CN111743791A - 一种融妆快速的卸妆乳霜及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种融妆快速的卸妆乳霜,所述卸妆乳霜包含以下质量百分比的组分:蔗糖脂肪酯乳化剂0.5%~3%、高碳链乙烯醇聚醚乳化剂0.3%~1.5%、油脂65%~80%、气相法二氧化硅0.5%~3%、小分子多元醇2%~10%、防腐剂0.2%~1%、香精0.05%~0.2%、余量为去离子水。本发明的卸妆乳霜采用低乳化剂含量乳化稳定高油脂含量,同时平衡了融妆卸妆速度、使用清爽感以及长期稳定性三方面的要求,适合所有肤质特别是干敏皮人群使用。

Description

一种融妆快速的卸妆乳霜及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种融妆快速的卸妆乳霜及其制备方法,属于化妆品技术领域。
背景技术
据欧睿预测,2017~2021年,中国彩妆市场销售额的复合增长率为11%,这受益于消费者对彩妆的接受度越来越高,对彩妆的了解也相对增加。随着彩妆市场的蓬勃发展,消费者对卸妆类产品的需求也将日益强劲。人们为了脸部肌肤的洁净和健康,卸妆产品成了必备用品。现如今卸妆概念越来越受到爱美人士的关注。据凯度消费者指数连续性城市家庭购买数据显示,卸妆产品(包括深层洁面产品)在近两年都保持着大于10%的增长速度,并指出卸妆产品将在未来有很大的发展空间。而据前瞻产业研究院发布的《中国卸妆产品市场需求与投资规划分析报告》数据显示,最近几年卸妆产品增长率维持在15%以上。虽然目前来看市场只有彩妆的四分之一,但从长远来看,卸妆产品增势十分强劲。
随着彩妆使用者越来越多,如何正确地选择合适自己的卸妆产品,是每个消费者都迫切需要了解的课题。卸妆,按字面意思理解即为将彩妆卸除。彩妆产品由于需要长效遮盖的能力,以保持较长时间不脱妆,而不脱妆带来的影响就是当你想清除掉那一层妆容的时候,就不得不多费一些力气;于是,专门用于除去彩妆的清洁产品,就是卸妆产品。卸妆从本质上来说,是一个清洁的过程。那么根据现在的清洁原理,可以分为两大类,第一是相似相容原理(以油溶油),第二是表面活性剂的清洁原理。如果按照产品剂型来分,卸妆产品可以分为卸妆油、卸妆水、卸妆乳、卸妆膏、卸妆凝胶、多层卸妆液、卸妆泡泡等,无非遵循着以上两个卸妆原理中的一个或者两个。一款好的卸妆产品需要具备的特点除了高效卸除各类彩妆产品(尤其包括防水型彩妆)、对肌肤温和无刺激、使用便捷、容易清洗无残留、肤感清爽不油腻之外,更重要的是适合自己的肤质特点以及个人日常妆容。不正当的卸妆产品或者卸妆手法会导致清洁不够或者过度清洁,长此以往极大损伤了皮肤角质屏障,进而引发一系列的肌肤问题。
相比于卸妆水的表面活性剂会带来潜在刺激性,特别是配合卸妆棉使用更加剧了其物理伤害,以及卸妆油的使用油腻、需要乳化才能清洗彻底、容易去除过多皮脂等特点,乳化型卸妆产品(如卸妆乳霜等)则完美避免了卸妆水和卸妆油的不足,更符合所有肤质特别是干性肤质人群的要求,近几年越来越受年轻消费群体的欢迎。
目前市场上的卸妆乳霜配方大多选用高含量的非离子表面活性剂乳化高含量的油脂混合物(如矿物油、二甲基硅油、合成油脂、植物油等),加以增稠体系(如卡波类、纤维素类等),以水包油体系居多。例如资生堂亲肤洁净卸妆霜,采用高含量的乳化剂(PEG-60氢化蓖麻油)和高含量的二甲基硅油配以卡波增稠稳定;再例如悦诗风吟苹果籽清润卸妆霜,采用常规的Arlacel和Tween、Span乳化剂复配,乳化高含量的轻质合成油脂,加以卡波和脂肪醇脂肪酸增稠稳定。卸妆乳霜剂型因为包含了大量油脂,并且要求乳化体系在三年有效期内稳定,就需要兼顾降低油腻使用感以及兼顾高温稳定性两方面平衡,因此多少会造成卸妆时融妆速度过慢,导致卸妆时间过长而使用不便以及后续肌肤问题产生。而卸妆乳霜的乳化剂种类选择、油脂搭配则决定了使用油腻感、融妆卸妆速度以及高温稳定性三方面平衡。
