CN111574027B - 一种tft-lcd基板玻璃窑炉环境控制装置及控制方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种TFT‑LCD基板玻璃窑炉环境控制装置及控制方法，所述装置包括连接的铂金通道和窑炉，铂金通道和窑炉位于玻璃窑炉内，玻璃窑炉位于外部大气环境内。铂金通道设置于玻璃窑炉后端，外部大气环境设置于窑炉区域和通道封闭区域外部，各区域之间形成单独空间压力仓，玻璃窑炉的前端位和后端部分别设有进风装置和排风装置，通道区域的前端位和后端部分别设有进风装置和排风装置，使窑炉区域和通道区域向外部大气内渗透，使玻璃窑炉前端和后端面风速及环境压差得到控制，使通道区域前端和后端面风速及环境压差得到控制，使窑炉区域和通道区域内环境气流均同玻璃液流向一致，到达工艺生产要求的断面风速、压差及气流组织。

Description

一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置及控制方法

【技术领域】

本发明属于暖通空调空气调节与TFT基板玻璃生产领域，具体涉及一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置及控制方法。

【背景技术】

在TFT基板玻璃生产过程中，热端设备区域环境气流方向变化对整个生产工艺影响很大，行业生产中，热端设备区域环境气流流向及大小已列为重要的工艺控制参数范畴。目前，国内外行业生产中，热端设备区域环境气流流向及大小还没有一个完全定性标准。而且在TFT基板玻璃生产过程中，各成型区域设备均在一个厂房或者单独厂房建设使用，没有对热端设备进行气流定性，都是依靠工人的技术经验，人工调整热端设备区域环境气流流向及大小，对热端设备进行散热或者做其他处理，因此对于热端设备区域环境控制不精确，也容易造成能源的分配不合理，容易影响生产精度和进度。

因此，需要设计一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置或方法，来定性、定量确定热端设备区域环境的气流流向及大小，为工艺生产缺陷对策提供一个有效、稳定的工艺环境就尤为重要。

【发明内容】

本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点，提供一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置及控制方法，以解决定性、定量控制热端设备区域环境的气流流向及大小的问题。

为达到上述目的，本发明采用以下技术方案予以实现：

一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置，包括玻璃窑炉，所述玻璃窑炉内固定设置有铂金通道和窑炉，铂金通道和窑炉连通；玻璃窑炉的前端侧壁上固定设置有第一送风装置，玻璃窑炉的后端侧壁上固定设置有第一排风装置；铂金通道的前端侧壁上固定设置有第二送风装置，铂金通道的后端侧壁上固定设置有第二排风装置；所述玻璃窑炉位于外部大气环境中。

本发明的进一步改进在于：

优选的，第一送风装置出风口的中心线和第一排风装置吸风口的中心线相同；第二送风装置出风口的中心线和和第二排风装置吸风口的中心线在相同。

优选的，所述玻璃窑炉内的压力比铂金通道区域内的压力小0.1-10Pa。

优选的，所述玻璃窑炉内的压力比外部大气环境的压力大0.1-15Pa。

优选的，铂金通道区域比外部大气环境的压力大5-25Pa。

优选的，所述第一送风装置的送风速度为1-8m/s。

优选的，所述第二送风装置的送风速度为2-10m/s。

优选的，所述玻璃窑炉内的气流流动方向和窑炉(11)内玻璃液流动方向相同；所述铂金通道内的气流流动方向和铂金通道内的玻璃液流动方向相同。

一种基于上述任意一项所述控制装置的控制方法，包括以下步骤：

步骤1，密封玻璃窑炉和铂金通道，连通铂金通道和窑炉；

步骤2，开启第一送风装置、第一排风装置、第二送风装置和第二排风装置。

优选的，还包括以下步骤：

步骤4，通过调整第一送风装置的送风速度，使得玻璃窑炉内的压力比外部大气环境的压力大0-15Pa；通过调整第二送风装置，使得铂金通道区域比外部大气环境的压力大5-25Pa；通过调整第一送风装置和第二送风装置，使得玻璃窑炉内的压力比铂金通道区域内的压力小0.1-10Pa。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

