泛应用于各个显示领域的显示面板技术，其工作原理主要是：在电场的作用下，利用液晶分子的排列方向发生变化，使外光源透光率改变(调制)，完成电一光变换，再利用红、绿、蓝三基色信号的不同激励，通过红、绿、蓝三基色滤光膜，完成时域和空间域的彩色重显。

液晶显示面板包括阵列基板，彩膜基板以及夹设于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层，设于阵列基板上的像素电极以及设于彩膜基板上的公共电极通过给入不同的电位而形成的电场，以控制液晶层中的液晶分子的排列方向。通常情况下，彩膜基板上的公共电极由氧化铟锡构成，其电阻相对较大，导致公共电极稳定性差，使得彩膜基板上的公共电极信号已收到其他信号走线的耦合作用而出现信号扰动，例如，易收到信号线的耦合作用导致显示面板出现水平串扰现象，随着市场对面板的显示效果要求越来越高，此类问题亟待解决。

发明内容

本发明提供一种显示面板与显示装置，可有效改善彩膜基板公共电极信号易出现扰动，而影响显示品质的问题。

为解决上述问题，第一方面，本发明提供一种显示面板，所述显示面板包括：

阵列基板；

彩膜基板，由下至上依次包括基板，遮光层以及公共电极，其中，所述遮光层设于非像素区，且所述遮光层中包括黑色的导电材料，使得所述遮光层与所述公共电极电性导通；以及

液晶层，配置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间。

进一步地，所述遮光层为单层膜层结构或双层膜层结构，当所述遮光层为双层膜层结构时，包括第一遮光层与堆叠于所述第一遮光层上的第二遮光层，其中，所述第一遮光层中包括所述黑色的导电材料，所述第二遮光层中包括金属材料。

进一步地，所述黑色的导电材料选自氧化钼或氧化铌。

进一步地，在所述公共电极上还配置有电阻优化层，所述电阻优化层设于非像素区，且所述电阻优化层中包括金属材料，使得所述电阻优化层与所述公共电极电性导通。

进一步地，所述电阻优化层为单层膜层结构或双层膜层结构，当所述电阻优化层为双层膜层结构时，包括第一电阻优化层与堆叠于所述第一电阻优化层上的第二电阻优化层，其中，所述第一电阻优化层与所述第二电阻优化层中的一者包括所述黑色的导电材料，另一者包括所述金属材料。

进一步地，所述电阻优化层与所述遮光层分别在所述彩膜基板上的正投影重合。

进一步地，所述电阻优化层或所述遮光层在所述彩膜基板上的正投影为网格状结构。

进一步地，所述金属材料选自铝，钛，钼，铌以及铜中的至少一者。

进一步地，所述电阻优化层与所述遮光层的厚度分别独立地设为1000-10000埃。

另一方面，本发明还提供了一种显示装置，所述显示装置包括前述任意的显示面板。

有益效果：本发明提供了一种显示面板及显示装置，所述显示面板包括：阵列基板；彩膜基板；以及液晶层，所述彩膜基板下至上依次包括基板，遮光层以及公共电极，其中，所述遮光层设于非像素区，且所述遮光层中包括黑色的导电材料，使得所述遮光层与所述公共电极电性导通。在该彩膜基板中，所述遮光层包括黑色的导电材料，一方面，相当于现有技术中的黑色矩阵层，以实现相邻子像素间的遮光作用，另一方面，由于包含导电材料，相当于一层导电层，与上层的像素电极电性导通，形成并联关系，相当于降低了上层的像素电极的电阻，使得公共电极信号在受到其他走线信号的耦合作用出现扰动时能迅速恢复目标水平，从而增加了该公共电极的稳定性，例如，不会因受到数据线的耦合作用，使公共电极信号出现扰动导致水平串扰显示问题，以提升显示面板以及显示装置的显示品质，并且，此方案相较现有技术并未增加膜层结构以及曝光光罩的数量，不会造成成本与产能损失，同时，所述遮光层设置于非像素区，对显示面板的开口率不会造成影响。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种显示面板的平面结构示意图；

