CN111609596A - 辐射制冷膜及其应用和辐射制冷制品 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种辐射制冷膜及其制备方法和应用、辐射制冷制品，其中辐射制冷膜包括依次设置的反射层、发射层、粘接层和物理保护层；其中，所述发射层的材料包括聚合物和分散在所述聚合物中的无机填料；所述粘接层的材料包括胶粘剂和分散在所述胶粘剂中的光稳定剂；所述物理保护层在0.3μm～2.5μm波段的平均吸收率小于或等于15％。该辐射制冷膜耐候性好，无需要设置抗氧保护层，且辐射制冷效果优良。

Description

辐射制冷膜及其应用和辐射制冷制品

技术领域

本发明涉及辐射制冷技术领域，特别是涉及一种辐射制冷膜及其应用和辐射制冷制品。

背景技术

21世纪以来，全球气温上升，降温变得更加重要，而辐射制冷作为一种新兴的零能耗降温技术，在现在以及将来会占有更加庞大的市场。目前市场上的辐射制冷产品主要是辐射制冷薄膜，它通过贴在建筑物等的表面反射太阳光从而达到内部降温的效果。但现有的辐射制冷膜所使用的原材料的耐老化性较差，在紫外线长时间照射后，辐射制冷膜会变黄、变脆，从而导致辐射制冷效果变差甚至没有制冷效果，使产品使用年限大大降低。目前常见的做法是在辐射制冷薄膜外覆一层抗氧保护层的方式来保护辐射制冷膜，从而提高产品的耐老化性。

辐射制冷膜最重要的两个性能指标是大气窗口波段(7μm至14μm)的发射率和太阳光波段(300nm至2.5μm)的反射率，大气窗口波段的发射率、太阳光波段的反射率越高，辐射制冷效果越好。但是在辐射制冷薄膜外增设抗氧保护层后，由于太阳光无法高度通过抗氧保护层，因此抗氧保护层会影响辐射制冷膜产品的辐射制冷效果。

发明内容

基于此，有必要提供一种耐候性和辐射制冷效果好的辐射制冷膜及其应用和辐射制冷制品。

本发明一方面提供一种辐射制冷膜，包括依次设置的发射层、粘接层和物理保护层；

其中，所述发射层的材料包括聚合物和分散在所述聚合物中的无机填料；所述粘接层的材料包括胶粘剂和分散在所述胶粘剂中的光稳定剂；所述物理保护层在0.3μm～2.5μm波段的平均吸收率小于或等于15％。

