CN111562863A - 一种一体黑电容式触摸屏及其制作方法 - Google Patents

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余志辉
钟素文
夏大映
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Abstract

本发明公开了一种一体黑电容式触摸屏及其制作方法，包括载体以及设于所述载体上面的触摸导电层，其特征在于：所述触摸导电层包括BM层，设于BM层上面的第一IM层，设于第一IM层上面的第一ITO层，在所述第一ITO层上面设有第一绝缘层，制作于第一绝缘层上面的第二ITO层，在所述第二ITO层设有金属层，在所述金属层上设有第二IM层，所述第二IM层上设有第二绝缘层。本发明一体黑电容式触摸屏及其制作方法，结构简单，能提升消费者的视觉体验效果，可满足中高端客户对中大尺寸触摸屏的使用需求，具有较好的应用前景。

Description

一种一体黑电容式触摸屏及其制作方法
技术领域
本发明属于触控屏技术领域，更具体地说，涉及一种一体黑电容式触摸屏及其制作方法。
背景技术
触摸屏作为一种人机交互设备，近年来，随着智能手机、平板电脑、车载移动终端及商业化信息查询系统等智能终端产品的普及推广，触摸屏产品及技术突飞猛进，产业规模不断扩大，但市场竞争也日趋激烈。
一体式触摸屏技术是将ITO玻璃与保护玻璃集成一片玻璃，不仅可节省一片玻璃，也减少一道贴合制程，使触摸屏更薄且成本更低，已成为触摸屏行业发展的主流。
但随着触摸屏技术的快速发展，市场对中高档的中大尺寸触摸屏不但要求触控灵敏，窄边框、还要求尽量提高客户视觉的舒适度。原有的触摸屏产品已不能完全满足市场需求。
发明内容
本发明的目的是解决现有技术存在的问题，提供一种结构简单，能提升消费者的视觉体验效果，可满足中高端客户对中大尺寸触摸屏的使用需求的一体黑电容式触摸屏及其制作方法。
为了实现上述目的，本发明采取的技术方案为：所提供的这种一体黑电容式触摸屏，包括载体以及设于所述载体上面的触摸导电层，其特征在于：所述触摸导电层包括BM层，设于BM层上面的第一IM层，设于第一IM层上面的第一ITO层，在所述第一ITO层上面设有第一绝缘层，制作于第一绝缘层上面的第二ITO层，在所述第二ITO层设有金属层，在所述金属层上设有第二IM层，所述第二IM层上设有第二绝缘层。
为使上述技术方案更加详尽和具体，本发明还提供以下更进一步的优选技术方案，以获得满意的实用效果：
所述载体为是玻璃或者薄膜。
所述BM层为黑色矩阵层，采用黑色负性感光材料通过光刻的方法制作。
触摸导电层的第一IM层和第二IM层，均是通过镀膜溅射的工艺制作。
所述触摸导电层的第一ITO层和第二ITO层，分布在可视区，均是通过镀膜、光刻、蚀刻的工艺制作。
利用黄光光刻工艺制作的位于第一ITO层上面的第一绝缘层。
利用镀膜溅射和黄光光刻、蚀刻工艺制作位于第二ITO层上面的金属层。
利用镀膜溅射制作位于金属层上面的第二IM层，以及利用黄光光刻工艺制作第二IM层上面的第二绝缘层。
在金手指区域的第二IM层通过印刷蚀刻工艺去除。
本发明与现有技术相比，具有以下优点：本发明一体黑电容式触摸屏及其制作方法，结构简单，能提升消费者的视觉体验效果，可满足中高端客户对中大尺寸触摸屏的使用需求，具有较好的应用前景。
附图说明
下面对本说明书的附图所表达的内容及图中的标记作简要说明：
图1为本发明一体黑电容式触摸屏层结构示意图；
图中标记为：1、载体，2、BM层，3、第一IM层，4、第一ITO层，5、第一绝缘层，6、第二ITO层，7、金属层，8、第二IM层，9、第二绝缘层。
具体实施方式
下面对照附图，通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
本发明一体黑电容式触摸屏，包括载体1以及位于载体上面的触摸导电层。触摸导电层包括BM层2，设于BM层2上面的第一IM层3，设于第一IM层3上面的第一ITO层4，在第一ITO层4上面设有第一绝缘层5，制作于第一绝缘层5上面的第二ITO层6，在第二ITO层6设有金属层7，在金属层7上设有第二IM层8，第二IM层8上设有第二绝缘层9。载体1通常是玻璃或者薄膜，触摸导电层制作在载体上。
本发明触摸导电层包括利用黄光光刻工艺制作的BM层，利用镀膜溅射工艺制作的位于BM层上面的第一IM层(Index match，折射率匹配)，利用镀膜溅射和黄光光刻、蚀刻工艺制作的位于第一IM层上面的第一ITO层(氧化铟锡)，利用黄光光刻工艺制作的位于第一ITO层上面的第一绝缘层，利用镀膜溅射和黄光光刻、蚀刻工艺制作的位于第一绝缘层上面的第二ITO层，利用镀膜溅射和黄光光刻、蚀刻工艺制作的位于第二ITO层上面的金属层，利用镀膜溅射制作的位于金属层上面的第二IM层，以及利用黄光光刻工艺制作的第二IM层上面的第二绝缘层。金手指区域第二IM层需通过特殊工艺去除(如印刷蚀刻工艺)
触摸导电层的BM层(Black matrix)，即黑色矩阵层，主要作用是防止屏幕漏光并用来布线，其使用一种黑色负性感光材料，通过光刻的工艺制作。
触摸导电层的第一IM层和第二IM层，均是通过镀膜溅射的工艺制作。IM(Indexmatch)即折射率匹配，其在可见光区的反射率与镀制ITO膜后的反射率接近，使ITO膜与蚀刻区的色差减小，达到不可见的效果，起到隐藏线路的作用。常规的OGS只有一层IM，通常只能对可视区的线路起到隐藏的效果，不能实现息屏状态下BM区与可视区颜色在视觉上的一致性。而此OGS一体黑触摸导电层采用两层IM，由于多了一道IM层，即可以很好的隐藏线路，又能对光学有较好的调节效果，可以实现息屏状态下BM区与可视区的颜色保持一致，达到良好的效果。此外，第二IM层也能对其下面覆盖的膜层起到保护作用，相对一层IM产品，多了一道防护，从而提升产品的安全性和可靠性。
触摸导电层的第一ITO层和第二ITO层，其材料相同，主要分布在可视区，均是通过镀膜、光刻、蚀刻的工艺制作。第一ITO层图形为桥点，第二层ITO通过光刻和蚀刻工艺，形成与第一层ITO和第一层绝缘层互相绝缘的横向X导电通道和纵向Y导电通道，且X和Y通道通过第一层绝缘层形成互电容。
触摸导电层的金属层，其材质可以为Cu、Ag、Al、合金或叠层材料，图形为金属走线，布置在BM区，通过镀膜、光刻、蚀刻的工艺制作。其与X方向及Y方向的通道连接并与外部电源相连，从而实现触控的功能。
触摸导电层的第一绝缘层和第二绝缘层，其材料相同，均是一种负性感光材料，如亚克力树脂材料等，通过光刻的工艺制作。其中第二绝缘层对其下面的膜层起到保护的作用。
常规的触摸屏只有一层IM，通常只能对可视区的线路起到隐藏的效果，不能实现息屏状态下BM区与可视区颜色的一致。而此一体黑电容式触摸屏采用两层IM，由于多了一道IM层，既可以对可视区线路起到很好的隐藏效果，又能对光学有较好的调节效果，实现息屏状态下BM区与可视区的颜色一致，从而提升触摸屏的视觉效果。
相对常规触摸屏，此一体黑电容式触摸屏采用两层IM，其中第二IM层能够对其下面覆盖的膜层起到保护作用，相当于多了一层防护，从而提高产品的安全性和可靠性。
本发明提供一种一体黑电容式触摸屏及其制作方法，这种触摸屏通过对原有的触摸屏技术进行改进，采用双层IM的搭配，可以实现息屏状态下黑框区域颜色与可视区颜色保持一致，使触摸屏更美观，提升消费者的视觉体验效果，可满足中高端客户对中大尺寸触摸屏的使用需求，增强了企业的市场竞争力。
本发明一体黑电容式触摸屏及其制作方法，结构简单，能提升消费者的视觉体验效果，可满足中高端客户对中大尺寸触摸屏的使用需求，具有较好的应用前景。
上面结合附图对本发明进行了示例性描述，但是本发明并不受限于上述方式，只要采用本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进或直接应用于其它场合的，均落在本发明的保护范围内。

