CN111584748A - 透明显示器件、仿真方法及制造方法 - Google Patents
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Abstract
本公开实施例提供了一种透明显示器件、仿真方法及制造方法，所述透明显示器件包括衬底基板及阵列分布于所述衬底基板上的多个像素，每一所述像素包括透明区和显示区；沿所述透明区和所述显示区之间的交界线设置有用于对光线进行散射的散射结构。本公开实施例提供的透明显示器件、仿真方法及制造方法，能够改善衍射重影现象。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种透明显示器件、仿真方法及制造方法。
背景技术
在相关技术中，高PPI(Pixels Per Inch，像素密度)透明显示产品都是小尺寸LTPS-LED(低温多晶硅液晶显示器)、Mico-LED(微液晶显示器)或小尺寸oxide OLED(氧化物有机发光二极管)。而大尺寸透明显示产品也多为低PPI。对于高PPI大尺寸透明显示产品，虽然市场需求量大，但是目前相关技术中仍然存在技术难题需要克服。
大尺寸高PPI oxide OLED透明显示的一个瓶颈在于，随着PPI增大，像素尺寸越小，金属走线密度越大，透明区面积越小，从而影响透过率的同时，更容易发生小孔衍射效应，反映在实际体验中，即透过透明显示屏所看到的物体有重影现象，严重影响了客户体验。因此，如何减小大尺寸高PPI透明显示产品的衍射重影现象是目前亟待解决的问题。
发明内容
本公开实施例提供了一种透明显示器件、仿真方法及制造方法，能够改善衍射重影现象。
本公开实施例所提供的技术方案如下：
一方面，本公开实施例提供一种透明显示器件，包括衬底基板及阵列分布于所述衬底基板上的多个像素，每一所述像素包括透明区和显示区；沿所述透明区和所述显示区之间的交界线设置有用于对光线进行散射的散射结构。
示例性的，所述散射结构包括沿所述透明区和所述显示区之间的交界线依次间隔排列的多个散射点结构。
示例性的，在所述衬底基板上形成有散射膜层，所述散射膜层内分布多个散射颗粒状结构，且所述散射膜层图案化而形成多个所述散射点结构。
示例性的，所述散射膜层包括：光学胶层，所述光学胶层内部分布有多个散光颗粒，所述散光颗粒形成所述散射颗粒状结构；和/或，
所述散射膜层包括表面为不连续结晶状的透明薄膜层，所述透明薄膜层表面的不连续结晶状结构形成所述散射颗粒状结构，且所述透明薄膜层的折射率大于所述衬底基板的折射率。
示例性的，所述散光颗粒包括量子点颗粒；所述透明薄膜层包括氧化铟锡薄膜。
示例性的，所述透明薄膜层在垂直于所述衬底基板的方向上的厚度为80～120埃。
示例性的，所述散射点结构在与所述交界线垂直且平行于所述衬底基板的方向上的宽度为0.5～1.0微米。
另一方面，本公开实施例还提供一种确定透明显示器件的像素结构的仿真方法，包括：
搭建仿真模型，所述仿真模型包括用于显示原图的原图生成部、用于模拟透明显示器件的像素结构的像素模拟部及用于显示衍射效果图的衍射效果图生成部；
在所述仿真模型中，调整所述像素模拟部的像素结构参数，以获取所述原图在不同像素结构参数时所对应的衍射效果图；
根据所述原图与所述衍射效果图，确定衍射前后图像的差异系数E，以获取不同所述像素结构参数与所述衍射前后图像的差异系数E之间的对应关系，作为量化评判结果；
根据所述量化评判结果，确定所述透明显示器件的优化像素结构数据。
示例性的，在所述仿真模型中，调整所述像素模拟部的像素结构参数，以获取所述原图在不同像素结构参数时所对应的衍射效果图，具体包括：
所述像素结构参数至少包括像素开口率参数、雾度参数及像素中透明区和显示区的结构形状参数，且采用单一变量调整方式，调整所述像素模拟部的像素结构参数。
本公开实施例还提供一种透明显示器件的制造方法，所述方法包括：
在衬底基板上形成阵列分布的多个像素，每一所述像素包括透明区和显示区；