在其中一些实施例中，所述胶粘剂为丙烯酸胶粘剂和/或聚氨酯胶粘剂，所述光稳定剂在所述粘接层中的重量分数为5％～30％。

在其中一些实施例中，所述光稳定剂选自水杨酸酯类光稳定剂、三嗪类光稳定剂、受阻胺类光稳定剂、二苯甲酮类光稳定剂和苯并三唑类光稳定剂中的至少一种。

在其中一些实施例中，所述光稳定剂为包括苯并三唑类光稳定剂和受阻胺类光稳定剂的组合物。

进一步地，在所述粘接层中，所述苯并三唑类光稳定剂和所述受阻胺类光稳定剂的重量比范围为(1.5:1)～(2.5:1)。

在其中一些实施例中，所述聚合物为透明的热塑性高分子树脂，所述热塑性高分子树脂包括1,4-环己烷二甲醇树脂、聚苯乙烯树脂、聚氯乙烯树脂中的至少一种；和/或

所述物理保护层的材料为聚酯树脂；和/或

所述无机填料选自碳化硅、二氧化硅、氮化硅、碳酸钙和硫酸钡中的至少一种。

在其中一些实施例中，所述无机填料的粒径范围为3μm～15μm。

在其中一些实施例中，所述辐射制冷膜还包括反射层，所述反射层设置在所述发射层远离所述粘接层的一侧。

在其中一些实施例中，所述反射层包括金属反射层，所述金属反射层的材料选自金、银、铝、铜和锌中的至少一种。

在其中一些实施例中，所述辐射制冷膜的厚度为75μm～220μm；其中，各层的厚度如下：

所述反射层0.08μm～0.3μm，

所述发射层50μm～150μm，

所述粘接层5μm～20μm，

所述物理保护层20μm～50μm。

根据本发明的另一个方面提供一种上述辐射制冷膜在制备节能建材、散热制冷设备或户外用品中的应用。

根据本发明的再一个方面提供一种辐射制冷制品，所述辐射制冷制品包括上述任一所述的辐射制冷膜和基材，所述辐射制冷膜的反射层与所述基材接触，所述基材为金属基材、塑料基材、建筑材料基材、基材或玻璃基材。

相比现有技术，本发明的有益效果在于：

本发明上述辐射制冷膜包括设置在0.3μm～2.5μm波段低吸收率的物理保护层，并在发射层和物理保护层之间设置粘接层，粘接层中分散有光稳定剂，光稳定剂将紫外光转变为热能释放出去，达到明显提高产品耐老化性能，延长产品的使用时间，而且粘接层不会进一步增加产品的热吸收量，因此，不会降低产品的发射率和反射率；从而可以避免在辐射制冷膜外设置抗氧保护层，避免因抗氧保护层导致太阳光无法高度通过而引起的辐射制冷效果下降的问题。

附图说明

图1为本发明的一实施例的辐射制冷膜的剖面结构示意图；

图中：10、反射层，20、发射层，30、粘接层，40、物理保护层。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将对本发明进行更全面的描述，并给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

本发明中关于材料或结构所使用的“反射率”是从表面反射出的任何入射电磁辐射的分数。将完美反射体定义为具有1的反射率，并且将完美吸收体定义为具有零的反射率。

本发明中关于材料或结构所使用的“发射率”是指物体表面单位面积上辐射出的辐通量与同温度下黑体辐射出的辐通量的比值。将完美黑体发射体定义为具有1的发射率，并将完美非发射体定义为具有零的发射率。

由于太阳光中的紫外线的光波能量大于辐射制冷膜中聚合物分子中的化学键离解能，因此，聚合物分子受紫外辐射容易氧化，发生自由基链式反应，导致材料发生老化分解，使其力学性能、电学性能、化学性能严重降低，最终导致辐射制冷效果差。为解决辐射制冷膜的老化问题，现有技术采用在辐射制冷膜外设置抗氧保护层来防止辐射制冷膜老化，然而，由于抗氧保护层的材质通常为聚偏氟乙烯树脂，且抗氧保护层会导致产品的厚度增加，使得产品对太阳光的吸收增加，因而抗氧保护层的存在会导致太阳光无法高度通过，同样会影响辐射制冷膜的辐射制冷效果。

本发明一实施例提供一种辐射制冷膜，如图1所示，包括依次层叠设置的反射层10、发射层20、粘接层30和物理保护层40。

其中，发射层20的材料包括聚合物和分散在聚合物中的无机填料；粘接层30的材料包括胶粘剂和分散在胶粘剂中的光稳定剂；物理保护层40在0.3μm～2.5μm波段的平均吸收率小于或等于15％，即物理保护层40在0.3μm～2.5μm波段的平均透过率大于或等于85％。

上述辐射制冷膜在发射层20和物理保护层40之间设置粘接层30，粘接层30中分散有光稳定剂，光稳定剂将紫外光转变为热能释放出去，达到明显提高产品耐老化性能，延长产品的使用时间。而且通过粘接层30的设置，从而无需额外增设抗氧保护层，可以避免抗氧保护层导致太阳光无法高度通过而引起的辐射制冷效果变差的问题，同时物理保护层在0.3μm～2.5μm波段的平均透过率大于或等于85％、粘接层中添加的光稳定剂具有高透光性，故不会影响产品的发射率和反射率。

进一步地，物理保护层为聚合物层，其在300nm～2500nm波段的平均透过率大于或等于90％。如此，可以避免物理保护层吸热，进而避免辐射制冷膜产品的制冷效果降低。

