CN111725422A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括衬底基板；像素定义层，设于所述衬底基板上，具有多个间隔排列的像素单元，相邻的两个像素单元与所述衬底基板的上表面形成一凹槽；水汽阻挡层，图案化设置于所述像素定义层的表面；以及发光层，具有多个发光单元，所述发光单元形成于所述像素定义层的凹槽内。本发明通过在像素定义层表面设置一层水汽阻挡层，对所述像素定义层进行封装处理，所述水汽阻挡层可以避免所述像素定义层在蒸镀的制程中释放的水汽和氧气入侵至所述发光层，防止发光层中的有机材料失效，从而降低了水分子对显示面板整体的损坏程度，提高显示面板的寿命及可靠性。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示面板因其具有诸多优良特性，如轻薄可弯折、广视角、响应速度快、发光效率高等而成为具有广阔发展前景的新一代显示技术。

OLED显示技术具有自发光的特性，采用非常薄的有机材料涂层和基板，接通电流，使有机材料发光进行显示。其中，有机发光材料通过掩膜(mask)蒸镀到显示(Active)区域。

如图1所示，显示面板100包括源漏极层101、平坦层102、阳极103、像素定义层104以及发光层105。其中，平坦层102设于源漏极层的上表面，阳极103贯穿平坦层102且连接至源漏极层102，像素定义层104设置平坦层102的上表面，发光层105设于像素定义层104开口区中。具体的，通过掩膜(mask)将有机材料蒸镀到显示(Active)区域(即像素定义层104开口区中)，从而形成发光层103。红绿蓝(RGB)3种有机发光材料之间通过像素定义层(PixelDefinitionLayer,PDL)进行阻挡。

然而，目前采用像素定义层104的材料都是有机材料，材料中会存在一些水汽和氧气，在后续的蒸镀制程中，像素定义层104的材料中的水汽和氧气会释放进入到发光层(即OLED发光材料)中，造成发光材料失效，这成为影响有机发光二极管显示面板寿命的重要原因之一。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，以解决有机发光二极管显示面板对环境中的水汽和氧气极其敏感，一旦有水汽或氧气渗入OLED器件内部很容易导致有机发光材料失效的技术问题。

为实现上述目的，本发明提供一种显示面板包括：衬底基板；像素定义层，设于所述衬底基板上，具有多个间隔排列的像素单元，相邻的两个像素单元与所述衬底基板的上表面形成一凹槽；水汽阻挡层，图案化设置于所述像素定义层的表面；以及发光层，具有多个发光单元，所述发光单元形成于所述像素定义层的凹槽内。

进一步地，所述水汽阻挡层的厚度为30-80纳米。

进一步地，所述水汽阻挡层的材质无机材料，所述无机材料包括氧化铝、氧化硅、氮化硅中的任一种。

进一步地，所述衬底基板包括：源漏极层；平坦层，设于所述源漏极层上；过孔，从所述平坦层贯穿至所述源漏极层表面；以及阳极，填充所述过孔，延伸至部分所述平坦层的表面。

进一步地，相邻的两个像素单元与所述阳极的上表面形成所述凹槽。

为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：提供一衬底基板；形成一像素定义层于所述衬底基板上，所述像素定义层具有多个间隔排列的像素单元，相邻的两个像素单元与所述衬底基板的上表面形成一凹槽；形成一水汽阻挡层，所述水汽阻挡层图案化设置于所述像素定义层的表面；以及形成一发光层，所述发光层具有多个发光单元，所述发光单元形成于所述像素定义层的凹槽内。

进一步地，所述形成一水汽阻挡层的步骤中，在所述像素定义层及所述衬底基板上表面形成所述水汽阻挡层，并采用干刻蚀的方式对所述水汽阻挡层进行图案化处理，使得所述水汽阻挡层贴附于所述像素单元的表面。

进一步地，所述形成一像素定义层于所述衬底基板上的步骤中，在所述衬底基板上表面形成所述像素定义层，并对所述像素定义层进行蚀刻处理，形成多个间隔排列的像素单元。

进一步地，所述水汽阻挡层的厚度为30-80纳米；和/或所述水汽阻挡层的材质包括氧化铝、氧化硅、氮化硅中的任一种。

为实现上述目的，本发明还提供一种显示装置，前文所述的显示面板。

本发明的技术效果在于，提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，通过在像素定义层表面设置一层水汽阻挡层，对所述像素定义层进行封装处理，所述水汽阻挡层可以避免所述像素定义层在蒸镀的制程中释放的水汽和氧气入侵至所述发光层，防止发光层中的有机材料失效，从而降低了水分子对显示面板整体的损坏程度，提高显示面板的寿命及可靠性。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为现有技术所述显示面板的结构示意图。

