CN111505751B - 一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜及其制备方法，包括基材层、扩散层，基材层上表面阵列分布有凹槽结构，扩散层内分散有扩散粒子，扩散层的上表面呈向上凸起的拱状结构。在上述拱状扩散膜结构中，光源从拱状扩散膜的下方射入膜层，透过基材层的凹槽结构能获得更好的聚光效果，提升拱状扩散膜的辉度。凹槽结构能够更好的对扩散粒子进行筛选，从而使扩散粒子分布更均匀，进一步地提高雾度。另外，有序分布的扩散粒子能获得更低的粗糙度以及均匀的光学性能，提升了遮瑕雾化性能，且扩散层最终形成拱状结构表面能进一步提高聚光作用，既提升了辉度，又避免了现有扩散膜中存在的炫光问题。

Description

一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜及其制备方法

技术领域

本发明涉及光学膜技术领域，尤其涉及一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜及其制备方法。

背景技术

光扩散膜广泛应用于液晶显示器、手机、数码相机等电子产品中，光扩散膜具有扩散光线的作用，即光线在其表面会发生散射，从而将光线柔和均匀地散播出来。

现有的光扩散膜在背光源结构中主要起到遮瑕、均匀光源、修正扩散角度的作用，但目前多数光扩散膜的基本结构是在透明平面基材上如PET基材两面涂布光学散光颗粒，这虽能增大了光辐射面积，但降低了单位面积的光强度，即减低了辉度，甚至会造成炫光等问题，需要对此作出改进。

发明内容

本发明针对现有技术中存在的光扩散膜会降低辉度并造成炫光问题等缺陷，提供了一种新的提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜及其制备方法。

为了解决上述技术问题，本发明通过以下技术方案实现：

一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜，包括基材层、扩散层，所述基材层上表面阵列分布有凹槽结构，所述凹槽结构的深度h1为20～35μm，间距w为40～70um，所述扩散层内分散有扩散粒子，所述扩散粒子的粒径为5～15μm，所述扩散层的上表面呈向上凸起的拱状结构，所述扩散层的两端高度与中间高度的高度差为h2，10μm≤h2≤20μm。

在上述拱状扩散膜结构中，光源从拱状扩散膜的下方射入膜层，透过基材层的凹槽结构能获得更好的聚光效果，提升拱状扩散膜的辉度。凹槽结构能够更好的对扩散粒子进行筛选，从而使扩散粒子分布更均匀，进一步地提高雾度。其中若凹槽结构的深度小于10um，则不利于扩散粒子堆积沉淀，会减少拱状扩散膜的辉度。而若凹槽结构深度大于35um，则在制备过程中会加大制备难度，导致基材层表面不均匀。凹槽结构的深度在以上范围内，既能够保证最终得到的拱状扩散膜的辉度，又适于制备加工。另外，有序分布的扩散粒子能获得更低的粗糙度以及均匀的光学性能，提升了遮瑕雾化性能，且扩散层最终形成拱状结构表面能进一步提高聚光作用，既提升了辉度，又避免了现有扩散膜中存在的炫光问题。

一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，包括如下制备步骤：

(a)选取PC或PMMA或PET或PS作为原料，并将所述原料通过三层流延共挤工艺进行成型，制得厚度为125～250μm的基材层；

(b)采用具有微结构的圆辊对所述基材层的上表面进行挤压，冷却后在所述基材层上表面形成阵列分布的凹槽结构，所述凹槽结构的深度h1为20～35μm，间距w为40～70um；

(c)取扩散粒子与氨基甲酸脂、聚氨酯丙烯酸脂、乙二醇二丙酸脂、添加剂置于高速分散机中进行搅拌，所述扩散粒子的粒径为5～15μm，所述扩散粒子与氨基甲酸脂、聚氨酯丙烯酸脂、乙二醇二丙酸脂、添加剂按质量份的比例为1：4：3：2：0.2～1：5：4：2：0.2的比例配置，并充分搅拌40～60min，得到涂布树脂；

