CN111753778A - 显示模组、显示模组的制造方法及显示装置 - Google Patents

显示模组、显示模组的制造方法及显示装置 Download PDF

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CN111753778A CN202010610557.2A CN202010610557A CN111753778A CN 111753778 A CN111753778 A CN 111753778A CN 202010610557 A CN202010610557 A CN 202010610557A CN 111753778 A CN111753778 A CN 111753778A
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Abstract

本发明公开了一种显示模组、显示模组的制造方法及显示装置,显示模组包括:指纹识别组件,包括在显示模组厚度方向上层叠设置的第一电极、绝缘层、半导体件和第二电极,绝缘层位于第一电极上,半导体件位于绝缘层背离第一电极的一侧,第二电极位于半导体件背离绝缘层的一侧,绝缘层上设置有第一通孔和位于第一通孔周侧的第一过孔,第一通孔贯穿绝缘层设置,至少部分半导体件位于第一通孔并经由第一通孔与第一电极相互连接;吸光部件,与半导体件同层设置且材料相同,至少部分吸光部件位于第一过孔,且吸光部件与第一电极和第二电极中的至少一者相互绝缘。本发明实施例能够提高指纹识别组件对指纹识别的准确性。

Description

显示模组、显示模组的制造方法及显示装置
技术领域
本发明涉及显示领域,具体涉及一种显示模组、显示模组的制造方法及显示装置。
背景技术
近年来,随着显示技术的不断发展,采用指纹识别以实现用户隐私保护的显示装置也越来越多。用户在操作带有指纹识别功能的显示装置时,只需用手指触摸显示屏,即可实现权限验证,简单方便。
对于应用光学指纹识别技术的显示装置来说,其在进行指纹识别时,光源发出的光线经由触摸主体(如手指)反射进入指纹识别单元。指纹识别单元根据指纹的谷和脊所在位置反射光的光强的不同来实现指纹的识别。但是,基于目前的显示装置的结构,在进行指纹识别时,除了经指纹反射至指纹识别单元的反射光外,还会有未经指纹反射的光,即,不能反映指纹信息的光进入指纹识别单元,影响指纹识别的准确性。
因此,亟需一种新的显示模组、显示模组的制造方法及显示装置。
发明内容
本发明实施例提供一种显示模组、显示模组的制造方法及显示装置,旨在提高指纹识别的准确性。
本发明实施例提供一种显示模组,显示模组包括:指纹识别组件,包括在显示模组厚度方向上层叠设置的第一电极、绝缘层、半导体件和第二电极,绝缘层位于第一电极上,半导体件位于绝缘层背离第一电极的一侧,第二电极位于半导体件背离绝缘层的一侧,绝缘层上设置有第一通孔和位于第一通孔周侧的第一过孔,第一通孔贯穿绝缘层设置,至少部分半导体件位于第一通孔并经由第一通孔与第一电极相互连接;吸光部件,与半导体件同层设置且材料相同,至少部分吸光部件位于第一过孔,且吸光部件与第一电极和第二电极中的至少一者相互绝缘。
另一方面,本发明实施例提供一种显示模组的制造方法,包括:
在基板上形成第一电极;
在第一电极上形成绝缘层,绝缘层包括第一过孔和贯穿设置的第一通孔,第一过孔位于第一通孔的周侧,第一通孔和第一电极在显示模组的厚度方向上对应设置,以使第一电极由第一通孔露出;
在绝缘层上制作半导体材料以形成半导体件和吸光部件,至少部分半导体件位于第一通孔并经由第一通孔和第一电极连接,吸光部件位于第一过孔,且吸光部件和第一电极绝缘设置;
在半导体件上形成第二电极。
再一方面,本发明实施例提供一种显示装置,其包括上述任一实施方式的显示模组。
在本发明实施例的显示模组中,显示模组包括指纹识别组件和吸光部件。指纹识别组件包括第一电极、绝缘层、半导体件和第二电极,绝缘层上设置有第一通孔,半导体件在所述通孔内与所述第一电极和所述第二电极相互接触,第一电极、半导体件和第二电极相互作用能够识别指纹。绝缘层上位于第一通孔的周侧设置有第一过孔,吸光部件位于第一过孔内,能够吸收侧面射向半导体件的杂散光,提高指纹识别的准确性。吸光部件和半导体件同层设置且材料相同,使得在显示模组的成型过程中,半导体件和吸光部件可以同步骤成型,简化显示模组的成型工艺。吸光部件与第一电极和第二电极中的至少一者相互绝缘,能够避免吸光部件影响指纹识别组件的正常运行。因此本发明实施例能够不影响指纹识别组件的正常运行,提高指纹识别组件对指纹识别的准确性,并简化显示模组的成型工艺。
附图说明
通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显,其中,相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征,附图并未按照实际的比例绘制。
