CN111842326A - 一种瓷介电容器的清洗工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种瓷介电容器的清洗工艺，包括以下步骤；储水装置将自来水转化为去离子水，输送给储液槽；储液槽将去离子水分配给第一分支储液槽、第二分支储液槽和第三分支储液槽；第一分支储液槽向第一清洗槽输送去离子水，第二分支储液槽向第二清洗槽输送去离子水，第三分支储液槽向第三清洗槽输送去离子水；电容器依次在第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽内进行清洗。本发明提供的一种瓷介电容器的清洗工艺，用去离子水替代乙醇进行瓷介电容器的清洗，提高生产安全性，更加节能环保。
Description
技术领域
本发明涉及一种清洗工艺，具体而言，涉及一种瓷介电容器的清洗工艺。
背景技术
瓷介电容器生产出来后，需要进行超声波清洗，去除产品表面的杂质，从而保证产品质量。
现有工艺中超声波清洗设备的清洗槽内盛放的是乙醇，用来清洗瓷介电容器，但乙醇属于危险化学品，具有易燃易爆易挥发的属性，且挥发后的气体对身体有害，操作不当特别容易产生工业事故。
发明内容
鉴于此，本发明提供了一种瓷介电容器的清洗工艺，用去离子水替代乙醇进行瓷介电容器的清洗，提高生产安全性。
为此，本发明提供了一种瓷介电容器的清洗工艺，包括以下步骤；
储水装置将自来水转化为去离子水，输送给储液槽；
储液槽将去离子水分配给第一分支储液槽、第二分支储液槽和第三分支储液槽；
第一分支储液槽向第一清洗槽输送去离子水，第二分支储液槽向第二清洗槽输送去离子水，第三分支储液槽向第三清洗槽输送去离子水；
电容器依次在第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽内进行清洗。
进一步地，储水装置包括串联的第一储水桶和第二储水桶，第一储水桶的进水口连接自来水进水管道、出水口连接第二储水桶的进水口，第二储水桶的出水口连接储液槽的进水口。
进一步地，第一分支储液槽、第二分支储液槽和第三分支储液槽串联设置，储液槽内的去离子水依次流入第三分支储液槽、第二分支储液槽和第一分支储液槽。
进一步地，第一清洗槽内设置有用于过滤电容器清洗产生的漂浮物的过滤芯。
进一步地，第二清洗槽通过第一循环管路连接第一过滤装置，第二清洗槽内导电性超标的去离子水被第一过滤装置过滤，过滤后导电性符合要求的去离子水被输送回第二清洗槽。
进一步地，第三清洗槽通过第二循环管路连接第二过滤装置，第三清洗槽内导电性超标的去离子水被第二过滤装置过滤，过滤后导电性符合要求的去离子水被输送回第三清洗槽。
进一步地，第二过滤装置还通过输水管路与第一分支储液槽相连接，当述第一分支储液槽内去离子水不足时，第三清洗槽输送到第二过滤装置的去离子水在过滤后输送给第一分支储液槽。
本发明提供的一种瓷介电容器的清洗工艺，使用环保、安全的去离子水代替乙醇清洗电容器，瓷介电容器依次在第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽内进行超声波清洗，经历三道清洗工序的瓷介电容器清洁效果彻底，并且在保证清洗效果的情况下，避免了工业事故的隐患。储水装置的第一储水桶、第二储水桶内设置有过滤器，去除自来水中的离子物质形成去离子水，串联的两个储水桶一方面保证去离子水的供应，另一方面双重过滤保证去离子水的质量。
第一清洗槽作为第一道清洗工序，对去离子水的导电率要求低；第二清洗槽和第三清洗槽，对去离子水的导电率要求高。基于各清洗槽对去离子水的需求：一方面，储液槽在将去离子水进行分配时，依次分配给第三分支储液槽、第二分支储液槽、第一分支储液槽，因为去离子水在输送过程中容易获得离子物质，影响导电率，最先提供给第三清洗槽可以确保第三清洗槽获得的去离子水质量最高。另一方面，第一清洗槽只在内部设置有用于过滤电容器清洗产生的漂浮物的过滤芯，去离子水在第一清洗槽内自循环；第二清洗槽和第三清洗槽都连接过滤装置，对去离子水进行过滤，去除离子物质，保证去离子水导电率符合要求，实现去离子水的循环利用。去离子水的循环利用，实现节能减排，清洁过程更加环保。
本发明提供的一种瓷介电容器的清洗工艺，用去离子水替代乙醇进行瓷介电容器的清洗，提高生产安全性，更加节能环保。
附图说明
通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本发明的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
图1为本发明实施例提供的一种瓷介电容器的清洗工艺的总体设计图。
具体实施方式
下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
实施例一：
参见图1，图中示出了本发明实施例一提供的一种瓷介电容器的清洗工艺，包括以下步骤；
储水装置将自来水转化为去离子水，输送给储液槽；
储液槽将去离子水分配给第一分支储液槽、第二分支储液槽和第三分支储液槽；
第一分支储液槽向第一清洗槽输送去离子水，第二分支储液槽向第二清洗槽输送去离子水，第三分支储液槽向第三清洗槽输送去离子水；
电容器依次在第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽内进行清洗。
具体的，参见图1，储水装置包括串联的第一储水桶和第二储水桶，第一储水桶的进水口连接自来水进水管道、出水口连接第二储水桶的进水口，第二储水桶的出水口连接储液槽的进水口。