(d)将所述涂布树脂通过超精密涂布机并采用刮刀涂布工艺涂布于所述基材层上，在涂布过程中，温度保持在21～25℃，涂布速度控制在10～25m/min，使扩散粒子均匀地散布在所述扩散层内，形成涂布树脂层；

(e)涂布完成后，通过带有拱状结构的网纹辊对涂布树脂层的上表面进行表面挤压成型，制得上表面呈向上凸起的拱状结构的扩散层，所述扩散层的两端高度与中间高度的高度差为h2，10μm≤h2≤20μm；

(f)通过低功率UV固化灯对扩散层的表面进行预固化处理，使所述扩散粒子固定在所述扩散层内；

(g)再通过高功率UV固化灯对扩散层的表面进行强固化处理；

(h)将制得的所述扩散层置于90～140℃的烘箱环境下再次熟化成型，熟化时间为24h，最终制得提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜，然后收卷并保存。

上述步骤(a)中，PC中文名称为聚碳酸酯，PMMA中文名称为聚甲基丙烯酸甲酯，PET中文名称为聚对苯二甲酸乙二醇酯，PS中文名称为聚苯乙烯，上述原料具有优异的延展性，通过三层流延共挤工艺成型后能够获得平整的基材层表面。

上述步骤(b)中，上述圆辊上的微结构和凹槽结构相对应，通过挤压成型工艺能够进行批量化生产，生产效率高。

上述步骤(c)中，采用高速分散机进行高速搅拌，不仅搅拌的效率非常高，且搅拌的细度非常好，能充分地对各个组份进行包裹、分散处理。

上述步骤(d)、(e)中，采用超精密涂布机能够准确的控制膜层的厚度，从而获得理想的扩散膜结构；而通过刮刀涂布工艺以及带有拱状结构的网纹辊挤压这两重工艺来得到上表面呈向上凸起的拱状结构的扩散层，能够使扩散层上表面的拱状结构稳定均匀。

上述步骤(f)、(g)中，经过预固化处理和强固化处理后，能确保扩散层充分固化，提高成膜均匀性，降低表面缺陷率。

通过以上步骤制备得到的拱状扩散膜，不仅提升了遮瑕雾化性能和辉度，又避免了现有扩散膜中存在的炫光问题。

作为优选，上述所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，所述扩散粒子为PMMA、PBMA、PU中的一种或多种的混合物。

PMMA中文名为聚甲基丙烯酸甲酯，PBMA中文名为聚甲基丙烯酸丁酯，PU中文名为聚氨酯，上述材料具有优异的光学扩散性能，使得光源雾化效果最佳。

作为优选，上述所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，所述扩散粒子包括小粒子和大粒子，且小粒子与大粒子按质量份的比例为1:0.5～1:1的比例配置，所述小粒子的粒径为5～8um，所述大粒子的粒径为10～15um。

不同粒径大小的粒子按照以上比例配置，相比于同粒径粒子的配制方式而言具有更好的遮瑕效果，且同样的粒子数量可以达到更高的雾度数值。

作为优选，上述所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，所述步骤(e)中，所述带有拱状结构的网纹辊的内凹槽中间与两侧的高度差为h3，10μm≤h3≤20μm。

当h3＜10um时，得到的拱状扩散膜的辉度和遮瑕效果相对于普通扩散膜而言将不太明显。而当h3＞20um时，因中间厚度过大会造成预固化处理不完全，导致扩散层表面出现不均匀现象，降低产品品质，加大了产品制备成本。而h3的范围限定在以上范围内，不仅可以有效的去除组装时产生的炫光现象，并在一定上减轻结构与结构之间的莫尔干涉现象，还可以提升得到的拱状扩散膜的产品品质。

作为优选，上述所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，所述步骤(b)中，所述具有微结构的圆辊表面的微结构为倒三角形或U形或倒U形或矩形或波浪形。

上述形状的微结构能够使最终得到的凹槽结构更好地增强基材层与扩散层之间的结合力，进一步提升得到的拱状扩散膜的品质。

作为优选，上述所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，所述步骤(f)中，所述低功率UV固化灯的能量为50-100焦耳。