在沿所述透明区和所述显示区之间的交界线处，形成用于对光线进行散射的散射结构。
示例性的，所述方法，在所述衬底基板上形成阵列分布的多个像素之前，还包括：
采用本公开实施例所提供的仿真方法，确定透明显示器件的优化像素结构数据，并根据所述优化像素结构数据，在所述衬底基板上形成阵列分布的多个像素。
示例性的，所述在沿所述透明区和所述显示区之间的交界线处，形成用于对光线进行散射的散射结构，具体包括：
在所述衬底基板上涂覆掺杂有散光颗粒的光学胶层，对所述光学胶层进行图案化处理，以形成沿所述透明区和所述显示区之间的交界线依次间隔排列的多个散射点结构；
和/或，在所述衬底基板上，沉积透明薄膜，对该透明薄膜进行图案化处理，以形成沿所述透明区和所述显示区之间的交界线依次间隔排列的多个散射点结构，再在预定温度条件下退火，形成表面为不连续结晶状的透明薄膜层。
本公开实施例所带来的有益效果如下：
本公开实施例所提供的透明显示器件及其制造方法，通过沿透明区和显示区的交界线设置具有散射效应的散射结构，形成漫反射，从而干涉小孔衍射的光路，削弱衍射效应，改善透明显示器件衍射重影现象。
并且，在本公开实施例所提供的方法中，还可以通过搭建透明显示仿真模型，不同像素结构参数下的仿真衍射效果图，并进行定量化评价，从而得到实现透明显示的像素设计规则及最优方案，以改善透明显示器件的衍射重影现象。
附图说明
图1表示本公开实施例中提供的一种实施例中透明显示器件的俯视图；
图2表示本公开实施例中提供的一种实施例中透明显示器件的局部结构剖视图；
图3表示本公开实施例中提供的另一种实施例中透明显示器件的局部结构剖视图；
图4表示ITO表面不连续结晶图；
图5表示不连续的微米级ITO薄膜的结晶断面图；
图6表示本公开实施例中所提供的仿真方法中搭建的仿真模型光路图；
图7表示本公开实施例中所提供的仿真方法中搭建的仿真模型中一种原图的示意图；
图8表示本公开实施例中所提供的仿真方法中搭建的仿真模型中像素模拟部的示意图；
图9表示本公开实施例中所提供的仿真方法中搭建的仿真模型中一种衍射效果图的示意图；
图10表示本公开实施例中所提供的仿真方法中获取的像素开口率参数与E值的对应关系曲线；
图11表示本公开实施例中所提供的仿真方法中获取的雾度参数与E值的对应关系曲线；
图12-14所示表示本公开实施例中所提供的仿真方法中像素中透明区与显示区的结构形状的几种实施例示意图。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
在对本公开实施例所提供的透明显示器件及其制造方法进行详细说明之前，有必要对相关技术进行以下说明：
在相关技术中，评测大尺寸高PPI(像素密度)透明显示效果有很多指标，包括PPI、透明度、雾度和清晰度等，透明显示器件中包括多个像素，每个像素包括透明区和显示区，PPI越大，像素尺寸越小，金属走线密度越大，透明区的面积越小，从而影响透过率，同时，更容易发生小孔衍射效应，反映在实际体验中，即透过透明显示屏所看到的物体有重影现象，严重影响了客户体验。因此，如何降低透明显示的衍射重影效应是目前亟待解决的问题。
为了解决上述问题，本公开实施例中提供了一种透明显示器件、确定透明显示器件的像素结构的仿真方法及透明显示器件的制造方法，能够改善衍射重影现象。
如图1所示，本公开实施例所提供的透明显示器件，包括衬底基板100及阵列分布于所述衬底基板100上的多个像素，每一所述像素包括透明区210和显示区220；沿所述透明区210和所述显示区220之间的交界线设置有用于对光线进行散射的散射结构300。
在上述公开实施例中，在不影响透明显示器件中像素透明区210(像素开口)的情况下，通过沿透明区210和显示区220的交界线设置具有散射效应的散射结构300，形成漫反射，从而干涉小孔衍射的光路，削弱衍射效应，改善透明显示器件衍射重影现象。
需要说明的是，本公开实施例所提供的透明显示器件中，虽然会一定程度上增加雾度，但对衍射重影现象会有较大改善，因此，在实际应用中，可进行工艺调节，以平衡雾度、衍射情况和显示效果。