专利CN108852890A中公开了一款温和型卸妆乳及其制备方法,采用的是油包水体系,虽然融妆速度快,卸妆力度佳,但是在卸妆过程中油腻感重,降低了消费者的愉悦体验感。
专利CN105232374A中公开了一种高效温和滋润型卸妆霜,以18%~30%植物油脂搭配2%~4%乳化剂形成水包油型卸妆霜,还添加了木质纤维素多孔粒子增加物理磨砂热感并帮助去角质。其中,植物油脂的滋润度虽然高,但大部分植物油脂的极性相对较高,与彩妆常用油脂的融合力度并不佳,也会造成卸妆时长过久降低卸妆效率,并且磨砂多孔粒子的添加增加了肌肤的物理伤害,对干敏皮人群并不友好。
专利CN105411880A中公开了一种不含乳化剂的温和卸妆乳及其制备方法,其中用0.2%~3%的悬浮稳定剂稳定5%~20%的油脂,油脂组成中同时含有极性油脂以及非极性油脂,这对体系整体稳定性是个极大的挑战。专利中只给出了其体系仅符合国标QB/T1857-2013的稳定性要求,对于能否满足三年货架期稳定性的要求则没有具体说明。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种融妆快速的卸妆乳霜及其制备方法,该卸妆乳霜同时平衡了融妆卸妆速度、使用清爽感以及长期稳定性三方面的要求,适合所有肤质特别是干敏皮人群使用。
为实现上述目的,本发明采取的技术方案为:一种融妆快速的卸妆乳霜,所述卸妆乳霜包含以下质量百分比的组分:蔗糖脂肪酯乳化剂0.5%~3%、高碳链乙烯醇聚醚乳化剂0.3%~1.5%、油脂65%~80%、气相法二氧化硅0.5%~3%、小分子多元醇2%~10%、防腐剂0.2%~1%、香精0.05%~0.2%、余量为去离子水。
作为本发明所述卸妆乳霜的优选实施方式,所述卸妆乳霜包含以下质量百分比的组分:蔗糖脂肪酯乳化剂1%、高碳链乙烯醇聚醚乳化剂0.5%、油脂75%、气相法二氧化硅1%、小分子多元醇5%、防腐剂0.5%、香精0.1%、余量为去离子水。
作为本发明所述卸妆乳霜的优选实施方式,所述蔗糖脂肪酯乳化剂为蔗糖月桂酸酯、蔗糖肉豆蔻酸酯、蔗糖硬脂酸酯、蔗糖棕榈酸酯中的至少一种。
蔗糖脂肪酯乳化剂的HLB值范围在14~16之间。蔗糖脂肪酯是非离子型表面活性剂,蔗糖酯有极佳的生物降解性,对眼睛和皮肤无刺激性,非常适合用于化妆品和药膏体以及食品中,并且其乳化性能佳,高温稳定性比传统的聚氧乙烯非离子表面活性剂要好。
作为本发明所述卸妆乳霜的优选实施方式,所述高碳链乙烯醇聚醚乳化剂为C20-40链烷醇聚醚-40、C20-40链烷醇聚醚-95中的至少一种。
高碳链乙烯醇聚醚乳化剂,碳链长度C20-40范围,环氧乙烷单元平均数在40~100之间,HLB值范围在16~18之间合适,包含C20-40链烷醇聚醚-40、C20-40链烷醇聚醚-95的一种或者两种。高碳链乙烯醇聚醚乳化剂具有很出色的乳化性能,在本体系中,可以辅助乳化,并让制作工艺更容易操作,且配方产品最终粘度也会更高。
作为本发明所述卸妆乳霜的优选实施方式,所述油脂为非极性烃油、酯油、甲基硅油中的至少一种。
油脂常温下为液状,25℃时的动态黏度需小于20.0cP,优选小于10.0cP,含量50~70%的油脂。在此,黏度用布氏Brookfield黏度计,型号DV1MLV,4#转子,25℃环境下测定。
作为本发明所述卸妆乳霜的优选实施方式,所述非极性烃油为液态链烷烃、液态异链烷烃(如白油)、氢化聚异丁烯(如异十六烷)、角鲨烷、氢化聚癸烯中的至少一种,所述酯油为甘油三(乙基己酸)酯、硬脂酸乙基己酯、棕榈酸异丙酯、肉豆蔻酸异丙酯、异壬酸异壬酯、异硬脂酸酯异丙酯、油酸乙酯、C12-15醇苯甲酸酯中的至少一种,所述甲基硅油为十甲基环戊硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、聚二甲基硅氧烷、甲基聚硅氧烷、甲基苯基聚硅氧烷中的至少一种。