图1示出一种显示模组的局部剖视图;
图2示出本发明实施例提供的一种显示模组的俯视图;
图3示出图2中Q处的局部放大结构示意图;
图4示出本发明一实施例提供的图3中A-A处的剖视图;
图5示出本发明一实施例提供的显示模组中绝缘层的结构示意图;
图6示出本发明另一实施例提供的图3中A-A处的剖视图;
图7示出本发明又一实施例提供的图3中A-A处的剖视图;
图8示出本发明再一实施例提供的图3中A-A处的剖视图;
图9示出本发明一实施例提供的显示模组的俯视图;
图10示出本发明另一实施例提供的显示模组的俯视图;
图11示出本发明又一实施例提供的显示模组的俯视图;
图12示出本发明还一实施例提供的显示模组的俯视图;
图13示出本发明再一实施例提供的显示模组的俯视图;
图14示出本发明一实施例提供的显示模组的制造方法流程图;
图15至图22示出本发明实施例提供的显示模组的成型过程图。
附图标记说明:
10、子像素;20、遮光结构;21、透光孔;30、基板;31、光源基板;31a、光源;32、驱动基板;
100、指纹识别组件;110、第一电极;111、连接引线;120、绝缘层;121、第一通孔;122、第一过孔;122a、第一分段;122b、第二分段;130、半导体件;131、第一导电元件;140、第二电极;
200、吸光部件;210、第二导电元件;
300、缓冲层;310、第二过孔;
400、第一遮光部件;
500、第二遮光部件;510、第二通孔;
600、平坦化层;600a、第一平坦化层;600b、第二平坦化层;610、第三过孔。
具体实施方式
下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例,为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体实施例,对本发明进行进一步详细描述。应理解,此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本发明,并不被配置为限定本发明。对于本领域技术人员来说,本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明更好的理解。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
应当理解,在描述部件的结构时,当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时,可以指直接位于另一层、另一个区域上面,或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且,如果将部件翻转,该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。
近年来,随着显示技术的不断发展,采用指纹识别以实现用户隐私保护的显示装置也越来越多。
如图1所示,图1为一种显示模组的结构图,显示模组包括光源31a、驱动基板32和指纹识别组件100。光源31a发出的光抵达手指,并被手指反射进入指纹识别组件100内,指纹识别组件100根据指纹的谷和脊所在位置反射光的光强的不同来实现指纹的识别。
如图1中所示实心箭头所示的光线,只有经由手指反射并进入的指纹识别组件100的光才是有效的信号光。然而,当光源31a发出的光在穿透驱动基板32时,由于驱动基板32内存在反光金属材料,在驱动基板32的各膜层之间会发生反射光,如图1中空心箭头所示的光线,这些反射光会进入到指纹识别组件100中,这部分的光称为杂散光。进入指纹识别组件100的杂散光如果太强将导致指纹识别组件100电路过曝并影响指纹识别图像清晰度。
为了解决上述问题,提出本发明。为了更好地理解本发明,下面结合对本发明实施例的显示模组、显示模组的制造方法及显示装置进行详细描述。
请一并参阅图2,图2示出本发明实施例提供的一种显示模组的俯视图。根据本发明实施例提供的显示模组,显示模组包括显示区AA和非显示区NA。在另一些可可选的实施例中,显示模组还可以包括显示区AA,而不包括非显示区NA。显示区AA内设置有指纹识别区,图2中以点划线框Q示出指纹识别区。指纹识别区的设置位置和尺寸不做限定,指纹识别区还可以设置于显示区AA的其他位置,指纹识别区的尺寸例如还可以和显示区AA相同。
请一并参阅图3,图3示出图2中Q处的局部放大结构示意图。显示模组包括多个子像素10,多个子像素10成行成列排布。相邻的两行子像素10或者相邻的两列子像素10之间设置有遮光结构20,遮光结构20上开设有透光孔21,以使指纹识别光线能够由透光孔21内穿过。