以下对本公开实施例所提供的透明显示器件进行更为详细的说明。
如图1所示，在一些公开实施例中，所述散射结构300包括沿所述透明区210和所述显示区220之间的交界线依次间隔排列的多个散射点结构310。
在上述方案中，在所述透明区210和所述显示区220的交界线处间隔设置多个散射点结构310，所述散射点结构310起到对光线散射目的，对于所述散射点结构310的具体形状不限定，在一些实施例中，所述散射点结构310在所述衬底基板100上的正投影形状可以是圆形、半圆形或者矩形等，只要能够使得光线发生漫反射而改善透明区210的衍射现象即可。
此外，在本公开的一种示例性实施例中，在所述衬底基板100上形成有散射膜层，所述散射膜层内分布多个散射颗粒状结构，且所述散射膜层图案化而形成多个所述散射点结构310。
采用上述方案，所述散射点结构310是利用散射膜层图案化形成，其中散射膜层内还分布有散射颗粒状结构，可以进一步的提升散射效果。
此外，如图2和图3所示，在一些实施例中，所述散射膜层一部分在所述衬底基板100上的正投影与所述显示区220完全重叠，另一部分在所述衬底基板100上的正投影延伸出所述显示区220，而与所述透明区210重叠，而形成所述散射结构300。
在另一些实施例中，所述散射膜层还可以是，在所述衬底基板100上的正投影与所述显示区220不重叠或仅与显示区220的边缘部分重叠，而在所述透明区210和所述显示区220的交界线处形成散射结构300。
此外，还需要说明的是，所述透明显示器件中，所述显示区220设置有显示单元110，所述显示单元110包括形成于所述衬底基板100上的多个膜层，例如，以AMOLED为例，所述显示单元110包括TFT、正电极、负电极和有机发光单元等；
所述散射膜层可以是设置于所述显示单元110与所述衬底基板100之间(如图2和图3所示)，还可以是设置于所述显示单元110远离所述衬底基板100的一侧，或者，还可以是单独设置于所述显示单元110的某一中间膜层上，或者与所述显示单元110的某一透光膜层采用同一图案化工艺形成，例如，所述散射膜层与所述有机发光单元同材质，且采用同一图案化工艺形成。
在一种公开实施例中，如图2所示，所述散射膜层包括：光学胶层320，所述光学胶层320内部分布有多个散光颗粒330，所述散光颗粒330形成所述散射颗粒状结构。
采用上述方案，所述散射膜层通过在透明显示器件的衬底基板100上或者形成有显示单元110的背板上，涂覆一层掺杂有散光颗粒330的光学胶层320，再通过图案化处理，在透明区210和显示区220的交界线处形成散射结构300。其中，所述光学胶层320的图案化处理工艺可以是利用光刻工艺，具体过程可以如下：
首先，在衬底基板100或形成有显示单元110的背板上涂覆光学胶层320，然后，涂覆一层光刻胶，采用掩膜板对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶未保留区域和光刻胶保留区域，其中，光刻胶保留区域对应于所述散射膜层的图形所在区域，光刻胶未保留区域对应于上述图形以外的区域；进行显影处理，光刻胶未保留区域的光刻胶被完全去除，光刻胶保留区域的光刻胶厚度保持不变；通过刻蚀工艺完全刻蚀掉光刻胶未保留区域的光学胶层320，剥离剩余的光刻胶，形成所述散射膜层的图形。
在一些实施例中，所述散射膜层的厚度约为3.0微米，所述散射点结构310在与所述交界线垂直且平行于所述衬底基板100的方向上的宽度d为0.5～1.0微米，此时，所述散射点结构310对所述透明显示器件的衍射重影现象改善明显，在不影响开口透明区210的情况下，增加散射，减小衍射重影。
当然可以理解的是，所述散射膜层的厚度以及散射点结构310的宽度等参数可以不限于此，可在实际应用中进行合理调整。
