CN111930264A - 一种触控显示面板和触控显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种触控显示面板和触控显示装置。触控显示面板包括基板；平坦层，设置于所述基板上；阴极层，设于所述平坦层上，所述阴极层包括间隔设置的阴极和触控单元；封装层，设置于所述阴极层上；其中，所述触控单元包括对应显示区的多个触控电极，及多条由显示区向非显示区延伸的触控走线，每个所述触控电极与对应的所述触控走线电连接。本申请通过将所述阴极层图案化处理，使所述触控单元与所述阴极同层设置，从而将所述触控电极结构内嵌入到OLED显示器中，实现内嵌式触控OLED显示器。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控显示面板和触控显示装置。
背景技术
当前随着显示技术的发展，具有触控功能显示器，尤其是中小尺寸显示器，越来越受市场的欢迎。通常情况下具有触控功能的显示器需要将触控面板和显示面板贴合起来，但是这样就造成工艺繁杂，显示器过厚，不利于产品的轻薄化技术。于是，后来渐渐有了外嵌式(On-Cell)和内嵌式(In-Cell)触控技术，这两种触控技术的使用极大地降低了工艺的繁杂程度，同时对显示器轻薄化也做出了重大贡献，并且这种与显示技术结合在一起的触控技术也无需单独建设触控工厂，因此，这一技术一经出现便得到了极大发展。
但是，随着OLED技术的出现和发展，并且越来越成为显示主流技术，尤其是柔性技术的出现，触控技术又遇上了一个瓶颈。一般情况下，内嵌式(In-Cell)技术由于内嵌式(In-Cell)制程与OLED工艺层存在一定的冲突，各方面的问题难于实施。然而，由于In-cell技术有明显的厚度减薄、流程缩短等优势，因此内嵌式(In-Cell)技术受到了各大面板厂商的青睐，未来势必将会成为触控技术发展主流。
发明内容
本申请提供了一种触控显示面板和触控显示装置，能够将触控电极结构内嵌入到OLED显示器中，实现内嵌式触控OLED显示器，同时提高内嵌式(In-Cell)触控OLED显示器的触控精度。
为实现上述效果，本申请提供的技术方案如下：
一种触控显示面板，包括：
基板；
平坦层，设置于所述基板上；
阴极层，所述阴极层设于所述平坦层上，所述阴极层包括间隔设置的阴极和触控单元；以及
封装层，设置于所述阴极层上；
其中，所述触控单元包括对应显示区的多个触控电极，及多条由所述显示区向非显示区延伸的触控走线，每个所述触控电极与对应的所述触控走线电连接。
本申请的触控显示面板中，所述触控显示面板还包括设置于所述平坦层上的阳极层、设置于所述阳极层和所述平坦层上的像素定义层以及设于所述阳极层上的发光层；所述阴极层位于所述像素定义层及所述发光层上；
所述阳极层包括间隔设置的阳极和第一电极；所述像素定义层包括对应所述第一电极设置的通孔，及将所述阳极暴露的开槽；
所述阳极、所述发光层以及所述阴极均位于所述开槽内，所述阴极完全覆盖所述开槽并延伸部分覆盖所述像素定义层，所述阴极通过所述通孔与所述第一电极电连接。
本申请的触控显示面板中，所述平坦层上设置有对应所述开槽的凹槽结构；
所述阳极位于所述凹槽内且覆盖所述凹槽底部以及四周侧壁；
所述发光层位于所述凹槽内且覆盖所述阳极上表面以及四周侧壁；
所述阴极完全覆盖所述发光层上表面以及四周侧壁；所述阴极位于所述凹槽以及所述开槽内部且所述阴极完全覆盖所述开槽并延伸至所述开槽外。
本申请的触控显示面板中，所述像素定义层包括位于所述开槽两侧的台阶结构，所述台阶使所述像素定义层的侧壁形成断差；
所述台阶包括相连接的高平台和低平台，所述低平台上表面与所述开槽相连接；
其中，所述阴极完全覆盖所述开槽并延伸部分覆盖所述像素定义层的低平台上表面；所述触控单元设置于所述高平台的上表面。
本申请的触控显示面板中，所述像素定义层通过所述台阶平台在所述阳极层上方定义出上宽下窄的像素开口区域，所述开口区域与所述平坦层上的所述凹槽相对应。
本申请的触控显示面板中，所述像素定义层包括对应所述第一电极设置的通孔，所述通孔位于所述低平台的上表面。
本申请的触控显示面板中，所述触控显示面板包括阵列设置的多个像素区，所述像素区中设置有多种不同颜色的子像素；在任一所述像素区中，多种不同颜色的所述子像素呈孤岛结构；
所述阴极层包括形成于对应的所述子像素孤岛结构的岛图案，以及将相邻的岛图案彼此相连的多个桥接图案。
本申请的触控显示面板中，所述阴极层中的触控单元设置于所述子像素孤岛结构上以构成所述岛图案；所述触控单元位于相邻两所述子像素之间，以构成连接彼此相邻的所述子像素孤岛结构的所述桥接图案。