请一并参阅图4和图5,图4示出本发明一种实施例中图3中A-A处的剖视图。图5示出显示模组中绝缘层120的俯视图。
根据本发明实施例的显示模组,显示模组包括:指纹识别组件100,包括在显示模组厚度方向(图4中的Z方向)上层叠设置的第一电极110、绝缘层120、半导体件130和第二电极140,绝缘层120位于第一电极110上,半导体件130位于绝缘层120背离第一电极110的一侧,第二电极140位于半导体件130背离绝缘层120的一侧,绝缘层120上设置有第一通孔121和位于第一通孔121周侧的第一过孔122,第一通孔121贯穿绝缘层120设置,至少部分半导体件130位于第一通孔121并经由第一通孔121与第一电极110相互连接;吸光部件200,与半导体件130同层设置且材料相同,至少部分吸光部件200位于第一过孔122,且吸光部件200与第一电极110和第二电极140中的至少一者相互绝缘。
半导体件130例如为感光半导体,半导体件130由具有光敏特性的半导体材料形成。在光线照射半导体件130时,半导体件130内会产生光生载流子。光线的强弱会改变光生载流子的密度,进而能够改变半导体件130的电学特性。
在本发明实施例的显示模组中,显示模组包括指纹识别组件100和吸光部件200。指纹识别组件100包括第一电极110、绝缘层120、半导体件130和第二电极140,绝缘层120上设置有第一通孔121,半导体件130在第一通孔121内与所述第一电极110和所述第二电极140相互电连接,第一电极110、半导体件130和第二电极140相互作用能够识别指纹。
绝缘层120上位于第一通孔121的周侧设置有第一过孔122,至少部分吸光部件200位于第一过孔122内,使得吸光部件200能够吸收从半导体周侧射向半导体件130的杂散光,提高指纹识别的准确性。吸光部件200和半导体件130同层设置且材料相同,使得在显示模组的成型过程中,使得吸光部件200能够吸收杂散光,且使得半导体件130和吸光部件200可以同步骤成型,简化显示模组的成型工艺。吸光部件200与第一电极110和第二电极140中的至少一者相互绝缘,能够避免吸光部件200影响指纹识别组件100的正常运行。因此本发明实施例能够不影响指纹识别组件100的正常运行,提高指纹识别组件100对指纹识别的准确性,并简化显示模组的成型工艺。
在一些可选的实施例中,显示模组例如还包括设置于第一电极110背离半导体件130一侧的基板30。基板30例如包括光源基板31和驱动基板32。光源基板31上设置有光源31a,光源31a可以为显示模组中已有背光源,也可以是除背光源额外设置的光源。
半导体件130的位置设置有多种,例如显示模组包括成行成列排布的子像素10,半导体件130在基板上的正投影位于相邻的两个子像素10之间,即半导体件130在基板上的正投影与子像素10在基板上的正投影错位不重叠设置,避免指纹识别光线被子像素10阻挡,保证指纹识别组件100的正常运行。
可选的,半导体件130背离绝缘层120的表面设置有第一导电元件131,使得第二电极140通过第一导电元件131和半导体件130相互连接。通过设置第一导电元件131,能够增加半导体件130的有效面积。
在一些可选的实施例中,吸光部件200背离绝缘层120的表面设置有第二导电元件210,第一导电元件131与第二导电元件210同层设置且材料相同。使得吸光部件200能够选择与半导体件130及第一导电元件131相同的工艺步骤成型,能够简化显示模组的成型工艺。
请一并参阅图6,图6是另一可选实施例中图3中A-A处的剖视图。
根据本发可选的实施例中,第一过孔122由绝缘层120的表面凹陷形成并呈凹槽状,至少部分第一过孔122和第一电极110在厚度方向上至少部分重叠设置,和/或,至少部分第一过孔122和第一电极110在厚度方向上错位设置。
在这些可选的实施例中,第一过孔122由绝缘层120表面凹陷形成,第一过孔122为盲孔,位于第一过孔122内的吸光部件200能够通过凹槽的底部与第一电极110相互绝缘。因此第一过孔122可以与第一电极110在厚度方向上重叠设置,或者第一过孔122可以与第一电极110在厚度方向上错位设置。
第一过孔122与第一电极110在厚度方向上至少部分重叠设置是指:第一过孔122在厚度方向上的正投影与第一电极110在厚度方向上的正投影至少部分重叠,即第一过孔122在基板上的投影与第一电极110在基板上的投影至少部分重叠。第一过孔122与第一电极110在厚度方向上错位设置是指:第一过孔122在厚度方向上的正投影与第一电极110在厚度方向上的正投影不重叠,即第一过孔122在基板上的投影与第一电极110在基板上的投影不重叠。
在另一些可选的实施例中,第一过孔122贯穿绝缘层120设置,且第一过孔122和第一电极110在厚度方向上错位设置。