此外，在一些公开实施例中，所述散光颗粒330采用量子点颗粒，量子点颗粒在自然光下很难被激发，不对显示效果产生不良影响，并且，对于一些透明显示器件来说，所述显示区220的显示单元110包括量子点发光单元，可以将所述散射膜层与具有量子点的发光单元通过同一次图案化工艺形成，简化工艺。当然可以理解的是，所述散光颗粒330还可以采用其他具有散射效应的颗粒形成。
此外，在本公开的另一些实施例中，如图3所示，所述散射膜层包括表面为不连续结晶状的透明薄膜层340，所述透明薄膜层340表面的不连续结晶状结构形成所述散射颗粒状结构，且所述透明薄膜层340的折射率大于所述衬底基板100的折射率。
在上述公开实施例中，利用透明薄膜层340的不连续结晶性形成散射膜层。其中，所述透明薄膜层340可以是氧化铟锡薄膜(ITO)。所述透明薄膜层340在垂直于所述衬底基板100的方向上的厚度为80～120埃。
图4至图5所示为沉积厚度为100埃ITO，经退火工艺后的SEM图(扫描电镜图)。其中图4所示为ITO表面不连续结晶图，图5所示为不连续的微米级ITO薄膜的结晶断面图，这种表面具有不连续结晶状的ITO薄膜，折射率相对衬底基板100较高，因此会增加透明区210(slit)边缘散射，从而改善衍射现象，并且，该透明薄膜层340还可以起到改善透明显示器件背面反射的现象。
以ITO为例，所述透明薄膜层340的制作过程如下：
在衬底基板100上或形成有显示单元110的背板上，进行沉积溅射ITO薄膜，厚度约80-120埃，经刻蚀工艺，实现图形化，之后，在预定温度条件下退火，形成不连续的结晶状薄膜，完成散射膜层的制作，其中所述预定温度可以是250±50℃。
应当理解的是，以上是一种示例性实施例中，所述透明薄膜层340选用表面具有不连续结晶状的ITO薄膜，可以在制作工艺中，形成其他ITO层的同时，来沉积形成所述透明薄膜层340，但是，所述透明薄膜层340的选材并不以此为限。
需要说明的是，本公开实施例所提供的透明显示器件可以是指，透明显示产品的显示基板，也可以是指整个显示模组，还可以是指整个显示装置。
在透明显示器件中，评测大尺寸高PPI(像素密度)透明显示效果的两个重要指标包括透明度和是否存在光畸变现象，这两者均与PPI、像素结构及排列等像素结构参数有关。其中，光畸变现象，主要是由于光学衍射所致，光波遇到障碍物(开孔)后产生偏离直线传播的现象，即为光的衍射，开孔越小，衍射范围越大，衍射条纹越宽，亮度越暗。相干光叠加，满足复振幅叠加原理，光强为复振幅的平方，非相干光的相位无规则变化，总光强是各束光的总合，在透明显示产品中，大部分情况更符合非相干光的规则。
本公开实施例中提供了一种确定透明显示器件的像素结构的仿真方法，通过搭建透明显示仿真模型，兼顾PPI(像素密度)及Haze(雾度)等像素结构参数，得到像素设计的衍射效果图，并进行定量化评价，从而得到实现透明显示的像素设计规则及最优方案，以改善衍射重影现象。
本公开实施例所提供的一种确定透明显示器件的像素结构的仿真方法，所述方法包括：
步骤S01、搭建仿真模型，如图6至图9所示，所述仿真模型包括用于显示原图10的原图10生成部、用于模拟透明显示器件的像素结构的像素模拟部20及用于显示衍射效果图30的衍射效果图30生成部；
其中，所述像素模拟部20用于模拟透明显示器件的像素结构，其可以选用与透明显示器件的像素结构设计相同的开孔平面；
步骤S02、在所述仿真模型中，调整所述像素模拟部20的像素结构参数，以获取所述原图10在不同像素结构参数时所对应的衍射效果图30；
步骤S03、根据所述原图10与所述衍射效果图30，确定衍射前后图像的差异系数E，以获取不同所述像素结构参数与所述衍射前后图像的差异系数E之间的对应关系，作为量化评判结果；
步骤S04、根据所述量化评判结果，确定所述透明显示器件的优化像素结构数据。
上述方法中，通过搭建透明显示仿真模型，将原图10作为物体，根据模拟透明显示的像素结构设计开孔平面，通过仿真，得到不同像素结构参数下所对应的衍射效果图30，计算衍射前后两图的差异系数E，得到像素设计的量化评判结果，E值越小，衍射效果越轻，透明显示或屏下摄像头拍照效果越好，从而得到实现透明显示的像素设计规则及最优方案，以改善衍射重影现象。