低功率UV固化灯的能量限定在以上范围内，更有利于预固化处理，有利于扩散层的脱模。

作为优选，上述所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，所述步骤(g)中，所述高功率UV固化灯的能量为300-500焦耳。

高功率UV固化灯的能量限定在以上范围内，更有利于强固化处理的深层次固化，有助于结构成型，使得扩散层在与基材层贴合后不会变形。

作为优选，上述所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，所述步骤(b)中，在形成凹槽结构后，采用底涂剂并通过钢丝刮棒对基材层的上表面进行表面处理，所述钢丝刮棒为S型的D-bar钢丝刮棒。

通过以上表面处理，可以及时将混入的气泡赶出，进一步减少基材的损耗。

作为优选，上述所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，所述步骤(a)中，所述原料为PET。

PET相对于PC、PMMA、PS而言具有高结晶度、高熔融温度和不溶于一般有机溶剂的特点，有利于在后成型阶段保持很好的稳定性。

附图说明

图1为本发明中凹槽结构为U形时的拱状扩散膜的结构示意图；

图2为本发明中凹槽结构为倒U形时的拱状扩散膜的结构示意图；

图3为本发明中凹槽结构为倒三角形时的拱状扩散膜的结构示意图；

图4为本发明中凹槽结构为矩形时的拱状扩散膜的结构示意图；

图5为本发明中凹槽结构为波浪形时的拱状扩散膜的结构示意图；

图6为本发明中带有拱状结构的网纹辊的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图1-6和具体实施方式对本发明作进一步详细描述，但它们不是对本发明的限制：

实施例1

如图1-6所示，一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜，包括基材层1、扩散层2，所述基材层1上表面阵列分布有凹槽结构11，所述凹槽结构11的深度h1为20μm，间距w为40um，所述扩散层2内分散有扩散粒子21，所述扩散粒子21的粒径为5～15μm，所述扩散层2的上表面呈向上凸起的拱状结构，所述扩散层2的两端高度与中间高度的高度差为h2，h2为10μm。

一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，包括如下制备步骤：

(a)选取PC或PMMA或PET或PS作为原料，并将所述原料通过三层流延共挤工艺进行成型，制得厚度为125μm的基材层1；

(b)采用具有微结构的圆辊对所述基材层1的上表面进行挤压，冷却后在所述基材层1上表面形成阵列分布的凹槽结构11，所述凹槽结构11的深度h1为20μm，间距w为40um；

(c)取扩散粒子21与氨基甲酸脂、聚氨酯丙烯酸脂、乙二醇二丙酸脂、添加剂置于高速分散机中进行搅拌，所述扩散粒子21的粒径为5～15μm，所述扩散粒子21与氨基甲酸脂、聚氨酯丙烯酸脂、乙二醇二丙酸脂、添加剂按质量份的比例为1：4：3：2：0.2的比例配置，并充分搅拌40min，得到涂布树脂；

(d)将所述涂布树脂通过超精密涂布机并采用刮刀涂布工艺涂布于所述基材层1上，在涂布过程中，温度保持在21℃，涂布速度控制在10m/min，使扩散粒子21均匀地散布在所述扩散层2内，形成涂布树脂层；

(e)涂布完成后，通过带有拱状结构的网纹辊对涂布树脂层的上表面进行表面挤压成型，制得上表面呈向上凸起的拱状结构的扩散层2，所述扩散层2的两端高度与中间高度的高度差为h2，h2为10μm；

(f)通过低功率UV固化灯对扩散层2的表面进行预固化处理，使所述扩散粒子21固定在所述扩散层2内；

(g)再通过高功率UV固化灯对扩散层2的表面进行强固化处理；

(h)将制得的所述扩散层2置于90℃的烘箱环境下再次熟化成型，熟化时间为24h，最终制得提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜，然后收卷并保存。

作为优选，所述扩散粒子21为PMMA、PBMA、PU中的一种或多种的混合物。

作为优选，所述扩散粒子21包括小粒子和大粒子，且小粒子与大粒子按质量份的比例为1:0.5的比例配置，所述小粒子的粒径为5～8um，所述大粒子的粒径为10～15um。

