CN111596809B - 一种触控屏及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种触控屏制备方法,包含的步骤为:提供一涂覆有低阻导电薄膜层卷材,切割所述卷材,所述低阻导电薄膜层的电阻小于等于10Ω/□;对所述卷材进行激光图案化,所述激光图案化包含触控区域图案化和边框导线图案化;提供两片所述图案化后卷材,对其辊压式贴合形成薄膜叠层结构;提供一透明盖板,通过光学液态胶和所述薄膜叠层结构贴合。该方法有效节减少了触控屏生产制程,降低了生产成本,提高生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及触控屏,尤其涉及一种电容式触控屏的制备方法。
背景技术
电容式触控装置结构一般分为感应层和驱动层,分别在两张透明导电薄膜上完成图案化电路,并有导线传输信号,其表面根据需要贴合有盖板。透明导电薄膜上图案化电路形成的方法有化学蚀刻或者物理的激光蚀刻等。现有技术中电容式触控装置的制备过程包括:1.图案化导电薄膜。如果采用ITO为透明导电薄膜的导电物质,通常采用传统的溶液化学蚀刻,采用耐酸油墨、光刻胶等作为溶液中化学蚀刻的临时保护,在蚀刻完成后需要进行脱除。如果采用纳米银为透明导电薄膜的导电物质,采用激光镭射出图案,清洗导电薄膜。2.对两层导电薄膜进行切割后老化,印刷导电银浆,对导电银浆进行烘烤固化。3.激光对导电银浆镭射出导电图案后进行清洗。4.两层导电薄膜进行贴合后再与透明盖板贴合。这一系列过程工序众多,制程繁琐,需要花费大量的人力物力和生产时间。
综上所述,如何节约制作工序,降低触控屏的生产成本是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。
发明内容
为解决上述蚀刻线可见的问题,本发明提出了1.一种触控屏制备方法,包括以下步骤:
S1:提供一涂覆有低阻导电薄膜层卷材,切割所述卷材,所述低阻导电薄膜层的电阻小于等于10Ω/□;
S2:对所述卷材进行激光图案化,所述激光图案化包含触控区域图案化和边框导线图案化。
S3:提供两片所述图案化后卷材,对其辊压式贴合形成薄膜叠层结构;
S4:提供一透明盖板,通过光学液态胶和所述薄膜叠层结构贴合。
优选的,所述步骤S1的卷材包含一层离型膜,所述切割为部分半切断处理。
优选的,所述低阻导电薄膜层包含电传导层,所述电传导层包含金属和该金属的氧化物或氮化物。
优选的,所述步骤S4的透明盖板采取多片式载于同一离型膜上。
优选的,所述步骤S3采用滚卷式进行贴合。
优选的,所述切割为部分半切断处理。
优选的,所述步骤S2的激光能量为30-50W。
优选的,所述触控区域图案化和边框导线图案化一道制程完成。
本发明的触控屏制备方法节约制作工序,有效节省人力物力和生成时间,降低触控屏的生产成本。
本发明还提供了一种由以上所述触控屏制备方法得到的触控屏。
附图说明
图1为本发明触控屏制备方法的流程图
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
除非特别说明,本发明采用的溶剂、试剂、涂覆方法、技术参数、涂覆设备等均为本技术领域常规溶剂、试剂、方法、参数、设备等。
如图1所示,本实施例提供了一种触控屏制备方法,该制备方法的步骤为:
S1:提供一涂覆有低阻导电薄膜层卷材,切割所述卷材,所述低阻导电薄膜层的电阻小于等于10Ω/□。
所述卷材是指柔性透明衬底,材料选自聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚酰亚胺(PI)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、三醋酸纤维素(TAC)、FMH丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚氯乙烯(PVC)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚四氟乙烯(PTFE)、环烯烃共聚物(COP、Arton)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)一种或多种。