本申请的触控显示面板中，所述触控单元的形状包括圆形、椭圆形、方形以及三角形中的一种。
本申请还提供一种触控显示装置，所述显示装置包括上述任一所述的显示面板。
有益效果：本申请通过将所述阴极层图案化处理，使所述触控单元与所述阴极同层设置；所述触控单元包括对应显示区的多个触控电极，及多条由所述显示区向非显示区延伸的触控走线，每个所述触控电极与对应的所述触控走线电连接；从而将所述触控电极结构内嵌入到OLED显示器中，实现内嵌式触控OLED显示器。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其他有益效果显而易见。
图1为本申请所提供的触控显示面板的结构示意图；
图2为本申请实施例所提供的触控显示面板的第一种结构示意图；
图3为本申请实施例所提供的触控显示面板的子像素与触控单元的位置关系示意图；
图4为本申请实施例所提供的触控显示面板的阴极所在膜层的俯视图；
图5为本申请实施例所提供的触控显示面板的第二种结构示意图；
图6为本申请实施例所提供的触控显示面板的第三种结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
现有技术中，内嵌式(In-Cell)技术由于内嵌式(In-Cell)制程与OLED工艺层存在一定的冲突，各方面的问题难于实施，因此很少有现实意义的发展；然而，由于内嵌式(In-Cell)技术有明显的厚度减薄、流程缩短等优势，因此In-cell技术受到了各大面板厂商的青睐，未来势必将会成为触控技术发展主流。基于此，本申请提供了一种触控显示面板和触控显示装置，能够将触控电极结构内嵌入到OLED显示器中，实现内嵌式触控OLED显示器。
请参阅图1，本申请所提供的触控显示面板的结构示意图。
在本申请中，所述触控显示面板包括基板10；设置于所述基板10上薄膜晶体管层20；设置于所述薄膜晶体管层20上的平坦层30；设于所述平坦层30上的阴极层60，所述阴极层60包括间隔设置的阴极61和触控单元62；以及设置于所述阴极层60上的封装层80。
其中，所述触控单元62包括对应显示区的多个触控电极，及多条由所述显示区向非显示区延伸的触控走线，每个所述触控电极与对应的所述触控走线电连接。
本申请通过将阴极层60图案化处理，使所述触控单元62与所述阴极61同层设置，从而将触控电极结构内嵌入到OLED显示器中，实现内嵌式触控OLED显示器。
现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
实施例一
请参阅图2，本申请实施例所提供的触控显示面板的第一种结构示意图。
在本实施例中，所述触控显示面板包括基板10；设置于所述基板10上薄膜晶体管层20；设置于所述薄膜晶体管层20上的平坦层30；设于所述平坦层30上的阳极层40；设置于所述阳极层40上的发光层50；设置于所述发光层50上的阴极层60；设置于所述阴极层60上像素定义层70；以及设置于所述像素定义层70上的封装层80。
在本实施例中，所述基板10为柔性透明的PI基板，主要为聚醯亚胺，PI材料可以有效的提高透光率。
在本实施例中，所述薄膜晶体管层20设于所述基板10的上表面，所述薄膜晶体管层20从下至上依次包括有源层、第一绝缘层21、第一栅极、第二绝缘层22、第二栅极、第三绝缘层23以及源/漏电极。
在本实施例中，第一绝缘层21、第二绝缘层22以及第三绝缘层23所采用的材料均为无机材料，材料包括氮化硅、氧化硅或者氮氧化硅中的一种，本实施例对此不做限定。
在本实施例中，所述阳极层40设置于所述平坦层30远离所述基板10的上表面，所述阳极层40包括间隔设置的阳极41和第一电极42；其中，所述平坦层30上设置有对应所述源/漏电极的开孔；所述阳极41通过所述开孔连接至所述源/漏极。
所述阳极41和所述第一电极42的材料包括但不限于铟锡氧化物和铟锌氧化物。
在本实施例中，所述发光层50设置于所述阳极41远离所述平坦层30的上表面，所述发光层50包括但不限于空穴注入层、空穴传输层、空穴阻止层、电荷传输层以及电荷注入层。
所述阴极层60包括间隔设置的阴极61和触控单元62；所述阴极61设置于所述发光层50远离所述阳极41的上表面；所述触控单元62设置于所述像素定义层70远离所述基板10的上表面。
在本实施例中，所述像素定义层70包括对应所述第一电极42设置的通孔，及将所述阳极41暴露的开槽；所述阳极41、所述发光层50以及所述阴极61均位于所述开槽内；所述阴极61完全覆盖所述开槽并延伸部分覆盖所述像素定义层70；所述阴极61通过所述通孔与所述第一电极42电连接。