其中，所述像素结构参数至少包括像素开口率参数、雾度参数及像素中透明区210和显示区220的结构形状参数(即开孔结构形状)，且采用单一变量调整方式，调整所述像素模拟部20的像素结构参数，也就是说，在获取某一像素结构参数与衍射前后图像的差异系数E的对应关系时，保持其他像素结构参数不变，仅调整该像素结构参数，例如，获取像素开口率参数与衍射前后图像的差异系数E的对应关系时，仅改变所述模拟部中的像素开口率参数，而其他像素结构参数(例如，雾度、像素中透明区210和显示区220的结构形状参数等)则保持不变。
以下示例性的说明上述公开实施例提供的仿真方法的一种具体实施过程：
首先，调整所述模拟部的像素开口率参数，例如，依次增加像素开口率，获取不同像素开口率参数所对应的衍射效果图30，并计算衍射前后图像的差异系数E，以横坐标为像素开口率参数，纵坐标为E值，得到像素开口率参数与E值的对应关系曲线如图10所示，该对应关系曲线作为量化评判结果，由图10可知，随着像素开口率增加，E值减小，由此可结合PPI需求，获取最优开口率方案；
然后，调整所述模拟部的雾度参数，获取不同雾度参数所对应的衍射效果图30，并计算衍射前后图像的差异系数E，以横坐标为雾度参数，纵坐标为E值，得到雾度参数与E值的对应关系曲线如图11所示，该对应关系曲线作为量化评判结果，由图11可知，随着雾度系数增加，E值减小，结合透明显示器件的透过率需求，可筛选出最优雾度方案；
然后，调整所述模拟部的像素中透明区210和显示区220的结构形状参数，获取不同像素中透明区210和显示区220的结构形状参数所对应的衍射效果图30，并计算衍射前后图像的差异系数E，可通过量化值E值及不同像素中透明区210和显示区220的结构形状参数的衍射效果图30进行综合评判，从而筛选出像素中透明区210和显示区220的结构形状最优设计方案，需要说明的是，所述像素中透明区210和显示区220的结构形状参数可以包括像素中透明区210的方向、透明区210的形状等，如图12至14所示，为采用本公开一种示例性实施例所提供的仿真方法所获取的透明显示器件的优化像素结构，例如，图12所示像素中透明区210为矩形，图13所示像素中透明区210为两端圆弧状的长条形，图14所示像素中透明区210在与显示区220的交界线一部分为锯齿状交界线。
当然可以理解的是，以上仅是举例，在实际应用中，可根据实际应用中的透明显示器件的结构，根据本公开实施例所提供的仿真方法来确定透明显示器件中的优化像素结构参数。
此外，本公开实施例中还提供了一种透明显示器件的制造方法，所述方法包括：
步骤S1、在衬底基板100上形成阵列分布的多个像素，每一所述像素包括透明区210和显示区220；
步骤S2、在沿所述透明区210和所述显示区220之间的交界线处，形成用于对光线进行散射的散射结构300。
在上述公开实施例中，在不影响透明显示器件中像素透明区210(像素开口)的情况下，通过沿透明区210和显示区220的交界线设置具有散射效应的散射结构300，形成漫反射，从而干涉小孔衍射的光路，削弱衍射效应，改善透明显示器件衍射重影现象。
此外，在本公开一些实施例中，步骤S2具体包括：
在所述衬底基板100上涂覆掺杂有散光颗粒330的光学胶层320，对所述光学胶层320进行图案化处理，以形成沿所述透明区210和所述显示区220之间的交界线依次间隔排列的多个散射点结构310。
采用上述方案，所述散射膜层通过在透明显示器件的衬底基板100上或者形成有显示单元110的背板上，涂覆一层掺杂有散光颗粒330的光学胶层320，再通过图案化处理，在透明区210和显示区220的交界线处形成散射结构300。其中，所述光学胶层320的图案化处理工艺可以是利用光刻工艺，具体过程可以如下：