本发明公开了一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置，所述装置包括连接的铂金通道和窑炉，铂金通道和窑炉位于玻璃窑炉内，玻璃窑炉位于外部大气环境内。铂金通道设置于玻璃窑炉后端，外部大气环境设置于窑炉区域和通道封闭区域外部，各区域之间形成单独空间压力仓，玻璃窑炉的前端位和后端部分别设有进风装置和排风装置，通道区域的前端位和后端部分别设有进风装置和排风装置。通过将玻璃窑炉、铂金通道区域依次连接，铂金通道区设置在域窑炉区域后端，并且铂金通道的独立小区域设置在窑炉区域内。各区域之间形成单独空间压力仓，玻璃窑炉前端和后端分别设有进风装置和排风装置，通道区域2前端位和后端部分别设有进风装置和排风装置，使窑炉区域和通道区域向外部大气内渗透，使玻璃窑炉前端和后端面风速及环境压差得到控制，使通道区域前端和后端面风速及环境压差得到控制，使窑炉区域和通道区域内环境气流均同玻璃液流向一致，到达工艺生产要求的断面风速、压差及气流组织，避免了外面气压窑炉和通道环境参数的影响，使得整个热端设备区域环境气流流向和大小符合生产要求，为玻璃生产品质提供了保障。

进一步，送风装置与相对应的排风装置的中心线为同一条直线，使得玻璃窑炉区域内和铂金通道内的风向和生产线中的玻璃液流向相同。

进一步的，第一送风装置的送风速度限制在一定范围内，使得玻璃窑炉内的压力符合要求。

进一步的，第二送风装置的送风速度限制在一定范围内，使得玻璃窑炉内的压力和铂金通道内的压力符合要求。

进一步的，玻璃窑炉内的气流流动方向，铂金通道内的气流流动方向和玻璃液流动方向相同。

本发明还公开了一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制方法，利用环境中已有的控制装置，对窑炉区域内的气流流向、温度、气压进行有组织调节，使窑炉区域的气流流向与玻璃液流向相同，降低了玻璃窑炉内环境的稳定时间，保证了玻璃窑炉内能够快速进行熔融工作，通过本对热端设备区域环境的气流流向、大小进行设置，使得热端设备区域环境气流流向、压差关系和压差大小有了标准，保证了热端设备区域环境空间气流流向、均匀性控制更加稳定、精确，从而达到基板玻璃生产工艺环境的稳定，为基板玻璃工艺生产缺陷的降低起到有效作用。

【附图说明】

图1为本发明的装置结构示意图；

其中：1-玻璃窑炉；2-铂金通道；3-外部大气；4-第一送风装置；5-第一排风装置；6-第二送风装置；7-第二排风排风装置；8-第一压力表；9-第二压力表；10-第三压力表；11-窑炉。

【具体实施方式】

下面结合附图对本发明做进一步详细描述：

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制；术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置，包括玻璃窑炉1、玻璃窑炉1内固定设置有铂金通道2和窑炉11，铂金通道2在玻璃窑炉1内的后端，所述铂金通道2和窑炉11连通，铂金通道2和窑炉11的后端连通；玻璃窑炉1处于外部大气环境3中，外部大气环境3设置于玻璃窑炉1和通道封闭区域外部；所述玻璃窑炉1、铂金通道2和窑炉11内均为单独空间压力仓。玻璃窑炉1内固定设置第一压力表8，铂金通道2内固定设置有第二压力表9和第三压力表10，所述第一压力表8用于测量玻璃窑炉1和外部大气环境3之间的压差ΔP1，第二压力表9用于测量铂金通道2和玻璃窑炉1之间的压差ΔP2，第三压力表10用于测量铂金通道2和外部大气环境3之间的压差ΔP3。根据基板玻璃生产设备的热端设备区域环境要求，玻璃窑炉1相对于铂金通道区域2为负压，负压控制要求范围为-0.1-10Pa，即第二压力表9的正常范围为-0.1-10Pa；玻璃窑炉1相对于外部大气环境3为正压，正压控制在0.1-15Pa，即第一压力表8的正常范围为0-15Pa；铂金通道区域2相对于外部大气环境3为正压，正压控制在5-25Pa，即第三压力表10的正常范围为5-25Pa。

玻璃窑炉1前端连通有第一送风装置4，后端连通有第一排风装置5；铂金通道2的前端连通有第二送风装置6，后端连通有第二排风装置7。玻璃窑炉1内从窑炉设备前端水平送风风速控制在1-8m/s，从窑炉设备后端水平回风或排风风速与压差ΔP1联动控制，保证ΔP1的范围在0-15Pa；通道区域2内从通道设备前端水平送风风速控制在2-10m/s，从通道设备后端水平回风或排风风速与ΔP3联动控制，保证△P3的压力范围在5-25Pa。