进一步地，胶粘剂为丙烯酸胶粘剂和/或聚氨酯胶粘剂，光稳定剂在粘接层中的重量分数为5％～30％。优选地，光稳定剂的重量分数为10％～25％。

在一些实施例中，光稳定剂的结构中含有一个或多个邻位羟基苯基取代基，分子结构中该邻位羟基与N原子或O原子形成螯合环，能够吸收紫外线，并在吸收紫外线后氢键断裂发生分子异构，分子内结构发生热振动，氢键破坏，螯合环打开，分子内结构发生变化，进而将紫外光转变为热能释放出去，达到明显提高产品耐老化性能，延长产品的使用时间。基于此，光稳定剂选自水杨酸酯类光稳定剂如邻羟基苯甲酸苯酯、三嗪类光稳定剂如4，6-三(2'正丁氧基苯基)-1，3，5-三嗪、受阻胺类光稳定剂如4-苯甲酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶、二苯甲酮类光稳定剂如2，4-二羟基二苯甲酮、和苯并三唑类光稳定剂如2-(2-羟基-5-苯甲基)苯并三唑中的至少一种。本发明选用高性价比的光稳定剂，利于光稳定剂在粘接层30中均匀分散和提高产品的耐老化性能。

在一些实施例中，光稳定剂为包括苯并三唑类光稳定剂和受阻胺类光稳定剂的组合。

进一步地，在粘接层中，苯并三唑类光稳定剂和受阻胺类光稳定剂的重量比范围为(1.5:1)～(2.5:1)。

苯并三唑类紫外线吸收剂(光稳定剂)具有性能稳定、吸收紫外线能力强，能够抑制或减弱光降解作用，提高合成材料的耐光性能，与聚合物材料的相容性好。本发明通过将受阻胺类光稳定剂与苯并三唑类紫外吸收剂并用，具有很好的协同效应，可使辐射制冷薄膜的光稳定性成倍提高。

在本实施例中，辐射制冷膜的厚度为75μm～220μm；其中，各层的厚度与辐射制冷膜总厚度的占比如下：反射层10占0.05％～0.4％，发射层20占30％～75％，粘接层30占2％～15％，物理保护层40占20％～67％。

优选地，反射层10占0.1％～0.3％，发射层20占30％～70％，粘接层30占5％～12％，物理保护层40占20％～60％。

值得一提的是，本发明的附图中，各层的厚度均为示意，并不表示各层应该具有图中所示的相对厚薄关系。发射层中无机颗粒的形状、粒径等均为示意，其对无机颗粒的形成、粒径等并不构成限制。

在一些实施例中，辐射制冷膜的厚度为75μm～220μm；其中，反射层10的厚度0.08μm～0.3μm，发射层20的厚度为50μm～150μm，粘接层30的厚度为5μm～20μm，物理保护层40的厚度为20μm～50μm。在一些优选实施例中，辐射制冷膜的厚度为76μm～190μm；其中，反射层10的厚度为0.1μm～0.2μm，发射层20的厚度为50μm～130μm，粘接层30的厚度为6μm～15μm，物理保护层40的厚度为20μm～45μm。

进一步优选地，辐射制冷膜的厚度为91μm～172μm，其中，反射层10的厚度为0.13μm～0.18μm，发射层20的厚度为60μm～120μm，粘接层30的厚度为6μm～12μm，物理保护层40的厚度为25μm～40μm。

在本实施例中，聚合物为透明的热塑性高分子树脂，优选地，所述热塑性高分子树脂包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、1,4-环己烷二甲醇树脂、聚苯乙烯树脂、聚氯乙烯树脂中的至少一种。