所述低阻导电薄膜层至少包含电传导层,所述电传导层包含金属和该金属的氧化物或氮化物,所述电传导层的厚度小于或等于10nm。电传导层的特性直接影响了导电薄膜结构的导电率和透光率,通过金属和该金属氧化物或氮化物的组合,由于金属氧化物或氮化物的表面能比其金属的表面能小,在金属和其金属氧化物或氮化物通过特定的溅射方法后,形成的电传导层能在厚度小于等于10nm的情况下,即保持良好的光透过性,还能有效改善了形成岛状结构这一问题,降低导电薄膜的电阻。
在其他实施方式中,低阻导电薄膜层包含耐候层、电传导层、抗氧化层、透明导电层。电传导层和透明导电层形成隧道贯穿效应,既能防止氧化又能保持导电效果。
所述触控屏制备方法步骤S1的切割分为全切断处理和部分半切断处理。在其他实施方式中,当步骤S1的卷材包含一层离型膜,此时的切割为部分半切断处理,可以理解为仅切割卷材不切割离型膜。部分半切断处理能是所述卷材在切割之后依然采用滚卷式的方式继续下一道制程,实现制程的一体化和自动化。
S2:对所述卷材进行激光图案化,所述激光图案化包含触控区域图案化和边框导线图案化。
本发明的触控屏制备方法针对包含低阻导电薄膜的触控屏,尤其是电阻小于或等于10Ω/□的导电薄膜,触控屏的边框导线传输触控区域产生的信号,不仅有电阻的影响还电抗的影响,由于采用低阻导电薄膜,阻抗低,可以用来传输信号,整体只需采取一道制程,节约成本。
所述激光能量为30W-50W。且所述激光的最大单脉冲能量0.25mj。
S3:提供两片所述图案化后卷材,对其辊压式贴合形成薄膜叠层结构;采用辊压贴合,有利于提高表面平整度,保证产品的质量。
在本实施例中,所述低阻导电薄膜在卷材的一侧,两片图案化后的卷材在贴合时,图案面可以朝向同一方向进行贴合,也可以图案面相对贴合。
在其他实施方式中,该步骤采用滚卷式进行贴合,节省时间,提高生产效率。
S4:提供一透明盖板,通过光学液态胶和所述薄膜叠层结构贴合。
所述透明盖板可以是平面也可以是非平面,材料可以是无机材料,例如,玻璃、石英、蓝宝石不限于此,也可以是有机塑料。例如,聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚酰亚胺(PI)不限于此,还可以是有机材料和有机塑料组合构成。在另一个实施例中,透明盖板9优选2.5D或3D的蓝宝石,此处2.5D是指上下为平坦的平面,上表面的两侧为圆弧状,2.5D可以使传输区域在视觉上实现窄边框化;3D是指下表面为平坦平面,上表面为圆弧型。
在其他实施方式中,所述透明盖板采取多片式载于同一离型膜上。如此,可以多片进行粘贴,节约时间。待完成贴合后,可以撕去离型膜,也可以保留离型膜作为保护膜。
Claims (6)
1.一种触控屏制备方法,包括以下步骤:
S1:提供一涂覆有低阻导电薄膜层卷材,切割所述卷材,所述卷材包含一层离型膜,所述切割为部分半切断处理,所述低阻导电薄膜层的电阻小于等于10Ω/□;
S2:对所述卷材进行激光图案化,所述激光图案化包含触控区域图案化和边框导线图案化,所述激光能量为30W-50W;
S3:提供两片图案化后卷材,对其辊压式贴合形成薄膜叠层结构;
S4:提供一透明盖板,通过光学液态胶和所述薄膜叠层结构贴合。
2.根据权利要求1所述的触控屏制备方法,其特征在于,所述低阻导电薄膜层包含电传导层,所述电传导层包含金属和该金属的氧化物或氮化物。
3.根据权利要求2所述的触控屏制备方法,其特征在于,步骤S4的透明盖板采取多片式载于同一离型膜上。
4.根据权利要求2所述的触控屏制备方法,其特征在于,步骤S3采用滚卷式进行贴合。
5.根据权利要求1所述的触控屏制备方法,其特征在于,所述触控区域图案化和边框导线图案化一道制程完成。
6.一种由权利要求1-5任一项所述触控屏制备方法得到的触控屏。
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