因低粘度的油脂更能渗透至皮肤细微处,肤感清爽并且对彩妆污垢的溶解性更高,其中优选分子量500以下的油脂,如异十六烷、异十二烷、氢化聚异丁烯、异壬酸异壬酯、棕榈酸异丙酯、甘油三(乙基己酸)酯、肉豆蔻酸异丙酯等。
作为本发明所述卸妆乳霜的优选实施方式,所述小分子多元醇为丙二醇、二丙二醇、1,3-丁二醇、甘油、乙二醇、甲基丙二醇中的至少一种,所述防腐剂为苯氧乙醇、氯苯甘醚中的至少一种。
气相法二氧化硅的添加使得整体使用感更清爽,且提高了易冲洗程度。
第二方面,本发明提供了上述卸妆乳霜的制备方法,包括以下步骤:
(1)将油脂加热溶解完全,加入气相法二氧化硅搅拌均匀,均质得A相;
(2)将蔗糖脂肪酯乳化剂、高碳链乙烯醇聚醚乳化剂、小分子多元醇混合加热至溶解均匀,后加入去离子水,混合均匀得B相;
(3)搅拌下将A相加入B相,搅拌至乳化完全;
(4)低速搅拌下加入防腐剂、香精,即得卸妆乳霜。
作为本发明所述制备方法的优选实施方式,所述步骤(1)中,均质时间为5min;所述步骤(2)中,去离子水的温度为80℃。
作为本发明所述制备方法的优选实施方式,所述步骤(3)中,搅拌转速为2000转/分,搅拌时间为20min。
与现有技术相比,本发明的有益效果为:本发明的卸妆乳霜采用低乳化剂含量乳化稳定高油脂含量,同时平衡了融妆卸妆速度、使用清爽感以及长期稳定性三方面的要求,适合所有肤质特别是干敏皮人群使用。
附图说明
图1为本发明实施例1卸妆乳霜的卸妆力度测试效果图。
具体实施方式
为更好地说明本发明的目的、技术方案和优点,下面将结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例1~4
实施例1~4的卸妆乳霜,各组分及其用量如表1所示。
实施例1~4的卸妆乳霜的制备方法为:
(1)将油脂加热溶解完全,加入气相法二氧化硅搅拌均匀,均质5min得A相;
(2)将蔗糖脂肪酯乳化剂、高碳链乙烯醇聚醚乳化剂、小分子多元醇混合加热至溶解均匀,后加入80℃的去离子水,混合均匀得B相;
(3)搅拌下将A相加入B相,搅拌转速为2000转/分,搅拌时间为20min,搅拌至乳化完全;
(4)低速搅拌下加入防腐剂、香精,即得卸妆乳霜。
对比例1~4
对比例1~4的卸妆乳霜,各组分及其用量如表1所示。
表1
Figure BDA0002536834030000061
效果例
(1)稳定性测试
对实施例1~4、对比例1~2进行稳定性测试,测试结果如表2所示。
表2
Figure BDA0002536834030000062
Figure BDA0002536834030000071
由表2可知,本发明制备的卸妆乳霜的稳定性良好。
(2)卸妆力度测试-防水型睫毛膏
评价方法:①涂(防水型)睫毛膏于前臂;②干燥10分钟;③涂等量卸妆乳霜,打圈按摩10圈,再用水冲洗,擦拭干水分。
处理前,实施例1、对比例3~4处理后的对比图如图1所示。
由图1可知,实施例1的卸妆乳霜的卸妆力度最佳。
(3)人群试用测试
仅提供采用乳化剂和油脂的最佳种类配比的实施例1进行人群试用测试。
选择20位有化妆习惯的女生,年龄20~35岁之间,用实施例1、对比例3~4样品盲测,每款产品使用三天,每款样品使用后即时提交问卷,计算每项平均得分。评分标准:1~5分,5分最佳,1分最差。测试结果如表3所示。
表3
融妆速度 易冲洗程度 使用清爽度 卸妆力度 温和度
实施例1 4.8 4.5 4.8 4.5 5
对比例3 4.2 4.2 4.5 3.5 4.5
对比例4 3.5 4.0 3.5 3.0 4.5
由表3可知,本发明的卸妆乳霜具有良好的融妆速度、易冲洗程度、使用清爽度、卸妆力度及温和度。对比例3~4为市面上常用的卸妆霜,其效果不如本发明。并且,当本发明的卸妆乳霜包含以下质量百分比的组分:蔗糖脂肪酯乳化剂1%、高碳链乙烯醇聚醚乳化剂0.5%、油脂75%、气相法二氧化硅1%、小分子多元醇5%、防腐剂0.5%、香精0.1%、余量为去离子水时,其融妆速度、易冲洗程度、使用清爽度、卸妆力度及温和度最佳。