在这些可选的实施例中,第一过孔122为通孔,第一过孔122和第一电极110在厚度方向上错位设置,使得吸光部件200能够通过第一过孔122的侧部与第一电极110相互绝缘设置。第一过孔122贯穿绝缘层120,能够增加吸光部件200在厚度方向上的延伸尺寸,提高吸光部件200的遮光效果。
在又一些可选的实施例中,第一过孔122环绕第一通孔121呈环状,至少部分第一过孔122为贯穿绝缘层120设置的通孔,另一部分为由绝缘层120表面凹陷形成的盲孔。
请一并参阅图7,图7是又一可选实施例中图3中A-A处的剖视图。
根据本发明可选的实施,显示模组还包括缓冲层300,缓冲层300位于第一电极110背离半导体件130的一侧,缓冲层300上开设有第二过孔310,且第二过孔310和第一过孔122相互连通,吸光部件200经由第一过孔122和第二过孔310延伸至缓冲层300内。
在这些可选的实施例中,吸光部件200经由第一过孔122和第二过孔310延伸至缓冲层300内,即吸光部件200延伸至第一电极110背离半导体件130的一侧,能够进一步提高吸光部件200的遮光效果,提高指纹识别的准确性。
在一些可选的实施例中,显示模组还包括第一遮光部件400,位于缓冲层300背离半导体件130的一侧,第一遮光部件400在厚度方向上的正投影覆盖半导体件130在厚度方向上的正投影。
第一遮光部件400在厚度方向上的正投影覆盖半导体件130在厚度方向上的正投影:即第一遮光部件400在基板上的正投影覆盖半导体件130在基板上的正投影,第一遮光部件400能够遮挡由第一电极110和半导体件130下方的杂散光,提高指纹识别的准确性。
第一遮光部件400的材料设置有多种,第一遮光部件400例如可以选用金属反光材料,使得第一遮光部件400能够反射杂散光。或者第一遮光部件400选用吸光材料,使得第一遮光部件400能够吸收杂散光,避免杂散光经由第一遮光部件400至半导体件130。
可选的,当基板包括光源基本和驱动基板时,第一遮光部件400位于驱动基板背离光源基板的一侧,第一遮光部件400位于驱动基板和指纹识别组件100之间,使得第一遮光部件400能够遮挡部分驱动基板的反射光。
在一些实施例中,第二过孔310延伸至第一遮光部件400,吸光部件200经由第一过孔122和第二过孔310与第一遮光部件400相互连接。
在这些可选的实施例中,吸光部件200和第一遮光部件400相互连接,能够减少第一遮光部件400和吸光部件200之间的间隙,使得吸光部件200和第一遮光部件400围合形成一个较为封闭的遮光空间,进一步提高遮光效果,提高只为识别的准确性。
吸光部件200经由第一过孔122和第二过孔310与第一遮光部件400相互连接的方式有多种:例如第一遮光部件400和吸光部件200在厚度方向上至少部分重叠设置,即第一遮光部件400在基板上的正投影与吸光部件200在基板上的正投影至少部分重叠,第二过孔310沿厚度方向延伸,使得吸光部件200经由第一过孔122和第二过孔310与第一遮光部件400相互连接。或者,第一遮光部件400和吸光部件200在厚度方向上错位设置,第二过孔310沿预设路径延伸,以使吸光部件200经由第一过孔122和第二过孔310与第一遮光部件400相互连接。
请一并参阅图8,图8是再一可选的实施例中图3中A-A处的剖视图。
根据本发明可选的实施例,显示模组还包括位于半导体件130背离第一电极110一侧的第二遮光部件500,第二遮光部件500上贯穿设置有和半导体对应设置的第二通孔510,半导体件130经由第二通孔510接收指纹识别光线;第二遮光部件500和半导体件130之间设置有平坦化层600,平坦化层600上设置有第三过孔610,第三过孔610位于半导体件130的周侧,且至少部分第二遮光部件500延伸至第三过孔610内。
在这些可选的实施例中,半导体件130背离第一电极110的一侧设置有第二遮光部件500,第二遮光部件500上设置有与半导体件130对应设置的第二通孔510,使得指纹识别光线能够由第二通孔510内低到半导体件130。通过设置第二遮光部件500,能够遮挡来自于半导体件130上方的杂散光,进一步提高指纹识别的准确性。
第二遮光部件500的材料设置有多种,第二遮光部件500例如可以选用金属反光材料,使得第二遮光部件500能够反射杂散光。或者第二遮光部件500选用吸光材料,使得第二遮光部件500能够吸收杂散光,避免杂散光经由第二遮光部件500至半导体件130。
平坦化层600上设置有第三过孔610,且第三过孔610位于半导体件130的周侧,至少部分第二遮光部件500延伸至第三过孔610内,能够使得位于第三过孔610内的第二遮光部件500遮挡半导体件130周侧的杂散光,提高指纹识别的准确性。