在本实施例中，无机填料选自碳化硅、二氧化硅、氮化硅、碳酸钙和硫酸钡中的至少一种。

进一步地，无机填料的形状为片状、椭圆状、圆形、不规则图形等。

进一步地，无机填料的粒径范围为3μm～15μm，优选地，无机填料的粒径范围为5μm～12μm。

在本实施例中，物理保护层40的材料为聚酯树脂。

进一步地，聚酯树脂选自聚甲基丙烯酸甲酯树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙烯树脂和聚对苯二甲酸乙二醇树脂中的至少一种。

在本实施例中，反射层10包括金属反射层，金属反射层的材料选自金、银、铝、铜和锌中的至少一种。

本发明又一实施方式提供一种辐射制冷膜的制备方法，用于制备上述辐射制冷膜，包括以下步骤：

在一发射层上形成粘接层，并将一物理保护层粘接在所述粘接层上；

其中，发射层的材料包括聚合物和分散在聚合物中的无机填料；粘接层的材料包括胶粘剂和分散在胶粘剂中的光稳定剂；物理保护层在0.3μm～2.5μm波段的透过率大于或等于85％。

在一些实施例中，聚合物为树脂材料，优选地为热塑性树脂材料，如：1,4-环己烷二甲醇树脂、聚苯乙烯树脂、聚氯乙烯树脂等。

在一些实施例中，还包括形成反射层的步骤，反射层层叠设置在发射层远离粘接层的一侧，反射层的材料选自金、银、银合金、铝、铝合金、铜和锌中的至少一种。

在一些实施例中，辐射制冷膜的制备方法中的各层材料的特征与前述辐射制冷薄膜中各层材料的特征一致。

值得说明的是，将无机填料分散在聚合物(或将光稳定剂分散在胶黏剂)中时，可以采用搅拌、超声分散等方法进行分散。形成顶层中的各层时，可以采用溶剂蒸发法、喷涂、旋涂、打印、熔融挤出成膜、拉伸成膜等方法。

本发明又一实施方式提供一种上述辐射制冷膜的应用，在制备节能建材、散热制冷设备或户外用品中的应用。

具体地，可将上述辐射制冷膜设于散热主体，并使辐射制冷膜与散热主体热连通。其中，节能建材可以为建筑物的水泥墙、玻璃幕墙等；散热制冷设备可以为玻璃温室、塑料大棚、空调外机等等；户外用品可以为帐棚、防晒装备等。

辐射制冷膜通过与散热主体热连通，可以把散热主体内的热量以大气窗口的辐射的方式发射出去，有效降低散热主体的温度，且无需要消耗额外的能源。可主要应用在需要降温的散热主体的外表面，比如建筑物的外表面。

本发明另一实施方式还提供一种辐射制冷制品，包括基材和上述辐射制冷膜，且该辐射制冷膜的反射层与基材接触。

在一些实施例中，基材为金属基材、塑料基材、建筑材料基材、纺织材料基材或玻璃基材。

以下通过具体实施例对本发明的辐射制冷膜作进一步说明。

实施例1：

本实施例提供了一种辐射制冷薄膜，包括从上到下依次设置的物理保护层、粘接层、发射层和金属反射层。

辐射制冷薄膜厚度为95μm，其中，物理保护层的厚度为25μm(占比26.3％)，物理保护层为聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂(PET树脂)薄膜层。

粘接层的厚度为5.85μm(占比6.2％)，粘接层包括单组分丙烯酸胶粘剂以及分散在丙烯酸胶粘剂中的酚基取代的2-(2-羟基-5-苯甲基)苯并三唑紫外线吸收剂和4-苯甲酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶光稳定剂，2-(2-羟基-5-苯甲基)苯并三唑紫外线吸收剂在粘接层中的质量分数为18％，4-苯甲酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶光稳定剂在粘接层中的质量分数为9％。

发射层的厚度为64μm(占比68.4％)，发射层包括透明的1,4-环己烷二甲醇树脂以及分散在1,4-环己烷二甲醇树脂中的二氧化硅颗粒，二氧化硅颗粒的平均粒径为8μm，二氧化硅在发射层中的体积分数为10％。