本实施例通过将所述阴极层60图案化处理，使所述触控单元62与所述阴极61同层设置；所述触控单元62包括对应显示区的多个触控电极，及多条由所述显示区向非显示区延伸的触控走线，每个所述触控电极与对应的所述触控走线电连接；从而将触控电极结构内嵌入到OLED显示器中，实现内嵌式触控OLED显示器。
在本实施例中，所述阴极层60图案化的方法包括但不限于激光蚀刻。
请参阅图3，本申请实施例所提供的触控显示面板的子像素与触控单元的位置关系示意图。
在本实施例中，所述触控显示面板包括阵列设置的多个像素区，所述像素区中设置有多种不同颜色的子像素，所述子像素包括红色子像素(R)、绿色子像素(G)以及蓝色子像素(B)中的一种；在任一所述像素区中，多种不同颜色的所述子像素呈孤岛结构。
在本实施例中，所述阴极层60包括形成于对应的所述子像素孤岛结构的岛图案，以及将相邻的岛图案彼此相连的多个桥接图案。
进一步的，在本实施例中，所述阴极层60中的所述触控单元62设置于所述子像素孤岛结构上以构成所述岛图案；所述触控单元62位于相邻两所述子像素之间以构成连接彼此相邻的所述子像素孤岛结构的所述桥接图案。
在本实施例中，所述触控单元62与所述子像素间隔设置；所述触控单元62的形状包括但不限于圆形、椭圆形、方形以及三角形。
本实施例通过将所述子像素采用孤岛状结构，所述触控单元62设置于所述子像素孤岛结构上以构成所述岛图案，且述触控单元62位于相邻两所述子像素之间以构成连接彼此相邻的所述子像素孤岛结构的所述桥接图案，使得所述子像素孤岛结构与所述触控单元62之间具有良好的附着，能避免所述子像素孤岛结构与所述触控单元62之间发生剥离，从而提高所述触控显示面板的触控功能。
请参阅图4，本申请实施例所提供的触控显示面板的阴极所在膜层的俯视图。
在本实施例中，所述触控单元62包括对应显示区100的多个触控电极621，及多条由所述显示区100向非显示区200延伸的触控走线622，每个所述触控电极621与对应的所述触控走线622电连接。
在本实施例中，所述触控显示面板还包括位于所述非显示区200的驱动芯片80；每条所述触控走线622与所述驱动芯片80电连接；所述驱动芯片80通过多条所述触控走线622分别与各所述触控电极621电连接，从而实现触控显示面板的内嵌式触控功能。
请参阅图5，本申请实施例所提供的触控显示面板的第二种结构示意图。
在本实施例中，所述触控显示面板的结构与上述实施例所提供的触控显示面板的第一种结构示意图相似/相同，具体请参照上述实施例中的触控显示面板的描述，此处不再赘述，两者的区别仅在于：
在本实施例中，所述平坦层30上设置有对应所述像素定义层70开槽的凹槽结构；所述阳极41位于所述凹槽内且覆盖所述凹槽底部以及四周侧壁；所述发光层50位于所述凹槽内且覆盖所述阳极41上表面以及四周侧壁；所述阴极61完全覆盖所述发光层50上表面以及四周侧壁；所述阴极61位于所述凹槽以及所述开槽内部且所述阴极61完全覆盖所述开槽并延伸至所述开槽外；所述触单元62位于所述像素定义层70远离所述基板10的上表面。
本实施例通过在所述平坦层30上设置有对应所述像素定义层70开槽的凹槽结构，使所述阳极41位于所述凹槽内且覆盖所述凹槽底部以及四周侧壁，并在所述阳极41远离所述凹槽的上表面设置所述发光层50和所述阴极61，从而提高所述发光层50的空间利用率，减少所述发光层50在所述触控显示面板中的所占空间面积，从而提高了所述触控单元62的制备空间，从而能够提高显示的均匀性。
请参阅图6，本申请实施例所提供的触控显示面板的第三种结构示意图。
在本实施例中，所述触控显示面板的结构与上述实施例所提供的触控显示面板的第二种结构示意图相似/相同，具体请参照上述实施例中的触控显示面板的描述，此处不再赘述，两者的区别仅在于：
在本实施例中，所述像素定义层70包括位于所述开槽两侧的台阶结构，所述台阶使所述像素定义层70的侧壁形成断差；所述台阶包括相连接的高平台和低平台，所述低平台上表面与所述开槽相连接；其中，所述阴极61完全覆盖所述开槽并延伸部分覆盖所述像素定义层70的低平台上表面；所述触控单元62设置于所述高平台的上表面。
在本实施例中，所述像素定义层70通过所述台阶平台在所述阳极层40上方定义出上宽下窄的像素开口区域，所述开口区域与所述平坦层40上的所述凹槽相对应；所述像素定义层70包括对应所述第一电极42设置的通孔，所述通孔位于所述低平台的上表面，所述阴极61通过所述通孔与所述第一电极42电连接。