可选的,第三过孔610贯穿平坦化层600,第二遮光部件500经由第三过孔610和吸光部件200相互连接。能够减少第二遮光部件500和吸光部件200之间的间隙,使得第二遮光部件500与吸光部件200能够形成一个较为封闭的遮光空间,提高遮光效果,提高指纹识别的准确性。
在一些可选的实施例中,显示模组还包括其他导电部件,其他导电部件和第一电极110在厚度方向上错位设置,第一电极110通过连接引线111和其他导电部件相互连接。
请一并参阅图9和图10,图9是本发明一实施例中显示模组的局部结构的俯视图。图10是本发明另一实施例中显示模组的局部结构的俯视图。为了更加清晰的展示本发明实施例显示模组的结构,图9和图10中对部分结构进行了透明化处理。图9和图10中以虚线框示出了吸光部件200和半导体件130的设置区域。
在一些实施例中,吸光部件200和半导体件130为连续整层设置,且吸光部件200和第一电极110之间相互绝缘。在这些可选的实施例中,吸光部件200和半导体件130为连续整层设置,使得吸光部件200和半导体件130可以在同一工艺步骤中连续成型,进一步简化显示模组的成型工艺。吸光部件200在与半导体件130连续整层设置时,吸光部件200通过半导体件130与第二电极140相互连接,而吸光部件200与第一电极110之间相互绝缘,使得吸光部件200不会影响指纹识别组件100的正常运行,吸光部件200仅起到遮光的效果。
吸光部件200和半导体件130为连续整层设置是指:至少部分吸光部件200与半导体件130相互连接,使得吸光部件200和半导体件130连接为一个整层结构。吸光部件200可以与半导体件130连接为没有间隙的整层结构,或者部分吸光部件200与半导体件130之间存在间隙。
或者,在另一些可选的实施例中,请一并参阅图11和图12,图11和图12中以虚线框示出了吸光部件200和半导体件130的设置区域,其中吸光部件200所在的设置区域200a和半导体件130所在的设置区域130a间隔设置。即吸光部件200和半导体件130间隔设置。吸光部件200和半导体件130相互绝缘,则吸光部件200与第二电极140相互绝缘,吸光部件200可以与第一电极110相互绝缘,或者吸光部件200与第一电极110相互连接。
第一过孔122的设置方式有多种,例如如图13所示,第一过孔122环绕于第一通孔121的周侧呈环状,使得位于第一过孔122内的吸光部件200能够环绕于半导体件130的周侧设置,且吸光部件200能够形成一个较为封闭的遮光空间。
或者,如图9和图11所示,第一过孔122环绕于第一通孔121的周侧呈开口环状。即第一过孔122环绕于第一通孔121的周侧设置,且第一过孔122不是一个封闭的环状结构体。例如当第一电极110通过连接引线111和其他导电部件相互连接时,第一过孔122上的开口和连接引线111在厚度方向上重叠设置,避免吸光部件200和连接引线111误连而影响指纹识别组件100的正常运行。
或者,如图10和图12所示,在又一些可选的实施例中,第一过孔122在第一通孔121的一侧延伸呈条状。条状的第一过孔122个数不做限定,条状的第一过孔122例如为一个,一个第一过孔122设置于第一通孔121的一侧。或者,条状的第一过孔122为两个,两个第一过孔122设置于第一通孔121上相对或相邻的两侧。或者,条状的第一通孔121为三个,三个第一过孔122环绕于第一通孔121的周侧,且三个第一过孔122和连接引线111在厚度方向上错位设置。或者,第一通孔121为四个,四个第一通孔121环绕于第一通孔121的周侧设置。
第一过孔122的设置方式有多种,第一过孔122例如为贯穿绝缘层120设置的通孔,或者,第一过孔122为由绝缘层120背离第一电极110的表面朝向第一电极110凹陷形成的盲孔。
例如,当第一过孔122为环状结构,且第一过孔122与半导体件130相互连接时,第一过孔122上与连接引线111在厚度方向上错位的部位为通孔,且第一过孔122与第一电极110在厚度方向上错位设置,第一过孔122上与连接引线111在厚度方向上重叠的部位为盲孔。吸光部件200与第一电极110相互绝缘,且吸光部件200与连接引线111相互绝缘。
在一些实施例中,如图13所示,第一过孔122呈环状,第一过孔122包括第一分段122a和第二分段122b,第一分段122a和连接引线111在厚度方向上错位设置,第一分段122a贯穿绝缘层120设置,且第一分段122a与第一电极110在厚度方向上错位设置,第二分段122b和连接引线111在厚度方向上重叠设置,且第二分段122b由绝缘层120的表面凹陷形成并呈凹槽状。
在这些可选的实施例中,既能够使得位于第一过孔122内的吸光部件200形成一个较为封闭的遮光空间,还能够保证吸光部件200和第一电极110、连接引线111之间相互绝缘,保证指纹识别组件100的正常运行,并提高指纹识别组件100对指纹识别的准确性。