金属反射层为银反射层，厚度为0.15μm(占比0.15％)。

实施例2：

本实施例提供了一种辐射制冷薄膜，包括从上到下依次设置的物理保护层、粘接层、发射层和金属反射层。

辐射制冷薄膜的厚度为120μm，其中，物理保护层的厚度为30μm(占比25％)，物理保护层为PVC树脂薄膜层。

粘接层的厚度为9.8μm(占比8.2％)，粘接层包括双组分丙烯酸类胶粘剂以及分散在丙烯酸胶粘剂中的酚基取代的2-(2-羟基-5-苯甲基)苯并三唑紫外线吸收剂和4-苯甲酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶光稳定剂；2-(2-羟基-5-苯甲基)苯并三唑紫外线吸收剂在粘接层中的质量分数为15％，4-苯甲酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶光稳定剂在粘接层中的质量分数为10％。

发射层的厚度为80μm(占比66.7％)，发射层包括1,4-环己烷二甲醇树脂以及分散在1,4-环己烷二甲醇树脂中的二氧化硅颗粒，二氧化硅颗粒的平均粒径为8um，二氧化硅在发射层中的体积分数为10％。

金属反射层为银反射层，厚度为0.18μm(占比0.15％)。

实施例3：

本实施例提供了一种辐射制冷薄膜，包括从上到下依次设置的物理保护层、粘接层、发射层和金属反射层。

辐射制冷薄膜厚度为95μm，其中，物理保护层的厚度为25μm(占比26.3％)，物理保护层为PE树脂薄膜层。

粘接层的厚度为5.85μm(占比6.2％)，粘接层包括由双组份聚氨酯胶粘剂固化而成的涂层以及分散在该涂层中的2-(2-羟基-5-苯甲基)苯并三唑紫外线吸收剂和4-苯甲酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶光稳定剂，2-(2-羟基-5-苯甲基)苯并三唑紫外线吸收剂在粘接层中的质量分数为18％，4-苯甲酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶光稳定剂在粘接层中的质量分数为7.5％。

发射层的厚度为64μm(占比68.4％)，发射层包括透明的聚苯乙烯以及分散在聚苯乙烯中的二氧化硅颗粒，二氧化硅颗粒的平均粒径为5μm，二氧化硅在发射层中的体积分数为9％。

金属反射层为银反射层，厚度为0.15μm(占比0.15％)。

实施例4：

本实施例提供了一种辐射制冷薄膜，包括从上到下依次设置的物理保护层、粘接层、发射层和金属反射层。

辐射制冷薄膜厚度为95μm，其中，物理保护层的厚度为25μm(占比26.3％)，物理保护层为PET树脂薄膜层。

粘接层的厚度为5.85μm(占比6.0％)，粘接层包括聚甲基丙烯酸甲酯胶粘剂以及分散在聚甲基丙烯酸甲酯胶粘剂中的2，4-二羟基二苯甲酮光稳定剂和4，6-三(2'正丁氧基苯基)-1，3，5-三嗪光稳定剂，2，4-二羟基二苯甲酮光稳定剂在粘接层中的质量分数为8％，4，6-三(2'正丁氧基苯基)-1，3，5-三嗪光稳定剂在粘接层中的质量分数为8％。

发射层的厚度为64μm(占比68.4％)，发射层包括透明的聚苯乙烯以及分散在聚苯乙烯中的二氧化硅颗粒，二氧化硅颗粒的平均粒径为8μm，二氧化硅在发射层中的体积分数为11％。

金属反射层为银反射层，厚度为0.15μm(占比0.15％)。

实施例5：

本实施例提供了一种辐射制冷薄膜，包括从上到下依次设置的物理保护层、粘接层、发射层和金属反射层。

辐射制冷薄膜厚度为95μm，其中，物理保护层的厚度为25μm(占比26.3％)，物理保护层为PET树脂薄膜层。

粘接层的厚度为5.85μm(占比6.2％)，粘接层包括聚甲基丙烯酸甲酯胶粘剂以及分散在聚甲基丙烯酸甲酯胶粘剂中的邻羟基苯甲酸苯酯光稳定剂和4，6-三(2'正丁氧基苯基)-1，3，5-三嗪光稳定剂，邻羟基苯甲酸苯酯光稳定剂在粘接层中的质量分数为8％，4，6-三(2'正丁氧基苯基)-1，3，5-三嗪光稳定剂在粘接层中的质量分数为8％。