图2是本发明实施例提供的一种显示面板中彩膜基板的截面结构示意图；

图3是本发明实施例提供的另一种显示面板中彩膜基板的截面结构示意图；

图4是本发明实施例提供的又一种显示面板中彩膜基板的截面结构示意图；

图5是本发明实施例提供的又一种显示面板中彩膜基板的截面结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请中，“示例性”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为“示例性”的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本发明，给出了以下描述。在以下描述中，为了解释的目的而列出了细节。应当明白的是，本领域普通技术人员可以认识到，在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本发明。在其它实例中，不会对公知的结构和过程进行详细阐述，以避免不必要的细节使本发明的描述变得晦涩。因此，本发明并非旨在限于所示的实施例，而是与符合本申请所公开的原理和特征的最广范围相一致。

本发明实施例提供了一种显示面板，结合参阅图1提供的该显示面板的平面结构示意图，以及图2提供的该显示面板中彩膜基板的截面结构示意图，其中，图2所示的截面结构为沿图1中虚线L1处的截面结构，以下分别进行详细说明。

具体地，所述显示面板划分为像素区A1，包括若干个阵列排布的子像素，以及非像素区A2，且，所述显示面板包括：

阵列基板(图中未示出)，通常包括基板以及设于基板上的阵列驱动层，包括与若干个阵列排布的子像素一一对应设置的薄膜晶体管，以及与若干个薄膜晶体管一一对应设置的像素电极；

彩膜基板，由下至上依次包括基板100，遮光层110以及公共电极120，其中，所述遮光层110设于非像素区A2，且所述遮光层110中包括黑色的导电材料，使得所述遮光层110与所述公共电极120电性导通；以及

液晶层(图中未示出)，配置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间，包括液晶分子，所述液晶分子由阵列基板上的像素电极与彩膜基板上的公共电极共同作用实现偏转。

在本实施例中所提供的显示面板中，所述遮光层包括黑色的导电材料，一方面，相当于现有技术中的黑色矩阵层，以实现相邻子像素间的遮光作用，另一方面，由于包含导电材料，可视作一层导电层，与上层的像素电极电性导通，形成并联关系，相当于降低了上层的像素电极的电阻，使得公共电极信号在受到其他走线信号的耦合作用出现扰动时能迅速恢复目标水平，从而增加了该公共电极的稳定性，例如，不会因受到数据线的耦合作用，使公共电极信号出现扰动导致水平串扰显示问题，以提升显示面板以及显示装置的显示品质。并且，此方案相较现有技术并未增加膜层结构以及曝光光罩的数量，不会造成成本与产能损失，同时，所述遮光层设置于非像素区，对显示面板的开口率不会造成影响。

在本实施例中，仅示出了彩膜基板的截面结构示意图，未示出阵列基板以及液晶层，但本领域技术人员应当很容易理解。

进一步地，所述遮光层110可以为单层膜层结构，即如图2所示的结构，该单层膜层结构的遮光层110由黑色的导电材料材料构成。

另外，为了进一步地降低彩膜基板像素电极的电阻，在一些实施例中，可将所述遮光层110设置为双层膜层结构，即形成如图3所示的截面结构，包括第一遮光层111与堆叠于所述第一遮光层111上的第二遮光层112，其中，所述第一遮光层111中包括所述黑色的导电材料，所述第二遮光层112中包括金属材料，通过此设计，仅遮光层110下部由黑色的导电材料实现遮光，而遮光层110上部由电阻率更低的金属材料构成，相当于并联了一个电阻更小的膜层，即可更进一步地减小彩膜基板像素电极的电阻，提高其稳定性。

需要说明的是，当所述遮光层110设置为双层膜层结构时，遮光层110靠近基板100的下层必须包括黑色遮光材料，若为金属材料，则显示面板表面会出现反光现象而影响显示效果。

在一些实施例中，所述黑色的导电材料的选择并无太大限制，只要能同时实现遮光以及导电的功能即可，例如黑色导电油墨。但鉴于显示面板实际的制备工艺，通常需选择适用于面板厂相关制备设备的材料，示例性地，所述黑色的导电材料可为氧化钼或氧化铌，由物理气相沉积设备沉积对应材料的薄膜，再经图案化工艺即可形成，因无需新增相关的工艺设备，此方案成本较低，具有较高的实用性。

由于制备工艺的限制，所述遮光层110的厚度无法做得足够厚，从而无法实现较小的目标像素电极阻值，在一些实施例中，为了再更进一步地降低彩膜基板像素电极的电阻，在所述公共电极120上还配置有电阻优化层130，具体请参阅图4提供的截面结构，所述电阻优化层140同样设于非像素区A2，且所述电阻优化层130中包括金属材料，使得所述电阻优化层140与所述公共电极120电性导通。按照此设计，相当于遮光层110，公共电极120以及电阻优化层130三者形成并联关系，通过多并联一层电阻优化层130，即可更进一步地减小彩膜基板像素电极的电阻，从而提高其稳定性。