作为优选，所述步骤(e)中，所述带有拱状结构的网纹辊的内凹槽中间与两侧的高度差为h3，h3为10μm。

作为优选，所述步骤(b)中，所述具有微结构的圆辊表面的微结构为倒三角形或U形或倒U形或矩形或波浪形。

作为优选，所述步骤(f)中，所述低功率UV固化灯的能量为50焦耳。

作为优选，所述步骤(g)中，所述高功率UV固化灯的能量为300焦耳。

作为优选，所述步骤(b)中，在形成凹槽结构11后，采用底涂剂并通过钢丝刮棒对基材层1的上表面进行表面处理，所述钢丝刮棒为S型的D-bar钢丝刮棒。

作为优选，所述步骤(a)中，所述原料为PET。

实施例2

如图1-6所示，一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜，包括基材层1、扩散层2，所述基材层1上表面阵列分布有凹槽结构11，所述凹槽结构11的深度h1为35μm，间距w为70um，所述扩散层2内分散有扩散粒子21，所述扩散粒子21的粒径为5～15μm，所述扩散层2的上表面呈向上凸起的拱状结构，所述扩散层2的两端高度与中间高度的高度差为h2，h2为20μm。

一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，包括如下制备步骤：

(a)选取PC或PMMA或PET或PS作为原料，并将所述原料通过三层流延共挤工艺进行成型，制得厚度为250μm的基材层1；

(b)采用具有微结构的圆辊对所述基材层1的上表面进行挤压，冷却后在所述基材层1上表面形成阵列分布的凹槽结构11，所述凹槽结构11的深度h1为35μm，间距w为70um；

(c)取扩散粒子21与氨基甲酸脂、聚氨酯丙烯酸脂、乙二醇二丙酸脂、添加剂置于高速分散机中进行搅拌，所述扩散粒子21的粒径为5～15μm，所述扩散粒子21与氨基甲酸脂、聚氨酯丙烯酸脂、乙二醇二丙酸脂、添加剂按质量份的比例为1：5：4：2：0.2的比例配置，并充分搅拌60min，得到涂布树脂；

(d)将所述涂布树脂通过超精密涂布机并采用刮刀涂布工艺涂布于所述基材层1上，在涂布过程中，温度保持在25℃，涂布速度控制在25m/min，使扩散粒子21均匀地散布在所述扩散层2内，形成涂布树脂层；

(e)涂布完成后，通过带有拱状结构的网纹辊对涂布树脂层的上表面进行表面挤压成型，制得上表面呈向上凸起的拱状结构的扩散层2，所述扩散层2的两端高度与中间高度的高度差为h2，h2为20μm；

(f)通过低功率UV固化灯对扩散层2的表面进行预固化处理，使所述扩散粒子21固定在所述扩散层2内；

(g)再通过高功率UV固化灯对扩散层2的表面进行强固化处理；

(h)将制得的所述扩散层2置于140℃的烘箱环境下再次熟化成型，熟化时间为24h，最终制得提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜，然后收卷并保存。