图2为本申请实施例所述显示面板的结构示意图。

图3为本申请实施例所述显示面板的制备方法的流程图。

图4为本申请实施例所述水汽阻挡层的结构示意图。

图5为本申请实施例所述发光层的结构示意图。

现有技术的附图部件标识如下：

100显示面板；101源漏极层；

102平坦层；103阳极；

104像素定义层；105发光层。

本申请的附图部件标识如下：

200显示面板；

201衬底基板；202像素定义层；203水汽阻挡层；204发光层；

2011源漏极层；2012平坦层；2013过孔；2014阳极；

2021像素单元；2041发光单元；

301凹槽。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

如图2所示，本实施例提供一种显示面板200，该显示面板为有机发光二极管显示面板，其包括衬底基板201、像素定义层202、水汽阻挡层203以及发光层203。

衬底基板201包括源漏极层2011、平坦层2012、过孔2013以及阳极2014。源漏极层2011具有多个源漏极。平坦层2012设于源漏极层2011上，过孔2013从平坦层2012贯穿至源漏极层2011的表面。阳极2014填充过孔2013，延伸至部分平坦层2012的表面，阳极2014电连接至所述源漏极。需要说明的是，衬底基板201还包括柔性衬底层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层等部件，本实施例不一一赘述。

像素定义层202设于衬底基板201上，具有多个间隔排列的像素单元2021，相邻的两个像素单元2021与衬底基板201的上表面形成一凹槽301。具体的，相邻的两个像素单元2021的侧壁与阳极2014的上表面形成凹槽301。

水汽阻挡层203图案化设置于像素定义层202的表面。具体的，水汽阻挡层203贴附于像素定义层202的上表面，其厚度为30-80纳米，以及水汽阻挡层203的材质无机材料，所述无机材料包括氧化铝、氧化硅、氮化硅中的任一种。

发光层204具有多个发光单元2041，2041形成于所述像素定义层202的凹槽301内。发光单元2041为有机发光器件，具有自发光的特性。发光层204的材质为RGB(红绿蓝)有机发光材料，通过蒸镀的方法沉积在像素定义层202的凹槽301内。在蒸镀的过程中，由于像素定义层202的材料容易产生水汽和氧气，容易入侵至发光层204，从而导致发光层204的有机发光材料失效。因此，本实施例通过在每个像素单元2021的表面设置水汽阻挡层203，可以阻隔像素单元2021的材料产生水汽和氧气导致发光层204的有机材料失效。进一步地，本实施例中水汽阻挡层203的厚度优选为45nm、50nm、60nm、65nm。水汽阻挡层203的材质优选为氧化铝，采用氧化铝对像素定义层202进行封装处理，水汽阻挡层203可以防止像素定义层202的材料在蒸镀的过程中释放的水汽和氧气入侵至发光单元2041内部，从而防止发光单元2041中的有机材料失效，从而降低了水分子对显示面板整体的损坏程度，提高显示面板的寿命及可靠性。

本实施例提供一种显示面板还包括封装层，设于发光层204上，从而进一步地隔绝外界的水氧入侵至有机发光器件内部，进而提高显示面板的使用寿命。

如图3所示，本实施例还提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤S1)-S4)。

S1)提供一衬底基板。

如图4所示，衬底基板201包括源漏极层2011、平坦层2012、过孔2013以及阳极2014。源漏极层2011具有多个源漏极。平坦层2012设于源漏极层2011上，过孔2013从平坦层2012贯穿至源漏极层2011的表面。阳极2014填充过孔2013，延伸至部分平坦层2012的表面，阳极2014电连接至所述源漏极。需要说明的是，衬底基板201还包括柔性衬底层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层等部件，本实施例不一一赘述。

S2)形成一像素定义层于所述衬底基板上，所述像素定义层具有多个间隔排列的像素单元，相邻的两个像素单元与所述衬底基板的上表面形成一凹槽。

如图4所示，在衬底基板201上表面形成像素定义层202，并对像素定义层202进行蚀刻处理，形成多个间隔排列的像素单元2021。其中，相邻的两个像素单元2021的侧壁与阳极2014的上表面形成凹槽301。