在另一些可选的实施例中,当第一过孔122呈具有开口的环状,第一过孔122的开口和连接引线111在厚度方向上错位设置,且第一过孔122与半导体件130相互连接时,第一过孔122可以为通孔状,或者第一过孔122为盲孔,或者部分第一过孔122为通孔,另一部分第一过孔122为盲孔。
在又一些可选的实施例中,第一过孔122为多个,多个第一过孔122环绕第一通孔121设置。使得多个第一过孔122能够形成一个较为封闭的遮光空间,提高吸光部件200的吸光效果,提高指纹识别组件100的指纹识别准确性。
本发明第二实施例提供一种显示装置,包括上述的显示模组。该显示装置可以是手机、平板电脑等任意具备显示和指纹识别功能的显示设备。由于本发明实施例的显示装置包括上述的显示模组,因此本发明实施例的显示装置具有上述显示模组所具有的有益效果,在此不再赘述。
请一并参阅图14,图14为本发明实施例提供的一种显示模组制造方法流程图,该显示模组可以为上述任一实施例中的显示模组。根据本发明第三实施例提供的显示模组的制造方法。请一并参阅图4所示的显示模组结构,显示模组的制造方法包括:
步骤S01:在基板30上形成第一电极110。
步骤S02:在第一电极110上形成绝缘层120。
请一并参阅图5,上述的绝缘层120包括第一过孔122和贯穿设置的第一通孔121,第一过孔122位于第一通孔121的周侧,第一通孔121和第一电极110在显示模组的厚度方向上对应设置,以使第一电极110由第一通孔121露出。
步骤S03:在绝缘层120上制作半导体材料以形成半导体件130和吸光部件200。
其中,如图4所示,至少部分半导体件130位于第一通孔121并经由第一通孔121和第一电极110电连接,吸光部件200位于第一过孔122,且吸光部件200和第一电极110绝缘设置。
步骤S04:在半导体件130上形成第二电极140。
在这些可选的实施例中,在同一步骤S03中可以形成半导体件130和吸光部件200,能够简化显示模组的成型工艺。至少部分吸光部件200位于第一过孔122内,即至少部分吸光部件200位于半导体件130的周侧,使得吸光部件200能够吸收半导体件130周侧的杂散光,提高指纹识别的准确性。
在一些可选的实施例中,基板30上还设置有缓冲层300,第一过孔122贯穿绝缘层120设置,第一过孔122和第一电极110在厚度方向上错位设置,则在步骤S01之前,显示模组的制造方法还包括:在基板30上形成缓冲层300。
其中,如图7所示,缓冲层300上开设有第二过孔310,且第二过孔310和第一过孔122在厚度方向上对应设置,以使吸光部件200能够经由第一过孔122延伸至第二过孔310。
则在步骤S01中,在缓冲层300上形成第一电极110。
在这些可选的实施例中,第一电极110背离半导体件130的一侧设置有缓冲层300,吸光部件200经由第一过孔122和第二过孔310延伸至缓冲层300内,即吸光部件200延伸至第一电极110背离半导体件130的一侧,能够进一步提高吸光部件200的遮光效果,提高指纹识别的准确性。
在另一些可选的实施例中,在基板30上形成缓冲层300的步骤之前还包括:在基板30上形成第一遮光部件400,第一遮光部件400在厚度方向上的正投影覆盖半导体件130在厚度方向上的正投影。
此时步骤在基板30上形成缓冲层300中:在第一遮光部件400上形成缓冲层300,至少部分第一遮光部件400由第二过孔310露出,以使吸光部件200能够经由第一过孔122和第二过孔310连接于第一遮光部件400。
在这些可选的实施例中,通过设置第一遮光部件400能够遮挡来自于半导体件130背离第二电极140一侧的杂散光。第一遮光部件400和吸光部件200相互连接,能够减少第一遮光部件400和吸光部件200之间的间隙,使得第一遮光部件400和吸光部件200之间形成较为封闭的遮光空间,提高遮光效果,提高指纹识别组件100的准确性。
在一些可选的实施例中,请一并参阅图8,在步骤S04之前还包括:在半导体件130和吸光部件200上形成平坦化层600,平坦化层600上设置有第三过孔610,第三过孔610位于第一通孔121的周侧。在平坦化层600上形成第二遮光部件500,且至少部分第二遮光部件500延伸至第三过孔610内,第二遮光部件500上贯穿设置有第二通孔510,以使半导体件130由第二通孔510接收纹识别光线。
此时步骤S04中:在第二遮光部件500上形成第二电极140。
在这些可选的实施例中,通过设置第二遮光部件500能够遮挡来自于半导体件130背离第一电极110一侧的杂散光,使得指纹识别光线能够由第二通孔510内进入半导体件130,进一步提高指纹识别的准确性。第二遮光部件500延伸至第三过孔610内,能够使得至少部分第三遮光部件遮挡半导体件130侧面的杂散光,提高指纹识别的准确性。