发射层的厚度为64μm(占比68.4％)，发射层包括透明的1,4-环己烷二甲醇树脂以及分散在1,4-环己烷二甲醇树脂中的二氧化硅颗粒，二氧化硅颗粒的平均粒径为8μm，二氧化硅在发射层中的体积分数为11％。

金属反射层为银反射层，厚度为0.15μm(占比0.15％)。

对比例1：

对比例1提供了一种辐射制冷薄膜，包括从上到下依次设置的物理保护层、粘接层、发射层、金属反射层。

辐射制冷薄膜厚度为95μm，其中物理保护层的厚度占比为26.3％，物理保护层的材料为聚乙烯树脂、2-(2-羟基-5-苯甲基)苯并三唑类紫外线吸收剂和4-苯甲酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶受阻胺类光稳定剂，在物理保护层中，2-(2-羟基-5-苯甲基)苯并三唑类紫外线吸收剂的质量分数为15％，4-苯甲酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶受阻胺类光稳定剂的质量分数为7.5％。

粘接层的厚度占比6.2％，粘接层的材料为聚甲基丙烯酸甲酯胶粘剂。

发射层的厚度占比68.4％，发射层为包括透明的1,4-环己烷二甲醇树脂以及分散在1,4-环己烷二甲醇树脂中的二氧化硅颗粒，二氧化硅颗粒的平均粒径为8μm，二氧化硅在发射层中的体积分数为10％。

金属反射层的厚度占比0.15％，金属反射层为银反射层。

在操作过程中发现，在物理保护层中添加光稳定剂，可能由于光稳定剂与物理保护层的主体材料聚乙烯树脂的兼容性较差的原因，即使延长超声分散时间或采取其他分散方法，均无法使光稳定剂均匀分散在物理保护层的混合材料体系中，最终导致光稳定剂及无机颗粒无法均匀地分散在物理保护层中。

对比例2：

对比例2提供了一种辐射制冷薄膜，包括从上到下依次设置的物理保护层、粘接层、发射层、金属反射层。

辐射制冷薄膜厚度为95μm，其中物理保护层的厚度占比为26.3％，物理保护层的材料为PET树脂。

粘接层的厚度占比6.2％，粘接层的材料为双组分聚氨酯类胶粘剂。

发射层的厚度占比68.4％，发射层为包括透明的1,4-环己烷二甲醇树脂以及分散在1,4-环己烷二甲醇树脂中的二氧化硅颗粒，二氧化硅颗粒的平均粒径为8μm，二氧化硅在发射层中的体积分数为9％。

金属反射层的厚度占比0.15％，金属反射层为银反射层。

对上述实施例1～5及对比例1～2的辐射制冷薄膜进行性能测试，测试项目及测试方法如下：

1、反射率R：

测试辐射制冷薄膜在300nm～2500nm波段的反射率，测试仪器：Perkin Elmer，Lambda950型UV/Vis/NIR Spectrometer(紫外/可见/近红外分光光度计)。

2、发射率E：

测试辐射制冷薄膜在7μm～14μm波段的发射率，测试仪器为SOC-100Hemispherical Directional Reflectometer。

3、颜色B：

测试辐射制冷薄膜的颜色及颜色变化，测试仪器：Perkin Elmer，Lambda950型UV/Vis/NIR Spectrometer(紫外/可见/近红外分光光度计)。