Claims (9)

1.一种一体黑电容式触摸屏，包括载体以及设于所述载体上面的触摸导电层，其特征在于：所述触摸导电层包括BM层，设于BM层上面的第一IM层，设于第一IM层上面的第一ITO层，在所述第一ITO层上面设有第一绝缘层，制作于第一绝缘层上面的第二ITO层，在所述第二ITO层设有金属层，在所述金属层上设有第二IM层，所述第二IM层上设有第二绝缘层。
2.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏，其特征在于：所述载体为是玻璃或者薄膜。
3.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法，其特征在于：所述BM层为黑色矩阵层，采用黑色负性感光材料通过光刻的方法制作。
4.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法，其特征在于：触摸导电层的第一IM层和第二IM层，均是通过镀膜溅射的工艺制作。
5.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法，其特征在于：所述触摸导电层的第一ITO层和第二ITO层，分布在可视区，均是通过镀膜、光刻、蚀刻的工艺制作。
6.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法，其特征在于：利用黄光光刻工艺制作的位于第一ITO层上面的第一绝缘层。
7.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法，其特征在于：利用镀膜溅射和黄光光刻、蚀刻工艺制作位于第二ITO层上面的金属层。
8.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法，其特征在于：利用镀膜溅射制作位于金属层上面的第二IM层，以及利用黄光光刻工艺制作第二IM层上面的第二绝缘层。
9.按照权利要求8所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法，其特征在于：在金手指区域的第二IM层通过印刷蚀刻工艺去除。
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