同样地，所述电阻优化层130可以为单层膜层结构，即如图4所示的截面结构，该单层膜层结构的电阻优化层130由金属材料构成。

当然，根据具体的工艺需求，所述电阻优化层130也可实现遮光功能，具体地，所述电阻优化层130为双层膜层结构，如图5所示的结构，包括第一电阻优化层131与堆叠于所述第一电阻优化层131上的第二电阻优化层132，其中，所述第一电阻优化层131与所述第二电阻优化层132中的一者包括所述黑色的导电材料，另一者包括所述金属材料，相当于此处的电阻优化层130与前述的遮光层110具有类似的遮光导电功能，但不同的是，在所述电阻优化层130中，黑色的导电材料可置于电阻优化层130的上层或下层，并无特殊的位置限制。

在一些实施例中，所述电阻优化层130与所述遮光层110分别在所述彩膜基板上的正投影重合，即，所述电阻优化层130与所述遮光层110可由同一光罩进行图案化工艺，节省制程成本。可以理解的是，所述电阻优化层130与所述遮光层110分别在所述彩膜基板上的正投影在理论设计上是重合的，但根据实际的工艺精度影响，实际上会存在微小的偏差。

在一些实施例中，所述电阻优化层130或所述遮光层110在所述彩膜基板上的正投影为网格状结构，即形成于相邻子像素的间隙中，连通成一个整体。

在一些实施例中，所述金属材料的选择并无特殊限制，但鉴于显示面板实际的制备工艺，通常选用现有技术中已应用于显示面板金属走线中的材料，例如选自铝，钛，钼，铌以及铜，或者任意两者的合金。

在一些实施例中，所述电阻优化层130与所述遮光层110的厚度分别独立地设为1000-10000埃，根据实际的工艺需求，需求的电阻越小时，沉积的膜厚越厚。

本发明的另一实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括前述实施例所提供的显示面板，所述显示装置包括但不限于手机、平板电脑、电脑、电视、车载显示、智能腕表以及VR设备，具体本发明不做限定。

需要说明的是，上述显示面板实施例中仅描述了上述结构，可以理解的是，除了上述结构之外，本发明实施例显示面板中，还可以根据需要包括任何其他的必要结构，例如，彩色滤光膜层等，具体此处不作限定。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见上文针对其他实施例的详细描述，此处不再赘述。

具体实施时，以上各个单元或结构可以作为独立的实体来实现，也可以进行任意组合，作为同一或若干个实体来实现，以上各个单元或结构的具体实施可参见前面的方法实施例，在此不再赘述。

以上对本发明实施例所提供的一种显示面板与显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

阵列基板；

彩膜基板，由下至上依次包括基板，遮光层以及公共电极，其中，所述遮光层设于非像素区，且所述遮光层中包括黑色的导电材料，使得所述遮光层与所述公共电极电性导通；以及

液晶层，配置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述遮光层为单层膜层结构或双层膜层结构，当所述遮光层为双层膜层结构时，包括第一遮光层与堆叠于所述第一遮光层上的第二遮光层，其中，所述第一遮光层中包括所述黑色的导电材料，所述第二遮光层中包括金属材料。

3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑色的导电材料选自氧化钼或氧化铌。

4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述公共电极上还配置有电阻优化层，所述电阻优化层设于非像素区，且所述电阻优化层中包括金属材料，使得所述电阻优化层与所述公共电极电性导通。

5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述电阻优化层为单层膜层结构或双层膜层结构，当所述电阻优化层为双层膜层结构时，包括第一电阻优化层与堆叠于所述第一电阻优化层上的第二电阻优化层，其中，所述第一电阻优化层与所述第二电阻优化层中的一者包括所述黑色的导电材料，另一者包括所述金属材料。

6.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述电阻优化层与所述遮光层分别在所述彩膜基板上的正投影重合。

7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述电阻优化层或所述遮光层在所述彩膜基板上的正投影为网格状结构。

8.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述金属材料选自铝，钛，钼，铌以及铜中的至少一者。

9.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述电阻优化层与所述遮光层的厚度分别独立地设为1000-10000埃。

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1-9任意一项所述的显示面板。

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