本实施例通过在所述像素定义层70上设置台阶结构，所述台阶包括相连接的高平台和低平台；其中，所述阴极61完全覆盖所述开槽并延伸部分覆盖所述像素定义层70的低平台上表面；所述触控单元62设置于所述高平台的上表面；使所述触控单元62与所述阴极61形成一个高度差，从而够提高触控信号的稳定性，进而能够提高显示效果。
实施例二
本实施例提供一种触控显示装置，所述触控显示装置包括实施例一所述的触控显示面板。
所述触控显示面板已经在实施例一中进行了详细的说明，在此不在重复说明。
本申请提供一种触控显示面板。触控显示面板包括基板；平坦层，设置于基板上；阴极层，设于平坦层上，阴极层包括间隔设置的阴极和触控单元；封装层，设置于阴极层上；其中，触控单元包括对应显示区的多个触控电极，及多条由显示区向非显示区延伸的触控走线，每个触控电极与对应的触控走线电连接。
本申请通过将阴极层图案化处理，使所述触控单元与所述阴极同层设置，从而将触控电极结构内嵌入到OLED显示器中，实现内嵌式触控OLED显示器。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种触控显示面板和触控显示装置行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种触控显示面板，其特征在于，所述触控显示面板包括：
基板；
平坦层，设置于所述基板上；
阴极层，所述阴极层设于所述平坦层上，所述阴极层包括间隔设置的阴极和触控单元；以及
封装层，设置于所述阴极层上；
其中，所述触控单元包括对应显示区的多个触控电极，及多条由所述显示区向非显示区延伸的触控走线，每个所述触控电极与对应的所述触控走线电连接。
2.如权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控显示面板还包括设置于所述平坦层上的阳极层、设置于所述阳极层和所述平坦层上的像素定义层以及设于所述阳极层上的发光层；所述阴极层位于所述像素定义层及所述发光层上；
所述阳极层包括间隔设置的阳极和第一电极；所述像素定义层包括对应所述第一电极设置的通孔，及将所述阳极暴露的开槽；
所述阳极、所述发光层以及所述阴极均位于所述开槽内，所述阴极完全覆盖所述开槽并延伸部分覆盖所述像素定义层，所述阴极通过所述通孔与所述第一电极电连接。
3.如权利要求2所述的触控显示面板，其特征在于，所述平坦层上设置有对应所述开槽的凹槽结构；
所述阳极位于所述凹槽内且覆盖所述凹槽底部以及四周侧壁；
所述发光层位于所述凹槽内且覆盖所述阳极上表面以及四周侧壁；
所述阴极完全覆盖所述发光层上表面以及四周侧壁；所述阴极位于所述凹槽以及所述开槽内部且所述阴极完全覆盖所述开槽并延伸至所述开槽外。
4.如权利要求3所述的触控显示面板，其特征在于，所述像素定义层包括位于所述开槽两侧的台阶结构，所述台阶使所述像素定义层的侧壁形成断差；
所述台阶包括相连接的高平台和低平台，所述低平台上表面与所述开槽相连接；
其中，所述阴极完全覆盖所述开槽并延伸部分覆盖所述像素定义层的低平台上表面；所述触控单元设置于所述高平台的上表面。
5.如权利要求4所述的触控显示面板，其特征在于，所述像素定义层通过所述台阶平台在所述阳极层上方定义出上宽下窄的像素开口区域，所述开口区域与所述平坦层上的所述凹槽相对应。
6.如权利要求5所述的触控显示面板，其特征在于，所述像素定义层包括对应所述第一电极设置的通孔，所述通孔位于所述低平台的上表面。
7.如权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控显示面板包括阵列设置的多个像素区，所述像素区中设置有多种不同颜色的子像素；在任一所述像素区中，多种不同颜色的所述子像素呈孤岛结构；
所述阴极层包括形成于对应的所述子像素孤岛结构的岛图案，以及将相邻的岛图案彼此相连的多个桥接图案。
8.如权利要求7所述的触控显示面板，其特征在于，所述阴极层中的触控单元设置于所述子像素孤岛结构上以构成所述岛图案；所述触控单元位于相邻两所述子像素之间，以构成连接彼此相邻的所述子像素孤岛结构的所述桥接图案。
9.如权利要求8所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控单元的形状包括圆形、椭圆形、方形以及三角形中的一种。
10.一种触控显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的触控显示面板。
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