具体的，参见图1，第一分支储液槽、第二分支储液槽和第三分支储液槽串联设置，储液槽内的去离子水依次流入第三分支储液槽、第二分支储液槽和第一分支储液槽。
具体的，参见图1，第一清洗槽内设置有用于过滤电容器清洗产生的漂浮物的过滤芯。
具体的，参见图1，第二清洗槽通过第一循环管路连接第一过滤装置，第二清洗槽内导电性超标的去离子水被第一过滤装置过滤，过滤后导电性符合要求的去离子水被输送回第二清洗槽。
具体的，参见图1，第三清洗槽通过第二循环管路连接第二过滤装置，第三清洗槽内导电性超标的去离子水被第二过滤装置过滤，过滤后导电性符合要求的去离子水被输送回第三清洗槽。
本发明提供的一种瓷介电容器的清洗工艺，使用环保、安全的去离子水代替乙醇清洗电容器，瓷介电容器依次在第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽内进行超声波清洗，经历三道清洗工序的瓷介电容器清洁效果彻底，并且在保证清洗效果的情况下，避免了工业事故的隐患。储水装置的第一储水桶、第二储水桶内设置有过滤器，去除自来水中的离子物质形成去离子水，串联的两个储水桶一方面保证去离子水的供应，另一方面双重过滤保证去离子水的质量。
第一清洗槽作为第一道清洗工序，对去离子水的导电率要求低；第二清洗槽和第三清洗槽，对去离子水的导电率要求高。基于各清洗槽对去离子水的需求：一方面，储液槽在将去离子水进行分配时，依次分配给第三分支储液槽、第二分支储液槽、第一分支储液槽，因为去离子水在输送过程中容易获得离子物质，影响导电率，最先提供给第三清洗槽可以确保第三清洗槽获得的去离子水质量最高。另一方面，第一清洗槽只在内部设置有用于过滤电容器清洗产生的漂浮物的过滤芯，去离子水在第一清洗槽内自循环；第二清洗槽和第三清洗槽都连接过滤装置，对去离子水进行过滤，去除离子物质，保证去离子水导电率符合要求，实现去离子水的循环利用。去离子水的循环利用，实现节能减排，清洁过程更加环保。
本发明提供的一种瓷介电容器的清洗工艺，用去离子水替代乙醇进行瓷介电容器的清洗，提高生产安全性，更加节能环保。
实施例二：
参见图1，图中示出了本发明实施例二提供的一种瓷介电容器的清洗工艺，本实施例在上述实施例的基础上还进一步地做出了以下作为改进的技术方案：第二过滤装置还通过输水管路与第一分支储液槽相连接，当述第一分支储液槽内去离子水不足时，第三清洗槽输送到第二过滤装置的去离子水在过滤后输送给第一分支储液槽。
为了进一步实现节能减排，将第三清洗槽内的去离子水过滤后输送给第一清洗槽使用，第三清洗槽通过储液槽补充去离子水，不仅实现了去离子水的循环，还保证了第三清洗槽内去离子水的质量，保证清洗效果。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (7)
1.一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，包括以下步骤；
储水装置将自来水转化为去离子水，输送给储液槽；
所述储液槽将去离子水分配给第一分支储液槽、第二分支储液槽和第三分支储液槽；
所述第一分支储液槽向第一清洗槽输送去离子水，所述第二分支储液槽向第二清洗槽输送去离子水，所述第三分支储液槽向第三清洗槽输送去离子水；
电容器依次在所述第一清洗槽、所述第二清洗槽、所述第三清洗槽内进行清洗。
2.根据权利要求1所述的一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，所述储水装置包括串联的第一储水桶和第二储水桶，所述第一储水桶的进水口连接自来水进水管道、出水口连接所述第二储水桶的进水口，所述第二储水桶的出水口连接所述储液槽的进水口。
3.根据权利要求1所述的一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，所述第一分支储液槽、所述第二分支储液槽和所述第三分支储液槽串联设置，所述储液槽内的去离子水依次流入所述第三分支储液槽、所述第二分支储液槽和所述第一分支储液槽。
4.根据权利要求1所述的一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，所述第一清洗槽内设置有用于过滤电容器清洗产生的漂浮物的过滤芯。
5.根据权利要求1所述的一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，所述第二清洗槽通过第一循环管路连接第一过滤装置，所述第二清洗槽内导电性超标的去离子水被所述第一过滤装置过滤，过滤后导电性符合要求的去离子水被输送回所述第二清洗槽。
6.根据权利要求1所述的一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，所述第三清洗槽通过第二循环管路连接第二过滤装置，所述第三清洗槽内导电性超标的去离子水被所述第二过滤装置过滤，过滤后导电性符合要求的去离子水被输送回所述第三清洗槽。
7.根据权利要求6所述的一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，所述第二过滤装置还通过输水管路与所述第一分支储液槽相连接，当所述第一分支储液槽内去离子水不足时，所述第三清洗槽输送到所述第二过滤装置的去离子水在过滤后输送给所述第一分支储液槽。
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