S3)形成一水汽阻挡层，所述水汽阻挡层图案化设置于所述像素定义层的表面。

如图4所示，在像素定义层202及衬底基板201上表面形成水汽阻挡层203，并采用干刻蚀的方式对水汽阻挡层203进行图案化处理，使得水汽阻挡层203贴附于像素单元2021的表面。水汽阻挡层203的厚度为30-80纳米，以及水汽阻挡层203的材质无机材料，所述无机材料包括氧化铝、氧化硅、氮化硅中的任一种。

S4)形成一发光层，所述发光层具有多个发光单元，所述发光单元形成于所述像素定义层的凹槽内。

如图5所示，在凹槽301内蒸镀RGB(红绿蓝)有机材料形成发光单元2041。在蒸镀的过程中，由于像素定义层202的材料容易产生水汽和氧气，容易入侵至发光层204，从而导致发光层204的有机发光材料失效。因此，本实施例通过在每个像素单元2021的表面设置水汽阻挡层203，可以阻隔像素单元2021的材料产生水汽和氧气导致发光层204的有机材料失效。进一步地，本实施例中水汽阻挡层203的厚度优选为45nm、50nm、60nm、65nm。水汽阻挡层203的材质优选为氧化铝，采用氧化铝对像素定义层202进行封装处理，水汽阻挡层203可以防止像素定义层202的材料在蒸镀的过程中释放的水汽和氧气入侵至发光层204内部，从而防止发光层204中的有机材料失效，从而降低了水分子对显示面板整体的损坏程度，提高显示面板的寿命及可靠性。

本实施例提供一种显示装置，包括前文所述的显示面板及其制备方法。该显示装置包括穿戴设备如智能手环、智能手表、VR(Virtual Reality，即虚拟现实)等设备、移动电话机、电子书和电子报纸、电视机、个人便携电脑、可折叠以及可卷曲OLED等柔性OLED显示及照明。

本发明的技术效果在于，提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，通过在像素定义层表面设置一层水汽阻挡层，对所述像素定义层进行封装处理，所述水汽阻挡层可以避免所述像素定义层在蒸镀的制程中释放的水汽和氧气入侵至所述发光层，防止发光层中的有机材料失效，从而降低了水分子对显示面板整体的损坏程度，提高显示面板的寿命及可靠性。

上述实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制备方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底基板；

像素定义层，设于所述衬底基板上，具有多个间隔排列的像素单元，相邻的两个像素单元与所述衬底基板的上表面形成一凹槽；

水汽阻挡层，图案化设置于所述像素定义层的表面；以及

发光层，具有多个发光单元，所述发光单元形成于所述像素定义层的凹槽内。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述水汽阻挡层的厚度为30-80纳米。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述水汽阻挡层的材质无机材料，所述无机材料包括氧化铝、氧化硅、氮化硅中的任一种。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述衬底基板包括：

源漏极层；

平坦层，设于所述源漏极层上；

过孔，从所述平坦层贯穿至所述源漏极层表面；以及

阳极，填充所述过孔，延伸至部分所述平坦层的表面。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，

相邻的两个像素单元与所述阳极的上表面形成所述凹槽。

6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一衬底基板；

形成一像素定义层于所述衬底基板上，所述像素定义层具有多个间隔排列的像素单元，相邻的两个像素单元与所述衬底基板的上表面形成一凹槽；

形成一水汽阻挡层，所述水汽阻挡层图案化设置于所述像素定义层的表面；

形成一发光层，所述发光层具有多个发光单元，所述发光单元形成于所述像素定义层的凹槽内。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述形成一水汽阻挡层的步骤中，在所述像素定义层及所述衬底基板上表面形成所述水汽阻挡层，并采用干刻蚀的方式对所述水汽阻挡层进行图案化处理，使得所述水汽阻挡层贴附于所述像素单元的表面。

8.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述形成一像素定义层于所述衬底基板上的步骤中，在所述衬底基板上表面形成所述像素定义层，并对所述像素定义层进行蚀刻处理，形成多个间隔排列的像素单元；

所述形成一发光层的步骤中，在所述凹槽内蒸镀有机材料形成所述发光单元。

9.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

所述水汽阻挡层的厚度为30-80纳米；和/或

所述水汽阻挡层的材质包括氧化铝、氧化硅、氮化硅中的任一种。

10.一种显示装置，包括如权利要求1-5任一项所述的显示面板。

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