4、氙灯老化：

测试设备为氙灯测试仪；测试条件为黑板38±2℃，湿度60％RH，降雨18min/2h，功率510W/m²，放置100h、200h、500h、1000h；观察老化前后的外观、粉化、变色现象，测试老化前后的平均反射率(300nm～2500nm)变化△R(老化前的反射率减去老化后的反射率)、平均发射率(7μm～14μm)变化△E(老化前的发射率减去老化后的发射率)、颜色变化△B(老化后减去老化前的B值)、老化后制冷功率。

测试数据如下表1所示。

表1辐射制冷薄膜性能测试表

通过上表可以看出，对比例1在聚酯聚乙烯树脂中添加光稳定剂后，由于二者兼容性较差，混合不均匀，因此导致初期性能较差，制冷功率较低，且老化后产品性能降低较明显，老化后基本无制冷效果，故该方案效果不明显，因此在物理保护层添加光稳定剂无法起到保护作用；对比例2中由于未添加光稳定剂，可以看出辐射制冷薄膜基本无耐老化性，经氙灯老化后性能会明显下降，故该方案耐老化性最差；而在本发明实施例的粘接层的原料胶粘剂中添加光稳定剂，光稳定剂能够均匀分散在粘接层中，且不会增加产品的热吸收量，因此不会影响产品的发射率、反射率等性能，且长时间氙灯老化后性能并无明显变化，制冷效果基本无下降，说明在本发明在物理保护层和反射层之间增设分散有光稳定剂的胶粘层能明显提高产品的耐候性，且不会影响产品的制冷效果。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (11)

1.一种辐射制冷膜，其特征在于，包括依次层叠设置的发射层、粘接层和物理保护层；

其中，所述发射层的材料包括聚合物和分散在所述聚合物中的无机填料；

所述粘接层的材料包括胶粘剂和分散在所述胶粘剂中的光稳定剂；

所述物理保护层在0.3μm～2.5μm波段的平均吸收率小于或等于15％。

2.根据权利要求1所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述胶粘剂为丙烯酸胶粘剂和/或聚氨酯胶粘剂，所述光稳定剂在所述粘接层中的重量分数为5％～30％。

3.根据权利要求1所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述光稳定剂选自水杨酸酯类光稳定剂、三嗪类光稳定剂、受阻胺类光稳定剂、二苯甲酮类光稳定剂和苯并三唑类光稳定剂中的至少一种。

4.根据权利要求3所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述光稳定剂为包括苯并三唑类光稳定剂和受阻胺类光稳定剂的组合。

5.根据权利要求4所述的辐射制冷膜，其特征在于，在所述粘接层中，所述苯并三唑类光稳定剂和所述受阻胺类光稳定剂的重量比范围为(1.5:1)～(2.5:1)。

6.根据权利要求1所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述聚合物为透明的热塑性高分子树脂；和/或

所述物理保护层的材料为聚酯树脂，所述聚酯树脂选自聚甲基丙烯酸甲酯树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙烯树脂和聚对苯二甲酸乙二醇树脂中的至少一种；和/或

所述无机填料选自碳化硅、二氧化硅、氮化硅、碳酸钙和硫酸钡中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述无机填料的粒径范围为3μm～15μm。

8.根据权利要求1～7任一所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述辐射制冷膜还包括反射层，所述反射层层叠设置在所述发射层远离所述粘接层的一侧。

9.根据权利要求8所述的辐射制冷膜，其特征在于，所述辐射制冷膜的厚度为75μm～220μm；其中，各层的厚度如下：

所述反射层0.08μm～0.3μm，

所述发射层50μm～150μm，

所述粘接层5μm～20μm，

所述物理保护层20μm～50μm。

10.如权利要求1～9任一所述的辐射制冷膜在制备节能建材、散热制冷设备或户外用品中的应用。

11.一种辐射制冷制品，其特征在于，所述辐射制冷制品包括基材及如权利要求1～9任一所述的辐射制冷膜，所述辐射制冷膜设于所述基材上，且所述辐射制冷膜的反射层与所述基材接触，所述基材为金属基材、塑料基材、建筑材料基材、纺织材料基材或玻璃基材。

Images