首先，在衬底基板100或形成有显示单元110的背板上涂覆光学胶层320，然后，涂覆一层光刻胶，采用掩膜板对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶未保留区域和光刻胶保留区域，其中，光刻胶保留区域对应于所述散射膜层的图形所在区域，光刻胶未保留区域对应于上述图形以外的区域；进行显影处理，光刻胶未保留区域的光刻胶被完全去除，光刻胶保留区域的光刻胶厚度保持不变；通过刻蚀工艺完全刻蚀掉光刻胶未保留区域的光学胶层320，剥离剩余的光刻胶，形成所述散射膜层的图形。
在一些实施例中，所述散射膜层的厚度约为3.0微米，所述散射点结构310在与所述交界线垂直且平行于所述衬底基板100的方向上的宽度为0.5～1.0微米，此时，所述散射点结构310对所述透明显示器件的衍射重影现象改善明显，在不影响开口透明区210的情况下，增加散射，减小衍射重影。
当然可以理解的是，所述散射膜层的厚度以及散射点结构310的宽度等参数可以不限于此，可在实际应用中进行合理调整。
此外，在一些公开实施例中，所述散光颗粒330采用量子点颗粒，量子点颗粒在自然光下很难被激发，不对显示效果产生不良影响，并且，对于一些透明显示器件来说，所述显示区220的显示单元110包括量子点发光单元，可以将所述散射膜层与具有量子点的发光单元通过同一次图案化工艺形成，简化工艺。当然可以理解的是，所述散光颗粒330还可以采用其他具有散射效应的颗粒形成。
此外，在本公开的另一些实施例中，在所述衬底基板100上，沉积透明薄膜，对该透明薄膜进行图案化处理，以形成沿所述透明区210和所述显示区220之间的交界线依次间隔排列的多个散射点结构310，再在预定温度条件下退火，形成表面为不连续结晶状的透明薄膜层340。
在上述公开实施例中，利用透明薄膜层340的不连续结晶性形成散射膜层。其中，所述透明薄膜层340可以是氧化铟锡薄膜(ITO)。所述透明薄膜层340在垂直于所述衬底基板100的方向上的厚度为80～120埃。表面具有不连续结晶状的ITO薄膜，折射率相对衬底基板100较高，因此会增加透明区210(slit)边缘散射，从而改善衍射现象，并且，该透明薄膜层340还可以起到改善透明显示器件背面反射的现象。
以ITO为例，所述透明薄膜层340的具体制作过程如下：
在衬底基板100上或形成有显示单元110的背板上，进行沉积溅射ITO薄膜，厚度约80-120埃，经图形化工艺处理之后，在预定温度条件下退火，形成不连续的结晶状薄膜，完成散射膜层的制作，其中所述预定温度可以是250±50℃。
所述透明薄膜层340的图案化工艺具体过程如下：
首先，在衬底基板100上沉积的透明薄膜层340上涂覆一层光刻胶，采用掩膜板对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶未保留区域和光刻胶保留区域，其中，光刻胶保留区域对应于透明薄膜层340中的散射结构300的图形所在区域，光刻胶未保留区域对应于上述图形以外的区域；进行显影处理，光刻胶未保留区域的光刻胶被完全去除，光刻胶保留区域的光刻胶厚度保持不变；通过刻蚀工艺完全刻蚀掉光刻胶未保留区域的透明薄膜，剥离剩余的光刻胶，形成散射结构300的图形。
需要说明的是，所述透明薄膜层340可以选用ITO层，所述透明显示器件中的显示单元110包括ITO层，所述透明薄膜层340可与所述显示单元110中的ITO层通过同一次图案化工艺形成，以简化工艺。
此外，在一些公开实施例中，所述方法中，在所述衬底基板100上形成阵列分布的多个像素之前，还包括：采用本公开实施例所提供的仿真方法，确定透明显示器件的优化像素结构数据，并根据所述优化像素结构数据，在所述衬底基板100上形成阵列分布的多个像素。
通过搭建仿真模型，兼顾PPI(像素开口率)及Haze(雾度)等像素结构参数，得到像素设计的衍射效果图30，并进行定量化评价，从而得到实现透明显示的像素设计规则及最优方案，以改善衍射重影现象。
有以下几点需要说明：
(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”或者可以存在中间元件。