可选的,第三过孔610贯穿平坦化层600设置,以使第二遮光部件500经由第三过孔610和吸光部件200相互连接。能够减少第二遮光部件500和吸光部件200之间的间隙,使得第二遮光部件500与吸光部件200能够形成一个较为封闭的遮光空间,提高遮光效果,提高指纹识别的准确性。
请一并参阅图15至22,以图4所示的显示模组的结构为例,举例说明显示模组的制造方法。
步骤一:请一并参阅图15,在基板30上形成第一遮光部件400。
基板30例如包括光源基板31和驱动基板32。光源基板31内例如设置有光源31a。驱动基板32内例如设置有驱动电路。
步骤二:请一并参阅图16,在第一遮光部件400上形成缓冲层300,并在缓冲层300上形成第一电极110。
在另一些可选的实施例中,如图7所示,缓冲层300上例如还设置有第三过孔610,第一遮光部件400由第三过孔610露出。
在另一些可选的实施例中,如图7所示,还可以在缓冲层300上形成与第一电极110同层设置的导电元件,例如连接引线111、其他导电部件等。
步骤三:请一并参阅图17。在第一电极110上形成绝缘层120,绝缘层120包括第一通孔121和位于第一通孔121周侧的第一过孔122。
其中,如图5所示,第一通孔121与第一电极110对应设置,第一电极110由第一通孔121露出。第一过孔122为通孔,第一过孔122呈具有开口的环状结构,第一过孔122的开口与连接引线111在厚度方向上错位设置,且第一过孔122与第一电极110在厚度方向上错位设置。
在另一些可选的实施例中,如图18所示,第一过孔122还可以为封闭环状结构,第一过孔122可以包括上述的第一分段122a和第二分段122b。第一分段122a贯穿绝缘层120,以使缓冲层300由第一分段122a露出。第二分段122b为盲孔。
步骤四:请一并参阅图19和图20,图20为图19的俯视图在绝缘层120上形成半导体件130和吸光部件200,且半导体件130与吸光部件200连续整层设置。
至少部分半导体件130位于第一通孔121并与第一电极110相互连接。至少部分吸光部件200位于第一过孔122以吸收半导体件130周侧的杂散光。
如上所述,半导体件130还可以与吸光部件200间隔设置。
可选的,如图4所示,还可以继续在半导体件130上设置第一导电元件131。在吸光部件200上设置第二导电元件210。第一导电元件131和第二导电元件210同层且同材料设置,使得第一导电元件131和第二导电元件210可以选用相同的工序成型。
步骤五:请一并参阅图21,在半导体件130和吸光部件200上形成第一平坦化层600a。并在第一平坦化层600a上形成第二遮光部件500。
在一些可选的实施例中,第一平坦化层600a上例如还设置有第三过孔610,第三过孔610例如贯穿第一平坦化层600a设置,且第三过孔610与第一过孔122相互连通。
第二遮光部件500上设置有第二通孔510,指纹识别光线经由第二通孔510抵达半导体件130。第二遮光部件500例如在厚度方向上覆盖半导体件130设置。
步骤六:请一并参阅图22,在第二遮光部件500层上形成第二平坦化层600b,并在第二平坦化层600b上形成第二电极140。
依照本发明如上文所述的实施例,这些实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然,根据以上描述,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (17)

1.一种显示模组,其特征在于,包括:
指纹识别组件,包括在所述显示模组厚度方向上层叠设置的第一电极、绝缘层、半导体件和第二电极,所述绝缘层位于所述第一电极上,所述半导体件位于所述绝缘层背离所述第一电极的一侧,所述第二电极位于所述半导体件背离所述绝缘层的一侧,所述绝缘层上设置有第一通孔和位于所述第一通孔周侧的第一过孔,所述第一通孔贯穿所述绝缘层设置,至少部分所述半导体件位于所述第一通孔并经由所述第一通孔与所述第一电极相互连接;
吸光部件,与所述半导体件同层设置且材料相同,至少部分所述吸光部件位于所述第一过孔,且所述吸光部件与所述第一电极和所述第二电极中的至少一者相互绝缘。
2.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述半导体件背离所述绝缘层的表面设置有第一导电元件,所述吸光部件背离所述绝缘层的表面设置有第二导电元件,所述第一导电元件与所述第二导电元件同层设置且材料相同。
3.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一过孔由所述绝缘层的表面凹陷形成并呈凹槽状,所述第一过孔和所述第一电极在所述厚度方向上至少部分重叠设置,或者,所述第一过孔和所述第一电极在所述厚度方向上错位设置。