最后所应当说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本发明作了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的实质和范围。

Claims (10)

1.一种融妆快速的卸妆乳霜,其特征在于,所述卸妆乳霜包含以下质量百分比的组分:蔗糖脂肪酯乳化剂0.5%~3%、高碳链乙烯醇聚醚乳化剂0.3%~1.5%、油脂65%~80%、气相法二氧化硅0.5%~3%、小分子多元醇2%~10%、防腐剂0.2%~1%、香精0.05%~0.2%、余量为去离子水。
2.如权利要求1所述的卸妆乳霜,其特征在于,所述卸妆乳霜包含以下质量百分比的组分:蔗糖脂肪酯乳化剂1%、高碳链乙烯醇聚醚乳化剂0.5%、油脂75%、气相法二氧化硅1%、小分子多元醇5%、防腐剂0.5%、香精0.1%、余量为去离子水。
3.如权利要求1或2所述的卸妆乳霜,其特征在于,所述蔗糖脂肪酯乳化剂为蔗糖月桂酸酯、蔗糖肉豆蔻酸酯、蔗糖硬脂酸酯、蔗糖棕榈酸酯中的至少一种。
4.如权利要求1或2所述的卸妆乳霜,其特征在于,所述高碳链乙烯醇聚醚乳化剂为C20-40链烷醇聚醚-40、C20-40链烷醇聚醚-95中的至少一种。
5.如权利要求1或2所述的卸妆乳霜,其特征在于,所述油脂为非极性烃油、酯油、甲基硅油中的至少一种。
6.如权利要求5所述的卸妆乳霜,其特征在于,所述非极性烃油为液态链烷烃、液态异链烷烃、氢化聚异丁烯、角鲨烷、氢化聚癸烯中的至少一种,所述酯油为甘油三(乙基己酸)酯、硬脂酸乙基己酯、棕榈酸异丙酯、肉豆蔻酸异丙酯、异壬酸异壬酯、异硬脂酸酯异丙酯、油酸乙酯、C12-15醇苯甲酸酯中的至少一种,所述甲基硅油为十甲基环戊硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、聚二甲基硅氧烷、甲基聚硅氧烷、甲基苯基聚硅氧烷中的至少一种。
7.如权利要求1或2所述的卸妆乳霜,其特征在于,所述小分子多元醇为丙二醇、二丙二醇、1,3-丁二醇、甘油、乙二醇、甲基丙二醇中的至少一种,所述防腐剂为苯氧乙醇、氯苯甘醚中的至少一种。
8.如权利要求1~7任一项所述的卸妆乳霜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将油脂加热溶解完全,加入气相法二氧化硅搅拌均匀,均质得A相;
(2)将蔗糖脂肪酯乳化剂、高碳链乙烯醇聚醚乳化剂、小分子多元醇混合加热至溶解均匀,后加入去离子水,混合均匀得B相;
(3)搅拌下将A相加入B相,搅拌至乳化完全;
(4)低速搅拌下加入防腐剂、香精,即得卸妆乳霜。
9.如权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,均质时间为5min;所述步骤(2)中,去离子水的温度为80℃。
10.如权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中,搅拌转速为2000转/分,搅拌时间为20min。
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广州市莲娜姬化妆品有限公司: "悠姿净透卸妆洁面凝胶", 《国产非特殊用途化妆品备案HTTP://FTBA.NMPA.GOV.CN:8181/FTBAN/ITOWNET/HZP_BA/FW/PZ.JSP?PROCESSID=20151105145059PS55A&NID=20151105145059PS55A》 *

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