作为优选，所述扩散粒子21为PMMA、PBMA、PU中的一种或多种的混合物。

作为优选，所述扩散粒子21包括小粒子和大粒子，且小粒子与大粒子按质量份的比例为1:1的比例配置，所述小粒子的粒径为5～8um，所述大粒子的粒径为10～15um。

作为优选，所述步骤(e)中，所述带有拱状结构的网纹辊的内凹槽中间与两侧的高度差为h3，h3为20μm。

作为优选，所述步骤(b)中，所述具有微结构的圆辊表面的微结构为倒三角形或U形或倒U形或矩形或波浪形。

作为优选，所述步骤(f)中，所述低功率UV固化灯的能量为100焦耳。

作为优选，所述步骤(g)中，所述高功率UV固化灯的能量为500焦耳。

作为优选，所述步骤(b)中，在形成凹槽结构11后，采用底涂剂并通过钢丝刮棒对基材层1的上表面进行表面处理，所述钢丝刮棒为S型的D-bar钢丝刮棒。

作为优选，所述步骤(a)中，所述原料为PET。

实施例3

如图1-6所示，一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜，包括基材层1、扩散层2，所述基材层1上表面阵列分布有凹槽结构11，所述凹槽结构11的深度h1为27μm，间距w为54um，所述扩散层2内分散有扩散粒子21，所述扩散粒子21的粒径为5～15μm，所述扩散层2的上表面呈向上凸起的拱状结构，所述扩散层2的两端高度与中间高度的高度差为h2，h2为15μm。

一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，包括如下制备步骤：

(a)选取PC或PMMA或PET或PS作为原料，并将所述原料通过三层流延共挤工艺进行成型，制得厚度为187μm的基材层1；

(b)采用具有微结构的圆辊对所述基材层1的上表面进行挤压，冷却后在所述基材层1上表面形成阵列分布的凹槽结构11，所述凹槽结构11的深度h1为27μm，间距w为54um；

(c)取扩散粒子21与氨基甲酸脂、聚氨酯丙烯酸脂、乙二醇二丙酸脂、添加剂置于高速分散机中进行搅拌，所述扩散粒子21的粒径为5～15μm，所述扩散粒子21与氨基甲酸脂、聚氨酯丙烯酸脂、乙二醇二丙酸脂、添加剂按质量份的比例为1：4.5：3.5：2：0.2的比例配置，并充分搅拌50min，得到涂布树脂；

(d)将所述涂布树脂通过超精密涂布机并采用刮刀涂布工艺涂布于所述基材层1上，在涂布过程中，温度保持在23℃，涂布速度控制在18m/min，使扩散粒子21均匀地散布在所述扩散层2内，形成涂布树脂层；

(e)涂布完成后，通过带有拱状结构的网纹辊对涂布树脂层的上表面进行表面挤压成型，制得上表面呈向上凸起的拱状结构的扩散层2，所述扩散层2的两端高度与中间高度的高度差为h2，h2为15μm；

(f)通过低功率UV固化灯对扩散层2的表面进行预固化处理，使所述扩散粒子21固定在所述扩散层2内；

(g)再通过高功率UV固化灯对扩散层2的表面进行强固化处理；

(h)将制得的所述扩散层2置于90～140℃的烘箱环境下再次熟化成型，熟化时间为24h，最终制得提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜，然后收卷并保存。

作为优选，所述扩散粒子21为PMMA、PBMA、PU中的一种或多种的混合物。

作为优选，所述扩散粒子21包括小粒子和大粒子，且小粒子与大粒子按质量份的比例为1:0.7的比例配置，所述小粒子的粒径为5～8um，所述大粒子的粒径为10～15um。

作为优选，所述步骤(e)中，所述带有拱状结构的网纹辊的内凹槽中间与两侧的高度差为h3，h3为15μm。

作为优选，所述步骤(b)中，所述具有微结构的圆辊表面的微结构为倒三角形或U形或倒U形或矩形或波浪形。

作为优选，所述步骤(f)中，所述低功率UV固化灯的能量为75焦耳。

作为优选，所述步骤(g)中，所述高功率UV固化灯的能量为400焦耳。

作为优选，所述步骤(b)中，在形成凹槽结构11后，采用底涂剂并通过钢丝刮棒对基材层1的上表面进行表面处理，所述钢丝刮棒为S型的D-bar钢丝刮棒。

作为优选，所述步骤(a)中，所述原料为PET。

实施例4

取上述各实施例得到的拱状扩散膜，取市场上型号为HBS247的扩散膜作为对比例1、市场上型号为SK-K-100的扩散膜作为对比例2，进行辉度、雾度两项性能的测试，测试方法如下：