通过上述TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置的冷却方法，包括以下步骤：

1.将玻璃窑炉1、铂金通道区域2、外部大气环境3依次封闭连接设置；

分别密封玻璃窑炉1和铂金通道区域2，连通窑炉11和铂金通道区域2。

2.使玻璃窑炉1气流向外部大气环境3渗透，铂金通道区域2向外部大气环境3渗透，

铂金通道区域2向窑炉区域1渗透；

3.开启第一送风装置4、第一排风装置5、第二送风装置6和第二排风装置7；

第一送风装置4从玻璃窑炉前端向玻璃窑炉1内水平送风，通过第一排风装置5同时玻璃窑炉1后端水平回风或排风，使得玻璃窑炉1的主气流流动方向与产线的玻璃液流动方向一致；第二送风装置6从铂金通道2的前端向铂金通道2内水平送风，通过第二排风装置7从铂金通道2的后端水平回风或排风；铂金通道2的主气流流动方向与产线的玻璃液流动方向一致。

本发明公开了一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置及冷却方法，通过将玻璃窑炉1、铂金通道区域2、外部大气环境3依次连接，窑炉区域1设置于铂金通道区域2前端，各区域之间形成单独空间压力仓，玻璃窑炉1前端和后端分别设有进风装置和排风装置，通道区域2前端和后端分别设有进风装置和排风装置，使窑炉区域环境气流向外部大气环境渗透，使铂金通道区域2内环境气流向窑炉区域1环境内渗透，使玻璃窑炉气流与玻璃液流向一致，避免了外面气压环境温度对窑炉区域1造成冲击，保证了窑炉区域1内的稳定气压环境，并且利用铂金通道区域2内环境气流向玻璃窑炉1内环境渗透，降低了玻璃窑炉1内环境的稳定时间，保证了玻璃窑炉1内能够快速进行熔融工作，通过本对窑炉域环境的气流流向、大小进行设置，使得窑炉设备区域形成环境气流流向、压差关系和压差大小标准化，保证了热端设备区域环境空间气流流向、均匀性控制更加稳定、精确，从而达到基板玻璃生产工艺环境的稳定，为基板玻璃工艺生产缺陷的降低起到有效作用。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置，其特征在于，包括玻璃窑炉（1），所述玻璃窑炉（1）内固定设置有铂金通道（2）和窑炉（11），铂金通道（2）和窑炉（11）连通；玻璃窑炉（1）的前端侧壁上固定设置有第一送风装置（4），玻璃窑炉（1）的后端侧壁上固定设置有第一排风装置（5）；铂金通道（2）的前端侧壁上固定设置有第二送风装置（6），铂金通道（2）的后端侧壁上固定设置有第二排风装置（7）；所述玻璃窑炉（1）位于外部大气环境（3）中；

所述第一送风装置（4）的送风速度为1-8m/s；

所述第二送风装置（6）的送风速度为2-10m/s；

所述玻璃窑炉（1）内的气流流动方向和窑炉（11）内玻璃液流动方向相同；所述铂金通道（2）内的气流流动方向和铂金通道（2）内的玻璃液流动方向相同；

所述玻璃窑炉（1）内的压力比铂金通道区域内的压力小0.1-10Pa；

所述玻璃窑炉（1）内的压力比外部大气环境（3）的压力大0.1-15Pa；

铂金通道区域比外部大气环境（3）的压力大5-25Pa。

2.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置，其特征在于，第一送风装置（4）出风口的中心线和第一排风装置（5）吸风口的中心线相同；第二送风装置（6）出风口的中心线和第二排风装置（7）吸风口的中心线相同。

3.一种基于权利要求1-2任意一项所述控制装置的TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，密封玻璃窑炉（1）和铂金通道（2），连通铂金通道（2）和窑炉（11）；

步骤2，开启第一送风装置（4）、第一排风装置（5）、第二送风装置（6）和第二排风装置（7）；

通过调整第一送风装置（4）的送风速度，使得玻璃窑炉（1）内的压力比外部大气环境（3）的压力大0.1-15Pa；通过调整第二送风装置（6），使得铂金通道区域比外部大气环境（3）的压力大5-25Pa；通过调整第一送风装置（4）和第二送风装置（6），使得玻璃窑炉（1）内的压力比铂金通道区域内的压力小0.1-10Pa。

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