4.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一过孔贯穿所述绝缘层设置,且所述第一过孔和所述第一电极在所述厚度方向上错位设置。
5.根据权利要求4所述的显示模组,其特征在于,还包括:缓冲层,位于所述第一电极背离所述半导体件的一侧,所述缓冲层上开设有第二过孔,且所述第二过孔和所述第一过孔相互连通,所述吸光部件经由所述第一过孔和所述第二过孔延伸至所述缓冲层内。
6.根据权利要求5所述的显示模组,其特征在于,还包括第一遮光部件,位于所述缓冲层背离所述半导体件的一侧,所述第一遮光部件在所述厚度方向上的正投影覆盖所述半导体件在所述厚度方向上的正投影。
7.根据权利要求6所述的显示模组,其特征在于,所述第二过孔延伸至所述第一遮光部件,所述吸光部件经由所述第一过孔和所述第二过孔与所述第一遮光部件相互连接。
8.根据权利要求1-7任一项所述的显示模组,其特征在于,还包括位于所述半导体件背离所述第一电极一侧的第二遮光部件,所述第二遮光部件上贯穿设置有和所述半导体件对应设置的第二通孔,所述半导体件经由所述第二通孔接收指纹识别光线;
所述第二遮光部件和所述半导体件之间设置有平坦化层,所述平坦化层上设置有第三过孔,所述第三过孔位于所述半导体件的周侧,且至少部分所述第二遮光部件延伸至所述第三过孔内。
9.根据权利要求8所述的显示模组,其特征在于,所述第三过孔贯穿所述平坦化层,所述第二遮光部件经由所述第三过孔和所述吸光部件相互连接。
10.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,
所述吸光部件和所述半导体件为连续整层设置,且所述吸光部件与所述第一电极相互绝缘;
或者,所述吸光部件和所述半导体件间隔设置。
11.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一过孔环绕于所述第一通孔的周侧呈环状或者开口环状;
或者,所述第一过孔沿所述第一通孔的一侧延伸呈条状;
或者,所述第一过孔为多个,多个所述第一过孔环绕所述第一通孔设置。
12.一种显示模组的制造方法,其特征在于,包括:
在基板上形成第一电极;
在第一电极上形成绝缘层,所述绝缘层包括第一过孔和贯穿设置的第一通孔,所述第一过孔位于所述第一通孔的周侧,所述第一通孔和所述第一电极在所述显示模组的厚度方向上对应设置,以使所述第一电极由所述第一通孔露出;
在所述绝缘层上制作半导体材料以形成半导体件和吸光部件,至少部分所述半导体件位于所述第一通孔并经由所述第一通孔和所述第一电极连接,所述吸光部件位于所述第一过孔,且所述吸光部件和所述第一电极绝缘设置;
在所述半导体件上形成第二电极。
13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述第一过孔贯穿所述绝缘层设置,所述第一过孔和所述第一电极在所述厚度方向上错位设置,所述基板上还设置有缓冲层,在所述在基板上形成第一电极的步骤之前还包括:
在所述基板上形成缓冲层,所述缓冲层上开设有第二过孔,且所述第二过孔和所述第一过孔在所述厚度方向上对应设置,以使所述吸光部件能够经由所述第一过孔延伸至所述第二过孔;
所述在基板上形成第一电极的步骤中:在所述缓冲层上形成第一电极。
14.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,在所述基板上形成缓冲层的步骤之前还包括:
在所述基板上形成第一遮光部件,所述第一遮光部件在所述厚度方向上的正投影覆盖所述半导体件在所述厚度方向上的正投影;
在所述基板上形成缓冲层的步骤中:在所述第一遮光部件上形成所述缓冲层,至少部分所述第一遮光部件由所述第二过孔露出,以使所述吸光部件能够经由所述第一过孔和所述第二过孔连接于所述第一遮光部件。
15.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,在所述半导体件上形成第二电极的步骤之前还包括:
在所述半导体件和所述吸光部件上形成平坦化层,所述平坦化层上设置有第三过孔,所述第三过孔位于所述第一通孔的周侧;
在所述平坦化层上形成第二遮光部件,且至少部分所述第二遮光部件延伸至所述第三过孔内,所述第二遮光部件上贯穿设置有第二通孔,以使所述半导体件由所述第二通孔接收纹识别光线;
在所述半导体件上形成第二电极的步骤中:在所述第二遮光部件上形成所述第二电极。
16.根据权利要求15所述的方法,其特征在于,所述第三过孔贯穿所述平坦化层设置,以使所述第二遮光部件经由所述第三过孔和所述吸光部件相互连接。
17.一种显示装置,其特征在于,包括根据权利要求1-11任一项所述的显示模组。
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