一、辉度测试：使用光学测试仪，将样片(≤A4)放置于背光模组中，使用辉度测试仪探头盖住样品，点亮背光模组，通过测试软件得到辉度结果。

二、雾度测试：使用雾度测试仪，打开仪器样品室，将样片(≤A4大小)遮住检测区，样片平贴于设备壁上，测试时光线穿透样品膜片，得到雾度结果。

本发明各实施例得到的拱状扩散膜和对比例性能参数参见表1：

表1

总之，以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明申请专利的范围所作的均等变化与修饰，皆应属本发明的涵盖范围。

Claims (9)

1.一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜，包括基材层（1）、扩散层（2），其特征在于：所述基材层（1）上表面阵列分布有凹槽结构（11），所述凹槽结构（11）的深度h1为20～35μm，间距w为40～70μm，所述扩散层（2）内分散有扩散粒子（21），所述扩散粒子（21）的粒径为5～15μm，所述扩散层（2）的上表面呈向上凸起的拱状结构，所述扩散层（2）的两端高度与中间高度的高度差为h2，10μm≤h2≤20μm，包括如下制备步骤：

（a）选取PC或PMMA或PET或PS作为原料，并将所述原料通过三层流延共挤工艺进行成型，制得厚度为125～250μm的基材层（1）；

（b）采用具有微结构的圆辊对所述基材层（1）的上表面进行挤压，冷却后在所述基材层（1）上表面形成阵列分布的凹槽结构（11），所述凹槽结构（11）的深度h1为20～35μm，间距w为40～70μm；

（c）取扩散粒子（21）与氨基甲酸脂、聚氨酯丙烯酸脂、乙二醇二丙酸脂、添加剂置于高速分散机中进行搅拌，所述扩散粒子（21）的粒径为5～15μm，所述扩散粒子（21）与氨基甲酸脂、聚氨酯丙烯酸脂、乙二醇二丙酸脂、添加剂按质量份的比例为1：4：3：2：0.2～1：5：4：2：0.2的比例配置，并充分搅拌40～60min，得到涂布树脂；

（d）将所述涂布树脂通过超精密涂布机并采用刮刀涂布工艺涂布于所述基材层（1）上，在涂布过程中，温度保持在21～25℃，涂布速度控制在10～25m/min，使扩散粒子（21）均匀地散布在所述扩散层（2）内，形成涂布树脂层；

（e）涂布完成后，通过带有拱状结构的网纹辊对涂布树脂层的上表面进行表面挤压成型，制得上表面呈向上凸起的拱状结构的扩散层（2），所述扩散层（2）的两端高度与中间高度的高度差为h2，10μm≤h2≤20μm；

（f）通过低功率UV固化灯对扩散层（2）的表面进行预固化处理，使所述扩散粒子（21）固定在所述扩散层（2）内；

（g）再通过高功率UV固化灯对扩散层（2）的表面进行强固化处理；

（h）将制得的所述扩散层（2）置于90～140℃的烘箱环境下再次熟化成型，熟化时间为24h，最终制得提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜，然后收卷并保存。

2.根据权利要求1所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，其特征在于：所述扩散粒子（21）为PMMA、PBMA、PU中的一种或多种的混合物。

3.根据权利要求1所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，其特征在于：所述扩散粒子（21）包括小粒子和大粒子，且小粒子与大粒子按质量份的比例为1:0.5～1:1的比例配置，所述小粒子的粒径为5～8μm，所述大粒子的粒径为10～15μm。

4.根据权利要求1所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（e）中，所述带有拱状结构的网纹辊的内凹槽中间与两侧的高度差为h3，10μm≤h3≤20μm。

5.根据权利要求1所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（b）中，所述具有微结构的圆辊表面的微结构为倒三角形或U形或倒U形或矩形或波浪形。

6.根据权利要求1所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（f）中，所述低功率UV固化灯的能量为50-100焦耳。

7.根据权利要求1所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（g）中，所述高功率UV固化灯的能量为300-500焦耳。

8.根据权利要求1所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（b）中，在形成凹槽结构（11）后，采用底涂剂并通过钢丝刮棒对基材层（1）的上表面进行表面处理，所述钢丝刮棒为S型的D-bar钢丝刮棒。

9.根据权利要求1所述的一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（a）中，所述原料为PET。

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