(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (12)
1.一种透明显示器件，其特征在于，包括衬底基板及阵列分布于所述衬底基板上的多个像素，每一所述像素包括透明区和显示区；沿所述透明区和所述显示区之间的交界线设置有用于对光线进行散射的散射结构。
2.根据权利要求1所述的透明显示器件，其特征在于，
所述散射结构包括沿所述透明区和所述显示区之间的交界线依次间隔排列的多个散射点结构。
3.根据权利要求2所述的透明显示器件，其特征在于，
在所述衬底基板上形成有散射膜层，所述散射膜层内分布多个散射颗粒状结构，且所述散射膜层图案化而形成多个所述散射点结构。
4.根据权利要求3所述的透明显示器件，其特征在于，
所述散射膜层包括：光学胶层，所述光学胶层内部分布有多个散光颗粒，所述散光颗粒形成所述散射颗粒状结构；和/或，
所述散射膜层包括表面为不连续结晶状的透明薄膜层，所述透明薄膜层表面的不连续结晶状结构形成所述散射颗粒状结构，且所述透明薄膜层的折射率大于所述衬底基板的折射率。
5.根据权利要求4所述的透明显示器件，其特征在于，
所述散光颗粒包括量子点颗粒；所述透明薄膜层包括氧化铟锡薄膜。
6.根据权利要求4所述的透明显示器件，其特征在于，
所述透明薄膜层在垂直于所述衬底基板的方向上的厚度为80～120埃。
7.根据权利要求4所述的透明显示器件，其特征在于，
所述散射点结构在与所述交界线垂直且平行于所述衬底基板的方向上的宽度为0.5～1.0微米。
8.一种确定透明显示器件的像素结构的仿真方法，其特征在于，包括：
搭建仿真模型，所述仿真模型包括用于显示原图的原图生成部、用于模拟透明显示器件的像素结构的像素模拟部及用于显示衍射效果图的衍射效果图生成部；
在所述仿真模型中，调整所述像素模拟部的像素结构参数，以获取所述原图在不同像素结构参数时所对应的衍射效果图；
根据所述原图与所述衍射效果图，确定衍射前后图像的差异系数E，以获取不同所述像素结构参数与所述衍射前后图像的差异系数E之间的对应关系，作为量化评判结果；
根据所述量化评判结果，确定所述透明显示器件的优化像素结构数据。
9.根据权利要求8所述的仿真方法，其特征在于，
在所述仿真模型中，调整所述像素模拟部的像素结构参数，以获取所述原图在不同像素结构参数时所对应的衍射效果图，具体包括：
所述像素结构参数至少包括像素开口率参数、雾度参数及像素中透明区和显示区的结构形状参数，且采用单一变量调整方式，调整所述像素模拟部的像素结构参数。
10.一种透明显示器件的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
在衬底基板上形成阵列分布的多个像素，每一所述像素包括透明区和显示区；
在沿所述透明区和所述显示区之间的交界线处，形成用于对光线进行散射的散射结构。
11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，
所述方法，在所述衬底基板上形成阵列分布的多个像素之前，还包括：
采用如权利要求8至9任一项所述的仿真方法，确定透明显示器件的优化像素结构，并根据所述优化像素结构数据，在所述衬底基板上形成阵列分布的多个像素。
12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述在沿所述透明区和所述显示区之间的交界线处，形成用于对光线进行散射的散射结构，具体包括：
在所述衬底基板上涂覆掺杂有散光颗粒的光学胶层，对所述光学胶层进行图案化处理，以形成沿所述透明区和所述显示区之间的交界线依次间隔排列的多个散射点结构；
和/或，在所述衬底基板上，沉积透明薄膜，对该透明薄膜进行图案化处理，以形成沿所述透明区和所述显示区之间的交界线依次间隔排列的多个散射点结构，再在预定温度条件下退火，形成表面为不连续结晶状的透明薄膜层。
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